JPH0417321Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、ポリツシング装置等の研磨装置に
関する。

（従来技術） 一般に、ポリツシング装置は回転する定盤を有
し、この定盤の表面と被加工物の研磨すべき面と
を保持リングにより圧接させ、両者間にポリツシ
液（スラリー）を供給して研磨加工を行う装置で
ある。

第４図は、この種のポリツシング装置の従来例
の斜視図を示すものである。定盤１の中央のセン
ターローラ２が配設されるとともに、定盤１の外
周上に４個のガイドローラ装置３が配設されてい
る。各ガイドローラ５と前記センターローラ２の
周面に保持リング６を保持させ、定盤１の回転に
より保持リング６に回転を与えるように構成され
ている。また、保持リング６に上方からウエイト
６ａが必要に応じて加えられる。

したがつて、各保持リング６に被加工物を保持
させて定盤１を回転させることにより、保持リン
グ６とともに被加工物を回転させ、定盤１に被加
工物を圧接させ研磨する。

上記ポリシング装置では、ガイドローラの位置
が固定されていたため、自動化を図る上で困難で
あつた。このため、本出願人は、ガイドローラが
可動するポリシング装置を案出している（実公昭
62−28363号、この考案は、第５図に示すように、
アーム７の先端にシリンダ８を設け、このシリン
ダ８の駆動軸８ａの先端にガイドローラ９を連繋
したものである。この考案では、シリンダ８を駆
動することにより、ガイドローラ９を上昇させ
て、被加工物を定盤と共に移動させることができ
る。

（考案が解決しようとする課題） しかしながら、上記従来の研磨装置には以下の
課題がある。

シリンダ８が設けられたアーム７の先端が定盤
の上方に位置しているので、ガイドローラ９を上
下動させる際に、駆動軸８ａが摺動して微小なゴ
ミが発生し、定盤上に落ちて加工不良の原因にな
る。また、ポリシング液としてのスラリーがシリ
ンダの可動部分に付着して作動不良の原因にな
る。

また、アーム７の先端にシリンダ８が設けられ
ているので、アーム７の先端が重くなり、アーム
７だけでなく枢軸等にも大きな負担がかかつてし
まう。

そこで、この考案は、上記課題を解決するもの
であり、定盤上へのゴミなどの落下等を防止した
研磨装置を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） この考案は上記課題を解決するために次の構成
を備えてなる。

すなわち、定盤の中心にセンターローラを配置
するとともに、定盤の周縁近傍に位置するガイド
ローラを有するガイドローラ装置を配置し、被加
工物を保持した保持リングを定盤上に載置し、定
盤を回転することにより、定盤の所定位置で前記
センターローラとガイドローラとの周面に保持リ
ングを当接させるとともに、定盤の回転により保
持リングを自転させ被加工物を研磨する研磨装置
において、 前記ガイドローラ装置は、 先端が定盤周縁の上方に位置し、基部側が定盤
外方の基台上に延出するアームを有し、 該アームの先端に前記ガイドローラが設けら
れ、 前記アームをガイドローラと共に定盤の表面に
対して接離する方向に移動するアームのシリンダ
装置を前記基台側に設け、該アームのシリンダ装
置によりガイドローラが保持リングに当接する位
置と、非当接位置とにわたつて移動可能としたこ
とを特徴とする。

（作用） 次に、作用について述べる。

ポリシング時には、保持リングをセンターロー
ラと定盤上方に位置するガイドローラで保持す
る。

そして、保持リングを取り出す際には、基台側
に設けられた上下動手段により、ガイドローラを
アームと共に上方に移動させ、保持リングを定盤
と共に移動可能とする。

（実施例） 以下この考案の好適な実施例を添付図面に基づ
いて詳細に説明する。

第１図はガイドローラ装置を示す部分断面側面
図である。第２図はガイドローラ装置の平面図で
ある。

ポリツシング装置の基台中央に定盤１０が配置
され、この定盤１０の外周部に臨んでガイドロー
ラ装置１２が設けられている。

定盤１０に配置された保持リング１４の側面に
接触して保持リング１４を回転保持するガイドロ
ーラ１６を有するガイドローラユニツト１８がア
ーム２０の先端に回転可能に支持されている。

前記アーム２０の後端は、定盤１０の周囲の本
体２２上面に固定された固定ベース３０の上面を
スライドするスライドベース３２上に回動可能に
枢着されている。また、固定ベース３０とスライ
ドベース３２とはアリとアリ溝係合によりスライ
ド可能に設けられている。さらに、固定ベース３
０はボルト３１により固定され、このボルト３１
の頭部３１ａはスライドベース３２の透孔３２ａ
を貫通し、ワツシヤ３３を介してボルト３１でス
ライドベース３２の位置を固定できる。

そして、固定ベース３０の後端に側面Ｌ字状の
規制板３６が固定されるとともに、この規制板３
６の上端にネジ３８が螺合し、このネジ３８の先
端がスライドベース３０に当接している。このた
め、ネジ３８を回動させることにより、ネジ３８
の先端がスライドベース３２を押し、スライドベ
ース３２を前後動させる。これに伴なつて、アー
ム２０およびガイドローラユニツト１８が前後動
する。

前記スライドベース３０の側方に２つの壁体２
６ａ，２６ａが起立し、この壁体２６ａ，２６ａ
に軸２８が架設され、そして前述するようにアー
ム２０の後端が軸止めされている。また、アーム
２０の中途部に、上下に貫通するボルト２１が螺
合してこの下端が固定ベース３０上面に当接して
いる。そして、ボルト２１の調整によりアーム２
０の水平を調節することができる。

さらに、アーム２０は上下動手段により上下動
させられる。すなわち、固定ベース３０の前部に
本体２２内部からシヤフト３４が突出し、シヤフ
ト３４の先端に設けられたシヤフトキヤツプ３４
ａを介して当接している。また、シヤフト３４の
後端は本体２２内部のシリンダ２５に連繋してい
る。また、シヤフト３４は固定ベース３０に設け
られたピンブツシユ３７ａ，Ｏリング３７ｂを介
して支持されている。このため、前記シリンダ２
５を駆動するとシヤフト３４が上昇し、これに伴
つてアーム２０が軸２８を介して垂直面内で回動
する。

また、アーム２０の先端に孔２０ｂが穿設され
この孔２０ｂに軸４０が貫通し、この軸４０の上
端がワツシヤ５２を介してキヤツプスクリユウ５
４が螺合し、軸４０が強固に固定されている。こ
の軸４０下端にボールベアリング４２が嵌着し、
このボールベアリング４２を下方から下ベアリン
グケース４４で覆うとともに、上方からベアリン
グキヤツプ４６で覆つている。このベアリングキ
ヤツプ４６と下ベアリングケース４４をボルト４
５で一体に形成してベアリングケースを構成して
いる。そして、下ベアリングケース４４の下部に
段差部４４ａが形成され、前記ガイドローラ１６
の内周面は下ベアリングケース４４の外周面に倣
つており、ガイドローラ１６が下ベアリングケー
ス４４に嵌着している。また、ガイドローラ１６
は、ベアリングキヤツプ４６により固定されてい
る。さらに、ガイドローラ１６を保護するキヤツ
プ５０が軸４０の中途部に嵌着している。

第３図は、ポリツシング装置の部分平面図を示
す。固定ベース３０の先端部は平面三角形状に形
成され、その側面から補助アーム５９が延出し、
この下面にリミツトスイツチ（図示せず）が設け
られている。このリミツトスイツチは定盤１０上
の保持リング１４の通過を感知するものである。

次の、上記研磨装置の動作について述べる。

定盤１０の中央に回動可能なセンターローラ６
０が配置され、定盤１０の周囲には前述するよう
にガイドローラ装置１２が配置されている。定盤
１０は反時針方向に回転し、この定盤１０に載置
された保持リング１４が定盤１０とともに移動す
るのを防止するようにガイドローラ１６が位置し
ている。このため、保持リング１４はセンターロ
ーラ６０とガイドローラ１６とにくい込むように
圧接され、摩擦力によつて自転する。この回転の
間に定盤１０の表面がポリツシ液を介在させて被
加工物の加工面に接触し、研磨加工が行われる。

そして、被加工物の加工終了後、シリンダ２５
を駆動して、シヤフト３４を介してアーム２０を
押上げ、保持リング１４を定盤１０上で移動可能
とし、保持リング１４および被加工物を側方から
取り出すことができる。また、保持リング１４お
よび被加工物を一定位置から定盤１０に供給し、
奥部のガイドローラ装置１２から順次セツトし、
供給した保持リング１４を保持するようにすれば
良い。この場合、補助アーム５９に設けたリミツ
トスイツチを用いることにより、保持リング１４
の自動供給が一層容易となる。すなわち、リミツ
トスイツチが保持リング１４の通過の有無を確認
し、これに連動してシリンダが駆動することによ
り保持リング１４の自動供給が実現できる。

なお、上記実施例ではガイドローラ装置のリミ
ツトスイツチは必ずしも必要ない。また、上記実
施例でアームを一端において回動可能とし、この
アームの下方からシヤフトで押し上げてガイドロ
ーラを移動させたが、アームをガイドローラと共
に水平状態で前記上下動手段により上下動させる
ようにしても良いなど、考案の精神を逸脱しない
範囲内で多くの改変を施し得ることは勿論であ
る。

（考案の効果） この考案は上述するように構成され、次に示す
ような著効を奏する。

アームの後端側の基台に上下動手段が設けら
れているので、従来のように微小なゴミが発生
し、定盤上に落ちて加工不良の原因になること
がない。

また、ポリシング液としてのスラリーがシリ
ンダの可動部分に付着して作動不良の原因にな
ることもない。

さらに、アーム先端にシリンダが設けられて
いないので、アーム先端に大きな負担がかかる
ことがない。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の研磨装置のガイドローラ装
置の断面側面図、第２図ガイドローラ装置の平面
図、第３図は研磨装置の部分平面図、第４図は従
来の研磨装置の斜視図、第５図はガイドローラの
部分断面側面図を示す。 １０……定盤、１２……ガイドローラ装置、１
４……保持リング、１６……ガイドローラ、１８
……ガイドローラユニツト、２０……アーム、２
２……フレーム、２５……シリンダ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 定盤の中心にセンターローラを配置するととも
   に、定盤の周縁近傍に位置するガイドローラを有
   するガイドローラ装置を配置し、被加工物を保持
   した保持リングを定盤上に載置し、定盤を回転す
   ることにより、定盤の所定位置で前記センターロ
   ーラとガイドローラとの周面に保持リングを当接
   させるとともに、定盤の回転により保持リングを
   自転させ被加工物を研磨する研磨装置において、 前記ガイドローラ装置は、 先端が定盤周縁の上方に位置し、基部側が定盤
   外方の基台上に延出するアームを有し、 該アームの先端に前記ガイドローラが設けら
   れ、 前記アームをガイドローラと共に定盤の表面に
   対して接離する方向に移動するアームのシリンダ
   装置を前記基台側に設け、該アームのシリンダ装
   置によりガイドローラが保持リングに当接する位
   置と、非当接位置とにわたつて移動可能としたこ
   とを特徴とする研磨装置。