JPH04276325A - 光ディスクとその製造方法 - Google Patents

光ディスクとその製造方法

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JPH04276325A
JPH04276325A JP3059726A JP5972691A JPH04276325A JP H04276325 A JPH04276325 A JP H04276325A JP 3059726 A JP3059726 A JP 3059726A JP 5972691 A JP5972691 A JP 5972691A JP H04276325 A JPH04276325 A JP H04276325A
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JP
Japan
Prior art keywords
optical disc
recording layer
substrates
coating layer
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3059726A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Tsumura
昌弘 津村
Seiji Mizumoto
清治 水元
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Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクに関する。 より詳細には、本発明は、レーザビームにより情報を記
録/再生を行う方式において記録媒体として使用される
光ディスクの新規な構成に関する。
【0002】
【従来の技術】高密度で大容量の新しい情報記録媒体と
して、いわゆる光ディスクは近年急速に実用化が進めら
れてきた。光ディスクは、追記型、書換可能型等の種々
の用途形式と、穿孔型、相変化型等の種々の記録方式と
の組み合わせで、各分野において順調な普及が進んでい
る。
【0003】種々の光ディスクのうち、これからの急速
な成長が最も期待されている形式に相変化型の書換可能
な光ディスクがある。この方式の光ディスクでは、所定
の基板上に形成されたTe−Pb等の合金による記録層
に対してレーザビームを照射することにより記録層に相
変化を生ぜしめ、これにより情報を記録する。また、記
録された情報は、非接触式のピックアップで光学的に読
み取られる。
【0004】このような方式に対応した光ディスクに求
められる機能としては、表面硬度、透明性および複屈折
性等の基板の特性と、熱伝導性、耐熱性等の記録層の特
性とについてそれぞれ所定の品質が要求される他、光デ
ィスク全体として、情報の長期保存に対応するための耐
候性が要求される。
【0005】図2は、上述のような耐候性を高めるため
の構造を備えた従来の光ディスクの構成を示す部分断面
図である。
【0006】同図に示すように、この光ディスクは、そ
れぞれ一方の面の上に記録層1a、1bを形成された1
対の基板2a、2bを、記録層1a、1bが内側になる
ように互いに貼り合わせて構成されている。尚、基板2
a、2bは、ホットメルト樹脂またはエポキシ樹脂等の
接着材3により接着されている。
【0007】以上のように構成された光ディスクでは、
記録層1a、1bを内側にして貼り合わせることにより
、基板2a、2b自体が、記録層1a、1bと周囲雰囲
気との間の障壁となって記録層1a、1bの経時的な劣
化を防止する構成となっている。尚、図2においては、
各基板2a、2b上にそれぞれ記録層1a、1bが形成
されているが、用途に応じて、一方の基板上にのみ記録
層を設けた、いわゆる”片面” の光ディスクもある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述のような従来の光
ディスクに対して高温高湿試験を実施したところ、特に
基板の側方端面まで記録層が形成されている基板を用い
た光ディスクでは、側方端面に露出している記録層1a
、1bで比較的早期に発生した黒い ”染み” 状の劣
化が、記録層の内部に向かって伝播することが見出され
ている。
【0009】しかしながら、記録層1a、1bは、通常
スパッタリング法等によって形成される。従って、記録
層1a、1bとして均一な薄膜を形成するためには、記
録層1a、1bが基板2a、2bの側方端面にも形成さ
れてしまうことは避けられない。
【0010】そこで、本発明は、上記従来技術の問題点
を解決し、特に耐候性についてより高い信頼性を有する
新規な光ディスクを提供することをその目的としいてる
【0011】
【課題を解決する手段】本発明に従うと、記録層が側方
端面まで形成された基板を含む1対の基板を、該記録層
が内側になるように貼り合わせて構成される光ディスク
において、該光ディスクの表面となる該1対の基板の各
裏面と、該1対の基板の各側方端面とを連続して被覆す
る被覆層を備えることを特徴とする光ディスクが提供さ
れる。
【0012】
【作用】本発明に係る光ディスクは、基板を張り合わせ
て形成された光ディスクにおいて、光ディスクの表裏と
共に側方端面まで一体に形成した被覆層を備えているこ
とをその主要な特徴としている。
【0013】即ち、従来の光ディスクにおいては、情報
の記録に与かる領域の記録層は基板によって雰囲気から
遮断されている一方、基板の側方端面に記録層の縁部が
露出していた。このため、露出している記録層縁部は容
易に劣化し、これが記録層の内部まで伝播して記録層全
体の劣化を早めていた。
【0014】これに対して、本発明に係る光ディスクは
、記録層を備えた基板を含む1対の基板を貼り合わせた
後に、更に、光ディスクの表裏と側方端面とを連続して
一体に包囲する被覆祖をを備えている。従って、記録層
は、基板の側方端面も含めて全て被覆層内に封止されて
おり、記録層の劣化が局部的に早期に始まる恐れがない
【0015】このような本発明に係る光ディスクにおけ
る被覆層は、基板の貼り合わせ工程後に形成することが
好ましい。また、被覆層の形成方法としては、スピンコ
ート法、塗布法、溝漬法等を例示することができる。
【0016】また、被覆層の材料としては、種々の光硬
化性樹脂を好ましく使用することができ、更に、被覆層
に、帯電防止機能やハードコート機能を合わせて担持さ
せることも好ましい。
【0017】更に、基板の貼り合わせに先立って、記録
層上に予め保護層を設けておくことも好ましい。
【0018】上記本発明に係る光ディスクの構成は、ポ
リカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、
エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂等の透
明プラスチック材料の他ガラス基板等の公知の基板材料
を使用した光ディスクに対して何れも有効に適用するこ
とができる。また、記録感度の点で優れた特性を有する
相変化型の光ディスクにおいて特に有利に適用すること
ができる。
【0019】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず
、本発明の技術的範囲を何ら限定するものではない。
【0020】
【実施例】図1は、本発明に係る光ディスクの特徴的な
構成を示す部分断面図である。
【0021】同図に示すように、この光ディスクは、各
々記録層1a、1bを備えた基板2a、2bを、記録層
1a、1bが互いに対向するように接着材3により貼り
合わせた上で、これらの各構成要素全体を被覆層4で被
覆した構成となっている。
【0022】ここで、図中に示すように、被覆層4は、
光ディスクの一方の面上から光ディスクの側方端面上を
通って光ディスクの他方の面上まで一体に形成されてい
る。従って、基板2a、2bの側方端面に付着している
記録層1a、1bは被覆層4によって完全に被覆されて
いる。このような構成により、本発明に係る光ディスク
では記録層の劣化が局部的に早期に始まることがなく、
長期信頼性が高い。
【0023】以上のように構成された本発明に係る光デ
ィスクにおける被覆層は、例えば、スピンコート法によ
り形成することができる。
【0024】即ち、水平に保磁した光ディスクを、静止
または低速で回転させた状態で液状の光硬化性樹脂を塗
布面の内周に滴下する。次に、光ディスクを高速で回転
させて、光硬化性樹脂を塗布面全体に広げると共に余剰
の樹脂を飛散させる。以上のような操作により、塗布面
上に均一な樹脂層を形成することができ、紫外線を照射
することにより被覆層を形成することができる。
【0025】ここで、光ディスクの表面から側方端面ま
で連続した被覆層を形成するためには、静止状態または
低速回転状態から高速回転に達するまでの時間(この時
間を立ち上がり時間と呼ぶ)の制御を適切に行う必要が
ある。即ち、例えば、光ディスクを50rpm で回転
させた状態で100cps/25℃の光硬化性樹脂を滴
下した後、光ディスクの回転を3000rpm に上昇
させてスピンコートを行う場合、その立ち上がり時間を
 0.7秒から 1.5秒、好ましくは 1.0秒から
 1.2秒の範囲とすることにより、連続した樹脂層を
光ディスクの側方端面にまで形成することができる。
【0026】尚、上記立ち上がり時間が上記範囲よりも
短いと、光ディスクの側方端面において樹脂層の形成さ
れない領域が発生する。一方、立ち上がり時間が長過ぎ
ると光ディスクの裏面にまで樹脂層が廻り込んでしまう
。このような適切な立ち上がり時間は、主として塗布す
る樹脂の粘度により決定され、簡単な実験によって容易
に見出すことができる。
【0027】〔作製例1〕スパイラル溝付きの直径13
0mm のポリカーボネイト樹脂製ディスク基板上に、
Te−Pdの合金ターゲットを用いた酸素ガスの反応性
RFスパッタ法により、記録層を形成した。形成された
記録層は、TePdO(組成はTe:Pd:O=35:
25:40)で 150nmの厚さを有していた。また
、記録層は、基板の側方端面にも形成されていた。尚、
記録層上には、スピンコート法により紫外線硬化性樹脂
を塗布した後紫外線を照射して保護層を形成した。
【0028】以上のような工程で作製した2枚の記録層
付基板を、記録層が内側になるように、ホットメルト接
着材により貼り合わせて、2面の記録層を有する光ディ
スクを作製した。
【0029】更に、ハードコート機能を果たすことがで
きる特性を有する紫外線硬化性樹脂(三菱レイヨン社製
UR−4502)を使用して、上記貼り合わせ後の光デ
ィスクに対して被覆層を形成した。樹脂の塗布はスピン
コート法により、光ディスクの表面から側方端面まで連
続した樹脂層を形成し、更に、光ディスクの側方端面に
おいて、上下の面から成長した樹脂層が連続するまで樹
脂を塗布した。以上のようにして形成された表裏で連続
した樹脂層に対して同時に紫外線を照射して、被覆層を
一体に硬化させた。
【0030】以上のようにして完成した光ディスクを3
枚用意して、気温60℃、湿度90%RHの雰囲気下に
、それぞれ 200時間、 500時間、1000時間
放置した後、光ディスク外周部の外観の変化を調べた。 観察結果は、他の作製例および比較例の観察結果と併せ
て表1に示す。
【0031】〔作製例2〕スパイラル溝付きの直径13
0mm のポリカーボネイト樹脂製ディスク基板上に、
Te−Cuの合金ターゲットを用いた酸素ガスの反応性
RFスパッタ法により、記録層を形成した。形成された
記録層は、TeCuO(組成はTe:Cu:O=40:
20:40)で 150nmの厚さを有していた。また
、記録層は、基板の側方端面にも形成されていた。尚、
記録層上には、スピンコート法により紫外線硬化性樹脂
を塗布した後紫外線を照射して保護層を形成した。
【0032】以上のような工程で作製した2枚の記録層
付基板を、記録層が内側になるように、ホットメルト接
着材により貼り合わせて、2面の記録層を有する光ディ
スクを作製した。
【0033】更に、帯電防止機能を果たすことができる
特性を有する紫外線硬化性樹脂(三菱レイヨン社製UR
−4502)を使用して、上記貼り合わせ後の光ディス
クに対して被覆層を形成した。樹脂の塗布はスピンコー
ト法により、光ディスクの表面から側方端面まで連続し
た樹脂層を形成し、更に光ディスクの側方端面において
、上下の面から成長した樹脂層が連続するまで樹脂を塗
布した。以上のようにして形成された表裏で連続した樹
脂層に対して同時に紫外線を照射して、被覆層を一体に
硬化させた。
【0034】以上のようにして完成した光ディスクを3
枚用意して、気温60℃、湿度90%RHの雰囲気下に
、それぞれ 200時間、 500時間、1000時間
放置した後、光ディスク外周部の外観の変化を調べた。 観察結果は、他の作製例および比較例の観察結果と併せ
て表1に示す。
【0035】〔比較例1〕作製例1と同じ材料および条
件で光ディスクを更に3枚作製した。但し、本比較例の
光ディスクは、貼り合わせ工程までで完成とし、被覆層
は全く形成しなかった。このような光ディスクを、作製
例1および作製例2と同じ条件で、高温高湿試験に供し
、光ディスク外周部の外観の変化を調べた。観察結果は
、作製例および他の比較例の観察結果と併せて表1に示
す。
【0036】〔比較例2〕作製例2と同じ材料および条
件で光ディスクを更に3枚作製した。但し、本比較例の
光ディスクは、貼り合わせ工程までで完成とし、被覆層
は全く形成しなかった。このような光ディスクを、作製
例1および作製例2と同じ条件で、高温高湿試験に供し
、光ディスク外周部の外観の変化を調べた。観察結果は
、作製例および他の比較例の観察結果と併せて表1に示
す。
【0037】
【表1】
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光デ
ィスクは、基板の側方端面に形成された記録層を一体に
覆う被覆層を備えているので、基板の周辺部から記録層
の早期の劣化が始まることがない。従って、他の領域の
記録層の実質的な劣化が遅くなり、光ディスク全体とし
ての耐候性が向上される。
【0039】また、上述のような特徴を有する本発明に
係る光ディスクの構成は、被覆層を形成するための比較
的簡単な工程を付加するだけで、種々の光ディスクに容
易に適用することができる。従って、本発明により、光
ディスクの長期信頼性が高められる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ディスクの具体的な構成例を示
す部分断面図である。
【図2】従来の光ディスクの典型的な構成を示す部分断
面図である。
【符号の説明】
1a、1b    記録層、 2a、2b    基板、 3    接着材、 4    被覆層

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】記録層が側方端面まで形成された基板を含
    む1対の基板を、該記録層が内側になるように貼り合わ
    せて構成される光ディスクにおいて、該光ディスクの表
    面となる該1対の基板の各裏面と、該1対の基板の各側
    方端面とを連続して被覆する被覆層を備えることを特徴
    とする光ディスク。
  2. 【請求項2】請求項1に記載された光ディスクであって
    、前記被覆層が光硬化性樹脂により形成されていること
    を特徴とする光ディスク。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載された光ディスク
    において、前記被覆層が、帯電防止機能またはハードコ
    ート機能のうちの少なくとも一方の機能を具備すること
    を特徴とする光ディスク。
  4. 【請求項4】請求項1から請求項3までの何れかに記載
    された光ディスクにおいて、前記記録層が、該記録層の
    相変化により情報を記録する記録層であることを特徴と
    する光ディスク。
  5. 【請求項5】請求項1から請求項4までの何れか1項に
    記載された光ディスクを製造する方法であって、前記1
    対の基板を張り合わせる工程の後に、前記被覆層を形成
    する工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法
  6. 【請求項6】請求項5に記載された光ディスクの製造方
    法において、前記被覆層の形成がスピンコート法により
    行われることを特徴とする光ディスクの製造方法。
JP3059726A 1991-03-01 1991-03-01 光ディスクとその製造方法 Pending JPH04276325A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019114310A (ja) * 2017-12-22 2019-07-11 三菱ケミカル株式会社 光ディスク及び光ディスクの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019114310A (ja) * 2017-12-22 2019-07-11 三菱ケミカル株式会社 光ディスク及び光ディスクの製造方法

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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19990706