JPH04247318A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH04247318A JPH04247318A JP3374091A JP3374091A JPH04247318A JP H04247318 A JPH04247318 A JP H04247318A JP 3374091 A JP3374091 A JP 3374091A JP 3374091 A JP3374091 A JP 3374091A JP H04247318 A JPH04247318 A JP H04247318A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は磁気記録媒体に関し、
さらに詳しくは、耐久性、耐食性および走行性に優れた
磁気記録媒体に関する。
さらに詳しくは、耐久性、耐食性および走行性に優れた
磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、磁性粉末を結合剤成分とともに
基体フィルム上に結着させるか、あるいは強磁性金属ま
たはそれらの合金などを真空蒸着等によって基体フィル
ム上に被着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時
に磁気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗され
易く、特に真空蒸着等によって強磁性金属薄膜層が形成
される強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、高密度記録特
性に優れる反面、磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて摩
耗され易く、また、空気中のH2 Sガス,NO2ガス
,Cl2 ガス等の腐食性ガスにより腐食されやすい。 このため、磁性層上にテトラフルオロエチレンテロマ−
、パ−フルオロアルキルポリエ−テル、さらには水酸基
やカルボキシル基やイソシアネ−ト基を含むパ−フルオ
ロアルキルポリエ−テルなどのフッ素系潤滑剤、または
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪族アミン、脂肪族アミド
などの脂肪族潤滑剤からなる保護層を設けて耐久性、耐
食性および走行性を改善することが行われている。(特
公昭56−30609号、特開昭58−5763号、特
開昭62−9525号、特開昭56−124127号、
米国特許第377830号、米国特許第4267238
号、米国特許第4268556号、米国特許第3490
946号)
基体フィルム上に結着させるか、あるいは強磁性金属ま
たはそれらの合金などを真空蒸着等によって基体フィル
ム上に被着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時
に磁気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗され
易く、特に真空蒸着等によって強磁性金属薄膜層が形成
される強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、高密度記録特
性に優れる反面、磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくて摩
耗され易く、また、空気中のH2 Sガス,NO2ガス
,Cl2 ガス等の腐食性ガスにより腐食されやすい。 このため、磁性層上にテトラフルオロエチレンテロマ−
、パ−フルオロアルキルポリエ−テル、さらには水酸基
やカルボキシル基やイソシアネ−ト基を含むパ−フルオ
ロアルキルポリエ−テルなどのフッ素系潤滑剤、または
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪族アミン、脂肪族アミド
などの脂肪族潤滑剤からなる保護層を設けて耐久性、耐
食性および走行性を改善することが行われている。(特
公昭56−30609号、特開昭58−5763号、特
開昭62−9525号、特開昭56−124127号、
米国特許第377830号、米国特許第4267238
号、米国特許第4268556号、米国特許第3490
946号)
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来から使
用されているフッ素系潤滑剤や脂肪族潤滑剤は、磁性層
表面との相互作用が弱いため、磁気ヘッドとの摺接によ
って磁性層表面から離脱しやすく、耐久性、耐食性およ
び走行性を充分に改善することができない。
用されているフッ素系潤滑剤や脂肪族潤滑剤は、磁性層
表面との相互作用が弱いため、磁気ヘッドとの摺接によ
って磁性層表面から離脱しやすく、耐久性、耐食性およ
び走行性を充分に改善することができない。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、かかる現状
に鑑み種々検討を行った結果なされたもので、基体上に
形成した磁性層上に、分子の末端に少なくとも1以上の
イソシアネ−ト基を有する潤滑性に優れたフッ素化合物
と、水酸基またはアミノ基を有する数平均分子量が10
000以上の塩化ビニル系樹脂またはポリウレタン樹脂
あるいは繊維素系樹脂などの磁性層との結合力に優れた
高分子樹脂との反応生成物を含む保護層を形成すること
によって、長時間走行させても保護層が磁性層表面から
離脱しないようにし、その優れた潤滑効果等を充分にか
つ持続的に発揮させて、耐久性、耐食性および走行性を
充分に向上させたものである。
に鑑み種々検討を行った結果なされたもので、基体上に
形成した磁性層上に、分子の末端に少なくとも1以上の
イソシアネ−ト基を有する潤滑性に優れたフッ素化合物
と、水酸基またはアミノ基を有する数平均分子量が10
000以上の塩化ビニル系樹脂またはポリウレタン樹脂
あるいは繊維素系樹脂などの磁性層との結合力に優れた
高分子樹脂との反応生成物を含む保護層を形成すること
によって、長時間走行させても保護層が磁性層表面から
離脱しないようにし、その優れた潤滑効果等を充分にか
つ持続的に発揮させて、耐久性、耐食性および走行性を
充分に向上させたものである。
【0005】この発明において、保護層で使用される反
応生成物の原料として使用されるフッ素化合物は、分子
の末端に少なくとも1以上のイソシアネ−ト基を有する
ものが好ましく使用され、たとえば、分子の一方の末端
あるいは両末端に水酸基あるいはカルボキシル基を有す
るパ−フルオロアルキルポリエ−テルと、ジイソシアネ
−ト化合物等のイソシアネ−ト化合物とを反応させて得
られるものが好適なものとして使用される。
応生成物の原料として使用されるフッ素化合物は、分子
の末端に少なくとも1以上のイソシアネ−ト基を有する
ものが好ましく使用され、たとえば、分子の一方の末端
あるいは両末端に水酸基あるいはカルボキシル基を有す
るパ−フルオロアルキルポリエ−テルと、ジイソシアネ
−ト化合物等のイソシアネ−ト化合物とを反応させて得
られるものが好適なものとして使用される。
【0006】ここで、分子の一方の末端あるいは両末端
に水酸基あるいはカルボキシル基を有するパ−フルオロ
アルキルポリエ−テルとしては、たとえば、下記の一般
式 HOCH2 −CF2 O−(C2 F4 O) p
−(CF2 O)q −CF2 CH2 OHHOOC
−CF2 O−(C2 F4 O)p −(CF2 O
)q −CF2 −COOHHOCH2 −CF2 O
−(C2 F4 O)p −(CF2 O)q −CF
3 HOOC−CF2 O−(C2 F4 O)p −
(CF2 O)q −CF3 CF3 −(CF2 )
p −(OCH2 CH2 )q −COOHCn F
2n+1CH2 COOH Cn F2n+1CH2 CH2 COOH(但し、前
記一般式におけるpおよびqは5〜200の整数、nは
4〜32の整数である。) で表されるものが好適なものとして挙げられる。
に水酸基あるいはカルボキシル基を有するパ−フルオロ
アルキルポリエ−テルとしては、たとえば、下記の一般
式 HOCH2 −CF2 O−(C2 F4 O) p
−(CF2 O)q −CF2 CH2 OHHOOC
−CF2 O−(C2 F4 O)p −(CF2 O
)q −CF2 −COOHHOCH2 −CF2 O
−(C2 F4 O)p −(CF2 O)q −CF
3 HOOC−CF2 O−(C2 F4 O)p −
(CF2 O)q −CF3 CF3 −(CF2 )
p −(OCH2 CH2 )q −COOHCn F
2n+1CH2 COOH Cn F2n+1CH2 CH2 COOH(但し、前
記一般式におけるpおよびqは5〜200の整数、nは
4〜32の整数である。) で表されるものが好適なものとして挙げられる。
【0007】また、イソシアネ−ト化合物としては、た
とえば、ジフェニルメタン−p,p−ジイソシアネ−ト
、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソ
シアネ−ト、2,2,4−(2,4,4−)トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、トリレンジイソシア
ネ−ト、4,4´−メチレン−ビス−シクロヘキシルイ
ソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、イソピリ
デン−ビス−4−シクロヘキシルイソシアネ−ト、ビス
−2−イソシアネ−トエチルフマレ−ト、ビス−2−イ
ソシアネ−トエチルカ−ボネ−ト、ビス−2−イソシア
ネ−トエチル−4−シクロヘキサン−1,2−ジカルボ
キシレ−ト、ビス−2−イソシアネ−トエチル−1,4
,5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノボルネン−2
,3−ジカルボキシレ−ト、テトラメチレンジイソシア
ネ−ト、ジメチル−ジフェニルメタン−p,p´−ジイ
ソシアネ−ト、メタフェニレンジイソシアネ−ト、ナフ
タレン−1,5−ジイソシアネ−ト、3,3´−ジメチ
ル−4,4´−ビフェニレンジイソシアネ−トなどが挙
げられる。
とえば、ジフェニルメタン−p,p−ジイソシアネ−ト
、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソ
シアネ−ト、2,2,4−(2,4,4−)トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、トリレンジイソシア
ネ−ト、4,4´−メチレン−ビス−シクロヘキシルイ
ソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、イソピリ
デン−ビス−4−シクロヘキシルイソシアネ−ト、ビス
−2−イソシアネ−トエチルフマレ−ト、ビス−2−イ
ソシアネ−トエチルカ−ボネ−ト、ビス−2−イソシア
ネ−トエチル−4−シクロヘキサン−1,2−ジカルボ
キシレ−ト、ビス−2−イソシアネ−トエチル−1,4
,5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノボルネン−2
,3−ジカルボキシレ−ト、テトラメチレンジイソシア
ネ−ト、ジメチル−ジフェニルメタン−p,p´−ジイ
ソシアネ−ト、メタフェニレンジイソシアネ−ト、ナフ
タレン−1,5−ジイソシアネ−ト、3,3´−ジメチ
ル−4,4´−ビフェニレンジイソシアネ−トなどが挙
げられる。
【0008】分子の末端に少なくとも1以上のイソシア
ネ−ト基を有するフッ素化合物は、このような分子の一
方の末端あるいは両末端に水酸基あるいはカルボキシル
基を有するパ−フルオロアルキルポリエ−テルと、イソ
シアネ−ト化合物とを反応させて得られるもので、市販
品の具体例としては、たとえば、エニモント社製;フォ
ンブリンDISOCなどが挙げられる。
ネ−ト基を有するフッ素化合物は、このような分子の一
方の末端あるいは両末端に水酸基あるいはカルボキシル
基を有するパ−フルオロアルキルポリエ−テルと、イソ
シアネ−ト化合物とを反応させて得られるもので、市販
品の具体例としては、たとえば、エニモント社製;フォ
ンブリンDISOCなどが挙げられる。
【0009】また、このような分子の末端に少なくとも
1以上のイソシアネ−ト基を有するフッ素化合物と反応
させる高分子樹脂は、水酸基またはアミノ基を有する数
平均分子量が10000以上の高分子樹脂であることが
好ましく、たとえば、いずれも数平均分子量が1000
0以上の塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ−ル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ジメチルアミノメタ
クリレ−ト共重合体、塩化ビニル−2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレ−ト共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
2−ヒドロキシプロピルアクリレ−ト共重合体などの塩
化ビニル系樹脂、水酸基含有ポリウレタン樹脂、ニトロ
セルロ−ス、酢酸セルロ−スなどの繊維素系樹脂などが
好適なものとして使用され、さらにこれらの高分子樹脂
にスルホン酸、リン酸あるいはそれらの塩を官能基とし
て含有したものも好適に使用される。
1以上のイソシアネ−ト基を有するフッ素化合物と反応
させる高分子樹脂は、水酸基またはアミノ基を有する数
平均分子量が10000以上の高分子樹脂であることが
好ましく、たとえば、いずれも数平均分子量が1000
0以上の塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ−ル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ジメチルアミノメタ
クリレ−ト共重合体、塩化ビニル−2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレ−ト共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
2−ヒドロキシプロピルアクリレ−ト共重合体などの塩
化ビニル系樹脂、水酸基含有ポリウレタン樹脂、ニトロ
セルロ−ス、酢酸セルロ−スなどの繊維素系樹脂などが
好適なものとして使用され、さらにこれらの高分子樹脂
にスルホン酸、リン酸あるいはそれらの塩を官能基とし
て含有したものも好適に使用される。
【0010】このような高分子樹脂と前記のイソシアネ
−ト基を有するフッ素化合物との反応は、イソシアネ−
ト基を有するフッ素化合物がケトン系溶媒に溶解しにく
く、また高分子樹脂との相溶性が悪いため、希薄なエマ
ルジョン状態で反応させるのが好ましく、たとえば、高
分子樹脂をメチルエチルケトンに溶解した希薄溶液を調
製し、これにイソシアネ−ト基を有するフッ素化合物を
フロンに溶解した希薄溶液を混合して、強力分散機でエ
マルジョンを作成し、そのエマルジョンの界面反応を利
用すると所望のものが得られる。このとき高分子樹脂は
、数平均分子量が10000より小さいものでは耐久性
に劣り、120000より大きいとフッ素化合物との反
応時に溶媒に溶解しにくくなるため、数平均分子量10
000〜120000のものが好ましく使用される。
−ト基を有するフッ素化合物との反応は、イソシアネ−
ト基を有するフッ素化合物がケトン系溶媒に溶解しにく
く、また高分子樹脂との相溶性が悪いため、希薄なエマ
ルジョン状態で反応させるのが好ましく、たとえば、高
分子樹脂をメチルエチルケトンに溶解した希薄溶液を調
製し、これにイソシアネ−ト基を有するフッ素化合物を
フロンに溶解した希薄溶液を混合して、強力分散機でエ
マルジョンを作成し、そのエマルジョンの界面反応を利
用すると所望のものが得られる。このとき高分子樹脂は
、数平均分子量が10000より小さいものでは耐久性
に劣り、120000より大きいとフッ素化合物との反
応時に溶媒に溶解しにくくなるため、数平均分子量10
000〜120000のものが好ましく使用される。
【0011】このようにして生成される分子の末端に少
なくとも1以上のイソシアネ−ト基を有するフッ素化合
物と、水酸基またはアミノ基を有する数平均分子量が1
0000以上の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、
繊維素系樹脂などの高分子樹脂との反応生成物は、フッ
素化合物が優れた潤滑機能を有し、また水酸基またはア
ミノ基を有する前記の高分子樹脂が磁性層との結合力に
優れている。
なくとも1以上のイソシアネ−ト基を有するフッ素化合
物と、水酸基またはアミノ基を有する数平均分子量が1
0000以上の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、
繊維素系樹脂などの高分子樹脂との反応生成物は、フッ
素化合物が優れた潤滑機能を有し、また水酸基またはア
ミノ基を有する前記の高分子樹脂が磁性層との結合力に
優れている。
【0012】しかして、このエマルジョンの界面反応を
利用して生成された反応生成物の溶液中に磁性層を浸漬
するか、あるいは上記溶液を磁性層の表面に塗布もしく
は噴霧するなどの方法で、磁性層表面にこの反応生成物
を含む保護層を形成すると、保護層が磁性層表面に強固
に結合され、長時間走行させても保護層が磁性層表面か
ら離脱することなく、その優れた潤滑効果が充分かつ持
続的に発揮されて、耐久性、耐食性および走行性が充分
に向上される。
利用して生成された反応生成物の溶液中に磁性層を浸漬
するか、あるいは上記溶液を磁性層の表面に塗布もしく
は噴霧するなどの方法で、磁性層表面にこの反応生成物
を含む保護層を形成すると、保護層が磁性層表面に強固
に結合され、長時間走行させても保護層が磁性層表面か
ら離脱することなく、その優れた潤滑効果が充分かつ持
続的に発揮されて、耐久性、耐食性および走行性が充分
に向上される。
【0013】基体上に形成される磁性層は、γ−Fe2
O3 粉末、Fe3 O4 粉末、Co含有γ−Fe
2 O3 粉末、Co含有Fe3 O4 粉末、CrO
2 粉末、Fe粉末、Co粉末、Fe−Ni粉末、Fe
−Co粉末、バリウムフェライトなどの磁性粉末を、結
合剤樹脂および有機溶剤等とともに混合分散して磁性塗
料を調製し、この磁性塗料を基体上に塗布、乾燥するか
、あるいは、Co、Ni、Fe、Co−Ni、Co−C
r、Co−P、Co−Ni−Pなどの強磁性材を真空蒸
着、イオンプレ−ティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって基体上に被着するなどの方法で形成され
る。
O3 粉末、Fe3 O4 粉末、Co含有γ−Fe
2 O3 粉末、Co含有Fe3 O4 粉末、CrO
2 粉末、Fe粉末、Co粉末、Fe−Ni粉末、Fe
−Co粉末、バリウムフェライトなどの磁性粉末を、結
合剤樹脂および有機溶剤等とともに混合分散して磁性塗
料を調製し、この磁性塗料を基体上に塗布、乾燥するか
、あるいは、Co、Ni、Fe、Co−Ni、Co−C
r、Co−P、Co−Ni−Pなどの強磁性材を真空蒸
着、イオンプレ−ティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって基体上に被着するなどの方法で形成され
る。
【0014】ここで、磁性層に使用される結合剤樹脂と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ビニルブチラ−ル樹脂、イソシアネ−ト化合物など、一
般に磁気記録媒体に使用されるものが、いずれも好適な
ものとして使用される。
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ビニルブチラ−ル樹脂、イソシアネ−ト化合物など、一
般に磁気記録媒体に使用されるものが、いずれも好適な
ものとして使用される。
【0015】また、有機溶剤としては、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢
酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン
、キシレンなど、一般に磁気記録媒体に使用される有機
溶剤が、単独であるいは二種以上混合して使用される。
ルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢
酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン
、キシレンなど、一般に磁気記録媒体に使用される有機
溶剤が、単独であるいは二種以上混合して使用される。
【0016】
【実施例】次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
厚さ12μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、5×10−5ト−ルの真空下でコバルト−ニッ
ケル合金を加熱蒸発させて、ポリエステルフィルム上に
厚さ 0.2μmのコバルト−ニッケル合金からなる強
磁性金属薄膜層を形成した。一方、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合体
の1重量%メチルエチルケトン溶液に、構造式 OCN−C6 H3 (CH3 )NHCO−
CF2 O−(C2 F4 )10───┐
OCN−C6 H3 (CH3 )−CONH−OC
F2 −(OCF2 )15─┘で表されるフッ素化合
物の1重量%フレオン溶液を30℃で混合し、高速撹拌
機で撹拌してエマルジョンを作成した後、50℃でフレ
オンを蒸発させながら反応させた。そして、このエマル
ジョン溶液を1日放置して、塩化ビニル−酢酸ビニル−
2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合体の水酸
基と、上記フッ素化合物のイソシアネ−ト基を完全に反
応させた。次いで、この反応生成物の溶液を固形分濃度
が 0.5重量%となるように調整した後、このサスペ
ンジョン溶液を、前記のポリエステルフィルム上に形成
された強磁性金属薄膜層上にグラビア塗布法で均一に塗
布し、乾燥して保護層を形成した。しかる後、所定の巾
に裁断して磁気テ−プをつくった。
装填し、5×10−5ト−ルの真空下でコバルト−ニッ
ケル合金を加熱蒸発させて、ポリエステルフィルム上に
厚さ 0.2μmのコバルト−ニッケル合金からなる強
磁性金属薄膜層を形成した。一方、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合体
の1重量%メチルエチルケトン溶液に、構造式 OCN−C6 H3 (CH3 )NHCO−
CF2 O−(C2 F4 )10───┐
OCN−C6 H3 (CH3 )−CONH−OC
F2 −(OCF2 )15─┘で表されるフッ素化合
物の1重量%フレオン溶液を30℃で混合し、高速撹拌
機で撹拌してエマルジョンを作成した後、50℃でフレ
オンを蒸発させながら反応させた。そして、このエマル
ジョン溶液を1日放置して、塩化ビニル−酢酸ビニル−
2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合体の水酸
基と、上記フッ素化合物のイソシアネ−ト基を完全に反
応させた。次いで、この反応生成物の溶液を固形分濃度
が 0.5重量%となるように調整した後、このサスペ
ンジョン溶液を、前記のポリエステルフィルム上に形成
された強磁性金属薄膜層上にグラビア塗布法で均一に塗
布し、乾燥して保護層を形成した。しかる後、所定の巾
に裁断して磁気テ−プをつくった。
【0017】実施例2
実施例1におけるエマルジョンの作成において、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、ニトロセルロ−スを使用した以
外は、実施例1と同様にしてエマルジョンを作成し、さ
らにサスペンジョン溶液を調製し、保護層を形成して磁
気テ−プをつくった。
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、ニトロセルロ−スを使用した以
外は、実施例1と同様にしてエマルジョンを作成し、さ
らにサスペンジョン溶液を調製し、保護層を形成して磁
気テ−プをつくった。
【0018】実施例3
実施例1におけるエマルジョンの作成において、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、分子内に水酸基を平均5個含有
するポリウレタン樹脂を使用した以外は、実施例1と同
様にしてエマルジョンを作成し、さらにサスペンジョン
溶液を調製し、保護層を形成して磁気テ−プをつくった
。
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、分子内に水酸基を平均5個含有
するポリウレタン樹脂を使用した以外は、実施例1と同
様にしてエマルジョンを作成し、さらにサスペンジョン
溶液を調製し、保護層を形成して磁気テ−プをつくった
。
【0019】実施例4
Fe磁性粉末
80重量部 塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコ−ル共重合体 1
0 〃 ポリウレタン樹脂
6 〃 三官能性低分子量
イソシアネ−ト化合物
4 〃 メチルエチルケトン
100 〃 ト
ルエン
100 〃この組成物をボ−ルミル中で72時間
混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を厚さ1
2μmのポリエステルフイルム上に乾燥厚が3μmとな
るように塗布、乾燥して磁性層を形成した。次いで、こ
の磁性層上に、実施例1と同様にしてサスペンジョン溶
液をグラビア塗布法で均一に塗布し、乾燥して保護層を
形成し、磁気テ−プをつくった。
80重量部 塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコ−ル共重合体 1
0 〃 ポリウレタン樹脂
6 〃 三官能性低分子量
イソシアネ−ト化合物
4 〃 メチルエチルケトン
100 〃 ト
ルエン
100 〃この組成物をボ−ルミル中で72時間
混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を厚さ1
2μmのポリエステルフイルム上に乾燥厚が3μmとな
るように塗布、乾燥して磁性層を形成した。次いで、こ
の磁性層上に、実施例1と同様にしてサスペンジョン溶
液をグラビア塗布法で均一に塗布し、乾燥して保護層を
形成し、磁気テ−プをつくった。
【0020】実施例5
実施例4におけるエマルジョンの作成において、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、ニトロセルロ−スを使用した以
外は、実施例4と同様にしてエマルジョンを作成し、さ
らにサスペンジョン溶液を調製し、保護層を形成して磁
気テ−プをつくった。
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、ニトロセルロ−スを使用した以
外は、実施例4と同様にしてエマルジョンを作成し、さ
らにサスペンジョン溶液を調製し、保護層を形成して磁
気テ−プをつくった。
【0021】実施例6
実施例4におけるエマルジョンの作成において、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、分子内に水酸基を平均5個含有
するポリウレタン樹脂を使用した以外は、実施例4と同
様にしてエマルジョンを作成し、さらにサスペンジョン
溶液を調製し、保護層を形成して磁気テ−プをつくった
。
ニル−酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
−ト共重合体に代えて、分子内に水酸基を平均5個含有
するポリウレタン樹脂を使用した以外は、実施例4と同
様にしてエマルジョンを作成し、さらにサスペンジョン
溶液を調製し、保護層を形成して磁気テ−プをつくった
。
【0022】比較例1
実施例1と同様にしてポリエステルフィルム上にコバル
ト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した
。次いで、この強磁性金属薄膜層上に塩化ビニル−酢酸
ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合
体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液をグラビア
塗布法で均一に塗布し、さらにこの上に、HOCH2
CF2 O−(C2 F4 ) 10−(CF2 O)
15−OCF2 CH2 OHの構造式で表されるフッ
素化合物の0.25重量%フロリナ−トFC77(3M
社製)溶液をグラビア塗布法で均一に塗布し、乾燥した
以外は実施例1と同様にして上下2層の保護層を形成し
、磁気テ−プをつくった。
ト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した
。次いで、この強磁性金属薄膜層上に塩化ビニル−酢酸
ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共重合
体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液をグラビア
塗布法で均一に塗布し、さらにこの上に、HOCH2
CF2 O−(C2 F4 ) 10−(CF2 O)
15−OCF2 CH2 OHの構造式で表されるフッ
素化合物の0.25重量%フロリナ−トFC77(3M
社製)溶液をグラビア塗布法で均一に塗布し、乾燥した
以外は実施例1と同様にして上下2層の保護層を形成し
、磁気テ−プをつくった。
【0023】比較例2
比較例1における保護層の形成において、塩化ビニル−
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、ニトロセルロ−スの0.25重量%メチルエチルケ
トン溶液を使用した以外は、比較例1と同様にして上下
2層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、ニトロセルロ−スの0.25重量%メチルエチルケ
トン溶液を使用した以外は、比較例1と同様にして上下
2層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
【0024】比較例3
比較例1における保護層の形成において、塩化ビニル−
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、分子内に水酸基を平均5個含有するポリウレタン樹
脂の0.25重量%メチルエチルケトン溶液を使用した
以外は、比較例1と同様にして上下2層の保護層を形成
し、磁気テ−プをつくった。
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、分子内に水酸基を平均5個含有するポリウレタン樹
脂の0.25重量%メチルエチルケトン溶液を使用した
以外は、比較例1と同様にして上下2層の保護層を形成
し、磁気テ−プをつくった。
【0025】比較例4
実施例4と同様にしてポリエステルフィルム上に磁性層
を形成し、この磁性層上に比較例1と同様にして上下2
層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
を形成し、この磁性層上に比較例1と同様にして上下2
層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
【0026】比較例5
比較例4における保護層の形成において、塩化ビニル−
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、ニトロセルロ−スの0.25重量%メチルエチルケ
トン溶液を使用した以外は、比較例4と同様にして上下
2層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、ニトロセルロ−スの0.25重量%メチルエチルケ
トン溶液を使用した以外は、比較例4と同様にして上下
2層の保護層を形成し、磁気テ−プをつくった。
【0027】比較例6
比較例4における保護層の形成において、塩化ビニル−
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、分子内に水酸基を平均5個含有するポリウレタン樹
脂の0.25重量%メチルエチルケトン溶液を使用した
以外は、比較例4と同様にして上下2層の保護層を形成
し、磁気テ−プをつくった。
酢酸ビニル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレ−ト共
重合体の0.25重量%メチルエチルケトン溶液に代え
て、分子内に水酸基を平均5個含有するポリウレタン樹
脂の0.25重量%メチルエチルケトン溶液を使用した
以外は、比較例4と同様にして上下2層の保護層を形成
し、磁気テ−プをつくった。
【0028】各実施例によび比較例で得られた磁気テ−
プについて、下記の方法でシャトル耐久性、ジッタ−特
性および耐食性を試験した。
プについて、下記の方法でシャトル耐久性、ジッタ−特
性および耐食性を試験した。
【0029】<シャトル耐久性試験>得られた磁気テ−
プを8ミリビデオデッキに装填し、記録、再生、サ−チ
、記録状態のスチル、再生状態のスチルなどの各モ−ド
を3分間づつ行い、それを1サイクルとして500サイ
クル行ったとき、初期の記録信号が何dB低下するかを
測定して行った。
プを8ミリビデオデッキに装填し、記録、再生、サ−チ
、記録状態のスチル、再生状態のスチルなどの各モ−ド
を3分間づつ行い、それを1サイクルとして500サイ
クル行ったとき、初期の記録信号が何dB低下するかを
測定して行った。
【0030】<ジッタ−特性試験>得られた磁気テ−プ
をビデオデッキに装填してビデオ信号を記録再生し、そ
の再生信号の15.75 KHzの水平同期信号の間隔
を読み取り、そのときの1秒間の水平同期信号の間隔の
ずれを測定して行った。
をビデオデッキに装填してビデオ信号を記録再生し、そ
の再生信号の15.75 KHzの水平同期信号の間隔
を読み取り、そのときの1秒間の水平同期信号の間隔の
ずれを測定して行った。
【0031】<耐食性試験>H2 S 10ppb,N
O2 200ppb,Cl2 10ppb の腐食性ガ
ス中に磁気テ−プを放置し、その磁気テ−プの5μsに
おけるドロップアウトが初期の10倍以上になるまでの
日数を測定して行った。 下記表1はその結果である。
O2 200ppb,Cl2 10ppb の腐食性ガ
ス中に磁気テ−プを放置し、その磁気テ−プの5μsに
おけるドロップアウトが初期の10倍以上になるまでの
日数を測定して行った。 下記表1はその結果である。
【0032】
【0033】
【発明の効果】上記表1から明らかなように、この発明
で得られた磁気テ−プ(実施例1〜6)は、比較例1〜
6で得られた磁気テ−プに比し、シャトル耐久性がよく
、ジッタ−特性が同等以下で、耐食性がよく、このこと
からこの発明によって得られる磁気記録媒体は走行性、
耐久性および耐食性に優れていることがわかる。
で得られた磁気テ−プ(実施例1〜6)は、比較例1〜
6で得られた磁気テ−プに比し、シャトル耐久性がよく
、ジッタ−特性が同等以下で、耐食性がよく、このこと
からこの発明によって得られる磁気記録媒体は走行性、
耐久性および耐食性に優れていることがわかる。
Claims (4)
- 【請求項1】 基体上に磁性層を設け、この磁性層上
に分子の末端に少なくとも1以上のイソシアネ−ト基を
有するフッ素化合物と水酸基またはアミノ基を有する数
平均分子量が10000以上の高分子樹脂との反応生成
物を含有する保護層を設けたことを特徴とする磁気記録
媒体 - 【請求項2】 高分子樹脂が、水酸基またはアミノ基
を有する数平均分子量が10000以上の塩化ビニル系
樹脂である請求項1記載の磁気記録媒体 - 【請求項3】 高分子樹脂が、水酸基またはアミノ基
を有する数平均分子量が10000以上のポリウレタン
樹脂である請求項1記載の磁気記録媒体 - 【請求項4】 高分子樹脂が、水酸基またはアミノ基
を有する数平均分子量が10000以上の繊維素系樹脂
である請求項1記載の磁気記録媒体
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3374091A JPH04247318A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3374091A JPH04247318A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04247318A true JPH04247318A (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=12394810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3374091A Withdrawn JPH04247318A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04247318A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05143968A (ja) * | 1991-11-19 | 1993-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP3374091A patent/JPH04247318A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05143968A (ja) * | 1991-11-19 | 1993-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |