JPH03295140A - 高解像度荷電粒子線装置用の補正装置 - Google Patents
高解像度荷電粒子線装置用の補正装置Info
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- JPH03295140A JPH03295140A JP2226788A JP22678890A JPH03295140A JP H03295140 A JPH03295140 A JP H03295140A JP 2226788 A JP2226788 A JP 2226788A JP 22678890 A JP22678890 A JP 22678890A JP H03295140 A JPH03295140 A JP H03295140A
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Abstract
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Description
ールが設けられている高解像度荷電粒子線装置用の補正
装置に関するものである。
74号から既知である。この米国特許公報に記載されて
いるヘクサポール補正素子は、特に走査型透過電子顕微
鏡(STEM)の3次球面収差を補正するように構成さ
れている。この補正素子は軸方向収差だけがほとんどな
いように構成されている。非消光性2次の軸ずれ収差に
より、これら補正素子を用いると視野が比較的小さくな
ってしまう。ヘクサポール間に単一の磁界レンズを用い
ると、4次の開口収差により透過型電子顕微鏡のような
比較的広い視野を有する光学系における解像度の改善が
妨げられてしまう。
なく軸ずれ収差を補正できる補正装置を提供することに
ある。この目的を達成するため、本発明による補正装置
は、冒頭部で述べた補正装置において、円形レンズ系が
、隣接するヘクサポールの中心点に位置する節点を有し
、2個のヘクサポールのうちの一方のヘクサポールを単
位倍率で他方のヘクサポールに結像するように構成した
ことを特徴とする。
述したように光学的に配置されているから、補正装置は
、近軸領域においてテレスコピックになることができる
と共に回転性をなくすことができる0円形レンズ系の節
点に芯立てしたヘクサポールを用いることにより、透過
型電子顕微鏡の3次の球面収差を補正することができる
。この理由は、透過型電子顕微鏡においてヘクサポール
は最終画像にいかなる2次収差も発生させないためであ
る。円形レンズの集束性磁界の外側に位置するヘクサポ
ールの中心点は、円形レンズの中心点に一致する。円形
レンズ系は、好ましくはダブレットで構成する。
の2個のレンズを2fの距離だけ離間させる止共に互い
に同一のレンズで構成するのが好ましい。この構成にお
いて、2個のレンズのフィールド収差(field a
berration)は相互に補償し合い、従って画像
を乱すような収差が生ずることなく視野を大きく拡大す
ることができる。これら2個のレンズは好ましくは同一
の磁気コイルで構成し、これら磁気コイルを直列に接続
し2個のレンズに対してコイル電流の絶対値を同一にし
互いに反対向きに流れるコイル電流を供給する。このよ
うに構成することにより、レンズ系は回転対称性がなく
なり、レンズ系における異方性コマ収差の発生量が低減
されると共にいかなる4次の開口収差も低減される。
のとする。各ヘクサポールを2個のヘクサポール素子で
構成し、ヘクサポール素子の中心点を光軸方向に沿って
シフトさせて円形レンズの節点に正確に一致させること
ができる。このヘクサポール素子のシフトは、2個のヘ
クサポール素子の付勢バランスを制御することにより達
成できる。
ポール磁界の各々に12極磁界を重畳することができる
。この12極磁界は12極の磁界発生素子系内で発生す
る。
設け、このダブレットを入射側ヘクサポールの中心から
入射方向に焦点距離fを以て配置し、この付加的なダブ
レットの2個の円形レンズは互いに距離2fだけ離間さ
せる。
正すべきレンズに対して、補正すべきレンズのコマのな
い面が入射側ヘクサポールの中心面と一致するように配
置することにより、補正は最適化される。補正すべきレ
ンズのコマのない面が補正されるべきレンズの出射側境
界の外側に近接して位置するので、−層良好な最適化を
行うことができる。このように構成することにより、補
正されるレンズのコマのない面が、コマ収差のない円形
レンズダブレットによりダブレットのフィールドの十分
外側に位置する面に結像される装置が実現される。無収
差レンズを形成するため、コマ収差のない円形レンズダ
ブレットを適切に配置して補正されるレンズのコマのな
い面を補正装置の第1ヘクサポールの中心面に結像させ
ることができる。この結果、コマのない面は第1ヘクサ
ポールの中心点に容易に結像することができる。
ズのコマのない面から見て、2個のヘクサポールと2個
の円形レンズダブレットを存する8r系を構成すること
になり、この系において第2ダブレツトの第1焦点は補
正されるべきレンズのコマのない点に一致し、第1ダブ
レントの外側焦点はその節点に一致する。ヘクサポール
はこれら節点に芯立する。これら全ての光学素子は、補
正すべき装置に挿入される単一のハウジング内に収納す
ることができる。
トの2個のレンズを直列に接続し、補正されるレンズに
対して反対方向に付勢することができる。
を補正するのに特に有用である。
や電子ビーム装置用の半導体電子放出装置のような放出
される粒子のエネルギー拡散が比較的小さい粒子放出源
を有する装置である。
2のヘクサポール4を有するヘクサポール系を具えてい
る。この補正装置の第1部分1は第1の円形レンズ8と
第2の円形レンズ10を有する円形レンズダブレット7
を具え、中心面12に対して対称である。この中心面は
2個の円形レンズ間の真中で光軸14に直交して延在す
る。従って、これら2個のヘクサポールは相互に交換可
能である。同一構造のヘクサポールを節点16及び18
を中心にして芯立てする。尚、円形レンズダブレット7
の対称構造により、節点16及び18はヘクサポールの
中心に位置する。円形レンズダブレット7の節点を通り
光軸14と直交する面は節点面16’及び18′と称す
る。図示の実施例において、第1の円形レンズ8の第1
焦点20は節点16と一致し、第2の円形レンズ1oの
第2の焦点22は第1の円形レンズダブレットの節点1
8に一致する。2個の円形レンズ8及び10は互いに距
離2f離間しているから、第1円形レンズ8の第2焦点
24は第2の円形レンズ10の第1焦点26に一致し、
これらの焦点は共に中心面12内に位置する。各ヘクサ
ポールはダブレットで構成でき、各ヘクサポールの2個
の素子をわずかに相異するように付勢することにより中
心点を軸方向にシフトさせることができる。従って、こ
れら中心点を2個の円形レンズの焦点に正確に一致させ
ることができる。既に述べたように、各ヘクサポール磁
場も12極磁界系を用いて励磁させることができ、例え
ば12極磁場を発生させてヘクサポール磁場だけによっ
て生ずる非回転対称2性の5次間口収差を補償すること
ができる。尚、近軸ビームに影響を及ぼす2極及び4極
磁場は多重極素子によっては発生しないことに注意すべ
きである。
電流が流れるように直列接続した電磁コイルで構成する
。さらに、ヘクサポールは同一のもので共に円形レンズ
とす′ることか好ましい。
付加して結合補正素子3を形成する。
のものとし2個のレンズ32及び34を有している。
レット7の節点16に一致させる。これら2個のレンズ
32及び34も同様に互いに2fの距離だけ離間させ、
レンズ34の第1焦点38を第2レンズ34の第2焦点
40に一致させる。レンズ32の第1焦点42は補正さ
れるべきレンズ系510コマ収差のない面50に一致す
る。このレンズ系51は例えば電子顕微鏡の対物レンズ
とし、物体面52を有し、この物体面からシステム全体
を通るように図示したアキシャルビーム(Axial
ray)54及びフィールドビーム(Field ra
y)56が発生する。
lりこれらヘクサポールによる作用を受けない。第2の
円形レンズダブレット3oは、別のいがなる軸ずれ収差
を発生させることなくコマ収差のない面を第1ヘクサポ
ール2の中心面16′に結像する。
ブレットの形態をした円形レンズ系の一例を示す。この
レンズ系は2個のコイル6o及び62並びに2個のギャ
ップ66及び68が形成されている鉄のヨーク64を有
し、ギャップ66及び68を経て2個ノPiJ1望のレ
ンズ磁場を発生させる。コイルフォーマの中間部分7o
は二者択一的なものとして示す。
方向に付勢されるダブレットにおいてだけ存在するから
である。このレンズ系の節点72及び74は、ダブレッ
ト7の一部を構成する場合ヘクサポール2又は4の中心
点2o及び22のいずれかに一致し、ダブレット30の
一部を構成する場合にはコマのない面50又はヘクサポ
ール2の中心点20のいずれかに一致する。
置に用いることができる。第2の円形レンズダブレット
を設けて補正すべきレンズ系のコマのない面を伝達させ
る場合、このダブレットは荷電粒子ビームの伝播方向に
見て補正すべきレンズ系の後段に配置する必要がある。
顕微鏡の対物レンズを補正するのに特に有用である。
、 第2図は単一のハウジングに収納した補正装置円形レン
ズダブレットを示す線図である。 2.4・・・ヘクサポール 7.30・・・ダブレット 8、10.32.34・・・円形レンズ51・・・レン
ズ系 Cフ し−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、円形レンズ系を囲む第1及び第2のヘクサポールが
設けられている高解像度荷電粒子線装置用の補正装置に
おいて、前記円形レンズ系が2個のレンズを具え、これ
らレンズの各々が隣接するヘクサポールの中心面から焦
点距離fたけ離間して位置し、第1ヘクサポールの中心
面が第2ヘクサポールの中心面に結像されるように構成
したことを特徴とする高解像度荷電粒子線装置用の補正
装置。 2、前記2個の円形レンズが距離2fだけ互いに離間す
ることを特徴とする請求項1に記載の高解像度荷電粒子
線装置用の補正装置。 3、前記円形レンズ系の2個のレンズの各々が電磁コイ
ルを有し、これら電磁コイルを、反対向きの電流によっ
て付勢されるように直列に接続したことを特徴とする請
求項1又は2に記載の高解像度荷電粒子線装置用の補正
装置。 4、前記2個のヘクサポールを同一のものとしたことを
特徴とする請求項1、2又は3に記載の高解像度荷電粒
子線装置用の補正装置。 5、前記2個のヘクサポールの各々をダブレットで構成
し、これらダブレットの中心点を軸方向にシフトできる
ように構成したことを特徴とする請求項1、2、3又は
4に記載の高解像度荷電粒子線装置用の補正装置。 6、前記ヘクサポール磁界を12極磁界系内で発生させ
、2個のヘクサポールの各々に12極磁界を付加し、ヘ
クサポール磁界の非回転対称性の5次の収差を補正する
ように構成したことを特徴とする請求項1から5までの
いずれか1項に記載の高解像度荷電粒子線装置用の補正
装置。 7、前記2個の円形レンズの外側焦点に一致するヘクサ
ポールの中心点が、付勢された円形レンズの集束磁界の
外側に位置することを特徴とする請求項1から6までの
いずれか1項に記載の高解像度荷電粒子線装置用の補正
装置。 8、第2の円形レンズダブレットを付加し、この第2の
レンズダブレットを第1のヘクサポールの中心点から焦
点距離fだけ離間して位置させ、この第2のダブレット
の2個のレンズを互いに距離2fだけ離間させたことを
特徴とする請求項1から7までのいずれか1項に記載の
高解像度荷電粒子線装置用の補正装置。 9、入射面から見て8fレンズ系を構成することを特徴
とする請求項8に記載の高解像度荷電粒子線装置用の補
正装置。 10、補正されるべきコマ収差のないレンズ系を、その
コマ収差のない面が入射側のヘクサポールの中心面に結
像されるように構成したことを特徴とする請求項1から
9までのいずれかの1項に記載の荷電粒子ビーム装置。 11、補正されるべきレンズのコマ収差のない点が、出
射側境界に近接して位置することを特徴とする請求項1
0に記載の荷電粒子ビーム装置。 12、前記補正されるべきレンズを、プローブフォーミ
ングレンズとなるように構成したことを特徴とする請求
項10に記載の荷電粒子ビーム装置。 13、前記第2円形レンズダブレットの第1焦点が、補
正されるべきレンズのコマ収差のない点と一致し、第2
円形レンズダブレットが互いに距離2fだけ離間した2
個のレンズを有し、第2レンズダブレットの第2の焦点
が第1のヘクサポールの中心点と一致することを特徴と
する請求項10、11又は12に記載の荷電粒子ビーム
装置。 14、前記第2の円形レンズダブレットの電磁コイルを
、補正されるべきレンズを付勢する電流の向きと反対向
きの電流によって付勢されるように直列に接続したこと
を特徴とする請求項10、11、12又は13に記載の
荷電粒子ビーム装置。 15、比較的小さいエネルギー拡散の電子源が設けられ
ている電子ビーム装置に用いられることを特徴とする請
求項10から14までのいずれか1項に記載の高解像度
荷電粒子線装置用の補正装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP90200909.1 | 1990-04-12 | ||
EP90200909A EP0451370B1 (en) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | Correction system for a charged-particle beam apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03295140A true JPH03295140A (ja) | 1991-12-26 |
JP3207196B2 JP3207196B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=8204989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22678890A Expired - Lifetime JP3207196B2 (ja) | 1990-04-12 | 1990-08-30 | 高解像度荷電粒子線装置用の補正装置 |
Country Status (4)
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DE (1) | DE69026242T2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001516139A (ja) * | 1997-09-08 | 2001-09-25 | ツェーエーオーエス コレクテッド エレクトロン オプチカル システムズ ゲーエムベーハー | 電子光学系の三次球面収差の補正時に一次、二次および三次光軸の像の変形を除去する方法 |
JP2008123999A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-29 | Jeol Ltd | 収差補正装置及び収差補正方法 |
JP2009193963A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Fei Co | 収差補正器及び位相板を備えたtem |
JP2010080136A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Jeol Ltd | 収差補正装置および該収差補正装置を備える荷電粒子線装置 |
JP2010114068A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-05-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
US8035086B2 (en) | 2008-03-13 | 2011-10-11 | Hitachi, Ltd. | Aberration correction apparatus that corrects spherical aberration of charged particle apparatus |
WO2012014870A1 (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL9100294A (nl) * | 1991-02-20 | 1992-09-16 | Philips Nv | Geladen deeltjesbundelinrichting. |
US5466904A (en) * | 1993-12-23 | 1995-11-14 | International Business Machines Corporation | Electron beam lithography system |
DE69733873T2 (de) * | 1996-05-21 | 2006-04-06 | Fei Co., Hillsboro | Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte |
WO1999030342A1 (en) * | 1997-12-11 | 1999-06-17 | Philips Electron Optics B.V. | Correction device for correcting the spherical aberration in particle-optical apparatus |
DE19802409B4 (de) * | 1998-01-23 | 2006-09-21 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Anordnung zur Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung einer Linse, insbesondere der Objektivlinse eines Elektronenmikroskops |
US6069363A (en) * | 1998-02-26 | 2000-05-30 | International Business Machines Corporation | Magnetic-electrostatic symmetric doublet projection lens |
US6555818B1 (en) * | 1999-06-16 | 2003-04-29 | Jeol Ltd. | Transmission electron microscope |
US6552340B1 (en) | 2000-10-12 | 2003-04-22 | Nion Co. | Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus |
US6836373B2 (en) | 2000-11-16 | 2004-12-28 | Jeol Ltd. | Spherical aberration corrector for electron microscope |
DE10102527A1 (de) * | 2001-01-20 | 2002-07-25 | Ceos Gmbh | Elektrostatischer Korrektor |
DE10159308A1 (de) * | 2001-12-04 | 2003-06-12 | Ceos Gmbh | Teilchenoptischer Korrektor |
US6924488B2 (en) * | 2002-06-28 | 2005-08-02 | Jeol Ltd. | Charged-particle beam apparatus equipped with aberration corrector |
US6770887B2 (en) * | 2002-07-08 | 2004-08-03 | Ondrej L. Krivanek | Aberration-corrected charged-particle optical apparatus |
TW200703409A (en) * | 2005-03-03 | 2007-01-16 | Ebara Corp | Mapping projection type electron beam apparatus and defects inspection system using such apparatus |
WO2006101116A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Ebara Corporation | 電子線装置 |
WO2007013398A1 (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Ebara Corporation | 電子線装置 |
US7394069B1 (en) | 2005-08-30 | 2008-07-01 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Large-field scanning of charged particles |
DE102005050810A1 (de) * | 2005-10-24 | 2007-04-26 | Ceos Gmbh | Elektronenoptischer Korrektor für aplanatische Abbildungssysteme |
EP1783811A3 (en) * | 2005-11-02 | 2008-02-27 | FEI Company | Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus |
DE102006017686A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-18 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Elektronenoptischer Korrektor für aplanatische Abbildungssysteme |
JP2007335125A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Ebara Corp | 電子線装置 |
JP4533444B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-09-01 | 株式会社日立製作所 | 透過型電子顕微鏡用収差補正器 |
EP2131385A1 (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-09 | FEI Company | Hybrid phase plate |
EP2166557A1 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-24 | FEI Company | Method for correcting distortions in a particle-optical apparatus |
DE102009016861A1 (de) | 2009-04-08 | 2010-10-21 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlmikroskop |
US8129693B2 (en) | 2009-06-26 | 2012-03-06 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Charged particle beam column and method of operating same |
DE102009052392A1 (de) | 2009-11-09 | 2011-12-15 | Carl Zeiss Nts Gmbh | SACP-Verfahren und teilchenoptisches System zur Ausführung eines solchen Verfahrens |
EP2325862A1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
EP2339608B1 (en) | 2009-12-22 | 2014-05-07 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Electrostatic corrector |
EP2413345B1 (en) | 2010-07-29 | 2013-02-20 | Carl Zeiss NTS GmbH | Charged particle beam system |
JP5735262B2 (ja) | 2010-11-12 | 2015-06-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子光学装置及びレンズ収差測定方法 |
EP2511936B1 (en) | 2011-04-13 | 2013-10-02 | Fei Company | Distortion free stigmation of a TEM |
EP2584584A1 (en) | 2011-10-19 | 2013-04-24 | FEI Company | Method for adjusting a STEM equipped with an aberration corrector |
EP2704177B1 (en) | 2012-09-04 | 2014-11-26 | Fei Company | Method of investigating and correcting aberrations in a charged-particle lens system |
DE112014003890B4 (de) | 2013-09-30 | 2018-08-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
EP3591685A1 (en) | 2018-07-06 | 2020-01-08 | FEI Company | Electron microscope with improved imaging resolution |
DE102019122013B3 (de) | 2019-08-15 | 2021-01-14 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Teilchenoptischer Korrektor frei von axialen Fehlern sechster Ordnung und Elektronenmikroskop mit Korrektor |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4389571A (en) * | 1981-04-01 | 1983-06-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration |
US4414474A (en) * | 1982-02-17 | 1983-11-08 | University Patents, Inc. | Corrector for axial aberrations in electron optic instruments |
DE3841715A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-06-13 | Zeiss Carl Fa | Abbildender korrektor vom wien-typ fuer elektronenmikroskope |
-
1990
- 1990-04-12 DE DE69026242T patent/DE69026242T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-12 EP EP90200909A patent/EP0451370B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-07 US US07/564,221 patent/US5084622A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-30 JP JP22678890A patent/JP3207196B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001516139A (ja) * | 1997-09-08 | 2001-09-25 | ツェーエーオーエス コレクテッド エレクトロン オプチカル システムズ ゲーエムベーハー | 電子光学系の三次球面収差の補正時に一次、二次および三次光軸の像の変形を除去する方法 |
JP2007266008A (ja) * | 1997-09-08 | 2007-10-11 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | 電子光学系の像収差の補正方法 |
JP2008123999A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-29 | Jeol Ltd | 収差補正装置及び収差補正方法 |
JP2009193963A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Fei Co | 収差補正器及び位相板を備えたtem |
US8035086B2 (en) | 2008-03-13 | 2011-10-11 | Hitachi, Ltd. | Aberration correction apparatus that corrects spherical aberration of charged particle apparatus |
JP2010080136A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Jeol Ltd | 収差補正装置および該収差補正装置を備える荷電粒子線装置 |
JP2010114068A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-05-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
WO2012014870A1 (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
US8791423B2 (en) | 2010-07-27 | 2014-07-29 | Hitachi High-Technologies Corporation | Aberration correction device and charged particle beam device employing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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DE69026242T2 (de) | 1996-10-02 |
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DE69026242D1 (de) | 1996-05-02 |
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