JPH02244719A - ドライエッチング装置 - Google Patents

ドライエッチング装置

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Publication number
JPH02244719A
JPH02244719A JP6386589A JP6386589A JPH02244719A JP H02244719 A JPH02244719 A JP H02244719A JP 6386589 A JP6386589 A JP 6386589A JP 6386589 A JP6386589 A JP 6386589A JP H02244719 A JPH02244719 A JP H02244719A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ozone
arrow
chamber
processing chamber
dry etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP6386589A
Other languages
English (en)
Inventor
Hironori Ishiyama
石山 裕規
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP6386589A priority Critical patent/JPH02244719A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 処理室内に上部電極と下部電極とを収納したドライエツ
チング装置に関し、 処理室内のセルフクリーニング機構を具備せしめること
を目的とし、 上部電極のほぼ全面と下部電極の少なくとも上面とから
処理室内を洗浄するためのオゾンを導入するように構成
する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ドライエツチング装置、特にセルフクリーニ
ング機構を備えたドライエツチング装置に関する。
近年の高密度電子デバイスの製造においては、コンタミ
ネーションの防止対策は極めて重要な課題であり、装置
内汚染を未然に防ぐためのセルフクリーニング機構を備
えるドライエツチング装置が必要となる。
〔従来の技術〕
従来のドライエツチング装置においては、保守担当者が
、フッ酸処理などの方法により、処理室内をクリーニン
グすることが行われていた。しかしながら、かかる方法
では、有機物の除去が不十分となることがあり、またク
リーニングを人手によって行うことは装置の保守管理上
も問題である。
しかして、有機物をオゾンによって除去し得ることは知
られており、かかる目的のために処理室内にオゾンを導
入する手段を備えたドライエツチング装置が提案されて
いる(例えば、特開昭60−32315.61−494
13.61−75515など)。
ニング効果を得ることができる。
(発明が解決しようとする課題) しかるにかかる促案の装置によっても、未だ装置内の洗
浄効果は上置とはいえず、従ってさらに十分な洗浄を行
うことのできるセルフクリーニング機構を備える装置が
要望されるところである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によれば、上記課題を解決するため、処理室内に
上部電極と下部電極とを収納したドライエツチング装置
であって、前記り部電極のほぼ全面と前記下部電極の少
なくとも上面とから前記処理室内を洗浄するためのオゾ
ンを導入するようにしたことを特徴とする装置が提供さ
れる。
〔作用〕
本発明の装置においては、処理室内にオゾンを十分に配
分させることができるため、処理室内において均一なオ
ゾン濃度が得られ、均一なりリー〔実施例〕 本発明のドライエツチング装置の一例を、第1図を参照
しながら、さらに説明する。
第1図は、本発明装置の好ましい実施例を模式的に示し
た断面図である。排気装置(図示せず)を備えた処理室
1には上部電極2と下部電極3どが配置されている。ド
ライエツチングの操作時には、反応ガスは矢印Aの方向
に反応ガス導入管4を介して処理室l内へ導入され、そ
して矢印Cの方向に排気される。操作が終了すれば、処
理室内のクリーニングのために、オゾン発生装置(図示
せず)から矢印Bの方向にオゾン導入管5を介し、さら
に上部電極2のほぼ全面に設けられた開1]を介して、
オゾンが処理室内に導入される。一方、下部電極3にも
矢印りの方向にオゾン導入管6を介してオゾンが送給さ
れ、その少なくとも上面に設けられた開口を介して処理
室内へ導入される。
このようにして、オゾンは処理室1内に均等に分配され
、処理室を洗浄し、矢印Cの方向に排出される。図にお
いて、矢印Eは処理室内へのオゾンの導入方向を示すも
のである。
〔発明の効果〕
以上の如き本発明の装置によれば、オゾンにより有機物
が極めて均一かつ効率的に除去されるため、処理室内は
常に清澄に維持され、コンタミネーションが極めて有効
に防止される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の一例を模式的に示す断面図であ
る。 ■・・・処理室、     2・・・L部電極、3・・
・下部電極、   4・・・反応ガス導入管、5.6・
・・オゾン導入管。 第1図 5.6・・・オゾン導入管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、処理室内に上部電極と下部電極とを収納したドライ
    エッチング装置であって、前記上部電極のほぼ全面と前
    記下部電極の少なくとも上面とから前記処理室内を洗浄
    するためのオゾンを導入するようにしたことを特徴とす
    る装置。
JP6386589A 1989-03-17 1989-03-17 ドライエッチング装置 Pending JPH02244719A (ja)

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JP6386589A JPH02244719A (ja) 1989-03-17 1989-03-17 ドライエッチング装置

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JPH02244719A true JPH02244719A (ja) 1990-09-28

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5981960A (en) * 1996-03-19 1999-11-09 Fujitsu Limited Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5981960A (en) * 1996-03-19 1999-11-09 Fujitsu Limited Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

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