JPH04357025A - 熱線遮断膜 - Google Patents
熱線遮断膜Info
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- JPH04357025A JPH04357025A JP3191063A JP19106391A JPH04357025A JP H04357025 A JPH04357025 A JP H04357025A JP 3191063 A JP3191063 A JP 3191063A JP 19106391 A JP19106391 A JP 19106391A JP H04357025 A JPH04357025 A JP H04357025A
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- 238000012216 screening Methods 0.000 title abstract 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 266
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 132
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 91
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 86
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 70
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 17
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 16
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 11
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 291
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 33
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 25
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 9
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 composed of SnO2 Chemical compound 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007650 ZnO(a) Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐久性、特に耐湿性や耐
酸性の優れた熱線遮断膜に関する。
酸性の優れた熱線遮断膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】基体表面に酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる膜は、
Ｌｏｗ−Ｅ（Ｌｏｗ−Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）膜と呼ば
れる熱線遮断膜であり、かかるＬｏｗ−Ｅ膜を形成した
ガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラスと呼ばれている。
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる膜は、
Ｌｏｗ−Ｅ（Ｌｏｗ−Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）膜と呼ば
れる熱線遮断膜であり、かかるＬｏｗ−Ｅ膜を形成した
ガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラスと呼ばれている。
【０００３】これは、室内からの熱線を反射することに
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられている
。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車の
窓ガラスにも採用されている。透明でありかつ導電性を
示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もある。導電性
プリント等からなるバスバー等の通電加熱手段を設けれ
ば、通電加熱ガラスとして用いることができる。
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられている
。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車の
窓ガラスにも採用されている。透明でありかつ導電性を
示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もある。導電性
プリント等からなるバスバー等の通電加熱手段を設けれ
ば、通電加熱ガラスとして用いることができる。
【０００４】おもなＬｏｗ−Ｅガラスとしては、ＺｎＯ
／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有するものがあ
げられる。しかし、このような膜では、耐擦傷性、化学
的安定性などの耐久性に欠けるため、単板で使うことが
できず、合わせガラスまたは複層ガラスにする必要があ
った。特に耐湿性にも問題があり、空気中の湿度や合わ
せガラスとする場合の中間膜に含まれる水分により、白
色斑点や白濁を生じる。また、ＺｎＯは耐酸性も不十分
であるため、空気中の酸性物質によって劣化する不安が
あった。このようなことから、単板での保管やハンドリ
ングに注意を要していた。
／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有するものがあ
げられる。しかし、このような膜では、耐擦傷性、化学
的安定性などの耐久性に欠けるため、単板で使うことが
できず、合わせガラスまたは複層ガラスにする必要があ
った。特に耐湿性にも問題があり、空気中の湿度や合わ
せガラスとする場合の中間膜に含まれる水分により、白
色斑点や白濁を生じる。また、ＺｎＯは耐酸性も不十分
であるため、空気中の酸性物質によって劣化する不安が
あった。このようなことから、単板での保管やハンドリ
ングに注意を要していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有していた上記の欠点を解決し、耐久性、特に耐
湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜を提供しようとするも
のである。
技術が有していた上記の欠点を解決し、耐久性、特に耐
湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜を提供しようとするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明は、上述
の課題を解決すべくなされたものであり、基体上に酸化
物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋
１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体か
ら見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形
成された酸化物膜（Ｂ）は １．１×１０１０ｄｙｎ／
ｃｍ２ 以下の内部応力を有することを特徴とする熱線
遮断膜を提供するものである。
の課題を解決すべくなされたものであり、基体上に酸化
物膜、金属膜、酸化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋
１）層（ｎ≧１）からなる熱線遮断膜において、基体か
ら見て、基体から最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形
成された酸化物膜（Ｂ）は １．１×１０１０ｄｙｎ／
ｃｍ２ 以下の内部応力を有することを特徴とする熱線
遮断膜を提供するものである。
【０００７】本願の第２発明は、上述の課題を解決すべ
くなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸
化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）
からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から
最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
有する１層又は多層からなる膜であり、酸化亜鉛の結晶
系が六方晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いた
Ｘ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の
回折角２θ（ 重心位置） の値が３３．８８ ゜以上
３５．００ ゜以下であることを特徴とする熱線遮断膜
を提供するものである。
くなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸
化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）
からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から
最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
有する１層又は多層からなる膜であり、酸化亜鉛の結晶
系が六方晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いた
Ｘ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の
回折角２θ（ 重心位置） の値が３３．８８ ゜以上
３５．００ ゜以下であることを特徴とする熱線遮断膜
を提供するものである。
【０００８】本願の第３発明は、上述の課題を解決すべ
くなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸
化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）
からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から
最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多
層膜であることを特徴とする熱線遮断膜を提供するもの
である。
くなされたものであり、基体上に酸化物膜、金属膜、酸
化物膜、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）
からなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から
最も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多
層膜であることを特徴とする熱線遮断膜を提供するもの
である。
【０００９】以下に第１発明および第２発明における酸
化物膜（Ｂ）について説明する。
化物膜（Ｂ）について説明する。
【００１０】上述のように、従来のＬｏｗ−Ｅガラス（
膜構成：ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラス）の場合、単板
で室内放置すると、空気中の湿気により白色斑点や白濁
を生じる。白色斑点や白濁の存在する膜を走査型電子顕
微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより、膜の表面にひび
われやしわの存在、及び膜の剥離の存在が確認された。
膜構成：ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラス）の場合、単板
で室内放置すると、空気中の湿気により白色斑点や白濁
を生じる。白色斑点や白濁の存在する膜を走査型電子顕
微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより、膜の表面にひび
われやしわの存在、及び膜の剥離の存在が確認された。
【００１１】この膜の剥離部について、ＡｇおよびＺｎ
の各元素について元素分析を行なったところ、Ａｇは剥
離の有無にかかわらずほぼ一定量存在するのに対して、
Ｚｎは剥離部で検出量がほぼ半分になっていた。つまり
、剥離は最上層のＺｎＯ層とＡｇ層の界面でおこってい
ることがわかった。
の各元素について元素分析を行なったところ、Ａｇは剥
離の有無にかかわらずほぼ一定量存在するのに対して、
Ｚｎは剥離部で検出量がほぼ半分になっていた。つまり
、剥離は最上層のＺｎＯ層とＡｇ層の界面でおこってい
ることがわかった。
【００１２】次に、耐湿試験（５０℃、相対湿度９５％
雰囲気中、６日間放置）前後の試料をＣｕＫα線を用い
たＸ線回折法で調べた。六方晶酸化亜鉛の（００２）回
折線、立方晶Ａｇの（１１１）回折線について、回折角
２θ（ピークの重心位置）、結晶面間隔ｄ、積分幅Ｉ．
Ｗ．をそれぞれ表１に示す。
雰囲気中、６日間放置）前後の試料をＣｕＫα線を用い
たＸ線回折法で調べた。六方晶酸化亜鉛の（００２）回
折線、立方晶Ａｇの（１１１）回折線について、回折角
２θ（ピークの重心位置）、結晶面間隔ｄ、積分幅Ｉ．
Ｗ．をそれぞれ表１に示す。
【００１３】Ｘ線回折法におけるピークのずれの程度に
より内部応力による格子歪の程度を検出することができ
る。ＺｎＯ（ｂ）／Ａｇ／ＺｎＯ（ａ）／ガラスという
試料の場合、最上層のＺｎＯ（ｂ）によるピークが、Ｚ
ｎＯ（ａ）によるピークの５〜１５倍の強さで検出され
るため、試料全体におけるＸ線回折法のＺｎＯのピーク
は、若干ＺｎＯ（ａ）による影響があるかもしれないが
、ほとんど最上層の六方晶ＺｎＯ（ｂ）によるピークと
考えて良い。
より内部応力による格子歪の程度を検出することができ
る。ＺｎＯ（ｂ）／Ａｇ／ＺｎＯ（ａ）／ガラスという
試料の場合、最上層のＺｎＯ（ｂ）によるピークが、Ｚ
ｎＯ（ａ）によるピークの５〜１５倍の強さで検出され
るため、試料全体におけるＸ線回折法のＺｎＯのピーク
は、若干ＺｎＯ（ａ）による影響があるかもしれないが
、ほとんど最上層の六方晶ＺｎＯ（ｂ）によるピークと
考えて良い。
【００１４】
【表１】
【００１５】表１より、耐湿試験前のＬｏｗ−Ｅ膜のＺ
ｎＯの（００２）回折線は、ＺｎＯ粉末の２θ＝３４．
４４ °と比較するとかなり位置がずれている。これは
、結晶歪の存在を示唆している。この結晶歪は、膜の内
部応力によるものと考えられる。耐湿試験前サンプルで
は、結晶面間隔ｄ００２ ＝２．６５０ Åとなってお
り、ＺｎＯ粉末のｄ００２ ＝２．６０２ Åと比較す
ると１．８ ％大きい。このことから、結晶がかなり大
きな圧縮応力を受けていることがわかる。耐湿試験後の
サンプルでは、ｄ００２ ＝２．６４１ Åとなってお
り、やや結晶歪が小さくなっている。これは、最上層の
六方晶ＺｎＯの内部応力が、ひび、しわ、剥離により一
部緩和されたことと対応している。
ｎＯの（００２）回折線は、ＺｎＯ粉末の２θ＝３４．
４４ °と比較するとかなり位置がずれている。これは
、結晶歪の存在を示唆している。この結晶歪は、膜の内
部応力によるものと考えられる。耐湿試験前サンプルで
は、結晶面間隔ｄ００２ ＝２．６５０ Åとなってお
り、ＺｎＯ粉末のｄ００２ ＝２．６０２ Åと比較す
ると１．８ ％大きい。このことから、結晶がかなり大
きな圧縮応力を受けていることがわかる。耐湿試験後の
サンプルでは、ｄ００２ ＝２．６４１ Åとなってお
り、やや結晶歪が小さくなっている。これは、最上層の
六方晶ＺｎＯの内部応力が、ひび、しわ、剥離により一
部緩和されたことと対応している。
【００１６】Ａｇの（１１１）回折線に関しては、耐湿
試験後の積分幅が小さくなっていることから、耐湿試験
を施すことにより、Ａｇが粒成長すると考えられる。
試験後の積分幅が小さくなっていることから、耐湿試験
を施すことにより、Ａｇが粒成長すると考えられる。
【００１７】つまり、白濁発生のメカニズムは、最上層
のＺｎＯ膜が内部応力に耐えきれず、Ａｇ膜との界面か
ら剥離、破損し、次に銀の劣化、即ち粒径が増大し、か
かる破損した表面および大きな銀粒子により光が散乱さ
れて白濁して見えるものと考えられる。表１の例では、
内部応力は圧縮応力であるが、内部応力には圧縮応力と
引張応力の２種類があり、いずれも膜破損の原因となる
と考えられる。以上のことから、本発明は、湿気による
白濁を抑える為には、最上層ＺｎＯ膜の内部応力低減が
有効であることを見出した。
のＺｎＯ膜が内部応力に耐えきれず、Ａｇ膜との界面か
ら剥離、破損し、次に銀の劣化、即ち粒径が増大し、か
かる破損した表面および大きな銀粒子により光が散乱さ
れて白濁して見えるものと考えられる。表１の例では、
内部応力は圧縮応力であるが、内部応力には圧縮応力と
引張応力の２種類があり、いずれも膜破損の原因となる
と考えられる。以上のことから、本発明は、湿気による
白濁を抑える為には、最上層ＺｎＯ膜の内部応力低減が
有効であることを見出した。
【００１８】図１に本発明の熱線遮断膜の代表例の断面
図を示す。図１（ａ）は、３層からなる熱線遮断膜の断
面図、図１（ｂ）は、（２ｎ＋１）層からなる熱線遮断
膜の断面図である。１は基体、２は酸化物膜、３は金属
膜、４は内部応力の低い酸化物膜（Ｂ）である。本発明
における基体１としては、ガラス板の他、プラスチック
等のフィルムや板も使用できる。
図を示す。図１（ａ）は、３層からなる熱線遮断膜の断
面図、図１（ｂ）は、（２ｎ＋１）層からなる熱線遮断
膜の断面図である。１は基体、２は酸化物膜、３は金属
膜、４は内部応力の低い酸化物膜（Ｂ）である。本発明
における基体１としては、ガラス板の他、プラスチック
等のフィルムや板も使用できる。
【００１９】酸化物膜（Ｂ）は、内部応力が １．１×
１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下の膜であれば良く、特に
限定されない。膜の内部応力は、膜の成膜条件により大
きく異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条
件を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化
できる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタ
リング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧
力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件
を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げ
られる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて
選べばよく特に限定されない。
１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下の膜であれば良く、特に
限定されない。膜の内部応力は、膜の成膜条件により大
きく異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条
件を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化
できる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタ
リング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧
力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件
を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げ
られる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて
選べばよく特に限定されない。
【００２０】酸化物膜（Ｂ）の膜材料としては、特に限
定されない。１層でもよいし、多層でもよい。例えば、
本発明の熱線遮断膜を内側にしてプラスチック中間膜を
介してもう１枚の基体と積層して合わせガラスとする場
合に、かかるプラスチック中間膜との接着力の調整、も
しくは、耐久性向上の目的で中間膜と接する層として、
１００Å以下の酸化物膜（例えば、酸化クロム膜）を形
成する場合があるが、このような膜を含めて２層以上の
構成とすることもできる。
定されない。１層でもよいし、多層でもよい。例えば、
本発明の熱線遮断膜を内側にしてプラスチック中間膜を
介してもう１枚の基体と積層して合わせガラスとする場
合に、かかるプラスチック中間膜との接着力の調整、も
しくは、耐久性向上の目的で中間膜と接する層として、
１００Å以下の酸化物膜（例えば、酸化クロム膜）を形
成する場合があるが、このような膜を含めて２層以上の
構成とすることもできる。
【００２１】酸化物膜（Ｂ）を構成する具体的な膜とし
ては、特に限定されない。例えば、ＺｎＯを主成分とす
る膜、ＳｎＯ２ を主成分とする膜、ＴｉＯ２ を主成
分とする膜、これらの２種以上を含む積層膜などが挙げ
られる。これらの膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン
半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件によりか
なりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減でき
る傾向がある。
ては、特に限定されない。例えば、ＺｎＯを主成分とす
る膜、ＳｎＯ２ を主成分とする膜、ＴｉＯ２ を主成
分とする膜、これらの２種以上を含む積層膜などが挙げ
られる。これらの膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオン
半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件によりか
なりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減でき
る傾向がある。
【００２２】特に、酸化物膜（Ｂ）を構成するＺｎＯ膜
に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力
と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重
心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とす
る膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐
久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いた
Ｘ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線
の回折角２θ（重心位置）が３３．８８ ゜から３５．
００ ゜の間の値、特に、３４．００ ゜から３４．８
８ ゜の値であることが好ましい。回折角２θが３４．
４４ ゜以下の値は、圧縮応力、３４．４４ ゜以上の
値は、引張応力を示す。
に関しては、上述のように、六方晶酸化亜鉛の内部応力
と、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折による回折角２θ（重
心位置）とがほぼ対応している。酸化亜鉛を主成分とす
る膜の結晶系は六方晶である。本発明の熱線遮断膜の耐
久性向上のためには、熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いた
Ｘ線回折において、六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線
の回折角２θ（重心位置）が３３．８８ ゜から３５．
００ ゜の間の値、特に、３４．００ ゜から３４．８
８ ゜の値であることが好ましい。回折角２θが３４．
４４ ゜以下の値は、圧縮応力、３４．４４ ゜以上の
値は、引張応力を示す。
【００２３】ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ２＋よりイオ
ン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合にも
、成膜条件により異なるが、内部応力を低減できる傾向
があり、かかる元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、
Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒ等が挙げられる。従ってこれらのうち
から少なくとも１種をドープしたＺｎＯを主成分とする
膜も、ＺｎＯ膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ
、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも
１種を、Ｚｎとの合計量に対して、原子比で１０％以上
としても、内部応力低減効果は変わらないことが多いの
で、１０％以下程度で十分である。このような、他の元
素をドープしたＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の
（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）に関して、
ＺｎＯ膜と同様のことがいえる。
ン半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合にも
、成膜条件により異なるが、内部応力を低減できる傾向
があり、かかる元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、
Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒ等が挙げられる。従ってこれらのうち
から少なくとも１種をドープしたＺｎＯを主成分とする
膜も、ＺｎＯ膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ
、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも
１種を、Ｚｎとの合計量に対して、原子比で１０％以上
としても、内部応力低減効果は変わらないことが多いの
で、１０％以下程度で十分である。このような、他の元
素をドープしたＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の
（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）に関して、
ＺｎＯ膜と同様のことがいえる。
【００２４】酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されな
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。
【００２５】酸化物膜（Ｂ）を酸素含有雰囲気中で反応
性スパッタリングにより成膜する場合は、金属膜（Ａ）
の酸化を防ぐために、まず金属膜（Ａ）上に酸素の少な
い雰囲気中で薄い金属膜もしくは酸化不充分な金属酸化
物膜を形成するのが望ましい。この薄い金属膜は、酸化
物膜（Ｂ）の成膜中に酸化されて酸化物膜となる。従っ
て上述の酸化物膜（Ｂ）の好ましい膜厚は、かかる薄い
金属膜が酸化されてできた酸化物膜の膜厚も含んだ膜厚
である。本明細書において、金属膜３上に形成する酸化
物膜に関しても、同様である。
性スパッタリングにより成膜する場合は、金属膜（Ａ）
の酸化を防ぐために、まず金属膜（Ａ）上に酸素の少な
い雰囲気中で薄い金属膜もしくは酸化不充分な金属酸化
物膜を形成するのが望ましい。この薄い金属膜は、酸化
物膜（Ｂ）の成膜中に酸化されて酸化物膜となる。従っ
て上述の酸化物膜（Ｂ）の好ましい膜厚は、かかる薄い
金属膜が酸化されてできた酸化物膜の膜厚も含んだ膜厚
である。本明細書において、金属膜３上に形成する酸化
物膜に関しても、同様である。
【００２６】酸化物膜（Ｂ）としては、高内部応力の膜
と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした
多層膜を用いることもできる。低内部応力の膜としては
、成膜条件によるが、比較的、７．０ ×１０９ｄｙｎ
／ｃｍ２以下の内部応力の低い膜が形成しやすい、Ｓｎ
Ｏ２ 膜が挙げられる。具体的な例としては、ＺｎＯ／
ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２ の
ような３層系や、 ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ
２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に積層し
た７層系、９層系など、ＺｎＯ膜と、ＳｎＯ２ 膜を交
互に積層したものが挙げられる。
と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構成とした
多層膜を用いることもできる。低内部応力の膜としては
、成膜条件によるが、比較的、７．０ ×１０９ｄｙｎ
／ｃｍ２以下の内部応力の低い膜が形成しやすい、Ｓｎ
Ｏ２ 膜が挙げられる。具体的な例としては、ＺｎＯ／
ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２ の
ような３層系や、 ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ
２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に積層し
た７層系、９層系など、ＺｎＯ膜と、ＳｎＯ２ 膜を交
互に積層したものが挙げられる。
【００２７】この場合、これらの積層膜を有する酸化物
膜（Ｂ）全体の内部応力が、１．１ ×１０１０ｄｙｎ
／ｃｍ２ 以下であればよく、必ずしも酸化亜鉛のＸ線
回折の回折角が上述の値でなくともよい。もちろんＺｎ
Ｏ膜も内部応力が低く、酸化亜鉛のＸ線回折の回折角が
上述の範囲内であれば、なお好ましい。
膜（Ｂ）全体の内部応力が、１．１ ×１０１０ｄｙｎ
／ｃｍ２ 以下であればよく、必ずしも酸化亜鉛のＸ線
回折の回折角が上述の値でなくともよい。もちろんＺｎ
Ｏ膜も内部応力が低く、酸化亜鉛のＸ線回折の回折角が
上述の範囲内であれば、なお好ましい。
【００２８】このように、酸化物膜（Ｂ）として高内部
応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構
成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åで
あれば積層数及び１層の膜厚は、装置に応じて選べば良
く特に限定されない。また、各層の膜厚がそれぞれ異な
っても良い。
応力の膜と低内部応力の膜を組み合わせて２層以上の構
成とした多層膜を用いる場合、合計２００〜７００Åで
あれば積層数及び１層の膜厚は、装置に応じて選べば良
く特に限定されない。また、各層の膜厚がそれぞれ異な
っても良い。
【００２９】酸化物膜（Ｂ）１層（４５０Å）の内部応
力、および、ガラス／ＺｎＯ（４５０Å）／Ａｇ（１０
０Å）の上に同様の酸化物膜（Ｂ）（４５０Å）をスパ
ッタリング法により形成した熱線遮断膜の六方晶酸化亜
鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）と、か
かる熱線遮断膜の耐湿性の関係を表２に示す。
力、および、ガラス／ＺｎＯ（４５０Å）／Ａｇ（１０
０Å）の上に同様の酸化物膜（Ｂ）（４５０Å）をスパ
ッタリング法により形成した熱線遮断膜の六方晶酸化亜
鉛の（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）と、か
かる熱線遮断膜の耐湿性の関係を表２に示す。
【００３０】
【表２】
【００３１】耐湿性は、５０℃、相対湿度９５％の雰囲
気中に６日間放置するという試験を行い、評価した。評
価基準は、膜の端部付近に白濁がなく、直径１ｍｍ以上
の白色斑点が現れなければ○、膜の端部付近に白濁がな
く、直径１〜２ｍｍの白色斑点が現れたものを△、膜の
端部付近に白濁が現れたもの、又は直径２ｍｍ以上の白
色斑点が現れたものを×とした。Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ
、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのドープ量は、すべて、Ｚｎとの総
量に対して原子比で４％である。
気中に６日間放置するという試験を行い、評価した。評
価基準は、膜の端部付近に白濁がなく、直径１ｍｍ以上
の白色斑点が現れなければ○、膜の端部付近に白濁がな
く、直径１〜２ｍｍの白色斑点が現れたものを△、膜の
端部付近に白濁が現れたもの、又は直径２ｍｍ以上の白
色斑点が現れたものを×とした。Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ
、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのドープ量は、すべて、Ｚｎとの総
量に対して原子比で４％である。
【００３２】サンプル２は、サンプル１より、成膜時の
雰囲気の圧力を高くしたもの、サンプル３は、サンプル
１より、成膜時の基板温度を高くしたもの、サンプル４
は、成膜した後に加熱したものである。表２より、熱線
遮断膜の耐湿性は、膜材料や、単層、多層によらず、内
部応力や、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重
心位置）によることがわかる。
雰囲気の圧力を高くしたもの、サンプル３は、サンプル
１より、成膜時の基板温度を高くしたもの、サンプル４
は、成膜した後に加熱したものである。表２より、熱線
遮断膜の耐湿性は、膜材料や、単層、多層によらず、内
部応力や、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重
心位置）によることがわかる。
【００３３】次に、本願の第３発明における酸化物膜（
Ｂ）について説明する。酸化物膜（Ｂ）として、酸化亜
鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成
分とする膜を少なくとも１層有する多層膜を用いると、
耐酸性に優れた熱線遮断膜を実現できる。酸化錫は、耐
酸性に優れ、屈折率等の光学的性質は酸化亜鉛とほぼ等
しいので、このように従来の酸化亜鉛膜の一部を酸化錫
で置換することにより、光学性能は維持したまま、従来
より耐酸性に優れた酸化物膜（Ｂ）を構成できる。一方
、スパッタリング法、特に直流スパッタリング法により
成膜する際、酸化亜鉛膜は、酸化錫より高速で成膜でき
る為、上記耐酸性と成膜速度とを考慮しながら、酸化物
膜（Ｂ）の膜構成および膜厚を決めれば良い。
Ｂ）について説明する。酸化物膜（Ｂ）として、酸化亜
鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成
分とする膜を少なくとも１層有する多層膜を用いると、
耐酸性に優れた熱線遮断膜を実現できる。酸化錫は、耐
酸性に優れ、屈折率等の光学的性質は酸化亜鉛とほぼ等
しいので、このように従来の酸化亜鉛膜の一部を酸化錫
で置換することにより、光学性能は維持したまま、従来
より耐酸性に優れた酸化物膜（Ｂ）を構成できる。一方
、スパッタリング法、特に直流スパッタリング法により
成膜する際、酸化亜鉛膜は、酸化錫より高速で成膜でき
る為、上記耐酸性と成膜速度とを考慮しながら、酸化物
膜（Ｂ）の膜構成および膜厚を決めれば良い。
【００３４】酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されな
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。積層数及び１層の膜
厚は、装置に応じて選べば良く特に限定されない。また
、各層の膜厚がそれぞれ異なっても良い。
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。積層数及び１層の膜
厚は、装置に応じて選べば良く特に限定されない。また
、各層の膜厚がそれぞれ異なっても良い。
【００３５】酸化亜鉛は、薄い膜に分割して酸化亜鉛１
層の膜厚を薄くしたほうが、膜の周辺からの酸の影響に
耐えやすい。したがって、具体的な膜構成としては、Ｚ
ｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ
２ のような３層系や、 ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／Ｚ
ｎＯ／ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に
積層した７層系、９層系などのように構成して、酸化亜
鉛１層の膜厚を２００Å以下、好ましくは１８０Å以下
とするのが良い。特に好ましくは１００Å以下として上
記５層系で構成するのが望ましい。成膜時の生産性を考
慮すると、各層の成膜速度に比例した膜厚に調整して全
体で４５０Å程度の上記５層系の積層膜が好ましい。
層の膜厚を薄くしたほうが、膜の周辺からの酸の影響に
耐えやすい。したがって、具体的な膜構成としては、Ｚ
ｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ
２ のような３層系や、 ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ＳｎＯ２／ＺｎＯや、ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／Ｚ
ｎＯ／ＳｎＯ２のような５層系、あるいは同様に交互に
積層した７層系、９層系などのように構成して、酸化亜
鉛１層の膜厚を２００Å以下、好ましくは１８０Å以下
とするのが良い。特に好ましくは１００Å以下として上
記５層系で構成するのが望ましい。成膜時の生産性を考
慮すると、各層の成膜速度に比例した膜厚に調整して全
体で４５０Å程度の上記５層系の積層膜が好ましい。
【００３６】かかる酸化物膜（Ｂ）は、さらに内部応力
が１．１ ×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下であればよ
り好ましい。酸化亜鉛の内部応力が低ければ、膜の周辺
からの酸の影響によっても膜が剥れにくくなるので、耐
酸性および上述の耐湿性の点からも、酸化亜鉛の内部応
力が低いことが好ましく、Ｘ線回折法による酸化亜鉛の
（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）が３３．８
８ ゜から３５．００ ゜の間の値、特に、３４．００
゜から３４．８８ ゜の値であれば、なお好ましい。
が１．１ ×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下であればよ
り好ましい。酸化亜鉛の内部応力が低ければ、膜の周辺
からの酸の影響によっても膜が剥れにくくなるので、耐
酸性および上述の耐湿性の点からも、酸化亜鉛の内部応
力が低いことが好ましく、Ｘ線回折法による酸化亜鉛の
（００２）回折線の回折角２θ（重心位置）が３３．８
８ ゜から３５．００ ゜の間の値、特に、３４．００
゜から３４．８８ ゜の値であれば、なお好ましい。
【００３７】酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２の材料は
、特に限定されない。ＺｎＯ、ＳｎＯ２ 、ＴｉＯ２
、これらの２種以上を含む積層膜、これらに他の元素を
添加した膜等が使用できるが、さらに、生産性を考慮す
ると、ＺｎＯ、ＳｎＯ２ 、ＺｎＯ−ＳｎＯ２ を交互
に２層以上積層させた膜、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ
、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも一つをＺｎとの総量に対
し合計１０原子％以下添加したＺｎＯ膜が好ましい。
、特に限定されない。ＺｎＯ、ＳｎＯ２ 、ＴｉＯ２
、これらの２種以上を含む積層膜、これらに他の元素を
添加した膜等が使用できるが、さらに、生産性を考慮す
ると、ＺｎＯ、ＳｎＯ２ 、ＺｎＯ−ＳｎＯ２ を交互
に２層以上積層させた膜、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ
、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも一つをＺｎとの総量に対
し合計１０原子％以下添加したＺｎＯ膜が好ましい。
【００３８】色調、可視光透過率を考慮すると、酸化物
膜２は２００Å〜７００Åであることが望ましい。積層
膜の場合、合計２００Å〜７００Åであればよく、それ
ぞれの層の膜厚は限定されない。特に、酸化物膜、金属
膜、酸化物膜、金属膜、酸化物膜、という５層構成、あ
るいは５層以上の膜構成の熱線遮断膜の場合、最外層の
酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２も内部応力が １．１
×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下の膜を用いることが望
ましい。
膜２は２００Å〜７００Åであることが望ましい。積層
膜の場合、合計２００Å〜７００Åであればよく、それ
ぞれの層の膜厚は限定されない。特に、酸化物膜、金属
膜、酸化物膜、金属膜、酸化物膜、という５層構成、あ
るいは５層以上の膜構成の熱線遮断膜の場合、最外層の
酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２も内部応力が １．１
×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下の膜を用いることが望
ましい。
【００３９】本発明における金属膜３としては、Ａｇ、
またはＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄのうちの少なくとも一つを含む
Ａｇを主成分とする膜などの、熱線遮断性能を有する膜
が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮断性能を有す
る金属膜の他に、各種の機能を有する金属層を有してい
てもよい。例えば、熱線遮断性能を有する金属膜と酸化
物膜（Ｂ）や酸化物膜２との間の接着力を調整する金属
層や、熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防
止機能を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を
有する金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ，Ａｌ
，Ｃｒ，Ｗ，Ｎｉ，Ｔｉや、これらのうち２種以上の金
属の合金等が挙げられる。
またはＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄのうちの少なくとも一つを含む
Ａｇを主成分とする膜などの、熱線遮断性能を有する膜
が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮断性能を有す
る金属膜の他に、各種の機能を有する金属層を有してい
てもよい。例えば、熱線遮断性能を有する金属膜と酸化
物膜（Ｂ）や酸化物膜２との間の接着力を調整する金属
層や、熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防
止機能を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を
有する金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ，Ａｌ
，Ｃｒ，Ｗ，Ｎｉ，Ｔｉや、これらのうち２種以上の金
属の合金等が挙げられる。
【００４０】これらの金属層を含む金属膜３全体の膜厚
としては、熱線遮断性能及び可視光透過率等とのかねあ
いを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に１００Å程度が
適当である。
としては、熱線遮断性能及び可視光透過率等とのかねあ
いを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に１００Å程度が
適当である。
【００４１】
【作用】酸化物膜（Ｂ）として １．１×１０１０ｄｙ
ｎ／ｃｍ２ 以下の低内部応力の膜を用いることにより
従来の熱線遮断膜に比べて耐湿性が著しく改善される。 これは、酸化物膜の低内部応力化により、酸化物膜が破
損しにくくなり、湿気による劣化が抑えられるためと考
えられる。また、酸化物膜（Ｂ）に、酸化錫を主成分と
する膜を導入することにより、耐酸性が向上する。
ｎ／ｃｍ２ 以下の低内部応力の膜を用いることにより
従来の熱線遮断膜に比べて耐湿性が著しく改善される。 これは、酸化物膜の低内部応力化により、酸化物膜が破
損しにくくなり、湿気による劣化が抑えられるためと考
えられる。また、酸化物膜（Ｂ）に、酸化錫を主成分と
する膜を導入することにより、耐酸性が向上する。
【００４２】
（実施例１）直流スパッタリング法により、ガラス基板
上に、Ａｒ：Ｏ２＝２：８の ６．５×１０−３Ｔｏｒ
ｒの雰囲気中で、ＡｌをＺｎとの総量に対してＡｌを３
．０原子％含む金属をターゲットとして、ＡｌドープＺ
ｎＯ膜を４５０ Å形成し、次いで、Ａｒのみの ６．
５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、Ａｇをターゲット
として、Ａｇ膜を１００ Å形成し、次いで雰囲気を変
えずに、ＡｌをＺｎとの総量に対して３．０原子％添加
した金属をターゲットとして、２０Å程度のごく薄いＡ
ｌドープＺｎ膜を形成し、最後に、Ａｒ：Ｏ２ ＝２：
８の ６．５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、Ａｌを
Ｚｎとの総量に対して３．０原子％添加した金属をター
ゲットとして、上記Ａｇ膜上にＡｌドープＺｎＯ膜を形
成した。
上に、Ａｒ：Ｏ２＝２：８の ６．５×１０−３Ｔｏｒ
ｒの雰囲気中で、ＡｌをＺｎとの総量に対してＡｌを３
．０原子％含む金属をターゲットとして、ＡｌドープＺ
ｎＯ膜を４５０ Å形成し、次いで、Ａｒのみの ６．
５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、Ａｇをターゲット
として、Ａｇ膜を１００ Å形成し、次いで雰囲気を変
えずに、ＡｌをＺｎとの総量に対して３．０原子％添加
した金属をターゲットとして、２０Å程度のごく薄いＡ
ｌドープＺｎ膜を形成し、最後に、Ａｒ：Ｏ２ ＝２：
８の ６．５×１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で、Ａｌを
Ｚｎとの総量に対して３．０原子％添加した金属をター
ゲットとして、上記Ａｇ膜上にＡｌドープＺｎＯ膜を形
成した。
【００４３】ＡｌドープＺｎＯ膜の成膜中に、Ａｌドー
プＺｎ膜が酸化雰囲気中で酸化されてＡｌドープＺｎＯ
膜となったので、Ａｇ膜上に形成されたＡｌドープＺｎ
Ｏ膜の総膜厚は、４５０ Åであった。成膜中の基板温
度は室温、スパッタ電力密度は、ＡｌドープＺｎＯ膜の
成膜時には２．７Ｗ／ｃｍ２、Ａｇ膜の成膜時には、０
．７Ｗ／ｃｍ２ であった。
プＺｎ膜が酸化雰囲気中で酸化されてＡｌドープＺｎＯ
膜となったので、Ａｇ膜上に形成されたＡｌドープＺｎ
Ｏ膜の総膜厚は、４５０ Åであった。成膜中の基板温
度は室温、スパッタ電力密度は、ＡｌドープＺｎＯ膜の
成膜時には２．７Ｗ／ｃｍ２、Ａｇ膜の成膜時には、０
．７Ｗ／ｃｍ２ であった。
【００４４】得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べた
ところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心
位置）は ３４．１２°であった。同様の条件で作製し
たＡｌドープＺｎＯ膜１層（４５０ Å） の内部応力
は６．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
ところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心
位置）は ３４．１２°であった。同様の条件で作製し
たＡｌドープＺｎＯ膜１層（４５０ Å） の内部応力
は６．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。
【００４５】上記熱線遮断膜について、５０℃、相対湿
度９５％の雰囲気中に６日間放置するという耐湿試験を
行なった。耐湿試験後の外観は、ごく微小の斑点は見ら
れたものの、目立った白色斑点及び白濁は観察されず良
好であった。耐湿試験後の膜表面のＳＥＭ写真において
、膜表面に、ひびわれ、しわ、剥離はほとんど観察され
なかった。
度９５％の雰囲気中に６日間放置するという耐湿試験を
行なった。耐湿試験後の外観は、ごく微小の斑点は見ら
れたものの、目立った白色斑点及び白濁は観察されず良
好であった。耐湿試験後の膜表面のＳＥＭ写真において
、膜表面に、ひびわれ、しわ、剥離はほとんど観察され
なかった。
【００４６】上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目でも白濁や斑点は全く生じていなかった。
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目でも白濁や斑点は全く生じていなかった。
【００４７】（実施例２）ＲＦスパッタリング法により
、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＡｌドープＺｎＯ
膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、
順次積層させて、熱線遮断膜を作成した。ターゲットは
、それぞれ、ＺｎＯ、Ａｇ、Ａｌ２ Ｏ３ を含むＺｎ
Ｏ（ＺｎＯ ９８重量％、Ａｌ２ Ｏ３ ２重量％）
を用い、Ａｒガスによりスパッタリングをおこなった。 スパッタ圧力は １．８×１０−３Ｔｏｒｒ、基板温度
は室温、ＲＦスパッタ電力密度は３Ｗ／ｃｍ２ であっ
た。
、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＡｌドープＺｎＯ
膜をそれぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、
順次積層させて、熱線遮断膜を作成した。ターゲットは
、それぞれ、ＺｎＯ、Ａｇ、Ａｌ２ Ｏ３ を含むＺｎ
Ｏ（ＺｎＯ ９８重量％、Ａｌ２ Ｏ３ ２重量％）
を用い、Ａｒガスによりスパッタリングをおこなった。 スパッタ圧力は １．８×１０−３Ｔｏｒｒ、基板温度
は室温、ＲＦスパッタ電力密度は３Ｗ／ｃｍ２ であっ
た。
【００４８】得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べた
ところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心
位置）は ３４．００°であった。上記と同様の条件で
作製したＡｌドープＺｎＯ膜の内部応力は ６．２×１
０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。以上の膜について、上記
（実施例１）と同様の耐湿試験を行なった。試験後の膜
は、ごく微小の班点は存在するが、目立った白色斑点及
び白濁は見られず、耐湿性は良好であった。
ところ、ＺｎＯの（００２）回折線の回折角２θ（重心
位置）は ３４．００°であった。上記と同様の条件で
作製したＡｌドープＺｎＯ膜の内部応力は ６．２×１
０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。以上の膜について、上記
（実施例１）と同様の耐湿試験を行なった。試験後の膜
は、ごく微小の班点は存在するが、目立った白色斑点及
び白濁は見られず、耐湿性は良好であった。
【００４９】（実施例３）上記実施例２と同様の方法に
より、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
Ａｇ／ＺｎＯ／ ガラスという膜構成のＬｏｗ−Ｅ膜を
作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇとガラスの間のＺｎＯ
は４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよびＳｎＯ２ 膜はい
ずれも９０Åであった。ＺｎＯ及びＡｇはＺｎＯ及びＡ
ｇターゲットをＡｒガスでスパッタリングし、ＳｎＯ２
はＳｎＯ２ ターゲットをＡｒ，Ｏ２ 混合ガスでス
パッタリングして得た。スパッタ圧力、基板温度、Ｚｎ
Ｏ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上記実施例と同様
である。ＳｎＯ２ 成膜の際はスパッタ電力密度は１Ｗ
／ｃｍ２ 、Ａｒ：Ｏ２ガス流量比は８：２であった。
より、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
Ａｇ／ＺｎＯ／ ガラスという膜構成のＬｏｗ−Ｅ膜を
作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇとガラスの間のＺｎＯ
は４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよびＳｎＯ２ 膜はい
ずれも９０Åであった。ＺｎＯ及びＡｇはＺｎＯ及びＡ
ｇターゲットをＡｒガスでスパッタリングし、ＳｎＯ２
はＳｎＯ２ ターゲットをＡｒ，Ｏ２ 混合ガスでス
パッタリングして得た。スパッタ圧力、基板温度、Ｚｎ
Ｏ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上記実施例と同様
である。ＳｎＯ２ 成膜の際はスパッタ電力密度は１Ｗ
／ｃｍ２ 、Ａｒ：Ｏ２ガス流量比は８：２であった。
【００５０】上記と同様の条件で作製した、ＺｎＯ／Ｓ
ｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ 膜の内部応力は
９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。ここで得た熱
線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
ｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ 膜の内部応力は
９．２×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。ここで得た熱
線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
【００５１】（実施例４）上記実施例３と同様の方法に
より、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは
１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ２ 膜はいずれも１層９
０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、ス
パッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例３と同様で
あった。
より、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
Ａｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは
１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ２ 膜はいずれも１層９
０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、ス
パッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例３と同様で
あった。
【００５２】この条件で作製した、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／
ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ 膜の内部応力は ９．２×
１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。得られた熱線遮断膜の
耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ 膜の内部応力は ９．２×
１０９ｄｙｎ／ｃｍ２であった。得られた熱線遮断膜の
耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
【００５３】（実施例５）上記実施例２と同様の方法に
より、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜をそ
れぞれ、４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次
積層させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒ
ガスによりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力
、基板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である
。成膜後の膜をＮ２ 雰囲気中４００℃で１時間加熱処
理をおこなった。
より、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜をそ
れぞれ、４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次
積層させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒ
ガスによりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力
、基板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である
。成膜後の膜をＮ２ 雰囲気中４００℃で１時間加熱処
理をおこなった。
【００５４】加熱処理後の熱線遮断膜をＸ線回折法で調
べたところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重
心位置）は ３４．４２°であった。この熱線遮断膜の
耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
べたところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重
心位置）は ３４．４２°であった。この熱線遮断膜の
耐湿性は、上記実施例と同様良好であった。
【００５５】（比較例１）上記実施例と同様の方法によ
り、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜のそれ
ぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層
させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガス
によりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力、基
板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。
り、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜のそれ
ぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層
させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガス
によりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力、基
板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。
【００５６】得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べた
ところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位
置）は ３３．７８°であった。この条件で作製したＺ
ｎＯ膜の内部応力は １．５×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２
であった。
ところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位
置）は ３３．７８°であった。この条件で作製したＺ
ｎＯ膜の内部応力は １．５×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２
であった。
【００５７】耐湿試験後の熱線遮断膜は、全面がうすく
白濁しており、直径１ｍｍ以上のはっきりした白色斑点
もかなり見られた。耐湿試験後のＳＥＭ写真によれば、
膜表面全体にわたって、ひびわれがひろがっており、膜
の破損が著しいことがわかった。
白濁しており、直径１ｍｍ以上のはっきりした白色斑点
もかなり見られた。耐湿試験後のＳＥＭ写真によれば、
膜表面全体にわたって、ひびわれがひろがっており、膜
の破損が著しいことがわかった。
【００５８】上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目には白濁や斑点がはっきり認められた。
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目には白濁や斑点がはっきり認められた。
【００５９】（実施例６）Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｇの金属ター
ゲットをそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で
直流スパッタリング法により、ＳｎＯ２ 膜、ＺｎＯ膜
は酸素含有雰囲気中で反応性直流スパッタリング法によ
り、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａ
ｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１
００Å、ＺｎＯ、ＳｎＯ２ はいずれも１層９０Åであ
った。かかる熱線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は
８６％、エミッシビティは０．０６であった。
ゲットをそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で
直流スパッタリング法により、ＳｎＯ２ 膜、ＺｎＯ膜
は酸素含有雰囲気中で反応性直流スパッタリング法によ
り、ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／Ａ
ｇ／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／ＳｎＯ２／ＺｎＯ／
ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１
００Å、ＺｎＯ、ＳｎＯ２ はいずれも１層９０Åであ
った。かかる熱線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は
８６％、エミッシビティは０．０６であった。
【００６０】この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分まで
は変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色
っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離して
いる部分が見られた。
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分まで
は変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色
っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離して
いる部分が見られた。
【００６１】（比較例２）Ｚｎ、Ａｇの金属ターゲット
をそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で直流ス
パッタリング法により、ＺｎＯ膜は酸素含有雰囲気中で
反応性直流スパッタリング法により、ＺｎＯ／Ａｇ／Ｚ
ｎＯ／ ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。 Ａｇは１００Å、ＺｎＯは４５０Åであった。かかる熱
線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は８６％、エミッ
シビティは０．０６であった。
をそれぞれ用いて、Ａｇ膜はアルゴン雰囲気中で直流ス
パッタリング法により、ＺｎＯ膜は酸素含有雰囲気中で
反応性直流スパッタリング法により、ＺｎＯ／Ａｇ／Ｚ
ｎＯ／ ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。 Ａｇは１００Å、ＺｎＯは４５０Åであった。かかる熱
線遮断膜付きガラスの可視光線透過率は８６％、エミッ
シビティは０．０６であった。
【００６２】この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬直後から膜
が剥離し始め、５分後には、熱線遮断膜が全部ガラスか
ら剥離し、消失した。
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬直後から膜
が剥離し始め、５分後には、熱線遮断膜が全部ガラスか
ら剥離し、消失した。
【００６３】
【発明の効果】本発明による熱線遮断膜は、耐湿性およ
び耐酸性が著しく改善されている。このため、単板での
取扱が容易になると考えられる。また単板での室内長期
保存の可能性も実現する。さらに、自動車用、建築用熱
線遮断ガラスの信頼性向上につながる。又、合わせガラ
スとした際にも中間膜が含有している水分によって劣化
することがないので、自動車用、建築用等の合わせガラ
スの耐久性が向上する。
び耐酸性が著しく改善されている。このため、単板での
取扱が容易になると考えられる。また単板での室内長期
保存の可能性も実現する。さらに、自動車用、建築用熱
線遮断ガラスの信頼性向上につながる。又、合わせガラ
スとした際にも中間膜が含有している水分によって劣化
することがないので、自動車用、建築用等の合わせガラ
スの耐久性が向上する。
【００６４】本発明の熱線遮断膜は、金属膜を有してい
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜は、この導電性を利用して、種々の
技術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野
においては、電極として（太陽電池の電極などにも使用
できる）、また、通電加熱窓においては、発熱体として
、あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜と
して、使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮断
膜は、基体の上に、各種の機能を有する膜を介して形成
することもできる。このような場合には、本発明の熱線
遮断膜の各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その用
途に応じて、光学性能を調節することができる。
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜は、この導電性を利用して、種々の
技術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野
においては、電極として（太陽電池の電極などにも使用
できる）、また、通電加熱窓においては、発熱体として
、あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜と
して、使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮断
膜は、基体の上に、各種の機能を有する膜を介して形成
することもできる。このような場合には、本発明の熱線
遮断膜の各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その用
途に応じて、光学性能を調節することができる。
【図１】本発明による熱線遮断膜をガラス上に形成した
熱線遮断ガラスの一例の断面図
熱線遮断ガラスの一例の断面図
１ 基体
２ 酸化物膜
３ 金属膜
４ 酸化物膜（Ｂ）
Claims (22)
- 【請求項１】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と
交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる熱
線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れた
金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は、
１．１ ×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２ 以下の内部応力を
有することを特徴とする熱線遮断膜。 - 【請求項２】前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金
属膜であることを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜
。 - 【請求項３】前記酸化物膜（Ｂ）は酸化亜鉛を主成分と
する膜を少なくとも１層有する、単層膜又は多層膜であ
ることを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項４】酸化亜鉛の結晶系が六方晶であり、ＣｕＫ
α線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００
２）回折線の回折角２θ（ 重心位置） の値が３３．
８８ ゜以上３５．００ ゜以下の膜であることを特徴
とする請求項３記載の熱線遮断膜。 - 【請求項５】ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六方
晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（ 重心位
置） の値が３４．００ ゜以上３４．８８ ゜以下の
膜であることを特徴とする請求項４記載の熱線遮断膜。 - 【請求項６】前記酸化物膜（Ｂ）は、７．０ ×１０９
ｄｙｎ／ｃｍ２以下の内部応力を有する膜を含む少なく
とも２層からなる多層膜であることを特徴とする請求項
１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項７】前記７．０ ×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２以下
の内部応力を有する膜は、酸化錫を主成分とする膜であ
ることを特徴とする請求項６記載の熱線遮断膜。 - 【請求項８】前記酸化物膜（Ｂ）は、７．０ ×１０９
ｄｙｎ／ｃｍ２以下の内部応力を有する酸化錫を主成分
とする膜を少なくとも１層と、酸化亜鉛を主成分とする
膜を少なくとも１層有する多層膜であることを特徴とす
る請求項７記載の熱線遮断膜。 - 【請求項９】前記酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜のうち
少なくとも１層も１．１ ×１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２
以下の内部応力を有することを特徴とする請求項１記載
の熱線遮断膜。 - 【請求項１０】前記酸化物膜（Ｂ）を構成する複数の層
のうち、基体から最も離れた層は、他の基体と積層する
ために介在させるプラスチック中間膜との接着力調整層
であることを特徴とする請求項３記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１１】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、
と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる
熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れ
た金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は
、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層有する１
層又は多層からなる膜であり、酸化亜鉛の結晶系が六方
晶であり、該熱線遮断膜のＣｕＫα線を用いたＸ線回折
法による六方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２
θ（ 重心位置） の値が３３．８８ ゜以上３５．０
０ ゜以下であることを特徴とする熱線遮断膜。 - 【請求項１２】ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による六
方晶酸化亜鉛の（００２）回折線の回折角２θ（ 重心
位置） の値が３４．００ ゜以上３４．８８ ゜以下
であることを特徴とする請求項１１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１３】前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする
金属膜であることを特徴とする請求項１１記載の熱線遮
断膜。 - 【請求項１４】前記酸化物膜（Ｂ）を構成する複数の層
のうち、基体から最も離れた層は、他の基体と積層する
ために介在させるプラスチック中間膜との接着力調整層
であることを特徴とする請求項１１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１５】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、
と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）からなる
熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最も離れ
た金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は
、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化
錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多層膜であ
ることを特徴とする熱線遮断膜。 - 【請求項１６】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成
分とする膜と、酸化錫を主成分とする膜とが交互に積層
された３層以上からなる多層膜を有することを特徴とす
る請求項１５記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１７】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成
分とする膜、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成
分とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、あ
るいは９層からなる多層膜を有することを特徴とする請
求項１６記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１８】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化錫を主成分
とする膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分
とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、ある
いは９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求
項１６記載の熱線遮断膜。 - 【請求項１９】酸化亜鉛の結晶系が六方晶であり、Ｃｕ
Ｋα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（０
０２）回折線の回折角２θ（ 重心位置）の値が３３．
８８ ゜以上３５．００ ゜以下の膜であることを特徴
とする請求項１５記載の熱線遮断膜。 - 【請求項２０】前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする
金属膜であることを特徴とする請求項１５記載の熱線遮
断膜。 - 【請求項２１】前記酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜のう
ち少なくとも１層も、酸化亜鉛を主成分とする膜を少な
くとも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１
層有する多層膜であることを特徴とする請求項１５記載
の熱線遮断膜。 - 【請求項２２】前記酸化物膜（Ｂ）を構成する複数の層
のうち、基体から最も離れた層は、他の基体と積層する
ために介在させるプラスチック中間膜との接着力調整層
であることを特徴とする請求項１５記載の熱線遮断膜。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3191063A JP3053668B2 (ja) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
| SG1996006339A SG46590A1 (en) | 1990-11-29 | 1991-11-21 | A low emissivity film |
| DE1991622046 DE69122046T2 (de) | 1990-11-29 | 1991-11-21 | Beschichtung mit niedriger Emittierung |
| EP19910119845 EP0488048B1 (en) | 1990-11-29 | 1991-11-21 | A low emissivity film |
| ES91119845T ES2094181T3 (es) | 1990-11-29 | 1991-11-21 | Pelicula de bajo poder de emision. |
| US07/799,306 US5419969A (en) | 1990-07-05 | 1991-11-27 | Low emissivity film |
| CA 2056524 CA2056524C (en) | 1990-11-29 | 1991-11-28 | A low emissivity film |
| KR1019910021714A KR100187963B1 (ko) | 1990-11-29 | 1991-11-29 | 저 방사 필름 |
| US08/305,812 US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1994-09-14 | Low emissivity film |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17628290 | 1990-07-05 | ||
| JP2-176282 | 1990-07-05 | ||
| JP2-321273 | 1990-11-27 | ||
| JP32127390 | 1990-11-27 | ||
| JP3191063A JP3053668B2 (ja) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04357025A true JPH04357025A (ja) | 1992-12-10 |
| JP3053668B2 JP3053668B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=27324232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3191063A Expired - Fee Related JP3053668B2 (ja) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3053668B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1108693A1 (en) | 1999-12-06 | 2001-06-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Heat shading glass, method for manufacturing the same, and heat shading laminated glass using the same |
| JP2001523358A (ja) * | 1998-03-03 | 2001-11-20 | サン−ゴバン ビトラージュ | 熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材 |
| US6533904B2 (en) * | 1996-04-12 | 2003-03-18 | Asahi Glass Company Ltd. | Oxide film, laminate and methods for their production |
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| WO2008111455A1 (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Central Glass Company, Limited | 複層ガラス |
| JP2009234913A (ja) * | 1996-04-25 | 2009-10-15 | Ppg Industries Ohio Inc | 被覆済み物品 |
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| WO2013129624A1 (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-06 | 旭硝子株式会社 | 積層体の製造方法、および積層体 |
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| JP3053668B2 (ja) | 2000-06-19 |
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