JPH04283526A - 光学活性アリルアルコールの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は医農薬品の中間体等とし
て有用な下記式（ＩＩＩ）で表わされる光学活性アリル
アルコールの製造方法に関する。

【０００２】

【化３】 （式中、Ｒ４は一価炭化水素基を示す。Ｒ５は水素原子
、Ｒ７Ｒ８Ｒ９Ｓｉ基又はＲ１０Ｓ基を示し、Ｒ７，Ｒ
８，Ｒ９，Ｒ１０はそれぞれ同一又は異種の一価炭化水
素基を示す。 Ｚ１は水素原子又は水酸基の保護基を示す。Ｚ２は水素
原子又はＲ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３
基はそれぞれ同一又は異種の一価炭化水素基を示す。ま
た、＊は不斉中心を示す。）

【０００３】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】上記式
（ＩＩＩ）で示される光学活性アルコール、例えば式（
ＩＩＩ−１）でで示される化合物は、強い生理活性で知
られているトキシン類（参考文献：例えば、アール・デ
ィー・ワークアップ等，テトラヘドロン・レターズ，２
８，　　４０１９（１９７８））やロイコトリエン類（
参考文献：例えば、エー・ブイ・アール・ラオ等，テト
ラヘドロン・レターズ，２８，６４７９（１９８７））
などの合成中間体として有用である。

【０００４】

【化４】 （但し、Ｐｈはフェニル基を示す。）

【０００５】この化合物（ＩＩＩ−１）の合成法として
は、従来数通り知られており、その主なものとしては、
（ａ）糖類から５工程を要して合成する方法（参考文献
：例えば、ディー・イー・マックラー等，ジャーナル・
オルガニック・ケミストリー，４３，４８７６（１９７
８）及び高野等，シンセシス，１９８８，６１０）、（
ｂ）酒石酸から５工程を要して合成する方法（参考文献
：例えば、エー・ブイ・アール・ラオ等，テトラヘドロ
ン・レターズ，２８，６４７９（１９８７））、（ｃ）
不斉シャープレス酸化反応で得られる光学活性γ−シリ
ル−β，γ−エポキシアルコールから２工程で得る方法
（参考文献：佐藤等，ケミストリー・レターズ，２１６
３（１９８７））などが挙げられる。

【０００６】しかし、（ａ），（ｂ）の方法は多工程を
要し、しかも重金属試剤を用いる工程や低収率の工程を
含むなどの問題がある。また、（ｃ）の方法も、不斉酸
化反応を速度論的光学分割として用いているため、収率
が５０％を超えられない点や酸化で得られるエポキシア
ルコールと原料アルコールの分離があまり容易でないな
どの問題があり、上記方法はいずれも工業的生産方法と
して実用性に劣る。

【０００７】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
上記式（ＩＩＩ）の光学活性アリルアルコールを工業的
有利に製造する方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行なった結果、下記一般
式（Ｉ）で示される光学活性なシリル置換エポキシ化合
物と一般式（ＩＩ）で示される活性メチレン化合物とを
塩基の存在下に反応させ、必要により脱シリル化剤で処
理した場合、一般式（ＩＩＩ）で示される光学活性アリ
ルアルコールが短工程で重金属試剤などを必要とせずに
高収率で製造し得、しかもこの場合立体構造を予測して
合成できること、更に原料となる光学活性なシリル置換
エポキシ化合物は、一般式（Ｉ）においてＲ４及びＺ１
が水素原子である場合、不斉シャープレス酸化反応で用
いる不斉源が触媒量でも、前述の（ｃ）の方法と異なり
速度論的光学分割としての利用でないため、９８％ｅｅ
以上の高光学純度かつ９０％以上の高収率で得られ、原
料エポキシ化合物を高純度で簡単に入手使用し得ること
を知見し、本発明を完成した。

【０００９】

【化５】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６はそれぞれ同一
又は異種の一価炭化水素基を示す。Ｒ５は水素原子、Ｒ
７Ｒ８Ｒ９Ｓｉ基又はＲ１０Ｓ基を示し、Ｒ７，Ｒ８，
Ｒ９，Ｒ１０はそれぞれ同一又は異種の一価炭化水素基
を示す。Ｚ１は水素原子又は水酸基の保護基を示し、Ｚ
２は水素原子又はＲ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基を示す。ｎは０，
１又は２である。 また、＊は不斉中心を示す。）

【００１０】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の一般式（ＩＩＩ）の光学活性アリルアルコールの製
造方法は、上記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性なシ
リル置換エポキシ化合物と、上記一般式（ＩＩ）で表わ
される活性メチレン化合物とを塩基の存在下で反応させ
た後、必要に応じて脱シリル化剤で処理するものである
。

【００１１】ここで、一般式（Ｉ）で表わされる光学活
性アリルアルコールは、具体的に下記一般式（Ｉａ）及
び（Ｉｂ）のように表わすことができ、従って本発明製
造法を反応式で表わすと、アリルアルコールとして式（
Ｉａ）又は（Ｉｂ）を用いることによりそれぞれ〔Ａ〕
又は〔Ｂ〕のようになり、出発原料（Ｉ）の立体を選択
することで目的の立体異性体の光学活性体（ＩＩＩａ）
又は（ＩＩＩｂ）を任意に製造することができる。

【００１２】

【化６】

【００１３】

【化７】

【００１４】この場合、本発明製造法の原料となる上記
一般式（Ｉ）乃至は一般式（Ｉａ），（Ｉｂ）の光学活
性アリルアルコールにおいて、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は上述
したようにいずれも一価炭化水素基であり、好ましくは
炭素数１〜１０の一価炭化水素基で、通常はアルキル基
である。具体的にはメチル基，エチル基，ｎ−プロピル
基，ｉ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｉ−ブチル基，ｔ
−ブチル基，アシル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オク
チル基，ノニル基，デシル基等を例示することができる
。なお、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は互いに同一でも異なってい
てもよい。

【００１５】また、置換基Ｒ４は、一価炭化水素基であ
り、これには置換もしくは未置換のアルキル基、シクロ
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
、アラルキル基などが挙げられ、その炭素数は好ましく
は１〜１０である。具体的にはメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−
ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、２−メチルヘキシル、２−ヘキシル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、
ヘキサ−４−イン−２−イル、ヘプタ−４−イン−２−
イル、２，６−ジメチル−ヘプタ−５−エン−１−イル
、ペンタ−１−エン−１−イル、ペンタ−２−エン−１
−イル、ヘキサ−１−エン−２−イル、３−エトキシ−
２−メチル−プロパン−２−イル、エトキシエチル、５
−メトキシヘキシル、６−メトキシ−２−ヘキシル、ハ
ロゲン化メチル、ハロゲン化ｎ−ブチル、ハロゲン化ｎ
−ペンチル、ハロゲン化ノニル、フェニルｐ−トリル、
ベンジル、ハロゲン化フェニル、ｎ−ペンチルオキシメ
チル、１−エトキシ−２−メチル−プロパン−２−イル
、フェノキシメチル、ベンジロキシメチル、ｐ−クロル
−フェノキシメチル、２−フェニルエチル、ベンジロキ
シエチル、フェニルアセチレニル、ｍ−クロル−フェノ
キシメチル、ｍ−トリフルオロメチル−フェノキシメチ
ル、１−ブチル−シクロプロピル、３−エチル−シクロ
ペンチル、２−オクテニル、ビニル等の基を挙げること
ができる。

【００１６】Ｚ１は水素原子又は水酸基の保護基であり
、水酸基の保護基としては、例えばトリアルキルシリル
基（例えばトリメチルシリル基，ｔ−ブチルジメチルシ
リル基，フェニルジメチルシリル基）、アルコキシアル
キル基（例えばメトキシメチル基，エトキシエチル基，
テトラヒドロピラニル基）、アラルキル基（例えばベン
ジル基，ｐ−トリルメチル基，ｐ−クロロフェニルメチ
ル基）、アラルキル基（例えばベンジル基，ｐ−トリル
メチル基，ｐ−クロロフェニルメチル基）、アラルキル
オキシアルキル基（例えばベンジルオキシメチル基）、
トリチル基等が挙げられる。

【００１７】上記式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）の光学活性な
シリル置換エポキシ化合物は、下記一般式（ＩＶ）で示
されるアリルアルコールを不斉シャープレス酸化する（
香月、テトラヘドロン・レターズ，２５，２８２１（１
９８４）及び特開平１−２２８９９４号公報）等の方法
により得ることができる。

【００１８】

【化８】

【００１９】この場合、式（Ｉａ）の化合物を得るか式
（Ｉｂ）の化合物を得るかの立体選択性は、不斉源にＬ
−酒石酸ジエステルを用いるか又はＤ−酒石酸ジエステ
ルを用いるかで制御でき、Ｒ４が水素原子である場合、
不斉錯体が３〜５％モルでも９８％ｅｅ以上の高光学純
度で式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）の化合物が９０％以上の高
収率で得られる。なお、Ｚが水酸基の保護基の場合は、
こうして得られたＺが水素原子である式（Ｉａ）又は（
Ｉｂ）の化合物に既知の方法で保護基を導入すればよい
。

【００２０】本発明のもう一方の原料である一般式（Ｉ
Ｉ）〔Ｒ５ＣＨ２Ｓ（Ｏ）ｎＲ６〕の活性メチレン化合
物において、Ｒ５は水素原子、Ｒ７Ｒ８Ｒ９Ｓｉ基又は
Ｒ１０Ｓ基を示すが、Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０はＲ４
と同様な一価炭化水素基である。このようなＲ７Ｒ８Ｒ
９Ｓｉ基の具体例としては、トリメチルシリル基，トリ
エチルシリル基，ｔ−ブチルジメチルシリル基，フェニ
ルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基やジアル
キルフェニルシリル基などが挙げられ、Ｒ１０Ｓ基の具
体例としては、メチルチオ基，エチルチオ基，オクチル
チオ基等のアルキルチオ基やフェニルチオ基，ｐ−トリ
ルチオ基，ｏ−クロロフェニルチオ基等の未置換もしく
は置換のフェニルチオ基などが挙げられる。また、Ｒ６
はＲ４と同様の一価炭化水素基であり、ｎは０，１又は
２である。

【００２１】上記式（ＩＩ）の活性メチレン化合物は、
既知の各種方法で得られるほか、市販のＤＭＳＯ（ＣＨ
３ＳＯＣＨ３），ＦＡＭＳＯ（ＣＨ３ＣＨ２ＳＯＣＨ３
），ＭＴ−スルホン（ＣＨ３ＳＣＨ２ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４
−ＣＨ３）等をそのまま利用することができる。

【００２２】本発明は、上記式（Ｉ）のエポキシ化合物
と式（ＩＩ）の活性メチレン化合物とを反応させて、目
的の式（ＩＩＩ）のアリルアルコールを得るものである
が、この際式（Ｉ）のエポキシ化合物と式（ＩＩ）の活
性メチレン化合物とは、通常前者１モルに対し後者０．
１〜１０モルの割合で使用することが好ましい。

【００２３】また、この反応は、塩基の存在下で行なわ
れるが、ここで用いる塩基としては、アルキルリチウム
（例えばｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ
−ブチルリチウム、メチルリチウム等）、水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は
、エポキシ化合物（Ｉ）に対して０．８〜８当量で、活
性メチレン化合物（ＩＩ）のモル数を越えない量が好ま
しい。。

【００２４】反応は溶媒を使用することもできるが、溶
媒としては、反応を阻害したり他の反応を引き起こすこ
とがなければいずれのものも使用することができ、例え
ばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エチルエーテル、ヘ
キサン、ヘプタン、ＤＭＳＯ（ＣＨ３ＳＯＣＨ３）、ヘ
キサメチルホスホアミド（ＨＮＰＡ）等が挙げられ、こ
れらの１種又は２種以上を混合して用いることができる
。

【００２５】反応温度は、反応液の凝固温度から還流温
度までのいずれでも良いが、通常−８０℃〜８０℃、好
ましくは−４０℃〜４０℃である。また、反応時間は通
常１０分〜５０時間である。

【００２６】反応終了後、必要に応じ脱シリル化剤で処
理するが、その処理法としては、例えば（イ）ｐＨ２〜
４の酸性条件下での処理、例えば０．０１Ｎ塩酸処理、
（ロ）ｐ−トルエンスルホン酸処理、（ハ）フッ化テト
ラ（ｎ−ブチル）アンモニウム処理等が挙げられるが、
勿論これに制限されない。

【００２７】以上のようにして、本発明の目的物質であ
る式（ＩＩＩ）の光学活性アリルアルコールが得られる
が、この場合、上述したように原料物質として式（Ｉａ
）のエポキシ化合物を用いた場合は式（ＩＩＩａ）のア
リルアルコールが製造され、式（Ｉｂ）のエポキシ化合
物を用いた場合は式（ＩＩＩｂ）のアリルアルコールが
製造される。

【００２８】

【化９】

【００２９】なお、上記式中、Ｒ４，Ｒ５，Ｚ１は上記
と同様の意味を示し、Ｚ２は水素原子又はＲ１Ｒ２Ｒ３
Ｓｉ基である。

【００３０】

【実施例】以下、実施例及び参考例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例においてＭｅはメチル基、ｎ−
Ｂｕはｎ−ブチル基、ｔ−Ｂｕはｔ−ブチル基、Ｐｈは
フェニル基を示す。

【００３１】〔参考例１〕（Ｅ）−３−トリメチルシリ
ル−２−プロペン−１−オールの不斉エポキシ化

【００
３２】

【化１０】

【００３３】４Ａモレキュラーシーブ１５ｇを塩化メチ
レン９ｍｌに混合した混合物に、チタニウムテトライソ
プロポキシド０．２９ｍｌ（０．９７ｍｍｏｌ，３モル
％）、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル０．２５ｍｌ
（０．１６ｍｍｏｌ，３．６モル％）及び式（１）のア
ルコール５ｍｌ（３２．２ｍｍｏｌ）を−２０℃で順次
加え、得られた混合物を−２０℃で３０分間撹拌した。 これに過酸化ｔ−ブチル１７．９ｍｌ（塩化メチレン中
３．６モル，６４．４ｍｍｏｌ）を−２０℃で３０分間
かけて滴下した。次いで、この混合物を−２０℃で３．
５日間撹拌した後、水０．３５ｍｌ（１９ｍｍｏｌ）、
エチルエーテル３０ｍｌ，フッ化ナトリウム０．８ｇ（
１９ｍｍｏｌ）及びセライト１．６ｇを加え、室温で６
時間激しく撹拌した。その後、セライトのパッドで濾過
し、エチルエーテルで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、式（
Ｉ−１）の（２Ｓ，３Ｒ）−（Ｅ）−２，３−エポキシ
−３−トリメチルシリル−１−プロパノール２．２３ｇ
（収率９０％）を得た。これを対応するα−メトキシ−
α−トリフロロメチルフェニル酢酸（ＭＴＰＡ）エステ
ルに誘導し、その１Ｈ　　ＮＭＲ分析（５００ＭＨｚ）
によって光学純度を調べた結果は９８．８％ｅｅであっ
た。式（Ｉ−１）の化合物の特性値を下記に示す。

【００３４】

【化１１】

【００３５】〔参考例２〕（２Ｓ，３Ｒ）−１−ベンジ
ルオキシ−２，３−エポキシ−３−トリメチルシリルプ
ロパンの合成

【００３６】

【化１２】

【００３７】オイルフリーの水素化ナトリウム４８８ｍ
ｇ（２０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに懸濁した懸濁液
に０℃でメタノールを５μｌ加えた。５分後、式（Ｉ−
１）のエポキシアルコール１．９８ｇ（１３．６ｍｍｏ
ｌ）を０℃で上記懸濁液に滴下し、０℃で３０分間撹拌
した後、臭化ベンジル２．４２ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）を
加えた。得られた混合物を０〜１５℃の温度で１０時間
撹拌し、次いでメタノール１ｍｌと水２０ｍｌを０℃で
添加して過剰の水素化ナトリウムを失活させた。この混
合物にエチルエーテル２００ｍｌと飽和塩化アンモニウ
ム水溶液２００ｍｌを加え、有機層を分離すると共に、
水層をエチルエーテル１００ｍｌで抽出した（３回）。 有機層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、式（Ｉ−２）のエポキサイド２．８４ｇ（収率
８９％）を得た。この式（Ｉ−２）の化合物の特性値を
下記に示す。

【００３８】

【化１３】

【００３９】〔参考例３〕ソジウムメチルスルフィニル
メチリドの合成 水素化ナトリウム２．８８ｇ（ミネラルオイル中５０％
含有，６０ｍｍｏｌ）を１００ｍｌの丸底フラスコに入
れ、ヘキサン２０ｍｌを加え、室温で５分間撹拌した。 ヘキサンをデカンテーション、次いでロータリーポンプ
により除去し、オイルフリーの水素化ナトリウムを得た
。これにＤＭＳＯ３０ｍｌを加え、約６５℃に加熱し、
６５〜７０℃の温度で３時間撹拌して、ソジウムメチル
スルフィニルメチリド（ＮａＣＨ２Ｓ（Ｏ）ＣＨ３）の
ＤＭＳＯ溶液（２モル／ｌ＝２Ｍ）を得た。

【００４０】〔実施例１〕（２Ｒ）−１−ベンジルオキ
シ−３−プロペン−２−オールの合成

【００４１】

【化１４】

【００４２】参考例２で得られた式（Ｉ−２）のエポキ
シド１２２ｍｇ（０．５２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ４ｍｌに
溶解した溶液に参考例３で得られたＮａＣＨ２Ｓ（Ｏ）
ＣＨ３１．０４ｍｌ（ＤＭＳＯ溶液，２．０Ｍ，２．０
８ｍｍｏｌ）を０℃で加え、その混合物を０℃で４時間
撹拌した。反応液をヘキサン１５ｍｌで希釈し、これを
飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。有機層を分離す
ると共に、水層をヘキサンとエチルエーテルとの混合液
（１：１）１５ｍｌで２回抽出し、有機層を合わせ、硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、式（ＩＩＩ−
１）の（２Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３−プロペン−
２−オール９０ｍｇ（収率９８％）を得た。

【００４３】〔実施例２〕オイルフリーの水素化ナトリ
ウム０．５ｇ（２１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５０ｍｌに懸濁
した懸濁液に、メタノールを５μｌ及び参考例１で得ら
れた式（Ｉ−１）のエポキシアルコール１．５３ｇ（１
０．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５ｍｌに溶解した溶液を０℃
で加え、０℃で３０分間撹拌した。これに臭化ベンジル
１．９ｍｌ（１６．０ｍｍｏｌ）を加え、０〜１０℃の
温度で５時間撹拌した。ＴＬＣ分析の結果、反応は完結
し、上記式（Ｉ−２）のエポキシドが得られていること
が確認された（Ｒｆ（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
：式（Ｉ−１）のエポキシアルコール＝０．３０，式（
Ｉ−２）のエポキシド＝０．６３）。

【００４４】次に、上記反応液に参考例３のＮａＣＨ２
Ｓ（Ｏ）ＣＨ３１４ｍｌ（ＤＭＳＯ溶液，３．０Ｍ，４
２ｍｍｏｌ）を０℃で加え、０℃で２時間撹拌した。得
られた反応液を０℃で飽和塩化アンモニウム水溶液に注
ぎ、生成物をエチルエーテルで抽出した。更に水層の抽
出を３０ｍｌのエチルエーテルで２回行ない、有機層を
合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
式（ＩＩＩ−１）の（２Ｒ）−１−ベンジルオキシ−３
−プロペン−２−オール１．５３ｇ（式（Ｉ−１）のエ
ポキシアルコールからの収率８２％）を得た。

【００４５】実施例１，２で得られた（２Ｒ）−１−ベ
ンジルオキシ−３−プロペン−２−オールの光学純度は
、対応するＭＴＰＡエステルに誘導し、その１Ｈ　　Ｎ
ＭＲ分析及びＨＰＬＣ分析の結果、いずれも９９％ｅｅ
であった。また、得られた（２Ｒ）−１−ベンジルオキ
シ−３−プロペン−２−オールの１Ｈ　　ＮＭＲスペク
トルは、文献に記載されたものと一致した。下記に１Ｈ
　　ＮＭＲの結果及び他の特性値を示す。

【００４６】

【化１５】

【００４７】〔実施例３〕（Ｒ）−１−ベンジルオキシ
−４−トリメチルシリル−３−ブテン−２−オールの合
成

【００４８】

【化１６】

【００４９】フェニル（トリメチルシリル）スルフィド
２５２ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）及び２，２’−ジピリ
ジル約５ｍｇのＴＨＦ４ｍｌ溶液を氷冷し、これにｎ−
ＢｕＬｉ０．６３ｍｌ（ヘキサン溶液，２．０５Ｍ，１
．２８ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた深赤色の溶液を
０℃で３０分間撹拌した後、式（Ｉ−２）のエポキシド
１００ｍｇ（０．４２７ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。 ０〜１０℃の温度で３時間撹拌を続けた後、反応液を飽
和塩化アンモニウム溶液に注ぎ、生成物をエチルエーテ
ルで３回抽出した。

【００５０】抽出液を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで濃縮した。粗生成物をエチルエーテルとメタ
ノールの混合物（１：１容量）６ｍｌに溶解し、これに
３Ｎ塩酸溶液を７滴加えた。室温下に１５分間撹拌した
後、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ
、生成物をエチルエーテルで３回抽出した。抽出液を合
わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、エチルエーテルを留
去して、オイル状物を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、式（ＩＩＩ−２）の（Ｒ）−
１−ベンジルオキシ−４−トリメチルシリル−３−ブテ
ン−２−オールをトランス体とシス体との混合物（７：
３）として７６ｍｇ（収率６９％）得た。その１Ｈ　　
ＮＭＲの結果を下記に示す。

【００５１】

【化１７】

【００５２】次に、上記式（ＩＩＩ−２）のトランス体
及びシス体の混合物３３ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ，トラ
ンス体：シス体＝７：３）、チオフェノール１０μｌ（
０．１ｍｍｏｌ）及びアゾイソブチロニトリル約３ｍｇ
のベンゼン３ｍｌ溶液を２０時間還流した後、室温に冷
却した。得られた反応液を濃縮し、オイル状物を得、こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、下
記式（ＩＩＩ−３）で示されるトランス−（Ｒ）−１−
ベンジルオキシ−４−トリメチルシリル−３−ブテン−
２−オールを３２ｍｇ（収率９７％）得た。その１Ｈ　
　ＮＭＲの結果を下記に示す。

【００５３】

【化１８】

【００５４】

【化１９】

【００５５】〔実施例４〕（Ｒ）−１−ベンジルオキシ
−４−フェニルチオ−３−ブテン−２−オールの合成

【
００５６】

【化２０】

【００５７】ビス（フェニルチオ）メタン３９７ｍｇ（
１．７１ｍｍｏｌ）及び２，２’−ジピリジル約５ｍｇ
のＴＨＦ４ｍｌ溶液を氷冷し、これにｎ−ＢｕＬｉ０．
６３ｍｌ（ヘキサン溶液，２．０５Ｍ，１．２８ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。得られた深赤色の溶液を０℃で３０分
間撹拌した後、式（Ｉ−２）のエポキシド１００ｍｇ（
０．４２７ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、０℃で３０分間
撹拌した。反応液をブライン中に注ぎ、エチルエーテル
で繰り返し抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮した。

【００５８】粗生成物をＴＨＦ５ｍｌに溶解し、これに
ｎ−Ｂｕ４ＮＦ１ｍｌ（ＴＨＦ溶液，１Ｍ，１ｍｍｏｌ
）を加え、０℃で３０分間撹拌した。反応液をブライン
に注ぎ、生成物をエチルエーテルで数回抽出した。抽出
液を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し、
オイル状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、式（ＩＩＩ−４）の（Ｒ）−１−ベ
ンジルオキシ−４−フェニルチオ−３−ブテン−２−オ
ールをトランス体及びシス体の混合物（７：３）として
９６ｍｇ（収率７８％）得た。その１ＨＮＭＲの結果を
下記に示す。

【００５９】

【化２１】

【００６０】〔実施例５〕（Ｒ，Ｚ）−４−メチルチオ
−１−トリメチルシリルオキシ−３−ブテン−２−オー
ルの合成

【００６１】

【化２２】

【００６２】メチル（メチルスルフィニルメチル）スル
フィド３３８ｍｇ（２．７４ｍｍｏｌ）及び２，２’−
ジピリジル約５ｍｇのＴＨＦ４ｍｌ溶液を氷冷し、これ
にｎ−ＢｕＬｉ１．０ｍｌ（ヘキサン溶液，２．０５Ｍ
，２．１ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた赤褐色の溶液
を０℃で３０分間撹拌した後、式（Ｉ−１）のエポキシ
アルコール１００ｍｇ（０．６８５ｍｍｏｌ）をゆっく
りと加え、０℃で３０分間撹拌を続けた。反応液を飽和
塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、生成物をヘキサンで２
回抽出した。抽出液を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮してオイル状物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、式（ＩＩＩ−５）
の（Ｒ，Ｚ）−４−メチルチオ−１−トリメチルシリル
オキシ−３−ブテン−２−オール９０ｍｇ（収率６４％
）を得た。その１Ｈ　　ＮＭＲの結果を下記に示す。

【００６３】

【化２３】

【００６４】〔実施例６〕（３Ｓ，４Ｓ）−１−ノネン
−３，４−ジオールの合成

【００６５】

【化２４】

【００６６】式（Ｉ−３）のエポキシアルコール１０８
ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）の氷***液に参考例３で得ら
れたＮａＣＨ２ＳＯＣＨ３２ｍｌ（ＤＭＳＯ溶液，１Ｍ
，２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間撹拌した後、反
応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。生成物を
エチルエーテルで数回抽出し、抽出液を合わせ、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮してオイル状物を得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、式（
ＩＩＩ−６）の（３Ｓ，４Ｓ）−１−ノネン−３，４−
ジオール６３ｍｇ（収率８０％）を得た。その特性値を
下記に示す。

【００６７】

【化２５】

【００６８】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、医農薬の合
成中間体として有用な一般式（ＩＩＩ）で表わされる光
学活性アルコールを短工程でかつ高い収率において、し
かも高い光学純度の任意の光学活性体として製造するこ
とができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ同一又は異
   種の一価炭化水素基を示し、Ｚ１は水素原子又は水酸基
   の保護基を示す。また、＊は不斉中心を示す。）で表わ
   される光学活性なシリル置換エポキシ化合物と、一般式
   （ＩＩ） 　　　　Ｒ５ＣＨ２Ｓ（Ｏ）ｎＲ６　　　　　　　　　
   　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…（ＩＩ）（
   式中、Ｒ５は水素原子、Ｒ７Ｒ８Ｒ９Ｓｉ基又はＲ１０
   Ｓ基を示し、Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０はそれぞ
   れ同一又は異種の一価炭化水素基を示す。また、ｎは０
   ，１又は２である。）で表わされる活性メチレン化合物
   とを塩基の存在下で反応させた後、必要に応じ脱シリル
   化剤で処理することを特徴とする一般式（ＩＩＩ）【化
   ２】 （式中、Ｒ４，Ｒ５，Ｚ１は上記と同様の意味を示し、
   Ｚ２は水素原子又はＲ１Ｒ２Ｒ３Ｓｉ基を示す。＊は不
   斉中心を示す。）で表わされる光学活性アリルアルコー
   ルの製造方法。