JPH04340902A - コーティング用組成物 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
料等の基材表面に塗布し、硬化させることにより、優れ
た透明性、染色性および無機物質からなる反射防止コー
ト薄膜(以後無機蒸着膜と呼ぶ)との密着性を付与する
ことを特徴とするコーティング用組成物に関するもので
ある。
中で、アクリル系、メタクリル系、ビニル系、ポリカー
ボネート系およびアリル系の透明なプラスチック材料は
、ガラスに較べ、耐衝撃性、軽量性、加工性、被着色性
等の性質が優れている為、レンズ、透過ガラス等、光学
用材料として無機ガラスに替って多量に使用されている
。しかし、これらは無機ガラスに較べ、耐擦傷性、耐薬
品性が劣るという欠点を有する。比較的、耐擦傷性に優
れている樹脂として、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂(以後CR−39と呼ぶ)があるが、
このものも実用上充分とはいえない。プラスチック材料
のこれらの欠点を改良する手段として、例えば、特公昭
57−2735号広報には、コロイダルシリカとエポキ
シ基含有アルコキシシランからなる熱硬化塗料が、また
、特公昭57−43168、同56−34033、同5
5−29102、特開昭57−67666号等には、エ
ポキシ基含有アルコキシシランとテトラアルコキシシラ
ンを主成分とする熱硬化塗料が、また、特公昭57−1
5608、同57−43578、同57−20968、
特開昭57−128755号には、光重合塗料がそれぞ
れ開示されており、それぞれ、耐薬品性、耐擦傷性の向
上がはかられている。
の相方の性能を有するものとして、特公表昭57−50
0984号広報に、熱エネルギーの消費が少なく、プラ
スチック基材への密着が優れることが提案されている。
−137939号等には、疎水性コロイダルシリカを用
いて多官能アクリレートとの親和性を高める方法が開示
されている。
性塗料は、CR−39との密着性は充分であるが、ポリ
カーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン等の特定のプラスチックに対して密着性が不充分であ
る。しかも、染色性と無機蒸着膜との密着性の双方を充
分に満足させるものは得られていない。
蒸着膜との密着性に乏しく、前述の特公表昭57−50
0984、特開昭60−137939号による方法では
塗膜の硬度、耐久性は向上するものの、本発明が目的と
する、染色性および無機蒸着膜との密着性の向上は得ら
れない。
問題点を解決するため鋭意検討を行ったところ、シリカ
微粒子、重合可能な反応基を有するシラン化合物、グリ
シジル基と(メタ)アクリロイル基とを同時に有するエ
ポキシ(メタ)アクリレート[(メタ)アクリレートと
は、メタクリレートとアクリレートとを表す。]を主成
分とする組成物を熱硬化もしくは、光硬化と熱硬化を併
用して得られるコーティング被膜において、透明性に優
れ、且つ染色性、無機蒸着膜との密着性ともに優れる性
能が得られることを見い出した。
(A),(B)および(C)を主成分とすることを特徴
とするコーティング用組成物に関するものである。
リカ微粒子、20〜60重量% (B),少なくとも一個以上の重合可能な反応基を有す
るシラン化合物、30〜70重量% (C),一分子中にグリシジル基と(メタ)アクリロイ
ル基とを同時に有するエポキシ(メタ)アクリレート、
2〜30重量% 本発明で使用する(A)成分の粒径1〜100ミリミク
ロンのシリカ微粒子の効果的な例としては、シリカゾル
およびシリカ微粒子がある。シリカゾルとは分散媒たと
えば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒に、高
分子量無水ケイ酸をコロイド状に分散させたものである
。また粉末状シリカ微粒子は、コロイド状シリカの表面
を疎水化処理された粉末であり、いずれも市販されてい
るものである。この発明の目的のためには平均粒子径1
〜100ミリミクロンのものが使用されるが、好ましく
は5〜30ミリミクロンの径のものが使用される。粒子
径が1ミリミクロン以下であると微粒子状シリカが安定
に存在せず、一定した品質が得られない。また100ミ
リミクロン以上であるとコーティング被膜が白濁すると
いう問題が生じる。
%であることが必要である。すなわち、20重量%未満
では、無機蒸着膜との密着性が不充分となるか、もしく
は、塗膜の耐擦傷性が不充分となる。また60重量%を
越えると、塗膜にクラックが生じる。また、染色性も不
充分となる。
基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプ
ト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等の重合可能
な反応基を有するシラン化合物であり、その具体的なも
のとして、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリク
ロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)シ
ラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプ
ロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピ
ルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジ
アルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピル
トリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプト
プロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルト
リアルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルメチルジアルコキシシラン等がある。
てもかまわない。また、加水分解を行なってから用いる
か、もしくは硬化した後の被膜に酸処理を行なうか、ど
ちらかの方法を取った方がより有効である。
70重量%であることが必要である。すなわち、30重
量%未満であると、無機蒸着膜との密着性が不充分とな
りやすい。また70重量%を越えると、硬化被膜にクラ
ックを生じさせる原因となり好ましくない。
ル基と(メタ)アクリロイル基を有するエポキシ(メタ
)アクリートとは、一分子中に2個以上のグリシジル基
を有するエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とのグリ
シジル基開環反応により得られる。一分子中に2個以上
のグリシジル基を有するエポキシ化合物の具体例として
は、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレン
グリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコール
ジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル
、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テ
トラプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ノナ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグ
リコールヒドロキシヒバリン酸エステルのジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリ
グリシジルエーテル、ジグリセロールジグリシジルエー
テル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリ
セロールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリト
ールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリ
グリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリ
シジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシ
ジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル
、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの
ジグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル
)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、等の脂
肪族エポキシ化合物、イソホロンジオールジグリシジル
エーテル、ビス−2,2−ヒドロキシシクロヘキシルプ
ロパンジグリシジルエーテル等の脂環族エポキシ化合物
、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノールA
ジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジル
エーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、オ
ルトフタル酸ジグリシジルエステル、フェノールノボラ
ックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポ
リグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物等が挙
げられる。
タ)アクリレートは、染色成分として用いるため、上記
した中でも、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロー
ルジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジル
エーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レートのトリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化
合物が特に好ましい。これらエポキシ化合物と反応させ
るモノカルボン酸含有化合物としては、アクリル酸、メ
タクリル酸の他に、グリシジル(メタ)アクリレートま
たはヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと0−無水
フタル酸のような酸無水物との反応によって得られるモ
ノカルボン酸含有(メタ)アクリレート化合物がある。
タ)アクリレートとの反応は、上記を混合し、触媒とし
て例えばジメチルアミノエチルメタクリレートなどの3
級アミン化合物、又はベンジルトリメチルアンモニウム
クロリドなどの4級アミン塩を加え、60℃〜110℃
に加熱することにより得られる。
ために、1分子中にグリシジル基と、(メタ)アクリロ
イル基を同時に有するエポキシ(メタ)アクリレートと
するのがより好ましい。
リシジルエーテル1モルとアクリル酸1.5モルとを反
応させることにより得られる。
0重量%であることが必要である。すなわち2重量%未
満であると染色性が不充分となる。また、30重量%を
越えると無機蒸着膜との密着性が不充分となりやすく、
好ましくない。
成物は、必要に応じ、溶剤に希釈して用いることができ
る。溶剤としては、アルコール類、エステル類、ケトン
類、エーテル類、芳香族類等の溶剤が用いられる。また
、塗布面の欠陥を改良するためのシリコーン系界面活性
剤や非イオン系界面活性剤、チキソトロピー剤、スリッ
プ剤としてシリコンオイルや紫外線吸収剤、帯電防止剤
等を添加することも有用である。
物の硬化触媒を添加することも有用である。
ネシウムが挙げられるが 、その他にも、アルミニウム
アセチルアセテート等の金属アセチルアセトネート、ア
ミン、グリシン等のアミノ酸、ルイス酸、有機酸金属塩
、過塩素酸アンモニウム等がある。添加量は、固形分濃
度の0.01〜5.0%の範囲内が望ましい。
0.05〜30μであることが好ましい。すなわち、0
.05μ未満では、基本となる性能が出ず、30μを越
えると、表面の平滑性が損なわれたり、光学的歪が発生
する為好ましくない。
法、ロールコート法、スピンコート法、フローコート法
等が挙げられる。
組成物は、基材に塗布後、熱硬化を行う。熱硬化せしめ
るためには、80℃〜200℃の温風中にて縮合反応さ
せる方法が好ましい。特に耐熱性の劣る基材の場合は、
80℃〜130℃の間がより望ましい。このようにして
得られた硬化被膜を有するプラスチック基材に、以下に
述べる反射防止膜を設けることが可能である。即ち、真
空蒸着法、イオンスパッタリング法等に周知の方法によ
りSiO、SiO2、Si3N4、TiO2、ZrO2
、Al2O3、MgF2の無機誘導体よりなる単層ある
いは多層の薄膜を積層することにより、大気との界面の
反射を低く抑えることができる。蒸着用材料として、こ
れら以外に、例えば、Sb2O3、Sb2O5、CaF
2、CeO2、CeF3、Na3AlF3、La2O3
、LaF3、PbF3、NdF3、Pr6O11、Th
O2、ThF2、ZnS、Ti2O3、Ta2O5、Y
2O3、MgO等の材料がある。
/4(λ0=450〜650nm)の単層構造、あるい
は、λ0/4−λ0/2−λ0/4または、λ0/4−
λ0/4−λ0/4の屈折率の異なる三層構造の多層膜
あるいは、一部等価膜でおきかえた多層膜による反射防
止膜からなるものが有用であり、その屈折率は、例えば
、単層の場合には、空気、反射防止膜、基材(または、
硬化被膜層)の屈折率を各々、n0、n1、n2とする
と、n1=(n0・n2)1/2である時が最も反射の
少ないものとなる。多層膜の場合、実施例に一部を示し
たように屈折率の異なるものを組み合わせることにより
単層膜より優れた効果を発揮することができる。反射防
止膜形成を真空蒸着で行なうときには、予めレンズを酸
素やアルゴン等のガスプラズマで表面処理を行なうこと
により密着性を向上させることができる場合もある。
以下、実施例により更に詳細に説明する。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
チロールプロパントリグリシジルエーテル(ナガセ化成
工業(株)製;商品名「デナコールEX−321」)5
80g、アクリル酸112g、ジメチルアミノエチルメ
タクリレート3g、ハイドロキノンメルエーテル0.4
g、ブチルセロソルブ173gを入れ、攪拌を行ないな
がら、70℃で2時間、80℃で2時間、続いて90℃
で6時間反応させてエポキシアクリレート(EA−1)
を得た。得られたエポキシアクリレートは、APHA1
50、酸化0.05であった。
ダルシリカ(触媒化成工業(株)製、商品名「オスカル
1132」固形分濃度30wt%)205.3g混合し
た後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン6
7.3gを混合した。この混合液に0.05N塩酸水溶
液18.5gを攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌
後一昼夜熟成させた。この液にEA−1を51.0g添
加した後過塩素酸マグネシウム1.5g、シリコン系界
面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名「L−700
1」)0.1gおよびヒンダードフェノール系酸化防止
剤(日本チバガイギー(株)製、商品名「IRGANO
X1010」)0.7gを添加し4時間攪拌後一昼夜熟
成させて塗液とした。
CR−39製眼鏡レンズに浸漬法にて塗布を行なった。 引き上げ速度は、20cm/minとした。塗布後80
℃で20分間風乾した後130℃で120分間焼成を行
なった。このようにして得られた硬化被膜の厚みは約2
ミクロンであり、外観、染色性共に優れたものであった
。
、それぞれ以下の方法で無機物質からなる反射防止コー
ト薄膜の形成を行なった。
をプラズマ処理(アルゴンプラズマ400W×60秒)
を行なった後、基板から大気にむかって順にSiO2、
ZrO2、SiO2、ZrO2、SiO2の5層からな
る反射防止多層膜を真空蒸着法(真空器械工業(株)製
;BMC−1000)にて形成を行なった。 膜厚は、最下層のSiO2の膜厚、次のZrO2とSi
O2の合計膜厚、次のZrO2の膜厚、最上層のSiO
2の膜厚すべてがλ/4となる様に形成させた。なお、
設計波長λは520nmとした。
れたレンズ(以下ハードコートレンズと呼ぶ)および実
施例2で得られたレンズ(以下ハードマルチコートレン
ズと呼ぶ)をそれぞれ次に述べる方法で試験を行ない、
その結果を表1に示した。
ールで1kgの荷重をかけ、10往復、表面を摩擦し、
傷ついた程度を目視で次の段階に分けて評価した。
ない。
く。
が残っている。
残っていない。
灯油中に48時間浸漬し、表面状態に変化のないものを
良とした。
1%ママレモン(ライオン油脂(株)製)水溶液に12
時間浸漬し、表面状態に変化のないものを良とした。
びハードコート膜とマルチコート膜との密着性は、JI
SD−0202に準じてクロスカットテープ試験によっ
て行なった。即ち、ナイフを用い基材表面に1mm間隔
に切れ目を入れ、1平方mmのマス目を100個形成さ
せる。次に、その上へセロファン粘着テープ(ニチバン
(株)製 商品名「セロテープ」)を強く押し付けた
後、表面から90度方向へ急に引っ張り剥離した後コー
ト被膜の残っているマス目をもって密着性指標とした。
シャインウェザーメーターに400時間暴露した後の表
面状態に変化のないものを良とした。
の温風中に1時間保存した後表面状態を調べた。更に−
5℃で15分、60℃で15分のサイクルを5回繰り返
し、表面状態に変化のないものを良とした。
接続であると考え、(a)から(f)の試験を行なった
ものについて、上記のクロスカットテープ試験を行ない
コート膜に剥離のないものを良とした。
:92℃の純水1リットルに、セイコープラックスダイ
ヤコート用染色剤アンバーDを2g分散させ染色液を調
整した。この染色液に、5分間浸漬させ染色を行ない、
染色ムラがなく、かつ全光線透過率が染色前と染色後の
差が30%以上のものを良とした。
ロールジグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製
;商品名「デナコールEX−313」)580g、アク
リル酸144g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リド3g、ハイドロキノンメチルエーテル0.4g、ブ
チルセロソルブ181gを入れ攪拌を行ないながら、7
0℃で2時間、80℃で6時間反応させてエポキシアク
リレート(EA−2)を得た。得られたエポキシアクリ
レートは、APHA150、酸化0.05であった。
ル分散コロイダルシリカ(触媒化成工業(株)製、商品
名「オスカル1432」固形分濃度30wt%)160
.8gを混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン73.0gを混合した。この混合液に0.
05N塩酸水溶液20.1gを攪拌しながら滴下を行な
い4時間攪拌後一昼夜熟成させた。この液にEA−2を
50.15g添加した後過塩素酸マグネシウム3.0g
、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製;商品
名「FZ−2110」)0.1gおよびフェノール系酸
化防止剤(川口化学工業(株)製;商品名「アンテージ
クリスタル」)0.7gを添加し4時間攪拌後一昼夜熟
成させて塗液とした。
CR−39製眼鏡レンズにスピンナー法にて塗布を行な
った。
(この間に塗液を塗布) 回転数 2000rpmで 1秒回転数
500rpmで 5秒塗布後80℃で20分間
風乾した後、130℃で120分間焼成を行なった。こ
のようにして得られた硬化被膜の厚みは約2.3ミクロ
ンであり、外観、染色性共に優れたものであった。
得られたレンズは実施例1と同様の方法で試験を行ない
、その結果を表1に示した。
無機物からなる反射防止コート薄膜の形成を行った。
得られたレンズは実施例2と同様の方法で試験を行ない
、その結果を表1に示した。
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセ化成
工業(株)製;商品名「デナコールEX−212」)6
00g、メタクリル酸189g、ジメチルアミノエチル
メタクリレート3g、ハイドロキノンメチルエーテル0
.4g、ブチルセロソルブ338gを入れ攪拌を行ない
ながら、70℃で2時間、80℃で2時間、続いて90
℃で6時間反応させてエポキシメタクリレート(EA−
3)を得た。得られたエポキシメタクリレートは、AP
HA180、酸化0.05であった。
およびメチルセロソルブ分散コロイダルシリカ(触媒化
成工業(株)製;商品名「オスカル1832」固形分濃
度30wt%)172.9gを混合した後、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン61.2gおよび
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン14.6
gを混合した。この混合液に0.05N塩酸水溶液20
.0gを攪拌しながら滴下した。さらに5時間攪拌後一
昼夜熟成させた。この液にEA−3を26.7g、過塩
素酸マグネシウム0.5gおよびシリコン系界面活性剤
(日本ユニカー(株)製;商品名「L−7604」)0
.1gを添加し4時間攪拌後一昼夜熟成させて塗液とし
た。
MX用の生地レンズ(セイコーエプソン(株)製)にス
ピンナー法にて塗布を行なった。コーティング条件は、
実施例3と同様な方法で行なった。
0℃で4時間焼成を行なった。このようにして得られた
硬化被膜の厚みは約2.1ミクロンであり、外観、染色
性共に優れたものであった。
得られたハードコートレンズを実施例2と同様の方法で
無機物からなる反射防止コート薄膜の形成を行なった。
得られたレンズは実施例2と同様の方法で試験を行ない
、その結果を表1に示した。なお、染色性はハードコー
トレンズの状態で評価を行なった。
ロピレングリコールジグリシジルエーテル(ナガセ化成
工業(株)製;商品名「デナコールEX−921」)6
15g、メタクリル酸129g、ベンジルトリメチルア
ンモニウムクロリド3g、ハイドロキノンメチルエーテ
ル0.4g、ブチルセロソルブ319gを入れ攪拌を行
ないながら、70℃で2時間、80℃で2時間、続いて
90℃で6時間反応させてエポキシメタクリレート(E
A−4)を得た。得られたエポキシメタクリレートは、
APHA200、酸化0.05であった。
ル分散コロイダルシリカ(触媒化成工業(株)製;商品
名「オスカル1432」固形分濃度30wt%)209
.5gを混合した後、γ−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン46.5gおよびγ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン69.8gを混合した。 この混合液に0.05N塩酸水溶液26.4gを攪拌し
ながら滴下を行ない4時間攪拌後一昼夜熟成させた。こ
の液にEA−4を20.2g添加した後過塩素酸マグネ
シウム3.0g、シリコン系界面活性剤(ビッグケミー
(株)製;商品名「BYK−300」)0.1gを添加
し4時間攪拌後一昼夜熟成させて塗液とした。
したアクリル板(三菱レイヨン(株)製;商品名「アク
リペットVH」100mm*100mm*3mmt)に
スプレー法にて塗布を行なった。
装機(株)製;ノズル口径1mm)を用い、スプレー圧
力3kg/平方cm、塗料吐出量100ml/minで
おこなった。
で4時間焼成を行なった。このようにして得られた硬化
被膜の厚みは4ミクロンであり、外観、染色性共に優れ
たものであった。
得られたアクリル板は実施例1と同様の方法で試験を行
ない、その結果を表1に示した。
で、無機物からなる反射防止コート薄膜の形成を行なっ
た。
得られたアクリル板は実施例2と同様の方法で試験を行
ない、その結果を表1に示した。
を添加しないこと以外はすべて同様な方法でレンズに塗
布を行なった。
法で試験を行ない、その結果を表1に示した。
g、イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ(触
媒化成工業(株)製;商品名「オスカル1432」固形
分濃度30wt%)323.8gを混合した後、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン25.5gを混
合した。この混合液に0.05N塩酸水溶液7.0gを
攪拌しながら滴下を行ない4時間攪拌後一昼夜熟成させ
た。この液に実施例3で用いたEA−2を31.0g添
加した後過塩素酸マグネシウム0.8g、シリコン系界
面活性剤(日本ユニカー(株)製;商品名「FZ−21
10」)0.1gおよびフェノール系酸化防止剤(川口
化学工業(株)製;商品名「アンテージクリスタル」)
0.7gを添加し4時間攪拌後一昼夜熟成させて塗液と
した。
例3と同様の方法でレンズに塗布を行なった。
と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示した
。
実施例2と同様の方法で、無機物からなる反射防止コー
ト薄膜の形成を行なった。
と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示した
。
の代わりにグリセロールジグリシジルエーテルを添加す
ること以外はすべて同様な方法でレンズに塗布を行なっ
た。
と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示した
。
実施例2と同様な方法で、反射防止膜の形成を行なった
。
と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示した
。
g、イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ(触
媒化成工業(株)製;商品名「オスカル1432」固形
分濃度30wt%)129.0gを混合した後、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン29.1g
およびγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
46.5gを混合した。この混合液に0.05N塩酸水
溶液17.3gを攪拌しながら滴下を行ない4時間攪拌
後一昼夜熟成させた。この液にEA−4を96.1g添
加した後過塩素酸マグネシウム2.0g、シリコン系界
面活性剤(ビッグケミー(株)製;商品名「BYK−3
00」)0.1gを添加し4時間攪拌後一昼夜熟成させ
て塗液とした。
例6と同様の方法でアクリル板に塗布を行なった。
例1と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示
した。
板を、実施例2と同様な方法で反射防止膜の形成を行な
った。
例1と同様の方法で試験を行ない、その結果を表1に示
した。
な染色性と無機物からなる反射防止膜との密着性とを同
時に得ることができ、また表面の高硬度化が可能となり
、かつ従来アクリル樹脂等の光学用プラスチック材料に
おいて、密着性が不充分なため実用化されなかった、無
機物質による反射防止加工が可能となった効果は大きい
。即ちプラスチックレンズ材料として、(メタ)アクリ
ル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、カーボネート樹脂
、アリル樹脂、アリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、更に新たなモノ
マーやコモノマーの重合体等各種機能をもった樹脂に応
用し得られる。
な無機物からなる反射防止膜との耐久性を兼ね備えたプ
ラスチック材料は、眼鏡レンズ、カメラレンズ、光ビー
ム集光レンズや光拡散用レンズとして民生用或いは産業
用に広く応用することができる。更に本発明による効果
は、ウォッチガラスやディスプレイ用カバーガラス等の
透明ガラスやカバーガラス等の光学用途の透明プラスチ
ック全般に応用利用が可能であり、得られる効果は多大
である。
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくとも下記の成分(A),(B)
および(C)を主成分とすることを特徴とするコーティ
ング用組成物。 (A).粒径1〜100ミリミクロンのシリカ微粒子、
20〜60重量% (B).少なくとも一個以上の重合可能な反応基を有す
るシラン化合物、30〜70重量% (C).一分子中にグリシジル基と(メタ)アクリロイ
ル基とを同時に有するエポキシ(メタ)アクリレート、
2〜30重量%
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11333491A JP3220906B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | コーティング用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11333491A JP3220906B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | コーティング用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04340902A true JPH04340902A (ja) | 1992-11-27 |
JP3220906B2 JP3220906B2 (ja) | 2001-10-22 |
Family
ID=14609611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11333491A Expired - Lifetime JP3220906B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | コーティング用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3220906B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
JPH11131021A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-18 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物およびその積層体 |
JP2006334909A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gunze Ltd | ガスバリア層付フィルム |
US7604866B2 (en) | 2003-06-18 | 2009-10-20 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Antireflection film |
-
1991
- 1991-05-17 JP JP11333491A patent/JP3220906B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0798414A (ja) * | 1993-04-15 | 1995-04-11 | Seiko Epson Corp | 偏光板および偏光板の製造方法 |
JPH11131021A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-18 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物およびその積層体 |
US7604866B2 (en) | 2003-06-18 | 2009-10-20 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Antireflection film |
JP2006334909A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gunze Ltd | ガスバリア層付フィルム |
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