JPH04273155A - パワー用混成集積回路の製造方法 - Google Patents

パワー用混成集積回路の製造方法

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JPH04273155A
JPH04273155A JP3053606A JP5360691A JPH04273155A JP H04273155 A JPH04273155 A JP H04273155A JP 3053606 A JP3053606 A JP 3053606A JP 5360691 A JP5360691 A JP 5360691A JP H04273155 A JPH04273155 A JP H04273155A
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wiring board
integrated circuit
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semiconductor power
solder
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Shizuo Okuda
静男 奥田
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は混成集積回路の製造方法
に関し、特にパワー用混成集積回路の製造方法に関する
【0002】
【従来の技術】従来のパワー用混成集積回路、特にパワ
ートランジスタを絶縁性基板に搭載した上でこれらを放
熱性基体に搭載した集積回路の製造方法は、先ず、図2
(a)に示すように、銅材表面に金メッキを施した金属
ディスク5の上に、 240℃程度の融点を有するシー
ト状半田片6を用いて 280℃〜 300℃に加熱し
たヒーター上で半田片6を溶融させ、パワートランジス
タ7を固着させる。次に、図2(b)に示すように、ア
ルミナセラミックス等によりなる絶縁性配線基板2の上
部に形成されたメタライズ層3に半田層4を形成してお
き、この絶縁性配線基板2に前工程でパワートランジス
タ7を搭載した金属ディスク5を半田層4により溶融固
着させる。その後、図2(c)に示すように、絶縁性配
線基板2と放熱性基体1を接着層8で接着させている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のパワ
ー用混成集積回路の製造方法は、半導体電力素子を搭載
するために、2回以上の半田溶融工程、即ち高温を加え
る工程を施しているため、半導体電力素子に対する熱履
歴が多くなり、混成集積回路の特性劣化が生じ易いとい
う問題がある。本発明の目的は、熱履歴を削減して特性
劣化を防止したパワー用混成集積回路の製造方法を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は、放
熱性基体上に、予めその両面のメタライズ層に半田層が
形成された配線基板を載せ、その上に金属ディスクを載
せ、更にシート状半田片を介して半導体電力素子を重ね
、その上で還元雰囲気中で一回のリフロー処理により前
記半田を一括して溶融して放熱性基体、配線基板、半導
体電力素子を固着する。
【0005】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明方法で製造したパワー用混成集積回路
の断面図である。以下、製造工程に従って説明する。先
ず、絶縁性配線基板2の表裏に形成されたメタライズ層
3に予め半田層4,4を形成しておく。そして、放熱性
基体1上に前記絶縁性配線基板2を載せ、更にその上に
銅材で作られた金属ディスク5を載せ、この上にシート
状半田片6を介してパワートランジスタ7を載せる。こ
の状態で位置ずれを防止するための図外の治具をセット
して前記各部品の相互位置を固定関係とした上で、全体
を還元性雰囲気リフロー炉に通す。これにより、前記半
田層4,4とシート状半田片6が一括して溶融され、そ
の後固化したときに放熱性基体1、絶縁性配線基板2、
パワートランジスタ7を一体的に固定する。
【0006】尚、前記実施例では、パワートランジスタ
の搭載例を示したが、複数の半導体電力素子を同時に搭
載することも可能であり、本方法によれば高機能を有す
る混成集積回路が実現できる。
【0007】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、放熱性基
体上に、予めその両面のメタライズ部に半田層が形成さ
れた配線基板と、金属ディスクと、シート状半田片を介
して半導体電力素子を順次重ね、その上で還元雰囲気中
で一回のリフロー処理により半田を一括して溶融してこ
れらを固着するので、半導体電力素子の熱履歴を1回に
抑えることができ、特性劣化を抑制したパワー用混成集
積回路を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法により製造された集積回路の
断面図である。
【図2】(a)乃至(c)は従来の製造方法を工程順に
示す断面図である。
【符号の説明】
1  放熱性基体 2  絶縁性配線基板 3  メタライズ層 4,4  半田層 5  金属ディスク 6  シート状半田

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  少なくとも半導体電力素子が金属ディ
    スクを介してメタライズ基板に搭載され、これらが放熱
    性基体に固着されてなるパワー用混成集積回路の製造方
    法において、放熱性基体上に、予めその両面のメタライ
    ズ層に半田層が形成された配線基板を載せ、その上に金
    属ディスクを載せ、更にシート状半田片を介して半導体
    電力素子を重ね、その上で還元雰囲気中で一回のリフロ
    ー処理により前記半田を一括して溶融し、前記放熱性基
    体、配線基板、半導体電力素子を固着することを特徴と
    するパワー用混成集積回路の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0846080A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Nippondenso Co Ltd 混成集積回路装置及びその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60146349U (ja) * 1984-03-07 1985-09-28 三菱電機株式会社 半導体装置の放熱板半田付け構造

Patent Citations (1)

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