JPH04221350A - ３‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンの製法 - Google Patents
３‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンの製法Info
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- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- JJDFVIDVSCYKDS-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethyl-5-oxocyclohexane-1-carbonitrile Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C#N)C1 JJDFVIDVSCYKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 29
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 17
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 9
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OITMBHSFQBJCFN-UHFFFAOYSA-N 2,5,5-trimethylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(C)(C)CC1=O OITMBHSFQBJCFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000007866 imination reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 8
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N 3,3,5-trimethylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CC(=O)CC(C)(C)C1 POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- -1 oxo compound Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 2
- GTCKPGDAPXUISX-UHFFFAOYSA-N ruthenium(3+);trinitrate Chemical compound [Ru+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GTCKPGDAPXUISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPZBNIUWMDJFPW-UHFFFAOYSA-N 2,2,3-trimethylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCCC(=O)C1(C)C XPZBNIUWMDJFPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRAKHUZTNLUGPB-UHFFFAOYSA-N 3,3,5-trimethyl-7-azabicyclo[3.2.1]octane Chemical compound C1C2NCC1(C)CC(C)(C)C2 FRAKHUZTNLUGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000005913 hydroamination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
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- C07C209/24—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、３‐シアノ‐３，５，
５‐トリメチル‐シクロヘキサノンからの３‐アミノメ
チル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミン
の新規製法に関する。
５‐トリメチル‐シクロヘキサノンからの３‐アミノメ
チル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミン
の新規製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】欧州特許出願公開第４２ １１９号明細
書の記載から、第一モノアミン及びジアミンを、場合に
よっては還元能を有する別の基を有していてもよいオキ
ソ化合物からアンモニア及び水素を用いて公知の水素化
触媒の存在下で製造する方法は、公知であり、この方法
では、水素化触媒の存在下でのアンモニア及び水素との
反応前に、オキソ化合物は温度１０〜２００℃及び圧力
１〜３００バールでイミン形成触媒としての無機及び有
機のイオン交換体の存在下でアンモニウムの形でアンモ
ニアと前反応する。この方法の後に３‐シアノ‐３，５
，５‐トリメチル‐シクロヘキサノン（イソホロンニト
リル）はイオン交換体での反応及び常用のコバルト触媒
での通常の水素化によって９５％までの収率で３‐アミ
ノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルア
ミン（イソホロンジアミン）に変換される。
書の記載から、第一モノアミン及びジアミンを、場合に
よっては還元能を有する別の基を有していてもよいオキ
ソ化合物からアンモニア及び水素を用いて公知の水素化
触媒の存在下で製造する方法は、公知であり、この方法
では、水素化触媒の存在下でのアンモニア及び水素との
反応前に、オキソ化合物は温度１０〜２００℃及び圧力
１〜３００バールでイミン形成触媒としての無機及び有
機のイオン交換体の存在下でアンモニウムの形でアンモ
ニアと前反応する。この方法の後に３‐シアノ‐３，５
，５‐トリメチル‐シクロヘキサノン（イソホロンニト
リル）はイオン交換体での反応及び常用のコバルト触媒
での通常の水素化によって９５％までの収率で３‐アミ
ノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルア
ミン（イソホロンジアミン）に変換される。
【０００３】上記方法は、短い滞留時間を達成するため
にイミノ化工程の際にイオン交換体が必要とされるとい
う欠点を有する。この場合に短い滞留時間達成のために
異性化工程の際に必要なイオン交換体（有機イオン交換
体又は無機イオン交換体、例えばゼオライト）は、高い
費用の他に不十分な機械的安定性ないしは熱安定性の欠
点を有する。
にイミノ化工程の際にイオン交換体が必要とされるとい
う欠点を有する。この場合に短い滞留時間達成のために
異性化工程の際に必要なイオン交換体（有機イオン交換
体又は無機イオン交換体、例えばゼオライト）は、高い
費用の他に不十分な機械的安定性ないしは熱安定性の欠
点を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題は
、上記欠点を除去する、３‐アミノメチル‐３，５，５
‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンを３‐シアノ‐３
，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンから製造する
方法を見出すことであった。
、上記欠点を除去する、３‐アミノメチル‐３，５，５
‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンを３‐シアノ‐３
，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンから製造する
方法を見出すことであった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題に応じて、空間
的に相互に分離された２室の反応室中で、ａ） ３‐
シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンを
第１の反応室中で過剰量のアンモニアと、酸性金属酸化
物触媒で温度２０〜１５０℃及び圧力１５〜５００バー
ルで反応させ、かつｂ） 生じた反応生成物を第２の
反応室中で水素を用いて過剰量のアンモニアの存在下で
、場合によっては塩基性成分を含有するか又は中性もし
くは塩基性担体上のコバルト含有触媒、ニッケル含有触
媒、ルテニウム含有触媒及び／又は別の貴金属含有触媒
で温度６０〜１５０℃及び圧力５０〜３００バールで水
素化することを特徴とする、３‐アミノメチル‐３，５
，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンを３‐シアノ
‐３，５，５‐トリ‐メチル‐シクロヘキサノンから製
造するための改善された新規方法が見出された。
的に相互に分離された２室の反応室中で、ａ） ３‐
シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンを
第１の反応室中で過剰量のアンモニアと、酸性金属酸化
物触媒で温度２０〜１５０℃及び圧力１５〜５００バー
ルで反応させ、かつｂ） 生じた反応生成物を第２の
反応室中で水素を用いて過剰量のアンモニアの存在下で
、場合によっては塩基性成分を含有するか又は中性もし
くは塩基性担体上のコバルト含有触媒、ニッケル含有触
媒、ルテニウム含有触媒及び／又は別の貴金属含有触媒
で温度６０〜１５０℃及び圧力５０〜３００バールで水
素化することを特徴とする、３‐アミノメチル‐３，５
，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンを３‐シアノ
‐３，５，５‐トリ‐メチル‐シクロヘキサノンから製
造するための改善された新規方法が見出された。
【０００６】
【作用】本発明による方法は次の通りに、空間的に相互
に分離された２室の反応室中で実施することができる：
ａ） 第１の処理工程の際に３‐シアノ‐３，５，５
‐トリメチル‐シクロヘキサノンは過剰量のアンモニア
と、温度２０〜１５０℃、特に３０〜１３０℃、殊に５
０〜１００℃及び圧力１５〜５００バール、特に１００
〜３５０バールで反応し、３‐シアノ‐３，５，５‐ト
リメチル‐シクロヘキシルイミンに変換される。
に分離された２室の反応室中で実施することができる：
ａ） 第１の処理工程の際に３‐シアノ‐３，５，５
‐トリメチル‐シクロヘキサノンは過剰量のアンモニア
と、温度２０〜１５０℃、特に３０〜１３０℃、殊に５
０〜１００℃及び圧力１５〜５００バール、特に１００
〜３５０バールで反応し、３‐シアノ‐３，５，５‐ト
リメチル‐シクロヘキシルイミンに変換される。
【０００７】酸性金属酸化物触媒として、酸化アルミニ
ウム、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム
が適当である。有利に酸化アルミニウム、二酸化チタン
、二酸化ジルコニウム、殊に酸化アルミニウム及び二酸
化チタンが使用される。触媒の酸性度は、場合によって
はハロゲン化物の添加によって高めることができる。 このようにして例えば、酸化アルミニウムに塩素原子又
は二酸化チタンに塩素原子というようにハロゲン添加さ
れた触媒も使用される。
ウム、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム
が適当である。有利に酸化アルミニウム、二酸化チタン
、二酸化ジルコニウム、殊に酸化アルミニウム及び二酸
化チタンが使用される。触媒の酸性度は、場合によって
はハロゲン化物の添加によって高めることができる。 このようにして例えば、酸化アルミニウムに塩素原子又
は二酸化チタンに塩素原子というようにハロゲン添加さ
れた触媒も使用される。
【０００８】イミノ化の際に１時間につき触媒１ｋｇ当
り３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサ
ノン０．０１〜１０ｋｇ、特に０．０５〜７ｋｇ、殊に
０．１〜５ｋｇの触媒負荷が厳守される。３‐シアノ‐
３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノン１モル当り
、イミノ化の際に有利に、しかし強制的ではなくＮＨ３
５〜５００モル、特に１０〜４００モル、殊に２０〜３
００モルが使用される。３‐シアノ‐３，５，５‐トリ
メチル‐シクロヘキサノンのイミノ化は、溶剤、例えば
アルカノール又はテトラヒドロフランの存在下で実施す
ることもできる。
り３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサ
ノン０．０１〜１０ｋｇ、特に０．０５〜７ｋｇ、殊に
０．１〜５ｋｇの触媒負荷が厳守される。３‐シアノ‐
３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノン１モル当り
、イミノ化の際に有利に、しかし強制的ではなくＮＨ３
５〜５００モル、特に１０〜４００モル、殊に２０〜３
００モルが使用される。３‐シアノ‐３，５，５‐トリ
メチル‐シクロヘキサノンのイミノ化は、溶剤、例えば
アルカノール又はテトラヒドロフランの存在下で実施す
ることもできる。
【０００９】イミノ化は有利に連続的に、例えば圧力容
器又は圧力容器カスケード中で実施される。特に有利な
実施態様により３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐
シクロヘキサノン及びＮＨ３は、イミノ化触媒が固定床
の形で配置されている管状反応器に導通される。
器又は圧力容器カスケード中で実施される。特に有利な
実施態様により３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐
シクロヘキサノン及びＮＨ３は、イミノ化触媒が固定床
の形で配置されている管状反応器に導通される。
【００１０】工程１の場合の全滞留時間は、触媒負荷及
びアンモニアの使用量から判明する。全滞留時間は有利
には０．５〜１２０分、特に１〜４０分、殊に１．５〜
２０分の範囲内にある。
びアンモニアの使用量から判明する。全滞留時間は有利
には０．５〜１２０分、特に１〜４０分、殊に１．５〜
２０分の範囲内にある。
【００１１】ｂ） このようにして得られた生成物は
第２の処理工程の際に水素３〜１００００モル当量、特
に４．５〜３０モル当量と一緒に、場合によっては別の
アンモニアの供給後に接触水素化に供給される。
第２の処理工程の際に水素３〜１００００モル当量、特
に４．５〜３０モル当量と一緒に、場合によっては別の
アンモニアの供給後に接触水素化に供給される。
【００１２】アミノ化水素化の場合に、温度６０〜１５
０℃、特に７０〜１４０℃、殊に８０〜１３０℃及び圧
力５０〜５００バール、特に１００〜３５０バール、殊
に１５０〜３００バールが厳守される。
０℃、特に７０〜１４０℃、殊に８０〜１３０℃及び圧
力５０〜５００バール、特に１００〜３５０バール、殊
に１５０〜３００バールが厳守される。
【００１３】触媒負荷は、有利に０．０１〜５ｋｇ／ｋ
ｇ／時間の範囲内にあり、特に０．０２〜２．５ｋｇ／
ｋｇ／時間、殊に０．０５〜２ｋｇ／ｋｇ／時間にある
。
ｇ／時間の範囲内にあり、特に０．０２〜２．５ｋｇ／
ｋｇ／時間、殊に０．０５〜２ｋｇ／ｋｇ／時間にある
。
【００１４】水素化は有利に液体アンモニア中で実施さ
れる。３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘ
キシルイミン１モル当り、ＮＨ３５〜５００モル、特に
１０〜４００モル、殊に２０〜３００モルが使用される
。有利には前記の、相応する３‐シアノ‐３，５，５‐
トリメチル‐シクロヘキサノンからの３‐シアノ‐３，
５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルイミンの製造の際
に調整されたＮＨ３供給量が選択される。しかしながら
ＮＨ３含量は、水素化前でも付加的なＮＨ３の添加によ
って所望の値に高めることができる。
れる。３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘ
キシルイミン１モル当り、ＮＨ３５〜５００モル、特に
１０〜４００モル、殊に２０〜３００モルが使用される
。有利には前記の、相応する３‐シアノ‐３，５，５‐
トリメチル‐シクロヘキサノンからの３‐シアノ‐３，
５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルイミンの製造の際
に調整されたＮＨ３供給量が選択される。しかしながら
ＮＨ３含量は、水素化前でも付加的なＮＨ３の添加によ
って所望の値に高めることができる。
【００１５】３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シ
クロヘキシルイミンのアミノ化水素化は有利に連続的に
、例えば耐圧性撹拌容器又は撹拌容器カスケード中で実
施される。特に有利な実施態様の場合には、３‐シアノ
‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンのイミノ
化からの生成物混合物がプール方法もしくは細流方法（
Ｓｕｍｐｈ‐ ｏｄｅｒ Ｒｉｅｓｅｌｆａｈｒｗｅｉ
ｓｅ）で固定配置された触媒床上に導入される管状反応
器が使用される。
クロヘキシルイミンのアミノ化水素化は有利に連続的に
、例えば耐圧性撹拌容器又は撹拌容器カスケード中で実
施される。特に有利な実施態様の場合には、３‐シアノ
‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキサノンのイミノ
化からの生成物混合物がプール方法もしくは細流方法（
Ｓｕｍｐｈ‐ ｏｄｅｒ Ｒｉｅｓｅｌｆａｈｒｗｅｉ
ｓｅ）で固定配置された触媒床上に導入される管状反応
器が使用される。
【００１６】処理工程ａ及びｂは同様にして、イミノ化
触媒及び水素化触媒が、分離された２層中に配置されて
いる１つの反応器中で実施することができる。この場合
にはイミノ化は有利に水素の存在下で実施される。
触媒及び水素化触媒が、分離された２層中に配置されて
いる１つの反応器中で実施することができる。この場合
にはイミノ化は有利に水素の存在下で実施される。
【００１７】返送なしの管状反応器中の連続的方法の場
合には、全滞留時間は触媒負荷及びアンモニアの使用量
から判明する。全滞留時間は０．５〜１２０分、特に１
〜４０分、殊に１．５〜２０分の範囲内にある。
合には、全滞留時間は触媒負荷及びアンモニアの使用量
から判明する。全滞留時間は０．５〜１２０分、特に１
〜４０分、殊に１．５〜２０分の範囲内にある。
【００１８】水素化後に過剰量のアンモニアは場合によ
っては加圧下で分離される。このようにして得られた３
‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキ
シルアミンは、分留によって単離することができる。
っては加圧下で分離される。このようにして得られた３
‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキ
シルアミンは、分留によって単離することができる。
【００１９】水素化の際に原理的に、周期律表の第ＶＩ
ＩＩ族のニッケル、コバルト、鉄、銅、ルテニウム又は
別の貴金属を包含する全ての常用の水素化触媒を使用す
ることができる。有利にはルテニウム‐、コバルト‐も
しくはニッケル触媒が使用される。ルテニウム触媒及び
コバルト触媒が特に有利である。触媒活性金属は、完全
接触体として使用することもできるし、担体上で使用す
ることもできる。このような担体として、例えば酸化ア
ルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化
亜鉛又は酸化マグネシウム／酸化アルミニウムは重要で
あり、塩基性成分、例えばアルカリ金属及びアルカリ土
類金属の酸化物及び水酸化物を含有する水素化触媒は有
利とされる。従って塩基性担体、例えばβ‐酸化アルミ
ニウム又は酸化マグネシウム／酸化アルミニウムは特に
有利である。酸化マグネシウムを５〜４０％含有する酸
化マグネシウム／酸化アルミニウムは特に有利である。 この場合に酸化マグネシウム及び酸化アルミニウムを含
有する担体はアモルフであってもよいし、スピネルとし
て存在していてもよい。
ＩＩ族のニッケル、コバルト、鉄、銅、ルテニウム又は
別の貴金属を包含する全ての常用の水素化触媒を使用す
ることができる。有利にはルテニウム‐、コバルト‐も
しくはニッケル触媒が使用される。ルテニウム触媒及び
コバルト触媒が特に有利である。触媒活性金属は、完全
接触体として使用することもできるし、担体上で使用す
ることもできる。このような担体として、例えば酸化ア
ルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化
亜鉛又は酸化マグネシウム／酸化アルミニウムは重要で
あり、塩基性成分、例えばアルカリ金属及びアルカリ土
類金属の酸化物及び水酸化物を含有する水素化触媒は有
利とされる。従って塩基性担体、例えばβ‐酸化アルミ
ニウム又は酸化マグネシウム／酸化アルミニウムは特に
有利である。酸化マグネシウムを５〜４０％含有する酸
化マグネシウム／酸化アルミニウムは特に有利である。 この場合に酸化マグネシウム及び酸化アルミニウムを含
有する担体はアモルフであってもよいし、スピネルとし
て存在していてもよい。
【００２０】塩基性成分は、場合によっては水素化工程
の間でも、例えば水中のアルカリ金属酸化物もしくはア
ルカリ土類金属酸化物の溶液として供給することができ
る。
の間でも、例えば水中のアルカリ金属酸化物もしくはア
ルカリ土類金属酸化物の溶液として供給することができ
る。
【００２１】特に有利には水素化の際に、塩基性成分を
含有するコバルト又はルテニウムが使用される。上記触
媒は、自体公知の方法により工業的に得られる。このよ
うにして、例えば塩基性担体上のルテニウムは、ルテニ
ウム塩水溶液、例えば塩化ルテニウム及び硝酸ルテニウ
ムを相応する担体上に塗布することにより獲得される。 担体上のルテニウム濃度は０．１〜１０％、特に０．５
〜５％、殊に１〜４％である。乾燥後及び場合によって
は温度１２０〜５００℃、特に２００〜４００℃でのか
焼後に、ルテニウム触媒の活性化は水素流中で温度１８
０〜２５０℃、特に１９０〜２３０℃及び圧力１〜５０
０バール、特に２０〜３００バールで１〜２０時間、特
に２〜１０時間で行われる。
含有するコバルト又はルテニウムが使用される。上記触
媒は、自体公知の方法により工業的に得られる。このよ
うにして、例えば塩基性担体上のルテニウムは、ルテニ
ウム塩水溶液、例えば塩化ルテニウム及び硝酸ルテニウ
ムを相応する担体上に塗布することにより獲得される。 担体上のルテニウム濃度は０．１〜１０％、特に０．５
〜５％、殊に１〜４％である。乾燥後及び場合によって
は温度１２０〜５００℃、特に２００〜４００℃でのか
焼後に、ルテニウム触媒の活性化は水素流中で温度１８
０〜２５０℃、特に１９０〜２３０℃及び圧力１〜５０
０バール、特に２０〜３００バールで１〜２０時間、特
に２〜１０時間で行われる。
【００２２】ルテニウム触媒は、場合によってはさらに
別の金属、例えばパラジウム又は鉄を含有していてもよ
い。この場合に通常、鉄含量は０．５〜５％の範囲内に
あり、パラジウム含量は０．１〜５％の範囲内にある。
別の金属、例えばパラジウム又は鉄を含有していてもよ
い。この場合に通常、鉄含量は０．５〜５％の範囲内に
あり、パラジウム含量は０．１〜５％の範囲内にある。
【００２３】ルテニウム触媒は、このルテニウム触媒を
用いて特に高い触媒負荷を実現することができ、ひいて
は特に高い空時収量を達成することができることを示す
。
用いて特に高い触媒負荷を実現することができ、ひいて
は特に高い空時収量を達成することができることを示す
。
【００２４】塩基性コバルト触媒は少なくとも１つの塩
基性成分、例えばＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ
、ＣａＯ、ＳｒＯ又はＢａＯを含有する。この他に有利
にこの触媒は鉄、ニッケル、マンガン、クロム、モリブ
デン、タングステン又は燐のうち少なくとも１元素を含
有する。コバルト及び塩基性成分の他に鉄、ニッケル又
はマンガンのうち少なくとも１元素を含有する接触体は
特に重要である。この場合、金属を金属の形で使用する
こともできるし、その酸化物の形で使用することもでき
る。燐は実際には燐酸の形で存在する。
基性成分、例えばＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ
、ＣａＯ、ＳｒＯ又はＢａＯを含有する。この他に有利
にこの触媒は鉄、ニッケル、マンガン、クロム、モリブ
デン、タングステン又は燐のうち少なくとも１元素を含
有する。コバルト及び塩基性成分の他に鉄、ニッケル又
はマンガンのうち少なくとも１元素を含有する接触体は
特に重要である。この場合、金属を金属の形で使用する
こともできるし、その酸化物の形で使用することもでき
る。燐は実際には燐酸の形で存在する。
【００２５】３‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチ
ル‐シクロヘキシルアミン（イソホロンジアミン）は、
ジイソシアネート及びポリアミドのための重要な中間生
成物である。
ル‐シクロヘキシルアミン（イソホロンジアミン）は、
ジイソシアネート及びポリアミドのための重要な中間生
成物である。
【００２６】
【実施例】例 １
竪形管状反応器（直径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ
、油加熱式二重ジャケット）を１．２ｍｍのストランド
の形のβ‐酸化アルミニウム上の、ルテニウム３％を含
有する触媒９０．１ｇ（８７ｍｌ）で充填した（硝酸ル
テニウム水溶液を用いたβ‐酸化アルミニウムの細孔の
含浸及び１２０℃での乾燥によって触媒を得た）。触媒
を還元するために、１００バールで同時の水素１５０Ｎ
ｌ／時間の導通下で温度を段階的に１００℃から２２０
℃に７時間で上昇させ、さらに２２０℃で９時間維持し
た。
、油加熱式二重ジャケット）を１．２ｍｍのストランド
の形のβ‐酸化アルミニウム上の、ルテニウム３％を含
有する触媒９０．１ｇ（８７ｍｌ）で充填した（硝酸ル
テニウム水溶液を用いたβ‐酸化アルミニウムの細孔の
含浸及び１２０℃での乾燥によって触媒を得た）。触媒
を還元するために、１００バールで同時の水素１５０Ｎ
ｌ／時間の導通下で温度を段階的に１００℃から２２０
℃に７時間で上昇させ、さらに２２０℃で９時間維持し
た。
【００２７】水素化反応器の前に接続された、１．５ｍ
ｍのストランドの形の二酸化チタン（アナターゼ）６３
．５ｇ（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直
径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャ
ケット）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃
で１時間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリ
ルの５０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）８０．４ｇ
及び液体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸
送した。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０
Ｎｌ／時間を添加して通し、かつ前に接続されたイミノ
化反応器からの混合物を圧力２５０バール及び温度１２
０℃で下から上へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧
した後にアンモニアを留去した。水素化混合物はＧＣに
よれば、ジアミン収率９６．２％に相応するイソホロン
ジアミン９５．２％を１，３，３‐トリメチル‐６‐ア
ザビシクロ［３．２．１］オクタン０．８％とともに含
有していた。
ｍのストランドの形の二酸化チタン（アナターゼ）６３
．５ｇ（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直
径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャ
ケット）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃
で１時間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリ
ルの５０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）８０．４ｇ
及び液体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸
送した。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０
Ｎｌ／時間を添加して通し、かつ前に接続されたイミノ
化反応器からの混合物を圧力２５０バール及び温度１２
０℃で下から上へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧
した後にアンモニアを留去した。水素化混合物はＧＣに
よれば、ジアミン収率９６．２％に相応するイソホロン
ジアミン９５．２％を１，３，３‐トリメチル‐６‐ア
ザビシクロ［３．２．１］オクタン０．８％とともに含
有していた。
【００２８】例 ２
竪形管状反応器（直径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形のコバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及びＰ２
Ｏ５３％を含有するＣｏＯ）１８３．１ｇ（１００ｍｌ
）で充填した。触媒を還元するために、１００バールで
同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度を段階的に
１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ、さらに３
３０℃で３０時間維持した。
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形のコバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及びＰ２
Ｏ５３％を含有するＣｏＯ）１８３．１ｇ（１００ｍｌ
）で充填した。触媒を還元するために、１００バールで
同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度を段階的に
１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ、さらに３
３０℃で３０時間維持した。
【００２９】水素化反応器の前に接続された、１．５ｍ
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリルの５
０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）２５．４ｇ及び液
体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸送した
。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０Ｎｌ／
時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの
混合物を圧力２５０バール及び温度１３０℃で下から上
へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモ
ニアを留去した。水素化混合物はＴＨＦとともにガスク
ロマトグラフィーによる分析によれば、ジアミン収率９
６．２％に相応するイソホロンジアミン９４．１％及び
１，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．
１］オクタン１．４％を含有していた。
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリルの５
０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）２５．４ｇ及び液
体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸送した
。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０Ｎｌ／
時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの
混合物を圧力２５０バール及び温度１３０℃で下から上
へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモ
ニアを留去した。水素化混合物はＴＨＦとともにガスク
ロマトグラフィーによる分析によれば、ジアミン収率９
６．２％に相応するイソホロンジアミン９４．１％及び
１，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．
１］オクタン１．４％を含有していた。
【００３０】例 ３
竪形管状反応器（直径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及
びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）１７６．７ｇ（
１００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１０
０バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度
を段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ
、さらに３３０℃で３０時間維持した。
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及
びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）１７６．７ｇ（
１００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１０
０バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度
を段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ
、さらに３３０℃で３０時間維持した。
【００３１】水素化反応器の前に接続された、１．５ｍ
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリルの５
０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）４０．４ｇ及び液
体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸送した
。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０Ｎｌ／
時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの
混合物を圧力２５０バール及び温度１３０℃で下から上
へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモ
ニアを留去した。水素化混合物はＴＨＦとともに、ガス
クロマトグラフィーによる分析によればジアミン収率９
６．２％に相応するイソホロンジアミン９６．０％及び
１，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．
１］オクタン０．６％を含有していた。１２１時間の混
合物を捕集し、かつ分留によって分離した：収率９５．
１％に相応するイソホロンジアミン２３７１ｇが得られ
た。
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎にテトラヒドロフラン中のイソホロンニトリルの５
０％溶液（ＩＰＮの純度９９．０％）４０．４ｇ及び液
体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポンプ輸送した
。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル）６０Ｎｌ／
時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの
混合物を圧力２５０バール及び温度１３０℃で下から上
へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモ
ニアを留去した。水素化混合物はＴＨＦとともに、ガス
クロマトグラフィーによる分析によればジアミン収率９
６．２％に相応するイソホロンジアミン９６．０％及び
１，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．
１］オクタン０．６％を含有していた。１２１時間の混
合物を捕集し、かつ分留によって分離した：収率９５．
１％に相応するイソホロンジアミン２３７１ｇが得られ
た。
【００３２】例 ４
竪形管状反応器（直径：１６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及
びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）１７６．７ｇ（
１００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１０
０バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度
を段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ
、さらに３３０℃で３０時間維持した。
、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリッ
トの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％及
びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）１７６．７ｇ（
１００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１０
０バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度
を段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ
、さらに３３０℃で３０時間維持した。
【００３３】水素化反応器の前に接続された、１．５ｍ
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎に溶融イソホロンニトリル（純度９９．０％）１３
．８ｇ及び液体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポ
ンプ輸送した。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル
）６０Ｎｌ／時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化
反応器からの混合物を圧力２５０バール及び温度１３０
℃で下から上へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧し
た後にアンモニアを留去した。水素化混合物はガスクロ
マトグラフィーによる分析によれば、ジアミン収率９８
．７％に相応するイソホロンジアミン９７．７％及び１
，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．１
］オクタン０．３％を含有していた。
ｍのストランドの形のγ‐酸化アルミニウム７０．０ｇ
（１００ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：５０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎に溶融イソホロンニトリル（純度９９．０％）１３
．８ｇ及び液体アンモニア３０３．０ｇを下から上へポ
ンプ輸送した。引き続き、１時間毎に水素（２．７モル
）６０Ｎｌ／時間を通し、かつ前に接続されたイミノ化
反応器からの混合物を圧力２５０バール及び温度１３０
℃で下から上へ水素化反応器中に通した。常圧に減圧し
た後にアンモニアを留去した。水素化混合物はガスクロ
マトグラフィーによる分析によれば、ジアミン収率９８
．７％に相応するイソホロンジアミン９７．７％及び１
，３，３‐トリメチル‐６‐アザビシクロ［３．２．１
］オクタン０．３％を含有していた。
【００３４】例 ５
竪形管状反応器（直径：１６ｍｍ、充填高さ：１００ｃ
ｍ、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリ
ットの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％
及びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）３５４ｇ（２
００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１００
バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度を
段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ、
さらに３３０℃で３０時間維持した。
ｍ、油加熱式二重ジャケット）を１〜１．５ｍｍのグリ
ットの形の塩基性コバルト完全接触体（Ｍｎ２Ｏ３５％
及びＮａ２Ｏ１．４％を含有するＣｏＯ）３５４ｇ（２
００ｍｌ）で充填した。触媒を還元するために、１００
バールで同時の水素１５０Ｎｌ／時間の導通下で温度を
段階的に１００℃から３３０℃に２３時間で上昇させ、
さらに３３０℃で３０時間維持した。
【００３５】水素化反応器の前に接続された、１．５ｍ
ｍのストランドの形のＴｉＯ２（アナターゼ）２５．４
ｇ（４０ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：２０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎に溶融イソホロンニトリル（純度９９．０％）４０
．０ｇ及び液体アンモニア１０２ｇを下から上へポンプ
輸送した。引き続き、１時間毎に水素１００Ｎｌ／時間
を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの混合
物を圧力２５０バール及び温度１１０℃で下から上へ水
素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモニア
を留去した。水素化混合物は、ガスクロマトグラフィー
による分析によればイソホロンジアミン９７．５％を含
有していた。７３時間の混合物を集め、かつ充填蒸留塔
（ガラスリング３ｍｍ）３０ｃｍによる分留によって分
離した。理論値の９６．２％の収率に相応するイソホロ
ンジアミン２８６４ｇが得られた。
ｍのストランドの形のＴｉＯ２（アナターゼ）２５．４
ｇ（４０ｍｌ）で充填されている管状反応器（直径：１
６ｍｍ、充填高さ：２０ｃｍ、油加熱式二重ジャケット
）の中を通して圧力２５０バール及び温度８０℃で１時
間毎に溶融イソホロンニトリル（純度９９．０％）４０
．０ｇ及び液体アンモニア１０２ｇを下から上へポンプ
輸送した。引き続き、１時間毎に水素１００Ｎｌ／時間
を通し、かつ前に接続されたイミノ化反応器からの混合
物を圧力２５０バール及び温度１１０℃で下から上へ水
素化反応器中に通した。常圧に減圧した後にアンモニア
を留去した。水素化混合物は、ガスクロマトグラフィー
による分析によればイソホロンジアミン９７．５％を含
有していた。７３時間の混合物を集め、かつ充填蒸留塔
（ガラスリング３ｍｍ）３０ｃｍによる分留によって分
離した。理論値の９６．２％の収率に相応するイソホロ
ンジアミン２８６４ｇが得られた。
Claims (1)
- 【請求項１】 ３‐アミノメチル‐３，５，５‐トリ
メチル‐シクロヘキシルアミンを３‐シアノ‐３，５，
５‐トリメチル‐シクロヘキサノンから製造する方法に
おいて、空間的に相互に分離された２室の反応室中で、
ａ） ３‐シアノ‐３，５，５‐トリメチル‐シクロ
ヘキサノンを第１の反応室中で過剰量のアンモニアと、
酸性金属酸化物触媒で温度２０〜１５０℃及び圧力１５
〜５００バールで反応させ、かつｂ） 生じた反応生
成物を第２の反応室中で水素を用いて過剰量のアンモニ
アの存在下で、場合によっては塩基性成分を含有するか
又は中性もしくは塩基性担体上のコバルト含有触媒、ニ
ッケル含有触媒、ルテニウム含有触媒及び／又は別の貴
金属含有触媒で温度６０〜１５０℃及び圧力５０〜３０
０バールで水素化することを特徴とする３‐アミノメチ
ル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンの
製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4010227A DE4010227A1 (de) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | Verfahren zur herstellung von 3-aminomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylamin |
| DE4010227.0 | 1990-03-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04221350A true JPH04221350A (ja) | 1992-08-11 |
| JP2965727B2 JP2965727B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=6403401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3056716A Expired - Lifetime JP2965727B2 (ja) | 1990-03-30 | 1991-03-20 | ３‐アミノメチル‐３，５，５‐トリメチル‐シクロヘキシルアミンの製法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5371292A (ja) |
| EP (1) | EP0449089B1 (ja) |
| JP (1) | JP2965727B2 (ja) |
| CA (1) | CA2039328C (ja) |
| DE (2) | DE4010227A1 (ja) |
| ES (1) | ES2047961T4 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286906A (en) * | 1991-09-25 | 1994-02-15 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for the preparation of 3-aminomethyl-3,5,5-trialkylcyclohexylamine |
| JP2009526801A (ja) * | 2006-02-14 | 2009-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | モノエチレングリコール（ｍｅｇ）からのエチレンアミン及びエタノールアミンの製造方法 |
| JP2009526810A (ja) * | 2006-02-14 | 2009-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 触媒の存在でモノエチレングリコール及びアンモニアの水素化アミノ化によるエチレンアミン及びエタノールアミンの製造方法 |
| JP2009529564A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ベンゾフェノンイミン類の製造方法 |
| KR100938300B1 (ko) * | 2001-08-31 | 2010-01-22 | 바스프 에스이 | 이소포론디아민(ｉｐｄａ,3-아미노메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실아민)의 제조 방법 |
| JP2017526688A (ja) * | 2014-08-28 | 2017-09-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | コバルト完全接触触媒を使用して第一級アミンを製造する方法 |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2059008T3 (es) * | 1990-10-23 | 1994-11-01 | Degussa | Bis(3-ciano-3,5,5-trimetil-ciclohexiliden)-azina, procedimiento para su preparacion y transformacion ulterior para dar 3-(aminometil)-3,5,5-trimetilciclohexilamina. |
| US5406000A (en) * | 1993-01-12 | 1995-04-11 | Elf/Atochem North America, Inc. | Process for the production of 3-aminomethyl-3,5,5-trialkylcyclohexylamine |
| CA2115025A1 (en) * | 1993-02-08 | 1994-08-09 | Atsushi Furutani | Process for producing amines |
| CA2115024A1 (en) * | 1993-04-27 | 1994-10-28 | Atsushi Furutani | Process for producing amines |
| DE4426472A1 (de) * | 1993-07-27 | 1995-02-02 | Du Pont | Herstellung von Isophorondiamin |
| DE4343891A1 (de) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Degussa | Verfahren zur Beeinflussung des cis-/trans-Isomerenverhältnisses von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin bei dessen Herstellung aus 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanon |
| DE4343890A1 (de) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE4407325B4 (de) | 1994-03-04 | 2006-06-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE19507398C1 (de) * | 1995-03-03 | 1996-09-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE19540191C1 (de) * | 1995-10-30 | 1996-11-21 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin, unter Verwendung eines Festbett-Hydrierkatalysators auf der Basis von Kobalt nach Raney |
| DE19627265A1 (de) * | 1996-07-06 | 1998-01-08 | Degussa | Verfahren zur Herstellung primärer und/oder sekundärer Amine aus Oxoverbindungen |
| DE19709260A1 (de) * | 1997-03-06 | 1998-09-10 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 4-Amino-2,2,6,6-tetramethyl-piperidin |
| DE19747913C1 (de) * | 1997-10-30 | 1999-02-11 | Degussa | Verfahren zur Herstellung primärer und/oder sekundärer Amine aus Iminen oder Nitrilen, insbesondere zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylamin (Isophorondiamin) aus 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanimin (Isophoronnitril-imin) durch Hydrierung in Gegenwart eines quaternären Ammoniumhydroxids |
| DE19756400A1 (de) * | 1997-12-18 | 1999-06-24 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylamin mit einem cic/trans-Isomerenverhältnis von mindestens 70/30 |
| DE19933611A1 (de) | 1999-07-17 | 2001-01-18 | Aventis Res & Tech Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung von Aminen durch homogen katalysierte reduktive Aminierung von Carbonylverbindungen |
| DE10065030A1 (de) | 2000-12-23 | 2002-07-04 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE10145119A1 (de) * | 2001-09-13 | 2003-04-03 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminen |
| ATE384037T1 (de) * | 2003-09-10 | 2008-02-15 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von xylylendiamin durch kontinuierliche hydrierung von flüssigem phthalodinitril |
| CA2612574A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | Dow Global Technologies Inc. | Process for the reductive amination of aldehydes and ketones via the formation of macrocyclic polyimine intermediates |
| JP2010513396A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ３−シアノ−３，５，５−トリメチル−シクロヘキシルイミンの連続的な水素化法 |
| DE102007011483A1 (de) | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| CN102026956B (zh) | 2008-05-13 | 2014-05-28 | 巴斯夫欧洲公司 | 生产n，n-取代的1，3-丙二胺的方法 |
| WO2010009995A2 (de) | 2008-07-25 | 2010-01-28 | Basf Se | 5-isopropyl-3-aminomethyl-2-methyl-1-amino-cyclohexan (carvondiamin) und ein verfahren zu dessen herstellung |
| JP2011529027A (ja) * | 2008-07-25 | 2011-12-01 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ３−アミノメチル−１−シクロヘキシルアミン、及びその製造方法 |
| US8536377B2 (en) | 2008-11-05 | 2013-09-17 | Basf Se | Method for producing N,N-substituted-3-aminopropan-1-ols |
| JP5650121B2 (ja) | 2008-11-11 | 2015-01-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 環状ジアミンの製造方法 |
| DE102010038310A1 (de) | 2010-07-23 | 2012-01-26 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Diamino-dianhydro-dideoxy-hexitolen, besonders bevorzugt 2,5-Diamino-1,4:3,6-Dianhydro-2,5-Dideoxy-D-Hexitol |
| DE102010062603A1 (de) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE102010062594B4 (de) | 2010-12-08 | 2022-02-17 | Evonik Operations Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| US9139511B2 (en) | 2011-03-22 | 2015-09-22 | Basf Se | Process for hydrogenating nitriles |
| HUE031021T2 (en) * | 2011-03-22 | 2017-06-28 | Basf Se | Process for hydrogenation of nitriles |
| JP2014516342A (ja) | 2011-03-22 | 2014-07-10 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ニトリルの水素化法 |
| CN102924291B (zh) | 2011-08-08 | 2014-08-06 | 万华化学集团股份有限公司 | 3-氨甲基-3,5,5-三甲基环己胺的制备方法 |
| EP3050870A1 (de) | 2015-01-30 | 2016-08-03 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| EP3075721A1 (de) | 2015-03-30 | 2016-10-05 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| ES2792073T3 (es) | 2017-05-23 | 2020-11-10 | Evonik Operations Gmbh | Procedimiento para la producción de compuestos amínicos a partir de compuestos nitrílicos |
| CN107857704B (zh) * | 2017-11-21 | 2020-04-10 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备3-氨甲基-3,5,5-三甲基环己胺的方法及用于该方法的催化剂 |
| EP3660001A1 (de) * | 2018-11-27 | 2020-06-03 | Evonik Operations GmbH | Verbessertes verfahren zur herstellung von triacetondiamin und dessen derivaten |
| EP4294787A1 (en) | 2021-02-16 | 2023-12-27 | Basf Se | Method for manufacture of isophoronediamine |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2583729A (en) * | 1947-11-28 | 1952-01-29 | Universal Oil Prod Co | Separation of a schiff's base from the condensation product of a primary amine with a carbonyl compound |
| DE1229078B (de) * | 1961-10-18 | 1966-11-24 | Hibernia Chemie Ges Mit Beschr | Verfahren zur Herstellung von 3-(Aminomethyl)-3, 5, 5-trimethylcyclohexylderivaten |
| JPS5371032A (en) * | 1976-12-02 | 1978-06-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of imino cpds. |
| DE3011656A1 (de) * | 1980-03-26 | 1981-10-01 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur herstellung von 3-aminomethyl-3-5-5-trimethyl-cyclohexylamin |
| DE3021955A1 (de) * | 1980-06-12 | 1981-12-24 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Verfahren zur herstellung primaerer mono- und diamine aus oxoverbindungen |
| GB2100718B (en) * | 1981-06-16 | 1985-04-03 | Kodak Ltd | Polyamine compounds and their use as curing agents for epoxy resins |
| US4806690A (en) * | 1985-05-13 | 1989-02-21 | The Dow Chemical Company | Method of producing amines |
| AU5384890A (en) * | 1989-04-25 | 1990-11-01 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Reductive amination of carbonylnitriles and similar compounds |
-
1990
- 1990-03-30 DE DE4010227A patent/DE4010227A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-03-20 EP EP91104288A patent/EP0449089B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-20 DE DE91104288T patent/DE59100830D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-20 JP JP3056716A patent/JP2965727B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-20 ES ES91104288T patent/ES2047961T4/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-28 CA CA002039328A patent/CA2039328C/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-07-15 US US08/092,029 patent/US5371292A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286906A (en) * | 1991-09-25 | 1994-02-15 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for the preparation of 3-aminomethyl-3,5,5-trialkylcyclohexylamine |
| KR100938300B1 (ko) * | 2001-08-31 | 2010-01-22 | 바스프 에스이 | 이소포론디아민(ｉｐｄａ,3-아미노메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실아민)의 제조 방법 |
| JP2009526801A (ja) * | 2006-02-14 | 2009-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | モノエチレングリコール（ｍｅｇ）からのエチレンアミン及びエタノールアミンの製造方法 |
| JP2009526810A (ja) * | 2006-02-14 | 2009-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 触媒の存在でモノエチレングリコール及びアンモニアの水素化アミノ化によるエチレンアミン及びエタノールアミンの製造方法 |
| JP2009529564A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ベンゾフェノンイミン類の製造方法 |
| JP2017526688A (ja) * | 2014-08-28 | 2017-09-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | コバルト完全接触触媒を使用して第一級アミンを製造する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2965727B2 (ja) | 1999-10-18 |
| ES2047961T3 (es) | 1994-03-01 |
| CA2039328C (en) | 2001-11-20 |
| ES2047961T4 (es) | 1995-09-16 |
| US5371292A (en) | 1994-12-06 |
| EP0449089B1 (de) | 1994-01-12 |
| DE4010227A1 (de) | 1991-10-02 |
| EP0449089A1 (de) | 1991-10-02 |
| DE59100830D1 (de) | 1994-02-24 |
| CA2039328A1 (en) | 1991-10-01 |
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