JPH04187303A - チタン材製圧延加工品の製法 - Google Patents

チタン材製圧延加工品の製法

Info

Publication number
JPH04187303A
JPH04187303A JP2316562A JP31656290A JPH04187303A JP H04187303 A JPH04187303 A JP H04187303A JP 2316562 A JP2316562 A JP 2316562A JP 31656290 A JP31656290 A JP 31656290A JP H04187303 A JPH04187303 A JP H04187303A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
titanium material
rolling
gas
titanium
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2316562A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2914524B2 (ja
Inventor
Akira Yoshino
明 吉野
Haruo Senbokutani
仙北谷 春男
Masaaki Tawara
正昭 田原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Sanso Co Ltd
Original Assignee
Daido Sanso Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daido Sanso Co Ltd filed Critical Daido Sanso Co Ltd
Priority to JP2316562A priority Critical patent/JP2914524B2/ja
Priority to PCT/JP1991/001598 priority patent/WO1992008556A1/ja
Priority to EP92902492A priority patent/EP0511411B1/en
Priority to KR1019920701270A priority patent/KR100222315B1/ko
Priority to DE69125705T priority patent/DE69125705T2/de
Priority to US07/852,218 priority patent/US5207845A/en
Publication of JPH04187303A publication Critical patent/JPH04187303A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2914524B2 publication Critical patent/JP2914524B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B9/00Measures for carrying out rolling operations under special conditions, e.g. in vacuum or inert atmosphere to prevent oxidation of work; Special measures for removing fumes from rolling mills
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B3/00Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metal Rolling (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、チタン材製圧延加工品の製法に関するもの
である。
〔従来の技術〕
チタンは高温に(約600℃以上に)なると、空気中の
酸素と反応してその表面に深さ数10μの酸化皮膜を形
成するようになる。したがって、チタンを熱間圧延する
場合にも、赤熱したチタンの表面に上記酸化皮膜が形成
される。しかしながら、この酸化チタンは延性が悪く、
このまま圧延加工すると、チタンがひび割れを起こすと
いう問題を生じる。このため、従来から、圧延速度や圧
延温度を各種材質に合わせることで、上記ひび割れを防
止するようにしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記のように圧延速度や圧延温度を各種
材質に合わせることが非常に難しく、上記ひび割れ等を
無くすことはできていないのが実情である。
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、チ
タン材表面の酸化膜を除去して圧延加工時におけるひび
割れ等を無くすことができるチタン材製圧延加工品の製
法の提供をその目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、この発明のチタン材製圧延
加工品の製法は、加熱状態にあるチタン材をフッ素系ガ
スと接触させてチタン材表面にフッ化膜を形成したのち
、圧延加工直前にチタン材表面に生成されたフッ化膜を
除去してから、チタン材を圧延加工して圧延加工品にす
るという構成をとる。
〔作用〕
すなわち、この発明のチタン材製圧延加工品の製法は、
圧延加工前に、加熱状態にあるチタン材を、例えばフッ
素系ガス雰囲気中に通すことによりフッ素系ガスと接触
させる。これにより、空気中の酸素との反応により形成
されたチタン材表面の酸化皮膜が、フッ素系ガスで除去
されチタン材表面が清浄化されると同時に、チタン材表
面にフッ化膜が形成される。このフッ化膜は安定であっ
て、後続の除去工程までの間、チタン材生地への酸化皮
膜の形成や酸素の吸着が防止される。そののち、圧延加
工の直前でチタン材表面のフッ化膜を分解除去しチタン
材生地を露呈させるようにする。このようにすると、チ
タン材の圧延加工時にはチタン材表面に酸化皮膜が形成
されておらず、また、圧延速度が速くて圧延加工中に酸
化皮膜が形成されることもなく、圧延加工時におけるひ
び割れが防止される。
つぎに、この発明について詳しく説明する。
この発明の製法に使用するフッ素系ガスとは、NFコ 
、  BFs  、 CF4  、  HF、  SF
h  、  F□ から選ばれた少な(とも一つのフッ
素源成分をN。
等の不活性ガス中に含有させたもののことをいう、これ
らフッ素源成分の中でも、反応性、取扱い性等の面でN
F、が最も優れており実用的である。
この発明のチタン材製圧延加工品の製法は、先に述べた
ように、圧延加工前に、加熱状態にあるチタン材を、例
えば上記フッ素系ガス雰囲気中に通すことによりフッ素
系ガスと接触させてチタン材の表面を処理する。そして
、この処理後、圧延加工の直前にH2ガス等を吹き付け
てチタン材の表面からフッ化膜を除去しチタン材の生素
地を露呈させてから、圧延加工して圧延加工品を得る。
このようなフッ素系ガスにおけるNF、等のフッ素源成
分の濃度は、例えば1000〜1100000ppであ
り、好ましくは20000〜70000PPm、より好
ましいのは30000〜50oooppmである。この
ようなフッ素系ガス雰囲気中の通過時間は、チタン材の
種類1寸法、加熱温度等に応じて適当な時間を選べばよ
く、通常は数分ないし数十分である。
この発明のチタン材製圧延加工品の製法に用いる装置を
より具体的に説明すると、図面に示すように、複数組の
圧延ロール4の前に、ガス処理室2と上下2個のH,ガ
ス吹き付は用のノズル3が配設されている。これにより
、加熱炉(図示せず)から送り出された高温の厚板状チ
タン材lは上記ガス処理室2内と両ノズル3間を通過し
てから、圧延ロール4で圧延加工されるようになる。上
記ガス処理室2は、外殻2aにガス導入管5と排気管6
が挿入されており、ガス導入管5にはボンベ(図示せず
)からフッ素系ガス、例えばNF。
とNtの混合ガスが導入される。この導入されたフッ素
系ガスはモータ8で回転するファン7によって撹拌され
て、室内を均一なフッ素系ガス雰囲気に形成している。
また、このガス処理室2内は通過するチタン材1により
高温になっている。このようなガス処理室2内をチタン
材が通過する間に、空気中の酸素と反応して形成された
酸化膜がチタン材表面から除去される。すなわち、NF
ガスは高温になると活性基のフッ素を発生し、これによ
りチタン材表面の有機、無機系の汚染を除去すると同時
に、このフッ素がチタン材表面の酸化チタン等の酸化物
と反応して、チタン材表面にごく薄いフッ化膜を形成す
る。
この反応により、チタン材表面の酸化皮膜はフッ化膜に
変換され、表面に吸着されていた02も除去される。そ
して、このようなフッ化膜は、oz、Hz 、Hz O
が存在しない場合安定であって、後続のH2ガス吹き付
けまでの間にチタン材の生地への酸化皮膜の形成や02
の吸着を防止する。
また、このようなフッ化処理では、その第1段階で外殻
2aの内面に対してフッ化膜が形成されることとなるこ
とから、その膜によって以後の外殻内面に対するNF、
ガスに基づく損傷が防止されるようになる。
このように、NF、ガスで処理されたチタン材1に上記
ノズル3からHzガスを吹き付けて、これにより、上記
フッ化膜がH!ガスによって例えば次式のように還元あ
るいは破壊され、それによって活性なチタン生地が形成
される。
TiF、+2H,→Ti+4HF この状態で、チタン材1は圧延ロール4で圧延加工され
る。この圧延速度は速いため数個の圧延ロール4を通過
する間に、チタン材表面に再度酸化皮膜が形成されるこ
とはない。また、チタン材1を10数回も圧延ロール4
に通して圧延加工する場合には、圧延加工の後半部にお
いてチタン材1に窒素ガスを吹き付けるようにしてもよ
い。図において、9はフードである。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明のチタン材製圧延加工品の製法
は、チタンを圧延加工するに先立って、チタン材をフッ
素系ガス雰囲気中に通す。これにより、チタン材表面の
酸化皮膜等の不働態皮膜がフッ化膜に変化し、チタン材
表面の保護が行われる。したがって、フッ化膜の形成か
らその除去までの間に時間的な経過があっても、チタン
材表面に形成されたフッ化膜は良好な状態でチタン材表
面の保護を行う結果、チタン材表面に対する再度4の酸
化皮膜が防止される。このフッ化膜は圧延加工直前に分
解除去され、それによってチタン材生地が露呈するよう
になるため、チタン材の圧延加工時におけるひび割れを
無くすことができる。
[実施例] 加熱炉で赤熱された厚板のチタンを、NF、を5000
ppm含をするN2ガス雰囲気下のガス処理室を通過さ
せたのち、圧延加工の直前にノズルからH2ガスを均一
に吹き付け、圧延ローラで圧延加工して、薄板のチタン
にした。得られた薄板のチタンにひびは入っていなかっ
た。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の一実施例に用いる装置の説明図である
。 1・・・チタン材 2・・・ガス処理室 3・・・ノズ
ル4・・・圧延ロール 特許出願人    大同酸素株式会社 代理人  弁理士  西 藤 征 彦

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加熱状態にあるチタン材をフッ素系ガスと接触さ
    せてチタン材表面にフッ化膜を形成したのち、圧延加工
    直前にチタン材表面に生成されたフッ化膜を除去してか
    ら、チタン材を圧延加工して圧延加工品にすることを特
    徴とするチタン材製圧延加工品の製法。
JP2316562A 1990-11-20 1990-11-20 チタン材製圧延加工品の製法 Expired - Fee Related JP2914524B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2316562A JP2914524B2 (ja) 1990-11-20 1990-11-20 チタン材製圧延加工品の製法
PCT/JP1991/001598 WO1992008556A1 (en) 1990-11-20 1991-11-20 Method of manufacturing rolled product of titanium material
EP92902492A EP0511411B1 (en) 1990-11-20 1991-11-20 Method of manufacturing rolled product of titanium material
KR1019920701270A KR100222315B1 (ko) 1990-11-20 1991-11-20 티탄제재 압연가공품의 제조방법
DE69125705T DE69125705T2 (de) 1990-11-20 1991-11-20 Verfahren zur herstellung von walzprodukten aus titan
US07/852,218 US5207845A (en) 1990-11-20 1991-11-20 Process for manufacturing rolled articles of titanium material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2316562A JP2914524B2 (ja) 1990-11-20 1990-11-20 チタン材製圧延加工品の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04187303A true JPH04187303A (ja) 1992-07-06
JP2914524B2 JP2914524B2 (ja) 1999-07-05

Family

ID=18078479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2316562A Expired - Fee Related JP2914524B2 (ja) 1990-11-20 1990-11-20 チタン材製圧延加工品の製法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5207845A (ja)
EP (1) EP0511411B1 (ja)
JP (1) JP2914524B2 (ja)
KR (1) KR100222315B1 (ja)
DE (1) DE69125705T2 (ja)
WO (1) WO1992008556A1 (ja)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4098623A (en) * 1975-08-01 1978-07-04 Hitachi, Ltd. Method for heat treatment of titanium alloy
US4528043A (en) * 1982-05-14 1985-07-09 Rolls-Royce Limited Surface oxide layer treatment
JPS6148548A (ja) * 1984-08-13 1986-03-10 Kobe Steel Ltd 臭素イオン環境下における耐孔食性の良いTi合金
JPS6233005A (ja) * 1985-07-31 1987-02-13 Nippon Steel Corp チタン板の冷間圧延法
JPS63262500A (ja) * 1987-04-20 1988-10-28 Nippon Parkerizing Co Ltd チタン又はチタン合金の潤滑性改善処理方法
JPH06233005A (ja) * 1993-02-03 1994-08-19 Aiwa Co Ltd モデム等のダイアル発信装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2914524B2 (ja) 1999-07-05
KR920702259A (ko) 1992-09-03
WO1992008556A1 (en) 1992-05-29
EP0511411B1 (en) 1997-04-16
DE69125705T2 (de) 1997-08-07
EP0511411A4 (ja) 1995-02-15
KR100222315B1 (ko) 1999-10-01
EP0511411A1 (en) 1992-11-04
US5207845A (en) 1993-05-04
DE69125705D1 (de) 1997-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5896875A (en) Equipment for cleaning, etching and drying semiconductor wafer and its using method
DE112010002718B4 (de) Verfahren zur reinigung eines siliciumwafers sowie verfahren zur herstellung eines epitaktischen wafers unter verwendung des reinigungsverfahrens
JPS61250185A (ja) 真空処理装置のクリ−ニング方法
JPH04187303A (ja) チタン材製圧延加工品の製法
CN1039976C (zh) 制造钛材料轧制品的方法
JPH04102316A (ja) 半導体ウエーハヘのボロン拡散方法
JPS63129633A (ja) 半導体表面処理方法
JPH05226315A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2896005B2 (ja) ウェハー洗浄方法
JP3354947B2 (ja) 半導体基板の製法
JPH09157830A (ja) 金属材料のガス窒化方法及びその装置
JPH0562961A (ja) ウエハの洗浄方法
JP2005067997A (ja) 石英ガラス製冶工具の再生方法
JP2506227B2 (ja) 鋼の窒化方法およびそれに用いる熱処理炉
JPH0216994Y2 (ja)
JPH02244719A (ja) ドライエッチング装置
JPS6092611A (ja) 半導体素子の不純物拡散方法
TW459278B (en) Process of cleaning furnace capable of decreasing particle contamination
JPS5881963A (ja) 真空浸炭方法
JPH05326478A (ja) ウェーハの洗浄方法およびその装置
JPH01271020A (ja) イリジウム材料の加工方法
JPH0451520A (ja) 半導体装置の製造方法
KR100333366B1 (ko) 반도체소자의게이트산화막형성방법
JPWO2021053761A5 (ja) 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置
JPH07226399A (ja) 半導体基板の酸化方法及び酸化装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees