JPH04132388U - 真空乾燥装置 - Google Patents

真空乾燥装置

Info

Publication number
JPH04132388U
JPH04132388U JP1991046511U JP4651191U JPH04132388U JP H04132388 U JPH04132388 U JP H04132388U JP 1991046511 U JP1991046511 U JP 1991046511U JP 4651191 U JP4651191 U JP 4651191U JP H04132388 U JPH04132388 U JP H04132388U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
vacuum container
product
heater
drying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1991046511U
Other languages
English (en)
Inventor
加一 鶴田
修 川上
Original Assignee
千住金属工業株式会社
日空工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 千住金属工業株式会社, 日空工業株式会社 filed Critical 千住金属工業株式会社
Priority to JP1991046511U priority Critical patent/JPH04132388U/ja
Priority to PCT/JP1992/000657 priority patent/WO1992020984A1/ja
Priority to US07/934,655 priority patent/US5377425A/en
Priority to KR1019930700021A priority patent/KR930701717A/ko
Priority to EP19920910348 priority patent/EP0539607A4/en
Publication of JPH04132388U publication Critical patent/JPH04132388U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/04Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/227Drying of printed circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空乾燥装置の真空容器内に熱風を循環さ
せ、真空乾燥を促進させて効率の良い乾燥を行わせる。 【構成】 真空容器の壁面に熱風の吸入口と吹き出し口
を設け、該吸入口と吹き出し口を真空容器の外部で連通
させ、その途中に気体流動装置と気体加熱装置を設置し
た真空乾燥装置。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、水洗後のプリント基板、電子部品、医療機器等を乾燥させる真空乾 燥装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント基板、電子部品、医療機器等の製品は、製品が完成品となる途上にお いて、はんだ付け、機械加工、プレス等、種々の工程を経るのが常であり、その 工程途上において必ずといってよい程フラックス残渣が付着していたり、或は油 が付着するということがある。完製品になる迄には絶対にそれ等フラックス残渣 や油を完全に除去しなければならない。そのため、従来加工後の製品(以下、単 に「製品」という)は、フロロカーボンや1・1・1 トリクロールエタン等の容剤で 洗浄するのが常であったが、1989年5月の「ウイーン条約、モントリオール 議定書」によってフロロカーボンは2000年迄に全廃することになったため、 今後は急速にその使用が制限され、遂には使用不可能になるという問題が起こっ てきた。そのため、近時では製品の洗浄に公害に全く問題とならない水を使った 洗浄が行われるようになってきた。しかしながら、水洗後、水が製品に付着した ままであると、プリント基板や電子部品では絶縁不良や腐食の原因となり、又医 療機器ではゴミやホコリが付着して衛生上好ましいものではない。従って、水洗 後の製品は水を完全に乾燥させなければならないものである。
【0003】 従来より、水の乾燥装置としては、製品を100℃以上に加熱して水を蒸発さ せる加熱乾燥装置、強力な熱風を製品に吹き付けて風の勢いと熱で乾燥させる熱 風乾燥装置及び製品を低温度に加熱しながら真空中で乾燥させる真空乾燥装置等 があった。
【0004】 加熱乾燥装置は、製品を100℃以上に加熱するため熱に弱い製品に対しては 熱損傷を与えたり、機能を劣化させることがあり、又熱風乾燥装置は勢いのある 熱風を製品に当てるため軽量物や繊細な製品を吹き飛ばして破損させることがあ った。真空乾燥装置は、加熱温度が比較的低くて済むし、又強力な熱風を使用し ないため、加熱乾燥装置や熱風乾燥装置のような不都合は生じない。
【0005】 真空乾燥装置とは、水は低圧になると沸点が下がり、低温度でも容易に蒸発す ることを利用したもので、一般には水の蒸発を促進させるため製品を低温度に加 熱して真空乾燥するようになっている。従って、従来の真空乾燥装置は、真空容 器にヒータだけが設置されていたものであった。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、真空容器にヒータだけが設置された従来の真空乾燥装置では、製品 を完全乾燥するまでに長い時間を要し、大量のものを乾燥させるには生産性に問 題があった。 本考案は、乾燥時間を短くすることのできる真空乾燥装置を提供することにあ る。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本考案者らは、真空乾燥装置に関し、乾燥時間を短くすることについて鋭意検 討を重ねた結果、真空乾燥だけで製品に付着した水を全て乾燥させると時間がか かるが、真空乾燥を行う前に製品に付着している水の量を少なくしておけば真空 乾燥の時間を短くできることに着目して本考案を完成させた。
【0008】 本考案は、真空容器にはヒータが設置されており、又真空容器の壁面には吸い 込み口と吹き出し口が穿設され、該吸い込み口と吹き出し口は真空容器の外部で パイプにより連通されているとともに、該パイプには気体流動装置と気体加熱装 置が設置されていることを特徴とする真空乾燥装置である。
【0009】
【実施例】
以下図面に基づいて本考案を説明する。図1は本考案の一実施例における正面 中央断面図図である。 真空乾燥装置は、真空容器1、ヒータ2、真空ポンプ3、気体流動装置4、及 び気体加熱装置5から構成されている。真空容器1は箱状で一箇所が出入口6と なっていて、ここには密閉可能な扉7が開閉自在に取り付けられている。真空容 器内部の上下部には複数のヒータ2、・・・が設置されている。ここに設置する ヒータとしては製品に対して熱吸収を良好に行わしめる赤外線ヒータが適してい る。ヒータの設置場所は熱効率の点からみれば真空容器の内部に設置するのがよ いが、真空容器内部の容量や製品の大きさ等により、容器壁面に埋め込んだり、 容器の外部に設置することもできる。真空容器内の下部ヒ−タ2の下方には整流 板8が設置され、又下部ヒータ2の上方には網9が設置されている。真空容器1 の底面には穴10が穿設されており、該穴は弁11を介して真空ポンプ3に接続 されている。又真空容器1には横壁に吸入口12、底壁に吹き出し口13が穿設 されていて、この吸入口12と吹き出し口13は真空容器の外部でパイプ14に より連通状態となっている。パイプ14には吸入口の方から順に弁15、気体流 動装置4、弁16、調整弁17、弁18及び気体加熱装置5が設置されている。
【0010】 次に上記構造を有する本考案の真空乾燥装置における使用状態を説明する。 先ず、水洗浄した多数のプリント基板Pを支治具H上に立てて真空容器1内の 網9上に置き、扉7を閉じる。そして真空容器内のヒータ2を加熱状態にすると ともに、気体加熱装置5も加熱状態にし、気体流動装置4を駆動させる。すると 真空容器1内は多数のヒータ2で加熱され、真空容器内の気体は気体流動装置4 で引かれて気体加熱装置5で温められ、整流板8の多数の穴から均一に吹き出る 。プリント基板はヒータと整流板から吹き出る熱風で加熱されるとともに、熱風 との接触により乾燥が行われる。ここで用いられる熱風は製品を吹き飛ばすほど 強力なものは必要でなく、加熱された製品の表面に当たって乾燥を促進させる程 度のものであり、又製品の加熱温度は40〜60℃位で十分である。この時、真 空容器1内は真空状態でないため、熱風は真空容器1・弁15・気体流動装置4 ・調整弁17・気体加熱装置5を経て製品に付着した水分を循環空気中に取り込 んでゆく。その過程において、調整弁17を適当に絞り、弁16、18を徐々に 開いてゆくと、弁16からは湿度の高い空気が大気中に放出され、それより低い 湿度の空気が弁18より吸引される。この湿度の低い空気は気体加熱装置5で加 熱され、より相対湿度の低い空気となって製品に接触し、製品の大部分の水分を 除去するとともに、製品に十分に熱を与える。その後、弁15、16、18を閉 め、真空ポンプ3を駆動させて真空容器1内を真空状態にし、製品の真空乾燥を 行う。ここでの真空度は、水の飽和蒸気圧より低い程度、即ち40torr以下で十 分である。製品は予めヒータと熱風で加熱されており、しかも大部分の水が既に 除去されているため真空容器内を真空状態にすると製品に付着した水は瞬時にし て蒸発し、完全乾燥が行われるようになる。
【0013】
【考案の効果】
以上説明した如く、本考案の真空乾燥装置は、真空容器内で予備加熱を行うと ともに予め製品に付着した大部分の水を除去してから真空乾燥を行うため、真空 乾燥に要する時間を極めて短くできるという従来にない優れた効果を有するもの である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案実施例の正面中央断面図である。
【符号の説明】
1 真空容器 2 ヒータ 3 真空ポンプ 4 気体流動装置 5 気体加熱装置 8 整流板 9 網 12 吸入口 13 吹き出し口 14 パイプ

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空容器にはヒータが設置されており、
    又真空容器の壁面には吸い込み口と吹き出し口が穿設さ
    れ、該吸い込み口と吹き出し口は真空容器の外部でパイ
    プにより連通されているとともに、該パイプには気体流
    動装置と気体加熱装置が設置されていることを特徴とす
    る真空乾燥装置。
  2. 【請求項2】 前記ヒータは、赤外線ヒータであること
    を特徴とする請求項1記載の真空乾燥装置。
JP1991046511U 1991-05-24 1991-05-24 真空乾燥装置 Pending JPH04132388U (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991046511U JPH04132388U (ja) 1991-05-24 1991-05-24 真空乾燥装置
PCT/JP1992/000657 WO1992020984A1 (en) 1991-05-24 1992-05-22 Vacuum drying apparatus
US07/934,655 US5377425A (en) 1991-05-24 1992-05-22 Vacuum drying apparatus
KR1019930700021A KR930701717A (ko) 1991-05-24 1992-05-22 진공 건조 장치
EP19920910348 EP0539607A4 (en) 1991-05-24 1992-05-22 Vacuum drying apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991046511U JPH04132388U (ja) 1991-05-24 1991-05-24 真空乾燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04132388U true JPH04132388U (ja) 1992-12-08

Family

ID=12749288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1991046511U Pending JPH04132388U (ja) 1991-05-24 1991-05-24 真空乾燥装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5377425A (ja)
EP (1) EP0539607A4 (ja)
JP (1) JPH04132388U (ja)
KR (1) KR930701717A (ja)
WO (1) WO1992020984A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0727474A (ja) * 1993-06-17 1995-01-27 Shunichi Yagi 真空乾燥装置
JPH08121956A (ja) * 1994-10-20 1996-05-17 Shunichi Yagi 真空乾燥装置

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5231771A (en) * 1992-09-29 1993-08-03 United States Surgical Corporation Vacuum drying method for metallic workpieces
JPH0712458A (ja) * 1993-06-23 1995-01-17 Murata Mfg Co Ltd 部品乾燥機
US5575083A (en) * 1993-07-05 1996-11-19 Goldstar Co., Ltd. Vacuum dryer
KR100369200B1 (ko) * 1994-04-30 2003-03-26 가부시키가이샤 세이부 기켄 고속유체에의한저온급속탈수건조의방법
KR0174982B1 (ko) * 1996-02-23 1999-02-01 김광호 프리히팅을 이용한 타블렛 먼지 제거 장치 및 제거방법
US6113698A (en) * 1997-07-10 2000-09-05 Applied Materials, Inc. Degassing method and apparatus
US6182376B1 (en) * 1997-07-10 2001-02-06 Applied Materials, Inc. Degassing method and apparatus
US6276072B1 (en) 1997-07-10 2001-08-21 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for heating and cooling substrates
DE19756830A1 (de) * 1997-12-19 1999-07-01 Wacker Chemie Gmbh Vakuumtechnisches Trocknen von Halbleiterbruch
US6151796A (en) * 1998-06-04 2000-11-28 Kem-Tec Japan Co., Ltd. Substrate drying device, drying method and substrate dried by the same
US7192494B2 (en) * 1999-03-05 2007-03-20 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for annealing copper films
DE19910723A1 (de) 1999-03-11 2000-09-21 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zum Vakuumtrocknen
US6134802A (en) * 1999-10-14 2000-10-24 Lucent Technologies Inc. Wire or cable drying system with water separator
TW595284B (en) * 2000-06-08 2004-06-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of drying materials, apparatus therefor and method of manufacturing circuit board
US20040079633A1 (en) * 2000-07-05 2004-04-29 Applied Materials, Inc. Apparatus for electro chemical deposition of copper metallization with the capability of in-situ thermal annealing
US7311810B2 (en) * 2003-04-18 2007-12-25 Applied Materials, Inc. Two position anneal chamber
US20070269297A1 (en) 2003-11-10 2007-11-22 Meulen Peter V D Semiconductor wafer handling and transport
US20050113964A1 (en) * 2003-11-10 2005-05-26 Blueshift Technologies, Inc. Sensor methods and systems for semiconductor handling
US10086511B2 (en) 2003-11-10 2018-10-02 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing systems
US7458763B2 (en) 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
US20050102851A1 (en) 2003-11-15 2005-05-19 Tianqing He Device and methods for rapid drying of porous materials
US8936176B2 (en) * 2009-03-27 2015-01-20 Audubon Machinery Corporation Systems for dispensing bedding materials into cages for laboratory animals
US8408013B2 (en) 2010-06-30 2013-04-02 Instrotek, Inc. Lightweight portable moisture traps for use with vacuum pumps
JP2012174819A (ja) * 2011-02-21 2012-09-10 Sokudo Co Ltd 熱処理装置および熱処理方法
US9709327B2 (en) * 2011-03-17 2017-07-18 Dry Ventures, Inc. Rapid rescue of inundated cellphones
US9644891B2 (en) 2012-02-01 2017-05-09 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
US10240867B2 (en) 2012-02-01 2019-03-26 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
US9970708B2 (en) 2012-02-01 2018-05-15 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
US10876792B2 (en) 2012-02-01 2020-12-29 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
US10690413B2 (en) 2012-02-01 2020-06-23 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
CN107024078B (zh) * 2012-02-01 2021-03-26 振兴电子有限责任公司 用于干燥电子装置的方法和设备
US11713924B2 (en) 2012-02-01 2023-08-01 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
CN102759255B (zh) * 2012-07-26 2014-09-24 浙江佐力药业股份有限公司 连续式自动化真菌发酵后处理工艺
US10088230B2 (en) * 2012-11-08 2018-10-02 Tekdry International, Inc. Dryer for portable electronics
US9488564B2 (en) 2012-11-14 2016-11-08 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for detecting moisture
WO2014153007A1 (en) 2013-03-14 2014-09-25 Revive Electronics, LLC Methods and apparatuses for drying electronic devices
CN104359309B (zh) * 2014-09-25 2017-01-18 深圳市时代高科技设备股份有限公司 一种全自动真空预热炉
CA3009047A1 (en) 2014-12-23 2016-06-30 Revive Electronics, LLC Apparatuses and methods for controlling power to electronic devices
DK179189B1 (en) * 2016-07-06 2018-01-22 Techsave As Method for restoring damaged electronic devices by cleaning and apparatus
IT201800004996A1 (it) * 2018-05-02 2019-11-02 Asciugatrice per asciugare elementi metallici umidi quali aghi di telai di tessitura o fronture di macchine da maglieria sottoposti a pulitura con un liquido di lavaggio
RU190149U1 (ru) * 2019-02-27 2019-06-21 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Научно-исследовательский институт сельского хозяйства Крыма" Устройство инфракрасной сушки сельскохозяйственного сырья при пониженном давлении
CN111076503A (zh) * 2019-12-10 2020-04-28 浙江恒成硬质合金有限公司 一种硬质合金用真空干燥炉装置及干燥方法
CN111750616A (zh) * 2020-07-09 2020-10-09 四川卢川中药材开发有限公司 一种红外真空-热风组合干燥白芷的方法
CN113799477A (zh) * 2021-10-09 2021-12-17 山东芯恒光科技有限公司 一种真空吸设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62241340A (ja) * 1986-04-11 1987-10-22 Nitsuchitsu Kogyo Kk 真空乾燥処理方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE318127C (ja) *
US1625451A (en) * 1923-07-26 1927-04-19 Western Electric Co Method of and apparatus for drying and storing material
US1902575A (en) * 1930-01-23 1933-03-21 Allis Chalmers Mfg Co Method of treating objects
FR1253911A (fr) * 1960-01-06 1961-02-17 Appareil destiné au séchage et au refroidissement de matières périssables et principalement des grains
US3233333A (en) * 1962-06-01 1966-02-08 Oppenheimer Franz Method of freeze drying food products
US3321842A (en) * 1962-11-06 1967-05-30 Bocciardo Paolo Process and means for the stepwise drying under vacuum and successive conditioning, in a continuous operation, of tanned skins and the like
GB989148A (en) * 1962-11-06 1965-04-14 Paolo Bocciardo Improvements in a method of and apparatus for drying tanned skins under vacuum in a continuous operation
JPS4833001A (ja) * 1971-09-03 1973-05-07
JPS5044545A (ja) * 1973-08-24 1975-04-22
JPS5112904A (ja) * 1974-07-22 1976-01-31 Seiwa Kosan Kk Mokuzaikansoho
JPS5122807A (en) * 1974-08-19 1976-02-23 Akira Yosoe Mokuzaino kansohoho
JPS532923B2 (ja) * 1975-02-12 1978-02-01
JPS532923A (en) * 1976-06-30 1978-01-12 Sasebo Heavy Ind Multistage optional water takeein gate
JPS5475666A (en) * 1977-11-28 1979-06-16 Sanyo Electric Co Ltd Pressure-reduced microwave dryer
AT366405B (de) * 1980-01-21 1981-04-13 Voest Alpine Ag Verfahren zum trocknen und umwandeln von organischen feststoffen, insbesondere braunkohlen mit dampf
DE3371244D1 (en) * 1983-10-08 1987-06-04 Mtm Obermaier Gmbh & Co Kg Process and apparatus for drying yarn or fibre packages
JPS61165579A (ja) * 1985-01-16 1986-07-26 岡村 邦康 真空熱風循環乾燥方法およびその装置
JPH0727883B2 (ja) * 1985-07-01 1995-03-29 エフ エス アイ インターナショナルインク ウェーハ等の乾燥装置
JPS63302521A (ja) * 1987-06-02 1988-12-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体基板の乾燥装置
JP2565963B2 (ja) * 1988-01-27 1996-12-18 株式会社千代田製作所 真空乾燥装置
JPH01226157A (ja) * 1988-03-07 1989-09-08 Kyushu Electron Metal Co Ltd 半導体基板の乾燥方法
JPH01235604A (ja) * 1988-03-16 1989-09-20 Idemitsu Petrochem Co Ltd 粒体の乾燥方法及び乾燥装置
JPH0250071A (ja) * 1988-08-09 1990-02-20 Nec Kyushu Ltd 真空オーブン装置
JPH0250072A (ja) * 1988-08-11 1990-02-20 Asahi Mokuzai Kogyo Kk 木材の乾燥方法およびそれを用いて乾燥された木材
US5117564A (en) * 1989-05-09 1992-06-02 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Continuous vacuum treatment system
FR2652888A1 (fr) * 1989-10-06 1991-04-12 Annamasse Sa Ultrasons Procede de sechage sous vide de pieces diverses et dispositif de mise en óoeuvre du procede.
US5115576A (en) * 1989-10-27 1992-05-26 Semifab Incorporated Vapor device and method for drying articles such as semiconductor wafers with substances such as isopropyl alcohol
CA2040989A1 (en) * 1990-05-01 1991-11-02 Ichiro Yoshida Washing/drying method and apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62241340A (ja) * 1986-04-11 1987-10-22 Nitsuchitsu Kogyo Kk 真空乾燥処理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0727474A (ja) * 1993-06-17 1995-01-27 Shunichi Yagi 真空乾燥装置
JPH08121956A (ja) * 1994-10-20 1996-05-17 Shunichi Yagi 真空乾燥装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0539607A1 (en) 1993-05-05
KR930701717A (ko) 1993-06-12
WO1992020984A1 (en) 1992-11-26
EP0539607A4 (en) 1993-10-06
US5377425A (en) 1995-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04132388U (ja) 真空乾燥装置
DE50004697D1 (de) Programmgesteuerte Geschirrspülmaschine mit einer Einrichtung zum Trocknen von Geschirr
WO2001007851A1 (en) Acoustic and vibrational energy for assisted cleaning and drying of solder stencils and electronic modules
JPH05164684A (ja) 結露サイクル試験器
JPS645521A (en) Tableware washing machine
CN100532692C (zh) 烘干装置
CN210104369U (zh) 一种除湿电动晾衣架及应用该除湿电动晾衣架的浴霸
JP2511873B2 (ja) ベ−パ乾燥装置
JPH03207399A (ja) 衣類乾燥機
JP2581618Y2 (ja) 真空乾燥機
CN210718486U (zh) 一种羊毛衫加工用烘干装置
CN220624707U (zh) 一种废热循环利用的高效节能快速烘干机
GB2244122A (en) Drying electric components
JPH06221754A (ja) 減圧乾燥機
CN106884361A (zh) 一种相变式绝缘纸干燥机构及其干燥方法
JP3400928B2 (ja) 乾燥装置
JP2001208471A (ja) 被洗浄物の乾燥方法及びその装置
JP3023299U (ja) 被洗浄物の洗浄及び乾燥装置
KR100542075B1 (ko) 드럼 세탁기용 건조 방법
JP2005061645A (ja) 基板加熱乾燥装置に設ける換気構造
JPS5931387B2 (ja) 蒸気洗滌装置
JP2972234B2 (ja) シヤドウマスク洗浄装置及び洗浄方法
CN108311463A (zh) 薄膜清洗方法及装置
TWI222126B (en) Method and device for drying wafer
JPH0541812Y2 (ja)