JPH04132388U - 真空乾燥装置 - Google Patents
真空乾燥装置Info
- Publication number
- JPH04132388U JPH04132388U JP1991046511U JP4651191U JPH04132388U JP H04132388 U JPH04132388 U JP H04132388U JP 1991046511 U JP1991046511 U JP 1991046511U JP 4651191 U JP4651191 U JP 4651191U JP H04132388 U JPH04132388 U JP H04132388U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- vacuum container
- product
- heater
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/227—Drying of printed circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空乾燥装置の真空容器内に熱風を循環さ
せ、真空乾燥を促進させて効率の良い乾燥を行わせる。 【構成】 真空容器の壁面に熱風の吸入口と吹き出し口
を設け、該吸入口と吹き出し口を真空容器の外部で連通
させ、その途中に気体流動装置と気体加熱装置を設置し
た真空乾燥装置。
せ、真空乾燥を促進させて効率の良い乾燥を行わせる。 【構成】 真空容器の壁面に熱風の吸入口と吹き出し口
を設け、該吸入口と吹き出し口を真空容器の外部で連通
させ、その途中に気体流動装置と気体加熱装置を設置し
た真空乾燥装置。
Description
【0001】
本考案は、水洗後のプリント基板、電子部品、医療機器等を乾燥させる真空乾
燥装置に関する。
【0002】
プリント基板、電子部品、医療機器等の製品は、製品が完成品となる途上にお
いて、はんだ付け、機械加工、プレス等、種々の工程を経るのが常であり、その
工程途上において必ずといってよい程フラックス残渣が付着していたり、或は油
が付着するということがある。完製品になる迄には絶対にそれ等フラックス残渣
や油を完全に除去しなければならない。そのため、従来加工後の製品(以下、単
に「製品」という)は、フロロカーボンや1・1・1 トリクロールエタン等の容剤で
洗浄するのが常であったが、1989年5月の「ウイーン条約、モントリオール
議定書」によってフロロカーボンは2000年迄に全廃することになったため、
今後は急速にその使用が制限され、遂には使用不可能になるという問題が起こっ
てきた。そのため、近時では製品の洗浄に公害に全く問題とならない水を使った
洗浄が行われるようになってきた。しかしながら、水洗後、水が製品に付着した
ままであると、プリント基板や電子部品では絶縁不良や腐食の原因となり、又医
療機器ではゴミやホコリが付着して衛生上好ましいものではない。従って、水洗
後の製品は水を完全に乾燥させなければならないものである。
【0003】
従来より、水の乾燥装置としては、製品を100℃以上に加熱して水を蒸発さ
せる加熱乾燥装置、強力な熱風を製品に吹き付けて風の勢いと熱で乾燥させる熱
風乾燥装置及び製品を低温度に加熱しながら真空中で乾燥させる真空乾燥装置等
があった。
【0004】
加熱乾燥装置は、製品を100℃以上に加熱するため熱に弱い製品に対しては
熱損傷を与えたり、機能を劣化させることがあり、又熱風乾燥装置は勢いのある
熱風を製品に当てるため軽量物や繊細な製品を吹き飛ばして破損させることがあ
った。真空乾燥装置は、加熱温度が比較的低くて済むし、又強力な熱風を使用し
ないため、加熱乾燥装置や熱風乾燥装置のような不都合は生じない。
【0005】
真空乾燥装置とは、水は低圧になると沸点が下がり、低温度でも容易に蒸発す
ることを利用したもので、一般には水の蒸発を促進させるため製品を低温度に加
熱して真空乾燥するようになっている。従って、従来の真空乾燥装置は、真空容
器にヒータだけが設置されていたものであった。
【0006】
ところで、真空容器にヒータだけが設置された従来の真空乾燥装置では、製品
を完全乾燥するまでに長い時間を要し、大量のものを乾燥させるには生産性に問
題があった。
本考案は、乾燥時間を短くすることのできる真空乾燥装置を提供することにあ
る。
【0007】
本考案者らは、真空乾燥装置に関し、乾燥時間を短くすることについて鋭意検
討を重ねた結果、真空乾燥だけで製品に付着した水を全て乾燥させると時間がか
かるが、真空乾燥を行う前に製品に付着している水の量を少なくしておけば真空
乾燥の時間を短くできることに着目して本考案を完成させた。
【0008】
本考案は、真空容器にはヒータが設置されており、又真空容器の壁面には吸い
込み口と吹き出し口が穿設され、該吸い込み口と吹き出し口は真空容器の外部で
パイプにより連通されているとともに、該パイプには気体流動装置と気体加熱装
置が設置されていることを特徴とする真空乾燥装置である。
【0009】
以下図面に基づいて本考案を説明する。図1は本考案の一実施例における正面
中央断面図図である。
真空乾燥装置は、真空容器1、ヒータ2、真空ポンプ3、気体流動装置4、及
び気体加熱装置5から構成されている。真空容器1は箱状で一箇所が出入口6と
なっていて、ここには密閉可能な扉7が開閉自在に取り付けられている。真空容
器内部の上下部には複数のヒータ2、・・・が設置されている。ここに設置する
ヒータとしては製品に対して熱吸収を良好に行わしめる赤外線ヒータが適してい
る。ヒータの設置場所は熱効率の点からみれば真空容器の内部に設置するのがよ
いが、真空容器内部の容量や製品の大きさ等により、容器壁面に埋め込んだり、
容器の外部に設置することもできる。真空容器内の下部ヒ−タ2の下方には整流
板8が設置され、又下部ヒータ2の上方には網9が設置されている。真空容器1
の底面には穴10が穿設されており、該穴は弁11を介して真空ポンプ3に接続
されている。又真空容器1には横壁に吸入口12、底壁に吹き出し口13が穿設
されていて、この吸入口12と吹き出し口13は真空容器の外部でパイプ14に
より連通状態となっている。パイプ14には吸入口の方から順に弁15、気体流
動装置4、弁16、調整弁17、弁18及び気体加熱装置5が設置されている。
【0010】
次に上記構造を有する本考案の真空乾燥装置における使用状態を説明する。
先ず、水洗浄した多数のプリント基板Pを支治具H上に立てて真空容器1内の
網9上に置き、扉7を閉じる。そして真空容器内のヒータ2を加熱状態にすると
ともに、気体加熱装置5も加熱状態にし、気体流動装置4を駆動させる。すると
真空容器1内は多数のヒータ2で加熱され、真空容器内の気体は気体流動装置4
で引かれて気体加熱装置5で温められ、整流板8の多数の穴から均一に吹き出る
。プリント基板はヒータと整流板から吹き出る熱風で加熱されるとともに、熱風
との接触により乾燥が行われる。ここで用いられる熱風は製品を吹き飛ばすほど
強力なものは必要でなく、加熱された製品の表面に当たって乾燥を促進させる程
度のものであり、又製品の加熱温度は40〜60℃位で十分である。この時、真
空容器1内は真空状態でないため、熱風は真空容器1・弁15・気体流動装置4
・調整弁17・気体加熱装置5を経て製品に付着した水分を循環空気中に取り込
んでゆく。その過程において、調整弁17を適当に絞り、弁16、18を徐々に
開いてゆくと、弁16からは湿度の高い空気が大気中に放出され、それより低い
湿度の空気が弁18より吸引される。この湿度の低い空気は気体加熱装置5で加
熱され、より相対湿度の低い空気となって製品に接触し、製品の大部分の水分を
除去するとともに、製品に十分に熱を与える。その後、弁15、16、18を閉
め、真空ポンプ3を駆動させて真空容器1内を真空状態にし、製品の真空乾燥を
行う。ここでの真空度は、水の飽和蒸気圧より低い程度、即ち40torr以下で十
分である。製品は予めヒータと熱風で加熱されており、しかも大部分の水が既に
除去されているため真空容器内を真空状態にすると製品に付着した水は瞬時にし
て蒸発し、完全乾燥が行われるようになる。
【0013】
以上説明した如く、本考案の真空乾燥装置は、真空容器内で予備加熱を行うと
ともに予め製品に付着した大部分の水を除去してから真空乾燥を行うため、真空
乾燥に要する時間を極めて短くできるという従来にない優れた効果を有するもの
である。
【図1】本考案実施例の正面中央断面図である。
1 真空容器
2 ヒータ
3 真空ポンプ
4 気体流動装置
5 気体加熱装置
8 整流板
9 網
12 吸入口
13 吹き出し口
14 パイプ
Claims (2)
- 【請求項1】 真空容器にはヒータが設置されており、
又真空容器の壁面には吸い込み口と吹き出し口が穿設さ
れ、該吸い込み口と吹き出し口は真空容器の外部でパイ
プにより連通されているとともに、該パイプには気体流
動装置と気体加熱装置が設置されていることを特徴とす
る真空乾燥装置。 - 【請求項2】 前記ヒータは、赤外線ヒータであること
を特徴とする請求項1記載の真空乾燥装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1991046511U JPH04132388U (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 真空乾燥装置 |
PCT/JP1992/000657 WO1992020984A1 (en) | 1991-05-24 | 1992-05-22 | Vacuum drying apparatus |
US07/934,655 US5377425A (en) | 1991-05-24 | 1992-05-22 | Vacuum drying apparatus |
KR1019930700021A KR930701717A (ko) | 1991-05-24 | 1992-05-22 | 진공 건조 장치 |
EP19920910348 EP0539607A4 (en) | 1991-05-24 | 1992-05-22 | Vacuum drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1991046511U JPH04132388U (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 真空乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04132388U true JPH04132388U (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=12749288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1991046511U Pending JPH04132388U (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 真空乾燥装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5377425A (ja) |
EP (1) | EP0539607A4 (ja) |
JP (1) | JPH04132388U (ja) |
KR (1) | KR930701717A (ja) |
WO (1) | WO1992020984A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0727474A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-27 | Shunichi Yagi | 真空乾燥装置 |
JPH08121956A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Shunichi Yagi | 真空乾燥装置 |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5231771A (en) * | 1992-09-29 | 1993-08-03 | United States Surgical Corporation | Vacuum drying method for metallic workpieces |
JPH0712458A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-17 | Murata Mfg Co Ltd | 部品乾燥機 |
US5575083A (en) * | 1993-07-05 | 1996-11-19 | Goldstar Co., Ltd. | Vacuum dryer |
KR100369200B1 (ko) * | 1994-04-30 | 2003-03-26 | 가부시키가이샤 세이부 기켄 | 고속유체에의한저온급속탈수건조의방법 |
KR0174982B1 (ko) * | 1996-02-23 | 1999-02-01 | 김광호 | 프리히팅을 이용한 타블렛 먼지 제거 장치 및 제거방법 |
US6113698A (en) * | 1997-07-10 | 2000-09-05 | Applied Materials, Inc. | Degassing method and apparatus |
US6182376B1 (en) * | 1997-07-10 | 2001-02-06 | Applied Materials, Inc. | Degassing method and apparatus |
US6276072B1 (en) | 1997-07-10 | 2001-08-21 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for heating and cooling substrates |
DE19756830A1 (de) * | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Wacker Chemie Gmbh | Vakuumtechnisches Trocknen von Halbleiterbruch |
US6151796A (en) * | 1998-06-04 | 2000-11-28 | Kem-Tec Japan Co., Ltd. | Substrate drying device, drying method and substrate dried by the same |
US7192494B2 (en) * | 1999-03-05 | 2007-03-20 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for annealing copper films |
DE19910723A1 (de) | 1999-03-11 | 2000-09-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verfahren zum Vakuumtrocknen |
US6134802A (en) * | 1999-10-14 | 2000-10-24 | Lucent Technologies Inc. | Wire or cable drying system with water separator |
TW595284B (en) * | 2000-06-08 | 2004-06-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of drying materials, apparatus therefor and method of manufacturing circuit board |
US20040079633A1 (en) * | 2000-07-05 | 2004-04-29 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for electro chemical deposition of copper metallization with the capability of in-situ thermal annealing |
US7311810B2 (en) * | 2003-04-18 | 2007-12-25 | Applied Materials, Inc. | Two position anneal chamber |
US20070269297A1 (en) | 2003-11-10 | 2007-11-22 | Meulen Peter V D | Semiconductor wafer handling and transport |
US20050113964A1 (en) * | 2003-11-10 | 2005-05-26 | Blueshift Technologies, Inc. | Sensor methods and systems for semiconductor handling |
US10086511B2 (en) | 2003-11-10 | 2018-10-02 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor manufacturing systems |
US7458763B2 (en) | 2003-11-10 | 2008-12-02 | Blueshift Technologies, Inc. | Mid-entry load lock for semiconductor handling system |
US20050102851A1 (en) | 2003-11-15 | 2005-05-19 | Tianqing He | Device and methods for rapid drying of porous materials |
US8936176B2 (en) * | 2009-03-27 | 2015-01-20 | Audubon Machinery Corporation | Systems for dispensing bedding materials into cages for laboratory animals |
US8408013B2 (en) | 2010-06-30 | 2013-04-02 | Instrotek, Inc. | Lightweight portable moisture traps for use with vacuum pumps |
JP2012174819A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Sokudo Co Ltd | 熱処理装置および熱処理方法 |
US9709327B2 (en) * | 2011-03-17 | 2017-07-18 | Dry Ventures, Inc. | Rapid rescue of inundated cellphones |
US9644891B2 (en) | 2012-02-01 | 2017-05-09 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
US10240867B2 (en) | 2012-02-01 | 2019-03-26 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
US9970708B2 (en) | 2012-02-01 | 2018-05-15 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
US10876792B2 (en) | 2012-02-01 | 2020-12-29 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
US10690413B2 (en) | 2012-02-01 | 2020-06-23 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
CN107024078B (zh) * | 2012-02-01 | 2021-03-26 | 振兴电子有限责任公司 | 用于干燥电子装置的方法和设备 |
US11713924B2 (en) | 2012-02-01 | 2023-08-01 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
CN102759255B (zh) * | 2012-07-26 | 2014-09-24 | 浙江佐力药业股份有限公司 | 连续式自动化真菌发酵后处理工艺 |
US10088230B2 (en) * | 2012-11-08 | 2018-10-02 | Tekdry International, Inc. | Dryer for portable electronics |
US9488564B2 (en) | 2012-11-14 | 2016-11-08 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for detecting moisture |
WO2014153007A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Revive Electronics, LLC | Methods and apparatuses for drying electronic devices |
CN104359309B (zh) * | 2014-09-25 | 2017-01-18 | 深圳市时代高科技设备股份有限公司 | 一种全自动真空预热炉 |
CA3009047A1 (en) | 2014-12-23 | 2016-06-30 | Revive Electronics, LLC | Apparatuses and methods for controlling power to electronic devices |
DK179189B1 (en) * | 2016-07-06 | 2018-01-22 | Techsave As | Method for restoring damaged electronic devices by cleaning and apparatus |
IT201800004996A1 (it) * | 2018-05-02 | 2019-11-02 | Asciugatrice per asciugare elementi metallici umidi quali aghi di telai di tessitura o fronture di macchine da maglieria sottoposti a pulitura con un liquido di lavaggio | |
RU190149U1 (ru) * | 2019-02-27 | 2019-06-21 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Научно-исследовательский институт сельского хозяйства Крыма" | Устройство инфракрасной сушки сельскохозяйственного сырья при пониженном давлении |
CN111076503A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-28 | 浙江恒成硬质合金有限公司 | 一种硬质合金用真空干燥炉装置及干燥方法 |
CN111750616A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-10-09 | 四川卢川中药材开发有限公司 | 一种红外真空-热风组合干燥白芷的方法 |
CN113799477A (zh) * | 2021-10-09 | 2021-12-17 | 山东芯恒光科技有限公司 | 一种真空吸设备 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62241340A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-22 | Nitsuchitsu Kogyo Kk | 真空乾燥処理方法 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE318127C (ja) * | ||||
US1625451A (en) * | 1923-07-26 | 1927-04-19 | Western Electric Co | Method of and apparatus for drying and storing material |
US1902575A (en) * | 1930-01-23 | 1933-03-21 | Allis Chalmers Mfg Co | Method of treating objects |
FR1253911A (fr) * | 1960-01-06 | 1961-02-17 | Appareil destiné au séchage et au refroidissement de matières périssables et principalement des grains | |
US3233333A (en) * | 1962-06-01 | 1966-02-08 | Oppenheimer Franz | Method of freeze drying food products |
US3321842A (en) * | 1962-11-06 | 1967-05-30 | Bocciardo Paolo | Process and means for the stepwise drying under vacuum and successive conditioning, in a continuous operation, of tanned skins and the like |
GB989148A (en) * | 1962-11-06 | 1965-04-14 | Paolo Bocciardo | Improvements in a method of and apparatus for drying tanned skins under vacuum in a continuous operation |
JPS4833001A (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-07 | ||
JPS5044545A (ja) * | 1973-08-24 | 1975-04-22 | ||
JPS5112904A (ja) * | 1974-07-22 | 1976-01-31 | Seiwa Kosan Kk | Mokuzaikansoho |
JPS5122807A (en) * | 1974-08-19 | 1976-02-23 | Akira Yosoe | Mokuzaino kansohoho |
JPS532923B2 (ja) * | 1975-02-12 | 1978-02-01 | ||
JPS532923A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-12 | Sasebo Heavy Ind | Multistage optional water takeein gate |
JPS5475666A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-16 | Sanyo Electric Co Ltd | Pressure-reduced microwave dryer |
AT366405B (de) * | 1980-01-21 | 1981-04-13 | Voest Alpine Ag | Verfahren zum trocknen und umwandeln von organischen feststoffen, insbesondere braunkohlen mit dampf |
DE3371244D1 (en) * | 1983-10-08 | 1987-06-04 | Mtm Obermaier Gmbh & Co Kg | Process and apparatus for drying yarn or fibre packages |
JPS61165579A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-26 | 岡村 邦康 | 真空熱風循環乾燥方法およびその装置 |
JPH0727883B2 (ja) * | 1985-07-01 | 1995-03-29 | エフ エス アイ インターナショナルインク | ウェーハ等の乾燥装置 |
JPS63302521A (ja) * | 1987-06-02 | 1988-12-09 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体基板の乾燥装置 |
JP2565963B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1996-12-18 | 株式会社千代田製作所 | 真空乾燥装置 |
JPH01226157A (ja) * | 1988-03-07 | 1989-09-08 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | 半導体基板の乾燥方法 |
JPH01235604A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 粒体の乾燥方法及び乾燥装置 |
JPH0250071A (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-20 | Nec Kyushu Ltd | 真空オーブン装置 |
JPH0250072A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-20 | Asahi Mokuzai Kogyo Kk | 木材の乾燥方法およびそれを用いて乾燥された木材 |
US5117564A (en) * | 1989-05-09 | 1992-06-02 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Continuous vacuum treatment system |
FR2652888A1 (fr) * | 1989-10-06 | 1991-04-12 | Annamasse Sa Ultrasons | Procede de sechage sous vide de pieces diverses et dispositif de mise en óoeuvre du procede. |
US5115576A (en) * | 1989-10-27 | 1992-05-26 | Semifab Incorporated | Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol |
CA2040989A1 (en) * | 1990-05-01 | 1991-11-02 | Ichiro Yoshida | Washing/drying method and apparatus |
-
1991
- 1991-05-24 JP JP1991046511U patent/JPH04132388U/ja active Pending
-
1992
- 1992-05-22 EP EP19920910348 patent/EP0539607A4/en not_active Withdrawn
- 1992-05-22 US US07/934,655 patent/US5377425A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-05-22 WO PCT/JP1992/000657 patent/WO1992020984A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1992-05-22 KR KR1019930700021A patent/KR930701717A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62241340A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-22 | Nitsuchitsu Kogyo Kk | 真空乾燥処理方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0727474A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-27 | Shunichi Yagi | 真空乾燥装置 |
JPH08121956A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Shunichi Yagi | 真空乾燥装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0539607A1 (en) | 1993-05-05 |
KR930701717A (ko) | 1993-06-12 |
WO1992020984A1 (en) | 1992-11-26 |
EP0539607A4 (en) | 1993-10-06 |
US5377425A (en) | 1995-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04132388U (ja) | 真空乾燥装置 | |
DE50004697D1 (de) | Programmgesteuerte Geschirrspülmaschine mit einer Einrichtung zum Trocknen von Geschirr | |
WO2001007851A1 (en) | Acoustic and vibrational energy for assisted cleaning and drying of solder stencils and electronic modules | |
JPH05164684A (ja) | 結露サイクル試験器 | |
JPS645521A (en) | Tableware washing machine | |
CN100532692C (zh) | 烘干装置 | |
CN210104369U (zh) | 一种除湿电动晾衣架及应用该除湿电动晾衣架的浴霸 | |
JP2511873B2 (ja) | ベ−パ乾燥装置 | |
JPH03207399A (ja) | 衣類乾燥機 | |
JP2581618Y2 (ja) | 真空乾燥機 | |
CN210718486U (zh) | 一种羊毛衫加工用烘干装置 | |
CN220624707U (zh) | 一种废热循环利用的高效节能快速烘干机 | |
GB2244122A (en) | Drying electric components | |
JPH06221754A (ja) | 減圧乾燥機 | |
CN106884361A (zh) | 一种相变式绝缘纸干燥机构及其干燥方法 | |
JP3400928B2 (ja) | 乾燥装置 | |
JP2001208471A (ja) | 被洗浄物の乾燥方法及びその装置 | |
JP3023299U (ja) | 被洗浄物の洗浄及び乾燥装置 | |
KR100542075B1 (ko) | 드럼 세탁기용 건조 방법 | |
JP2005061645A (ja) | 基板加熱乾燥装置に設ける換気構造 | |
JPS5931387B2 (ja) | 蒸気洗滌装置 | |
JP2972234B2 (ja) | シヤドウマスク洗浄装置及び洗浄方法 | |
CN108311463A (zh) | 薄膜清洗方法及装置 | |
TWI222126B (en) | Method and device for drying wafer | |
JPH0541812Y2 (ja) |