JPH04197566A - 連続鋳造における丸ビレットの圧下制御方法 - Google Patents
連続鋳造における丸ビレットの圧下制御方法Info
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- JPH04197566A JPH04197566A JP32647390A JP32647390A JPH04197566A JP H04197566 A JPH04197566 A JP H04197566A JP 32647390 A JP32647390 A JP 32647390A JP 32647390 A JP32647390 A JP 32647390A JP H04197566 A JPH04197566 A JP H04197566A
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- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、丸ビレットの連続鋳造において、冷却スプ
レーの不均一、ピンチロールによる圧下量不適性等によ
る丸ビレットの真円度の悪化を防止できる丸ビレットの
圧下制御方法に関する。
レーの不均一、ピンチロールによる圧下量不適性等によ
る丸ビレットの真円度の悪化を防止できる丸ビレットの
圧下制御方法に関する。
従来の技術
鋼等の連続鋳造において、鋳片の中心偏析やセンターポ
ロシティ−を解消するために、従来がら種々の方法が提
案されている。その1つとして、連続鋳造中にピンチロ
ールにより鋳片を厚み方向に圧下する方法がある。この
方法は、連続鋳造における2次冷却帯に続く引抜き工程
において、1対または複数対のピンチロールによって鋳
片の液相線クレータ−先端と固相線クレータ−先端との
間を軽く圧下する方法である。この場合の鋳片に加える
圧下量は、鋳片内部に割れが発生しない程度で、かつ、
溶鋼の凝固収縮と、溶鋼静圧により鋳片が膨らむいわゆ
るバルジングとに伴う濃化溶鋼のクレータ−先端部への
移動が生じない程度がよいとされている。
ロシティ−を解消するために、従来がら種々の方法が提
案されている。その1つとして、連続鋳造中にピンチロ
ールにより鋳片を厚み方向に圧下する方法がある。この
方法は、連続鋳造における2次冷却帯に続く引抜き工程
において、1対または複数対のピンチロールによって鋳
片の液相線クレータ−先端と固相線クレータ−先端との
間を軽く圧下する方法である。この場合の鋳片に加える
圧下量は、鋳片内部に割れが発生しない程度で、かつ、
溶鋼の凝固収縮と、溶鋼静圧により鋳片が膨らむいわゆ
るバルジングとに伴う濃化溶鋼のクレータ−先端部への
移動が生じない程度がよいとされている。
しかしながら、上記のような適正な圧下量は、鋳片のサ
イズ、引抜き速度、2次冷却水量などの鋳造条件によっ
て変化する。また、同一条件のもとにおいても、時々刻
々の引抜き速度や鋳片温度の変動などによって変化する
。そして圧下量の不足は、センターポロシティ−の残留
、圧下量の過剰は、内部割れを生じる。さらに鋳片の中
心部の偏析は、圧下量が不足するといわゆるV偏析が生
じ、圧下量が過剰となると逆V偏析が生じる。
イズ、引抜き速度、2次冷却水量などの鋳造条件によっ
て変化する。また、同一条件のもとにおいても、時々刻
々の引抜き速度や鋳片温度の変動などによって変化する
。そして圧下量の不足は、センターポロシティ−の残留
、圧下量の過剰は、内部割れを生じる。さらに鋳片の中
心部の偏析は、圧下量が不足するといわゆるV偏析が生
じ、圧下量が過剰となると逆V偏析が生じる。
この連続鋳造における鋳造作業が変動する場合において
、常に最適な圧下量で鋳片を圧下する方法とり、では、
圧下の前後における鋳片の長さ方向伸び量と幅広がり量
の検出値に基づき、圧下量を修正する方法(特開平1−
202350号公報)が提案されている。
、常に最適な圧下量で鋳片を圧下する方法とり、では、
圧下の前後における鋳片の長さ方向伸び量と幅広がり量
の検出値に基づき、圧下量を修正する方法(特開平1−
202350号公報)が提案されている。
一方、連続鋳造による丸ビレットの製造においても、前
記と同様に2次冷却水の不均一、ピンチロールでの圧下
量不適性が発生すると、鋳片の真円度が悪化する。この
真円度不良は、内部割れ等の品質欠陥につながるばかり
でなく、製品化のプレス加工時に肉厚不良等の製品欠陥
につながる。
記と同様に2次冷却水の不均一、ピンチロールでの圧下
量不適性が発生すると、鋳片の真円度が悪化する。この
真円度不良は、内部割れ等の品質欠陥につながるばかり
でなく、製品化のプレス加工時に肉厚不良等の製品欠陥
につながる。
一般にプレス加工時は、ビレットの薄切り品を3点支持
し、この支持点の中心点を材料センターとしてプレスを
行う。したがって、真円度が悪い場合、プレスのセンタ
ー位置ずれによって、製品欠陥が発生する。さらに真円
度が悪化すると、丸ビレットが転がらず、搬出ラインで
の渋滞、故障につながる等の数多くの問題が発生する。
し、この支持点の中心点を材料センターとしてプレスを
行う。したがって、真円度が悪い場合、プレスのセンタ
ー位置ずれによって、製品欠陥が発生する。さらに真円
度が悪化すると、丸ビレットが転がらず、搬出ラインで
の渋滞、故障につながる等の数多くの問題が発生する。
発明が解決しようとする課題
上記特開平1−202350号公報の方法は、スラブの
連続鋳造時の鋳片の圧下の前後における鋳片の長さ方向
伸び量と幅広がり量の検出値に基づき、圧下量を修正す
るものであって、丸ビレットのように断面積が4八さく
、かつ、ピンチロールにより断面形状が変形し易い場合
については検討されていない。
連続鋳造時の鋳片の圧下の前後における鋳片の長さ方向
伸び量と幅広がり量の検出値に基づき、圧下量を修正す
るものであって、丸ビレットのように断面積が4八さく
、かつ、ピンチロールにより断面形状が変形し易い場合
については検討されていない。
したがって、従来の連続鋳造においては、丸ビレットの
真円度測定は実施されておらず、ましてや丸ビレットの
真円度矯正は行なわれていない。
真円度測定は実施されておらず、ましてや丸ビレットの
真円度矯正は行なわれていない。
コノ発明ノ目的は、連続鋳造による丸ビレットの製造に
おいて、鋳片のスリップおよび引抜き不能や内部割れを
発生させず、真円度の矯正を行うことができる圧下制御
方法を提供することにある。
おいて、鋳片のスリップおよび引抜き不能や内部割れを
発生させず、真円度の矯正を行うことができる圧下制御
方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った
。その結果、予め鋳片サイズ等に基いて設定された適正
圧下量をピンチロールの本数で除し、各ピンチロールの
設定圧下量とし、この設定圧下量をピンチロール群入側
で測定された真円度により補正して圧下制御することに
より、鋳片の真円度が矯正できることを見い出し、この
発明に到達した。
。その結果、予め鋳片サイズ等に基いて設定された適正
圧下量をピンチロールの本数で除し、各ピンチロールの
設定圧下量とし、この設定圧下量をピンチロール群入側
で測定された真円度により補正して圧下制御することに
より、鋳片の真円度が矯正できることを見い出し、この
発明に到達した。
すなわちこの発明は、水平および垂直環2方向以上の圧
下方向の異なる複数のピンチロールを有する連続鋳造設
備による丸ビレットの製造において、ピンチロール群入
側の鋳片の真円度測定結果に基いて各ピンチロールの圧
下量を修正するのである。
下方向の異なる複数のピンチロールを有する連続鋳造設
備による丸ビレットの製造において、ピンチロール群入
側の鋳片の真円度測定結果に基いて各ピンチロールの圧
下量を修正するのである。
作 用
この発明においては、鋳片をピンチロールで圧下するに
際し、圧下量の初期設定は従来と同様に、鋳片サイズ、
引抜き温度、2次冷却水量などの鋳造条件の設定値に応
じて決定する。そしてピンチロール群入側における鋳片
の真円度を連続的に測定し、該真円度測定結果に基いて
各ピンチロールの圧下量を修正するので、鋳造作業の変
動による影響をなくし、肉質ならびに真円度に優れた丸
ビレットを得ることができる。
際し、圧下量の初期設定は従来と同様に、鋳片サイズ、
引抜き温度、2次冷却水量などの鋳造条件の設定値に応
じて決定する。そしてピンチロール群入側における鋳片
の真円度を連続的に測定し、該真円度測定結果に基いて
各ピンチロールの圧下量を修正するので、鋳造作業の変
動による影響をなくし、肉質ならびに真円度に優れた丸
ビレットを得ることができる。
上記鋳片の真円度の測定は、接触式あるいは非接触式等
いかなる方式でも用いることができる。
いかなる方式でも用いることができる。
例えば、ピンチロール入側での鋳片表面温度が約800
℃あることを利用し、鋳片を水平方向、垂直方向、右4
5°方向ならびに左45°方向からカメラ撮影し、画像
処理により鋳片の寸法測定を行う方法、あるいは、シリ
ンダーにより駆動するタッチロールと変位計を鋳片の周
囲に真下を除く7方向に配設し、鋳片の寸法測定を行う
方法が推奨される。
℃あることを利用し、鋳片を水平方向、垂直方向、右4
5°方向ならびに左45°方向からカメラ撮影し、画像
処理により鋳片の寸法測定を行う方法、あるいは、シリ
ンダーにより駆動するタッチロールと変位計を鋳片の周
囲に真下を除く7方向に配設し、鋳片の寸法測定を行う
方法が推奨される。
実施例
実施例1
以下にこの発明方法の詳細を実施の一例を示す第1図な
いし第4図に基いて説明する。
いし第4図に基いて説明する。
第1図はこの発明の真円度検出装置を設置した連続鋳造
設備の腰部説明図、第2図はこの発明の実施例における
制御系統図、第3図は非接触式の鋳片の真円度測定装置
の説明図、第4図は接触式の鋳片の真円度測定装置の説
明図である。
設備の腰部説明図、第2図はこの発明の実施例における
制御系統図、第3図は非接触式の鋳片の真円度測定装置
の説明図、第4図は接触式の鋳片の真円度測定装置の説
明図である。
第1図において、溶融金属は図示しない取鍋がらタンデ
イツシュ(1)に移され、タンディッシュ(1)から浸
漬ノズル(2)を経て鋳型(3)に注入され、鋳型(3
)内および冷却水ノズル群(4)により冷却されつつ案
内ロール群(5)内を引抜かれながら鋳片(6)となる
。この引抜き過程において、ピンチロール群(7)によ
り鋳片(6)に軽い圧下を加える。
イツシュ(1)に移され、タンディッシュ(1)から浸
漬ノズル(2)を経て鋳型(3)に注入され、鋳型(3
)内および冷却水ノズル群(4)により冷却されつつ案
内ロール群(5)内を引抜かれながら鋳片(6)となる
。この引抜き過程において、ピンチロール群(7)によ
り鋳片(6)に軽い圧下を加える。
この場合のピンチロール群(7)の圧下量の設定は、第
2図に示すとおり、設定器(9〉から鋳片サイズ、溶鋼
温度、鋳造速度、スプレー比水量等の操業条件を演算部
(11)に入力し、演算部(工1)はこれに基づいて、
センターポロシティ−1中心偏析改善のための設定圧下
量を演算する。
2図に示すとおり、設定器(9〉から鋳片サイズ、溶鋼
温度、鋳造速度、スプレー比水量等の操業条件を演算部
(11)に入力し、演算部(工1)はこれに基づいて、
センターポロシティ−1中心偏析改善のための設定圧下
量を演算する。
また、ピンチロール群(7)の入側には、真円度測定装
置(8)を配設し、該真円度測定装置(8)による鋳片
(6)の真円度測定結果を演算部(11)に人力する。
置(8)を配設し、該真円度測定装置(8)による鋳片
(6)の真円度測定結果を演算部(11)に人力する。
演算部(11)は、入力される真円度測定結果に基づい
て設定圧下量を修正するのである。
て設定圧下量を修正するのである。
真円度測定装置(8)としては、第3図に示すとおり、
鋳片(6)の周囲に水平寸法用カメラ(31)、水平寸
法用カメラ(32)、右45°寸法用カメラ(33)お
よび左45°寸法用カメラ(34)を配殺し、鋳片(6
)を各方向から撮影して画像処理により鋳片(6)の各
寸法を演算して真円度を測定する非接触方式、あるいは
第4図に示すとおり、鋳片(6)の周囲にエンコーダあ
るいはポテンショメータ等の変位計内蔵の駆動用シリン
ダー(41)のピストンロッド(42)の先端にタッチ
ロール(43)を設けt、:す法則走部材を、ピンチロ
ール(7)により位置が決まる直下を除き、7方向に配
設し、各駆動用シリンダー(41)に内蔵の変位計によ
り鋳片(6)の各寸法測定を実施して真円度を測定する
接触方式のいずれも用いることができる。
鋳片(6)の周囲に水平寸法用カメラ(31)、水平寸
法用カメラ(32)、右45°寸法用カメラ(33)お
よび左45°寸法用カメラ(34)を配殺し、鋳片(6
)を各方向から撮影して画像処理により鋳片(6)の各
寸法を演算して真円度を測定する非接触方式、あるいは
第4図に示すとおり、鋳片(6)の周囲にエンコーダあ
るいはポテンショメータ等の変位計内蔵の駆動用シリン
ダー(41)のピストンロッド(42)の先端にタッチ
ロール(43)を設けt、:す法則走部材を、ピンチロ
ール(7)により位置が決まる直下を除き、7方向に配
設し、各駆動用シリンダー(41)に内蔵の変位計によ
り鋳片(6)の各寸法測定を実施して真円度を測定する
接触方式のいずれも用いることができる。
設定圧下量の修正は、第2図の制御系統図に示すとおり
、真円度測定装置(8)で得らnた各寸法(a)〜(d
)が演算部(11)に人力されると、演算部(11)は
、下式に基づいて各ピンチロールの設定圧下量を修正す
る。
、真円度測定装置(8)で得らnた各寸法(a)〜(d
)が演算部(11)に人力されると、演算部(11)は
、下式に基づいて各ピンチロールの設定圧下量を修正す
る。
水平圧下量=設定圧下量−(a−b)Xk垂直圧下量=
設定圧下量+(a−b)Xk右45°圧下量=設定圧下
量+(c−d)Xk左45°圧下量=股定圧下量−(c
−d) xi(ただし、kは鋼種、鋳込みサイズ等によ
り決定される定数。
設定圧下量+(a−b)Xk右45°圧下量=設定圧下
量+(c−d)Xk左45°圧下量=股定圧下量−(c
−d) xi(ただし、kは鋼種、鋳込みサイズ等によ
り決定される定数。
上記により求めた修正圧下量は、演算部(11)がら圧
下制御装置(10)に入力され、水平圧下ビンチロール
(71)、垂直圧下ビンチロール(72)、右45゜圧
下ビンチロール(73)および左45°圧下ビンチロー
ル(74)の圧下量を制御して鋳片(6)を圧下し、鋳
片(6)、の真円度を制御するのである。
下制御装置(10)に入力され、水平圧下ビンチロール
(71)、垂直圧下ビンチロール(72)、右45゜圧
下ビンチロール(73)および左45°圧下ビンチロー
ル(74)の圧下量を制御して鋳片(6)を圧下し、鋳
片(6)、の真円度を制御するのである。
このように鋳片の真円度測定結果に基いて設定圧下量を
修正することにより、鋳造作業の変動によって1Xl=
iの真円度が悪化しても、ピンチロール群入側での真円
度測定結果に基いて各方向のピンチロールの圧下量が修
正されるがら、鋳片の真円度を保持することができる。
修正することにより、鋳造作業の変動によって1Xl=
iの真円度が悪化しても、ピンチロール群入側での真円
度測定結果に基いて各方向のピンチロールの圧下量が修
正されるがら、鋳片の真円度を保持することができる。
なお、ピンチロールが水平および垂直の2方向のみの場
合は、前記式における水平および垂直方向圧下量のみの
制御を行えばよい。
合は、前記式における水平および垂直方向圧下量のみの
制御を行えばよい。
実施例2
鋳片サイズ、直径410mm、溶鋼温度1520〜15
05℃、スプレー比水量0.141/kg、鋳造速度4
20cm/分の操業条件において、圧下量は、センター
ポロシティ−1中心偏析改善のため、設定値としてトー
タル6mmを設定した。
05℃、スプレー比水量0.141/kg、鋳造速度4
20cm/分の操業条件において、圧下量は、センター
ポロシティ−1中心偏析改善のため、設定値としてトー
タル6mmを設定した。
この設定圧下量6mmを水平、垂直、右45′および左
45°のピンチロールに均等に分割して各ピンチロール
の設定圧下量を1mmとした。
45°のピンチロールに均等に分割して各ピンチロール
の設定圧下量を1mmとした。
そしてピンチロール群の入側に設けた真円度11i1定
装置により鋳片の真円度を連続測定し、該測定結果に基
いて各ピンチロールの設定圧下量を修正して各方向のピ
ンチロールを制御した本発明の場合、得られた鋳片の真
円度悪化率と内部割れ発を率を第1表に示す。
装置により鋳片の真円度を連続測定し、該測定結果に基
いて各ピンチロールの設定圧下量を修正して各方向のピ
ンチロールを制御した本発明の場合、得られた鋳片の真
円度悪化率と内部割れ発を率を第1表に示す。
また、比較のためピンチロール群の入側における真円度
測定結果に基いて各ピンチロールの圧下量を修正せず、
上記設定圧下量1mmで圧下した従来法の場合、得られ
た鋳片の真円度悪化率と内部割れ発生率を第1表に示す
。
測定結果に基いて各ピンチロールの圧下量を修正せず、
上記設定圧下量1mmで圧下した従来法の場合、得られ
た鋳片の真円度悪化率と内部割れ発生率を第1表に示す
。
以下余白
第 1 表
なお、真円度悪化率は、垂直方向−水平方向および45
°方向の鋳片寸法測定結果により求めた。
°方向の鋳片寸法測定結果により求めた。
第1表に示すとおり、本発明法は、従来法に比較し真円
度悪化率が175に、また内部割れ発生率も1/3に低
減しており、その効果は明らかである。
度悪化率が175に、また内部割れ発生率も1/3に低
減しており、その効果は明らかである。
発明の効果
以上述べたとおり、この発明の圧下制御方法によれば、
鋳片のスリップおよび引抜き不能や鋳片の内部割れを発
生させることなく、鋳片の真円度の矯正が行なわれるか
ら、製品化のプレス加工時の肉厚不良による欠陥製品の
発生が防止され、丸ビレツト搬出ラインでの渋滞、故障
を防止することができる。
鋳片のスリップおよび引抜き不能や鋳片の内部割れを発
生させることなく、鋳片の真円度の矯正が行なわれるか
ら、製品化のプレス加工時の肉厚不良による欠陥製品の
発生が防止され、丸ビレツト搬出ラインでの渋滞、故障
を防止することができる。
第1図はこの発明の真円度検出装置を設置した連続鋳造
設備の腰部説明図、第2図はこの発明の実施例における
制御系統図、第3図は非接触式の真円度測定装置の一例
を示す説明図、第4図は接触式の真円度測定装置の一例
を示す説明図である。 1− タンデイツシュ、2 浸漬ノズル、3 ・鋳型、
4 冷却水ノズル群、5・案内ロール群、
6・鋳片、 7・・ピンチロール群、8・真円度測定装置、9 ・設
定器、 10 ・圧下制御装置、11・・演算部
、 31 水平寸法用カメラ、32・・・水平寸
法用カメラ、 33・・・右45°寸法用カメラ、 34・・・左45°寸法用カメラ、 41・・駆動用シリンダー、 42・・・ピストンロッド、 43 ・タッチローラー、 71・・水平圧下ピンチロール、 72・垂直圧下ピンチロール、 73・−右45°圧下ビンチロール、 74・左45°圧下ビンチロール、 呂 願 人 住友金属工業株式会社
設備の腰部説明図、第2図はこの発明の実施例における
制御系統図、第3図は非接触式の真円度測定装置の一例
を示す説明図、第4図は接触式の真円度測定装置の一例
を示す説明図である。 1− タンデイツシュ、2 浸漬ノズル、3 ・鋳型、
4 冷却水ノズル群、5・案内ロール群、
6・鋳片、 7・・ピンチロール群、8・真円度測定装置、9 ・設
定器、 10 ・圧下制御装置、11・・演算部
、 31 水平寸法用カメラ、32・・・水平寸
法用カメラ、 33・・・右45°寸法用カメラ、 34・・・左45°寸法用カメラ、 41・・駆動用シリンダー、 42・・・ピストンロッド、 43 ・タッチローラー、 71・・水平圧下ピンチロール、 72・垂直圧下ピンチロール、 73・−右45°圧下ビンチロール、 74・左45°圧下ビンチロール、 呂 願 人 住友金属工業株式会社
Claims (1)
- 1、水平および垂直等2方向以上の圧下方向の異なる複
数のピンチロールを有する連続鋳造設備による丸ビレッ
トの製造において、ピンチロール群入側の鋳片の真円度
測定結果に基いて各ピンチロールの圧下量を修正するこ
とを特徴とする連続鋳造における丸ビレットの圧下制御
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32647390A JPH04197566A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 連続鋳造における丸ビレットの圧下制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32647390A JPH04197566A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 連続鋳造における丸ビレットの圧下制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04197566A true JPH04197566A (ja) | 1992-07-17 |
Family
ID=18188204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32647390A Pending JPH04197566A (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 連続鋳造における丸ビレットの圧下制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH04197566A (ja) |
-
1990
- 1990-11-27 JP JP32647390A patent/JPH04197566A/ja active Pending
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