JPH04184839A - 帯電防止膜及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】 本発明はブラウン管パネル等の基体表面に塗布される帯
電防止膜に関するものである。 ［従来の技術］ ブラウン管は高電圧で作動させるため起動時、或は終了
時に該表面に静電気が誘起される。この静電気により該
表面にほこりが付着しコントラスト低下を引き起こした
り、或は直接触れた際軽い電気ショックによる不快感を
生ずることが多い。 従来、上述の事柄を防止するためにブラウン管パネル表
面に帯電防止膜を付与する試みがかなり成されてきた０
例えば特開昭６３−７６２４７号記載の通り、ブラウン
管パネル表面を３５０℃程度に加熱しＣＶＤ法により酸
化スズ及び酸化インジウム等の導電性酸化物層を設ける
方法が採用されていた。しかしながらこの方法では装置
コストがかかることに加え、ブラウン管を高温加熱する
ためブラウン管内の蛍光体の脱落を生じたり、寸法精度
が低下する等の問題があった。また、導電層に用いる材
料としては酸化スズが最も一般的であるが、この場合低
温処理では高性能膜が得られにくい欠点があった。また
特開昭６２−２３０６１７号には酸化スズ粒子を酸水溶
液またはアルカリ水溶液中で加熱処理してゾルを製造す
る四記載があるが、塗膜が滑らかで透明性の良いもので
あるためには、導電性酸化スズ粉末の粒径は０．１μｍ
以下の必要があり、細かく分散性が良いほどその透明性
は向上される。一方粒径が０．０１μｍ以下になり分散
性が向上すると、逆に塗膜の表面抵抗は大、きくなるた
め導電性酸化スズの量を増やし、バインダーの量を相対
的に減らさな（ではならないため、膜の硬度としては不
十分であった。 ｒ発明の解決しようとする課題］ 本発明は従来技術が有していた前述の欠点を解消しよう
とするものであり、高特性帯電防止膜を新規に提供する
ものである。 ［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであり
、Ｓｂ、　Ｆ、　Ｐの少なくとも１種をドープした酸化
スズ粒子を分散させた液を水熱処理した液を含む塗液を
基体上に塗布した後、加熱したことを特徴とする帯電防
止膜を提供するものである。 本発明で用いられるＳｂ、　Ｆ、　Ｐの少なくとも１種
をドープした酸化スズ粒子は公知の種々の方法によって
得られたものがいずれも好ましく採用可能である。これ
らの粒子の分散法は特に限定されるものではなく、水に
、Ｓｂ、　Ｆ、　Ｐのうち少なくとも１種をドープした
酸化スズ粒子を添加し、酸或いはアルカリを添加しｐＨ
を調整し、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ホ
モミキサー等市販の粉砕器で分散させて得ることができ
る。 この場合、分散液中のＳｎ０ｇ粒子の平均粒径は０．１
μｍ以下となっていることが好ましい。 この導電性酸化スズゾル液をオートクレーブ等の密閉容
器に入れて加熱するが、その処理温度は２００℃以上、
好ましくは３００℃以上で加熱する。この時の圧力は２
００℃で２０ａｔｍ以上、３００℃で８０ａｔｒａ以上
とするのが好ましく、又、１時間以上処理するのが好ま
しい。加熱処理する前のゾルは均一化できる程の流動性
が必要であるため、固形分は５％程度になる。この固形
分量では溶媒量が多すぎるので冷却後、分散液を取り出
し、エバポレーター等を用いて濃縮して酸化スズ分散液
を得る。 これを基体上に塗布し、加熱して帯電防止膜を形成する
。このときの焼成温度は１４０℃以上程度の低温でも十
分である。 ここで得られた導電性酸化スズ分散液はガラス基体等の
高温耐性の基体に塗って乾燥した後焼成し、透明導電膜
を作製することができるが膜の付着強度及び硬度が弱い
。従ってそれらを向上させるためにパイしグーとしてＳ
ｉ　（ＯＲ）　ｘ・Ｒ４−Ｘ（Ｘ＝３．４．　Ｒ・アル
キル基）等のケイ素化合物を添加混合することができる
。膜強度及び硬度は導電性アンチモンドープ酸化スズゾ
ルに対するバインダーの量比に依存し、バインダーが多
いほど膜は強（硬くなる。 上記で合成したゾル液の基体上への塗布法としては従来
用いられてきた方法、即ちスピンコード、デイツプコー
ト、スプレーコート法等が好適に使用できる。また、ス
プレーコートして表面に凹凸を形成し防眩効果も併せて
付与してもよく、その場合防眩帯電防止膜となった本発
明品の上にシリカ被膜等のハードコートを設けてもよい
、さらには、本発明の帯電防止膜の上にスプレーコート
して、表面に凹凸を有するシリカ被膜のノングレアコー
トを設けてもよい。 また、同様に本発明品の帯電防止膜の上に、ＭｇＦｘ、
　Ｓｉｎｇ等の酸化スズより成る膜より低屈折率の材料
を含む液を適宜の光学膜厚となるようにコートして、多
層干渉効果による低反射の帯電防止膜とすることもでき
る。 本発明の帯電防止膜を形成する基体とじては、ブラウン
管パネル、複写機用ガラス板、計算器用パネル、クリー
ンルーム用ガラス、ＣＲＴ或はＬＣＤ等の表示装置の前
面板等の各種ガラス、プラスチック基板を用いることが
できる。 ［作用］ 本発明の帯電防止膜における導電性酸化スズゾルは２０
０℃以上、好ましくは３００℃以上の水熱処理により導
電性を向上し得る。導電性向上の機構は必ずしも明確で
はないが、高温高圧下で処理することにより酸化スズの
表面水酸基の量及び状態が変化しているためと考えられ
る。 本発明の高導電性の酸化スズゾルを用いると水熱処理を
ほどこしていないゾルに比べ、同程度の導電性をもつ膜
を作製する際、バインダーの量比な増やすことができる
。従って膜の付着強度及び硬度を向上することができる
。 ［実施例〕 以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ ｓｂを１６ａ＋ｏ１％ドープした酸化スズ粉末３０ｇを
ＫＯＨであらかじめｐＨ１２に調製した水溶液７０ｇ中
に添加してサンドミルで４時間撹拌し、希釈後イオン交
換してゾルを調製した。このゾルを水で固形分５％に希
釈しオートクレーブに入れ３５０℃、１７０ａｔｍに２
時間保持した後冷却し、アンチモンドープ酸化スズゾル
を取り出した。これをエバポレータによって固形分２０
％まで濃縮した。これにエチルシリケートを加水分解し
た液を酸化物換算でＳｎＯ□：ＳｉＯ□＝３：２となる
ように加え、固形分濃度２．５％となるようエタノール
で希釈し、透明支持体ガラス表面に塗り、１６０℃に３
０分間加熱し、厚さ０．１μ層の塗膜を作製した。この
塗膜の表面抵抗は２　Ｘ　１０”（Ω／口）であった。 実施例２ 実施例１のアンチモンドープ酸化スズゾル液を用いＳｎ
ｕｇ　：　ＳｉＯ＊＝　１　：　１となるようにエチル
シリケートを加水分解した溶液を加える以外は実施例１
と同様に行った。この塗膜の表面抵抗はｌＸｌ０＠（Ω
／口）であった。 比較例１ 実施例１でイオン交換したアンチモンドープ酸化スズゾ
ルをすぐエバポレータで濃縮して固形分２０％のゾルと
した。これを用いた以外は実施例１に同様に行った。こ
の塗膜の表面抵抗は１ｘｌｏ”（Ω／口）であった。 比較例２ 比較例１のアンチモンドープ酸化スズゾルを用いた以外
は実施例２同様に行った。この塗膜の表面抵抗は７　ｘ
　１０”（Ω／口）であった。 ［発明の効果］ 本発明によれば、基体を高温に加熱することなく、強固
でかつ導電性の高い帯電防止膜を基体上に付与し得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、導電性酸化スズの粒子を分散させた水溶液を高温高
   圧処理した溶液を含む塗布液を基体上に塗布した後、加
   熱することによって帯電防止膜を製造することを特徴と
   する帯電防止膜の製造方法。 ２、基体上への塗布液中にケイ素化合物を含むことを特
   徴とする請求項１記載の帯電防止膜の製造方法。 ３、請求項１又は２記載の製造方法によって得られた帯
   電防止膜。 ４、請求項１又は２記載の製造方法によってガラス基体
   上に帯電防止膜を形成したガラス物品。 ５、請求項１又は２記載の製造方法によってブラウン管
   表面に帯電防止膜を形成したブラウン管。