JPH0393197A - X線照射装置 - Google Patents
X線照射装置Info
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- JPH0393197A JPH0393197A JP2222323A JP22232390A JPH0393197A JP H0393197 A JPH0393197 A JP H0393197A JP 2222323 A JP2222323 A JP 2222323A JP 22232390 A JP22232390 A JP 22232390A JP H0393197 A JPH0393197 A JP H0393197A
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- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
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- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、X線源と放射線検出器とからなり、XIa源
の放射線は、検査されるべき対象に投射される扇形ビー
ムを形成するよう少なくとも1つの1次ダイヤフラムの
スリット形開口を貫通し、それに亘って直線的に案内さ
れるX線照射装置に係る。
の放射線は、検査されるべき対象に投射される扇形ビー
ムを形成するよう少なくとも1つの1次ダイヤフラムの
スリット形開口を貫通し、それに亘って直線的に案内さ
れるX線照射装置に係る。
放射線写真では検査さるべき領域、即ち検査さるべき対
象が照射の前に検査X線に照射される領域をマークする
ことが通常望ましい。検査領域はX線源の焦点と静止ダ
イヤフラム間を光線で結合することにより通常区画され
、その光線は、検査の面において検査領域を特徴とする
ようダイヤフラムにより制限される。
象が照射の前に検査X線に照射される領域をマークする
ことが通常望ましい。検査領域はX線源の焦点と静止ダ
イヤフラム間を光線で結合することにより通常区画され
、その光線は、検査の面において検査領域を特徴とする
ようダイヤフラムにより制限される。
しかし、スリット放射線写真照射技術に対し、1次ダイ
ヤフラムは、検査さるべき対象に亘って扇形ビームでの
X線を線状又は面積状に案内するのに役立つ非常に細い
スリットだけからなるので、これは容易に可能ではない
。
ヤフラムは、検査さるべき対象に亘って扇形ビームでの
X線を線状又は面積状に案内するのに役立つ非常に細い
スリットだけからなるので、これは容易に可能ではない
。
スリット放射線写真照射技術用に光を印加する他の可能
性は、光が1次ダイヤフラム及び検査さるべき対象間を
ミラーにより結合されることからなる。しかし、この種
の装置は、全体の装置が非常に容量が大きくならない場
合、X線源の焦点と1次ダイヤプラム間の距離が必然的
に減少する欠点を有する。しかし、焦点と1次ダイヤフ
ラム間の距離は、検査面において放射線ビームの半影領
域を最小にするよう出来るだけ大きくすべきである。こ
れは散乱放射線状の抑圧及び1次ビーム伝送を鑑みて望
ましいことである。更に、検査面と!次スリット間の光
の結合は、検査面に位置する対象用の範囲を減少させる
。
性は、光が1次ダイヤフラム及び検査さるべき対象間を
ミラーにより結合されることからなる。しかし、この種
の装置は、全体の装置が非常に容量が大きくならない場
合、X線源の焦点と1次ダイヤプラム間の距離が必然的
に減少する欠点を有する。しかし、焦点と1次ダイヤフ
ラム間の距離は、検査面において放射線ビームの半影領
域を最小にするよう出来るだけ大きくすべきである。こ
れは散乱放射線状の抑圧及び1次ビーム伝送を鑑みて望
ましいことである。更に、検査面と!次スリット間の光
の結合は、検査面に位置する対象用の範囲を減少させる
。
本発明の目的は場の結合が記載の欠点を避けるのに可能
であるよう上記種類のX線照射装置を構成することであ
る。
であるよう上記種類のX線照射装置を構成することであ
る。
この目的は、1次ダイヤフラムは、その通常の位置にス
リット形開口を形成し、検査領域を画戒するよう夫々選
択自在な制限位置に、垂直にスリット方向に動かされつ
る少なくとも2つのダイヤフラム素子からなり、検査さ
れるべき対象上への光のその投映は、それらの制限位置
でのダイヤフラム素子により制限され、検査領域をマー
クする光源が設けられ、検査さるべき対象のX線照射は
、そのダイヤフラム素子がそれらの各制限位置を占める
1次ダイヤフラムの2つの位置の間でのみ生じる本発明
により達成される。
リット形開口を形成し、検査領域を画戒するよう夫々選
択自在な制限位置に、垂直にスリット方向に動かされつ
る少なくとも2つのダイヤフラム素子からなり、検査さ
れるべき対象上への光のその投映は、それらの制限位置
でのダイヤフラム素子により制限され、検査領域をマー
クする光源が設けられ、検査さるべき対象のX線照射は
、そのダイヤフラム素子がそれらの各制限位置を占める
1次ダイヤフラムの2つの位置の間でのみ生じる本発明
により達成される。
この装置では、1次ダイヤフラムは、いつもの通り2つ
のダイヤフラム素子がスリット形開口を形成するよう互
いに接近するよう動くその通常の位置において検査さる
べき対象へのスリット放射線写真照射に役立つ。
のダイヤフラム素子がスリット形開口を形成するよう互
いに接近するよう動くその通常の位置において検査さる
べき対象へのスリット放射線写真照射に役立つ。
しかし、検査動作の前に、2つのダイヤフラム素子は、
それにより形成されたスリット形開口と垂直な方向に離
されて動きつる。1次ダイヤフラム素子上に光源が配置
され、その光ビームが検査さるべき対象に投射する2つ
のダイヤプラム素子により制限される。ダイヤフラム素
子は、所望の検査領域が入射光によりマークされるよう
離間して動かされる。ダイヤフラム素子は各制限位置を
占める。
それにより形成されたスリット形開口と垂直な方向に離
されて動きつる。1次ダイヤフラム素子上に光源が配置
され、その光ビームが検査さるべき対象に投射する2つ
のダイヤプラム素子により制限される。ダイヤフラム素
子は、所望の検査領域が入射光によりマークされるよう
離間して動かされる。ダイヤフラム素子は各制限位置を
占める。
検査領域が画成した後、ダイヤフラム素子は再びそれら
の通常位置に動かされ、これによりそれらは再びスリッ
ト形開口を形成する。検査さるべき対象へのX線照射中
、1次ダイヤフラムは、検査きるべき対象がX線に線状
に照射されるよう動かされる。しかし、検査さるべき対
象のそのような照射は、そのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置を占める1次ダイヤフラムの2つの位置間
でのみ実行される。従って、X線のこの照射は、!次ダ
イヤフラム素子がその制限位置に達する時に始められる
。続いて、1次ダイヤフラムは、2次ダイヤフラム素子
がその制限位置になるまで更に動かされる。次にX線照
射は終了する。
の通常位置に動かされ、これによりそれらは再びスリッ
ト形開口を形成する。検査さるべき対象へのX線照射中
、1次ダイヤフラムは、検査きるべき対象がX線に線状
に照射されるよう動かされる。しかし、検査さるべき対
象のそのような照射は、そのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置を占める1次ダイヤフラムの2つの位置間
でのみ実行される。従って、X線のこの照射は、!次ダ
イヤフラム素子がその制限位置に達する時に始められる
。続いて、1次ダイヤフラムは、2次ダイヤフラム素子
がその制限位置になるまで更に動かされる。次にX線照
射は終了する。
本装置において、検査領域に関して制限はない。
その理由は1次ダイヤフラムと検査領域間の動作の範囲
が無制限のままであるからである。しかし、スリット放
射線写真XJII照射装置では検査領域が画成され2つ
のダイヤフラム素子の制限位置の選択だけによって光学
的に従われるので、磁界の結合は、依然として可能であ
る。
が無制限のままであるからである。しかし、スリット放
射線写真XJII照射装置では検査領域が画成され2つ
のダイヤフラム素子の制限位置の選択だけによって光学
的に従われるので、磁界の結合は、依然として可能であ
る。
本発明による他の望ましい実施例では、これは手又はモ
ーターで2つのダイヤフラム素子をそれらの各制限位置
に動かすことにより実現されつる。
ーターで2つのダイヤフラム素子をそれらの各制限位置
に動かすことにより実現されつる。
本発明による他の実施例は、1次ダイヤフラムのダイヤ
フラム素子がそれらの各制限位置間に位置する期間中の
みの照射中X線源を活性化する制御論理装置を有する。
フラム素子がそれらの各制限位置間に位置する期間中の
みの照射中X線源を活性化する制御論理装置を有する。
制御論理装置は、選択された制限位置に従い、検査さる
べき対象が限定された検査領域にのみ照射されることを
確実にする。X線照射装置の構造により、いずれにせよ
、最大検査領域が1次スリットの対応する変位によりカ
バーされることを確実にしつる。しかし、その場合は、
X線源は1次ダイヤフラムのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置間に配置される時間中のみスイッチオンさ
れる。
べき対象が限定された検査領域にのみ照射されることを
確実にする。X線照射装置の構造により、いずれにせよ
、最大検査領域が1次スリットの対応する変位によりカ
バーされることを確実にしつる。しかし、その場合は、
X線源は1次ダイヤフラムのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置間に配置される時間中のみスイッチオンさ
れる。
以下図面を参照して本発明による一実施例を詳細に説明
する。
する。
第1図の参照符号lはX線源、例えばX線管を示す;第
1図中、X線が出射される焦点だけが示される。X線源
lのビーム路において、該源lにより出射されたX線に
対し透過であり、横方向に配置された光源3からビーム
路への光を投映することのできるミラー2が配置される
。
1図中、X線が出射される焦点だけが示される。X線源
lのビーム路において、該源lにより出射されたX線に
対し透過であり、横方向に配置された光源3からビーム
路への光を投映することのできるミラー2が配置される
。
ビーム路では、第1図において各制限位置を占める2つ
のダイヤフラム素子4及び4′からなる1次ダイヤプラ
ムが配置され、該制限位置は図中矢印A.Bにより示さ
れる。ダイヤフラム素子は、図中、それらの懸架装置又
はモーター駆動を省いて概略的にのみ示される。
のダイヤフラム素子4及び4′からなる1次ダイヤプラ
ムが配置され、該制限位置は図中矢印A.Bにより示さ
れる。ダイヤフラム素子は、図中、それらの懸架装置又
はモーター駆動を省いて概略的にのみ示される。
ビーム路では、次に検査きるべき対象5が(概略的に)
示され;対象の下に2つのダイヤフラム素子6及び6′
からなる2次ダイヤフラムが、配置される。2次ダイヤ
フラムのダイヤフラム素子6及び6′は、線形,スリッ
ト形開口を形成し、それを介してX線は、図中、概略的
にのみ示され、例えばX線フィルム又は光伝導体である
X線映像検出器7上に入射される。
示され;対象の下に2つのダイヤフラム素子6及び6′
からなる2次ダイヤフラムが、配置される。2次ダイヤ
フラムのダイヤフラム素子6及び6′は、線形,スリッ
ト形開口を形成し、それを介してX線は、図中、概略的
にのみ示され、例えばX線フィルム又は光伝導体である
X線映像検出器7上に入射される。
1次ダイヤフラムの2つのダイヤフラム素子4及び4′
は(図には示されてない方法で)モーターにより変位さ
れ、制御は、X線源lを動作させるX線発生器8を制御
する制御論理装置7により実現される。
は(図には示されてない方法で)モーターにより変位さ
れ、制御は、X線源lを動作させるX線発生器8を制御
する制御論理装置7により実現される。
第1図用に選ばれた表示では、検査領域を画威する2つ
のダイヤフラム素子4及び4′は各制限位置を占める。
のダイヤフラム素子4及び4′は各制限位置を占める。
検査領域を画成する為、X線源lはスイッチオフされ、
光源3はスイッチオンされる。光源3により出射された
光は、ミラー2によりビーム路に投射され、2つのダイ
ヤフラム素子4及び4′により横方向に制限されて検査
さるべき対象5又は2つの2次ダイヤフラム素子6及び
6′により形成された検査面に入射する。検査さるべき
対象5又は検査面への入射光は検査領域をマークする。
光源3はスイッチオンされる。光源3により出射された
光は、ミラー2によりビーム路に投射され、2つのダイ
ヤフラム素子4及び4′により横方向に制限されて検査
さるべき対象5又は2つの2次ダイヤフラム素子6及び
6′により形成された検査面に入射する。検査さるべき
対象5又は検査面への入射光は検査領域をマークする。
検査領域のレベルで、1次スリットダイヤフラム素子4
及び4′の制限位置A及びBに対応する横の境界A′及
びB′が形成される。
及び4′の制限位置A及びBに対応する横の境界A′及
びB′が形成される。
2つの1次スリットダイヤフラム素子4及び4′は、手
かモーターで第1図に示す制限位置に可動自在である。
かモーターで第1図に示す制限位置に可動自在である。
第1図の照射装置を示す第2図の表示では、l次スリッ
トダイヤフラムの2つのダイヤフラム素子4及び4′は
、それらの通常位置、即ちそれらが検査さるべき対象の
X線照射用の線形、スリット形開口を形成する位置で示
される。
トダイヤフラムの2つのダイヤフラム素子4及び4′は
、それらの通常位置、即ちそれらが検査さるべき対象の
X線照射用の線形、スリット形開口を形成する位置で示
される。
XJ11照射中、1次スリットダイヤフラムの2つのダ
イヤフラム素子4及び4′と2次スリットダイヤフラム
の2つのダイヤフラム素子6及び6′は、互いに同期し
て動かされ、これによりそれらは、X線源゛の焦点lと
共に一つの面に配列されたままになる。
イヤフラム素子4及び4′と2次スリットダイヤフラム
の2つのダイヤフラム素子6及び6′は、互いに同期し
て動かされ、これによりそれらは、X線源゛の焦点lと
共に一つの面に配列されたままになる。
検査さるべき対象5のX線照射中、制御論理装置7はX
線発生器8及びX線源lを制御し、これにより、検査さ
るべき対象は、1次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子4及び4′の制限位置A及びBに対応する位置A
′及びB′間でだけ照射される。
線発生器8及びX線源lを制御し、これにより、検査さ
るべき対象は、1次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子4及び4′の制限位置A及びBに対応する位置A
′及びB′間でだけ照射される。
l次スリットダイヤフラム及び2次スリットダイヤフラ
ムの機械的変位は、最大の検査領域、例えば2次スリッ
トダイヤフラムの面での位置C′及びD′間で実現され
うる。その場合には例えば2次スリット面における位置
C′で始まり、もし初めにX線源がスイッチオフされる
なら、2次スリットと同様1次スリットは同期して動か
される。
ムの機械的変位は、最大の検査領域、例えば2次スリッ
トダイヤフラムの面での位置C′及びD′間で実現され
うる。その場合には例えば2次スリット面における位置
C′で始まり、もし初めにX線源がスイッチオフされる
なら、2次スリットと同様1次スリットは同期して動か
される。
X線源lがスイッチオンされるのは、1次スリットダイ
ヤフラムのダイヤフラム素子4がその制限位置Aに達し
た後だけである。その場合には、X線は、2次スリット
面において矢印A′の領域での放射線検出器7上に入射
する。続いて、1次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子4及び4′及びダイヤフラム素子6及び6′は、
ダイヤフラム素子4′がその制限位置Bに達するまで更
に同期して動く。そう成るや否や、X線発生器8は、更
にX線が放射線源1により出射されないよう、制御論理
装置7によりスイッチオフされる1次スリットダイヤフ
ラムのダイヤフラム素子4及び4′及び2次スリットダ
イヤフラムのダイヤフラム素子6及び6′は必要なら更
に極限位置D′に動かされうる。
ヤフラムのダイヤフラム素子4がその制限位置Aに達し
た後だけである。その場合には、X線は、2次スリット
面において矢印A′の領域での放射線検出器7上に入射
する。続いて、1次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子4及び4′及びダイヤフラム素子6及び6′は、
ダイヤフラム素子4′がその制限位置Bに達するまで更
に同期して動く。そう成るや否や、X線発生器8は、更
にX線が放射線源1により出射されないよう、制御論理
装置7によりスイッチオフされる1次スリットダイヤフ
ラムのダイヤフラム素子4及び4′及び2次スリットダ
イヤフラムのダイヤフラム素子6及び6′は必要なら更
に極限位置D′に動かされうる。
2つのダイヤフラムのダイヤフラム素子が、機械的に所
望の検査領域においてのみ又は極限位置(例えば、第2
図による位置C′及びD’)に動くかどうかにかかわら
ず、いずれにしても、検査さるべき対象は、1次スリッ
トダイヤフラム素子4及び4′の制限位置により画成さ
れた検査領域でのみ照射され、即ちX線源は、X線がこ
の領域内で検査さるべき対象に入射される時のみ活性化
されることは重要である。
望の検査領域においてのみ又は極限位置(例えば、第2
図による位置C′及びD’)に動くかどうかにかかわら
ず、いずれにしても、検査さるべき対象は、1次スリッ
トダイヤフラム素子4及び4′の制限位置により画成さ
れた検査領域でのみ照射され、即ちX線源は、X線がこ
の領域内で検査さるべき対象に入射される時のみ活性化
されることは重要である。
1次スリットダイヤフラム素子4及び4′の動きは、図
面に示す如く必ずしも線形である必要はないことに注意
すべきであり、1次スリットダイヤプラム素子は、1次
ダイヤフラム及び2次ダイヤフラムのスリット及びX線
源の焦点1が整列されるようxm源1の焦点の周りに回
動されてもよい。
面に示す如く必ずしも線形である必要はないことに注意
すべきであり、1次スリットダイヤプラム素子は、1次
ダイヤフラム及び2次ダイヤフラムのスリット及びX線
源の焦点1が整列されるようxm源1の焦点の周りに回
動されてもよい。
第1図は1次ダイヤフラムのダイヤフラム素子はそれら
の制限位置で示されるX線照射装置の本質的部品の概略
的系統図、 第2図はX線照射中の第1図の装置を示す図である。 ■・・・X線源、2・・・ミラー 3・・・光源、4,
4′6.6′・・・ダイヤフラム素子、5・・・対象、
7・・・X線映像検出器、8・・・X線発生器。
の制限位置で示されるX線照射装置の本質的部品の概略
的系統図、 第2図はX線照射中の第1図の装置を示す図である。 ■・・・X線源、2・・・ミラー 3・・・光源、4,
4′6.6′・・・ダイヤフラム素子、5・・・対象、
7・・・X線映像検出器、8・・・X線発生器。
Claims (5)
- (1)X線源(1)と放射線検出器(7)とからなり、
X線源の放射線は、検査されるべき対象(5)に投射さ
れる扇形ビームを形成するよう少なくとも1つの1次ダ
イヤフラムのスリット形開口を貫通し、それを横切って
直線的に案内されるX線照射装置であって、1次ダイヤ
フラムは、その通常の位置にスリット形開口を形成し、
検査領域を画成するよう夫々選択自在な制限位置に垂直
にスリット方向に動かされうる少なくとも2つのダイヤ
フラム素子(4、4′)からなり、検査されるべき対象
(5)上への光のその投映は、それらの制限位置でのダ
イヤフラム素子(4、4′)により制限され、検査領域
をマークする光源(3)が設けられ、検査さるべき対象
(5)のX線照射は、そのダイヤフラム素子(4、4′
)がそれらの各制限位置を占める1次ダイヤフラムの2
つの位置の間でのみ生じることを特徴とするX線照射装
置。 - (2)光源(3)の光はX線源(1)及び1次ダイヤフ
ラム間に配置された偏向ミラー(2)により結合される
ことを特徴とする請求項1記載のX線照射装置。 - (3)2つのダイヤフラム素子(4、4′)は手動でそ
れらの各制限位置に調整されうることを特徴とする請求
項2記載のX線照射装置。 - (4)2つのダイヤフラム素子(4、4′)はモーター
によりそれらの各制限位置に調整されうることを特徴と
する請求項1又は2記載のX線照射装置。 - (5)制限位置を蓄積し、X線照射の期間1次ダイヤフ
ラムのダイヤフラム素子(4、4′)がそれらの各制限
位置間に存在する期間に対してだけX線源(1)を活性
化させる制限論理装置(7)を設けたことを特徴とする
請求項3又は4記載のX線照射装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3928282A DE3928282A1 (de) | 1989-08-26 | 1989-08-26 | Roentgenaufnahmevorrichtung |
DE3928282.1 | 1989-08-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0393197A true JPH0393197A (ja) | 1991-04-18 |
Family
ID=6387964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2222323A Pending JPH0393197A (ja) | 1989-08-26 | 1990-08-23 | X線照射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5136627A (ja) |
EP (1) | EP0415484A3 (ja) |
JP (1) | JPH0393197A (ja) |
DE (1) | DE3928282A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011510711A (ja) * | 2008-01-28 | 2011-04-07 | リフレクティブ エックス−レイ オプティクス エルエルシー | X線撮影法によるx線撮像のための光学位置合わせシステムおよび位置合わせ方法 |
JP2015104460A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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