JPH03289662A

JPH03289662A - フィルム露光装置およびフィルム露光方法

Info

Publication number: JPH03289662A
Application number: JP2330270A
Authority: JP
Inventors: Manabu Goto; 学後藤
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 1990-03-30
Filing date: 1990-11-30
Publication date: 1991-12-19
Anticipated expiration: 2014-04-26
Also published as: JP2886675B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、例えばＴＡ　Ｂ　（Ｔａｐｅ　Ａｕｔｏｍａ
ｔｅｄ　Ｂａｎｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使用
されるフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光装
置およびフィルム露光方法に関する。

〔従来の技術〕

物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリソグ
ラフィの技術か知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。

しかして、転写される回路パターンの位置ずれが生ずる
と回路基板用の場合には実装ミスとなるため、搬送され
るフィルムの正しい位置にフォトマスクのパターンの像
が露光されるよう位置合わせか必要とされる。この位置
合わせの精度は、例えば±１０μｍ以内であることが要
求されている。

この位置合わせは、従来、次のようにして行われていた
。すなわち、まず露光処理の前において、アライメント
用マークが設けられた露光見本をステージに配置し、ラ
ンプからの光をアライメント用マークが設けられたフォ
トマスクを通して露光してフォトマスク側アライメント
用マークの像を投影し、半透過性薄膜を介して、露光見
本上のアライメント用マークと結像したフォトマスク側
アライメント用マークの像の両方を顕微鏡によって観察
する。

フォトマスク側アライメント用マークの像と露光見本上
のアライメント用マークとか一致するように、フォトマ
スクの位置調節機構を操作してフォトマスクを光軸に直
角な方向に移動させて、位置合わせを行う。

このようにして位置合わせされたフォトマスクを物体（
面）とした場合の投影レンズの像面の位置に、フィルム
の一コマを正しく位置させるため、送りローラによるフ
ィルム送りの距離を予め設定するとともに像面の位置の
手前にスプロケットローラを配置して送り方向の精度を
向上させている。

さらに、予め設定された距離のフィルム送りの後に停止
したフィルムの一コマに対して位置決めピンを有するス
テージが上昇し、位置決めピンかフィルムの一コマの部
分のパーフォレーションに下側から嵌合して像面に対す
る光軸に直角な平面内での位置合わせが行われる。光軸
方向での像面に対する位置合わせは、ステージが下方か
ら押し上げたフィルムの一コマを抑える抑え板により行
われる。

このように従来の位置合わせは、露光装置の操業を始め
る前に、露光見本によってフォトマスクを正しい位置に
配置しておき、送りローラのステップ送りの送り距離と
、送り方向の精度と、ステージの位置決めピンのパーフ
ォレーションへの嵌合や抑え板とにより、露光しようと
するフィルムの一コマをフォトマスクに対して正しいと
される位置に配置するに過ぎないものである。すなわち
、露光中はフィルムに対して何のフィードバック制御も
なされていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このようなスプロケットローラや位置決
めピン等による機械的な位置合わせには、精度上限界か
あり、例えば±１０１１ｍ程度以下の位置合わせは、も
はやこの方式では行い得ない。

この原因は、例えば帯状に長いフィルムは完全な直線で
なく僅かながら蛇行している場合かある等による。この
場合には、スプロケットローラでフィルムを強制的に真
っ直ぐに搬送するようにしても、ステージ上で許容限度
以上にずれて搬送されることがある。

また、フィルムのパーフォレーションにステージに設け
た位置決めピンを強制的に嵌入させて位置決めしている
が、上記のように許容限度以上にずれて搬送されると、
パーフォレーションが傷んて広かってしまい、位置決め
ピンによる位置決めの精度がさらに低下してしまう。

また、基板に用いられるフィルムの厚さは、コストダウ
ン等の理由から薄くなる傾向にあり、例えば３０μｍ以
下の厚さになると、もはや位置決めピンによる方式は、
パーフォレーションの損傷の問題が大きく、採用し得な
い。

本発明の目的は、位置決めピンのパーフォレーションへ
の嵌入を不要にしつつ、正しい位置での像の投影を可能
にし、パターンの露光転写位置の精度のさらに高いフィ
ルム露光装置およびフィルム露光方法を提供することに
ある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明のフィルム露光装置は
、帯状のフィルムの長さ方向に沿って並ぶ複数のコマに
順次に回路パターンを露光していくフィルム露光装置で
あって、照射部と、照射部からの光か照射される位置に
配置されたフォトマスクと、フォトマスクの位置調節機
構と、照射されたフォトマスクの像を投影する投影レン
ズと、投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを一
コマずつステップ送りするフィルム送り機構とを具備し
、帯状のフィルムには、−コマの各々に対応して少なく
とも二つ以上のフィルム側アライメント用マークか形成
され、フォトマスクには、フィルムに投影して転写すべ
き回路パターンとともに、前記フィルム側アライメント
用マークのそれぞれに対応してフォトマスク側アライメ
ント用マークか形成されていることを特徴とする。

本発明のフィルム露光装置において、フィルム側アライ
メント用マークは、フィルムに形成された穴または透光
部により構成されていることか好ましい。

また、投影レンズによる像の投影位置に投影されたフォ
トマスク側アライメント用マークの一次投影像を再度投
影する光学系と、この光学系による二次投影像を受ける
検出器とを具備してなることが好ましい。

更に、フォトマスク側アライメント用マークの−次投影
像を、検出器が設けられた位置とは異なる位置に分割し
て投影する第２の光学系と、この第２の光学系による二
次投影像を受けるイメージセンサ−と、当該イメージセ
ンサ−を介して接続されたモニター機構とを具備してな
ることか好ましい。

本発明のフィルム露光方法は、上記のフィルム露光装置
を使用したフィルム露光方法であって、フィルム送り機
構によりフィルムの一コマかステップ送りされてきた時
に、その−コマに係るフィルム側アライメント用マーク
がフォトマスク側アライメント用マークの像の投影位置
に達したか否かを検出部により検出し、この検出部から
の信号によって一コマを停止させ、その後、露光を行う
ことを特徴とする。

本発明の他のフィルム露光方法は、上記のフィルム露光
装置を使用したフィルム露光方法であって、フィルム送
り機構によりフィルムの一コマをステップ送りし、この
ステップ送り後に停止したーコマに係るフィルム側アラ
イメント用マークの位置に、フォトマスク側アライメン
ト用マークの像か投影されるように、フォトマスク位置
調節機構を駆動してフォトマスクの位置制御を行い、そ
の後、露光を行うことを特徴とする。

本発明のフィルム露光方法において、フィルム送り機構
によりフィルムの一コマをステップ送りし、このステッ
プ送り後、フォトマスク位置調節機構を駆動することに
より、停止したーコマに係るフィルム側アライメント用
マークを含む領域に、フォトマスク側アライメント用マ
ークの一次投影像を走査させるとともに、当該フィルム
側アライメント用マークを透過した光を検出器により受
光させ、当該検出器よりの出力信号の立ち上がりカーブ
と立ち下がりカーブにおける互いに等しい出力レベルの
位置をそれぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に基
づいて、フォトマスク側アライメント用マークの像をフ
ィルム側アライメント用マークと一致させるようフォト
マスク位置調節機構を駆動して、フォトマスクの位置制
御を行い、その後、露光を行うことが好ましい。

〔作用〕

フォトマスク側アライメント用マークの投影像の位置を
、フィルム側アライメント用マークに一致させれば、フ
ォトマスクとフィルムの一コマの位置か合う。

フォトマスク側アライメント用マークの投影像の位置が
フィルム側アライメント用マークに一致したことを検出
してからフィルムの一コマを停止させるようにすれば、
停止位置の精度か高くなる。

ステップ送り後に停止したーコマのフィルム側アライメ
ント用マークの位置に、フォトマスク側アライメント用
マークが一致するようにフォトマスクの位置を調節すれ
ば、位置ずれして搬送された場合でも、それに追従して
フォトマスクの位置か変更されるので、投影される像の
位置精度か高くなる。

フィルム露光装置がフォトマスク側アライメント用マー
クの一次投影像を再度投影する光学系と、この光学系に
よる二次投影像を受ける検出器とを具備していれば、フ
ィルム側アライメント用マーりを透過した光か確実に検
出器により受光されるので、検出器が適正な出力信号を
発生し、これにより適正な位置制御が可能になる。

また、このフィルム露光装置を用い、検出器よりの出力
信号の立ち上がりカーブと立ち下がりカーブにおける互
いに等しい出力レベルの位置をそれぞれ記憶し、記憶さ
れたそれぞれの位置に基づいて、フォトマスクの位置制
御を行えば、フォトマスク側アライメント用マークの像
とフィルム側アライメント用マークとの重なり面積かほ
ぼ一定となる位置にフォトマスクを停止させることかで
きるのて、より確実な位置制御か可能になる。

イメージセンサ−と、モニター機構とを具備してなる露
光装置を用い、投影されたフォトマスク側アライメント
用マークの像をモニターする場合には、正しい位置制御
かなされているか否かを目視により確認することができ
る。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の説
明図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方向
に沿って順次にフォトマスクＭの回路パターンを露光し
ていくものである。

１０は照射部であり、超高圧水銀灯等のようにレジスト
が感度を有する光を効率的に放射するランプ１１を内蔵
している。

また、照射部１０は、レジストが感度を有する露光波長
の光（第４図中の実線）と、レジストが感度を有しない
アライメント波長の光を切り換えるフィルタを内蔵して
おり、このフィルタを切り換えることにより位置合わせ
時にはフォトマスクＭにアライメント波長の光が照射さ
れ、露光時には露光波長の光が照射される。このフィル
タとしては、例えばレジストが感度を有する５００ｎｍ
以下の光をカットするシャープカットフィルタか使用さ
れ、露光時にはこのシャープカットフィルタを光路から
退避させる。

Ｍはフォトマスクであり、照射部１０からの光か照射さ
れる位置に配置されている。このフォトマスクＭには、
第２図に示すように、フィルムＦに投影して転写すべき
回路パターンＭＰとともに、後述するフィルム側アライ
メント用マーク（以下「フィルム側マーク」という。）
ＦＭのそれぞれに対応してフォトマスク側アライメント
用マーク（以下「フォトマスク側マーク」という。）Ｍ
Ｍが形成されている。フォトマスク側マークＭＭは方形
状の不透明部分に十文字の透明部分を設けて構成してい
る。ＭＡは粗調整用マーつてある。

帯状のフィルムＦには、第３図に示すように、−コマＦ
ＩＯの各々に対応して二つのフィルム側マークＦＭか形
成されている。この例てはフィルム側マークＦＭは元型
の穴により構成されている。

ＭＭ’　はフォトマスク側マークの像てあり、このフォ
トマスク側マークの像ＭＭ’　は、後述するフォトマス
クＭの移動動作により、フィルム側マークＦＭを含む領
域、すなわち、投影レンズによる像の投影位置であるフ
ィルムＦの上面および穴よりなるフィルム側マークＦＭ
の仮想面ＦＫ上を走査される。

本実施例では、フィルム側マークＦＭおよびフォトマス
ク側マークＭＭは、フィルムＦの幅方向に二つ設けられ
ているが、これに限られず、フィルムの長さ方向や斜め
方向に二つ設けてもよい。

また、三つ、四つとさらに多く設けてもよい。

ＭＩＯはフォトマスクの位置調節機構であり、フォトマ
スクホルダーＭｌｌとサーボモータＭ１２を備えている
。後述のシステムコントローラ５０からの信号によって
サーボモータＭ１２が駆動されるとフォトマスクホルダ
ーＭｌｌか移動してフォトマスクＭか追従制御される。

このフォトマスクホルダーＭｌ＋は、光軸に直角な平面
内で互いに直角な二つの方向（Ｘ方向、Ｙ方向）におけ
るフォトマスクＭの位置を調節することか可能であり、
また光軸を中心としてフォトマスクＭを回転させる調節
（θの調節）が可能である。従って、フォトマスクホル
ダーＭｌｌを駆動するサーボモータＭ１２は、Ｘ。

Ｙ、θそれぞれの駆動か可能なように、実際には＝つ設
けられている。

２０は投影レンズであり、照射されたフォトマスクＭの
像を投影するものである。この投影レンズ２０は、例え
ば露光線幅５μｍ程度の解像度を有するものである。

３０はステージであり、第４図にも示すように、上面が
基準面であり、フィルムＦのステップ送り時にはエアを
吹き出し、露光時にはフィルムを真空吸着する真空吸着
孔３１か設けられている。３２は真空ポンプ、３４はバ
ルブである。この例ては、真空吸着孔３１は、フィルム
Ｆのステップ送りの際にフィルムＦをエアで浮上させる
逆風孔を兼用しており、３３はコンプレッサ、３５はバ
ルブである。３６３７はフィルムＦのステップ送りの際
にフィルムＦの前部および後部を浮上させるものである
。バルブ３４．３５は後述のシステムコントローラ５０
からの信号によって制御される。

４０は検出部てあり、この検出部４０は、第４図に示す
ように、対物レンズ４１と、集光レンズ４２と、検出器
４３とを有するユニットタイプのものである。

この例において検出部４０はステージ３０に埋め込ミミ
れ、対物レンズ４１かフィルム側マークＦＭとしての穴
を臨む位置に配置されている。検出器４３は、高感度の
光電変換素子よりなる変換器、例えば光電管またはフォ
トダイオード等からなる。また、検出器４３としてイメ
ージセンサ−を用いることもできる。４４は増幅器であ
る。

５０はＣＰＵを含むシステムコントローラである。

６０はフィルム送り機構てあり、投影レンズ２０による
像の投影位置に、フィルムＦの一コマＦＩＯをステップ
送りするものである。送りローラ６１はモータ６２によ
って駆動される。モータ６２はシステムコントローラ５
０からの信号により駆動開始され、後述するようにシス
テムコントローラ５０からの信号により減速された後、
検出部４０からの信号を受けたシステムコントローラ５
０からの信号により停止する。６３は押えローラ、６４
はスプロケットローラ、６５は押えローラ、６６、６７
は補助ローラ、６８は巻き出しリール、６９は巻き取り
リールである。

なお、粗調整用マークＭＡは、後述のフォトマスクＭの
位置制御を行う際の位置制御可能範囲内に、予めフォト
マスクＭを配置しておくものである。

次に、第１図のフィルム露光装置を使用した本発明のフ
ィルム露光方法の実施例を説明する。

フィルム送り機構６０によりフィルムＦの一コマＦＩＯ
かステップ送りされてきた時に、この−コマＦＩＯに係
るフィルム側マークＦＭか、フォトマスク側マークＭＭ
の像の位置に達したか否かを、検出部４０により検出す
る。

まず、システムコントローラ５０からモータ６２に駆動
開始信号か送られ、モータ６２が第５図の一定速度ｖ１
で回転してフィルムＦを送って時刻が第５図のｔｌにな
った時、システムコントローラ５０からの信号によりモ
ータ６２の速度が第５図のＶ。

に減速される。このｔｌの時刻は、フィルムの一コマＦ
ＩＯの長さ等に応じて予め設定される。

このＶ、に減速された状態で、検出部４０からの信号を
処理したシステムコントローラ５０からの停止信号を受
けて、モータ６２は回転を停止する。この時刻が第５図
のｔ２である。

システムコントローラ５０による停止信号の発生は以下
のようにして行われる。第３図に示すように、フィルム
の一コマＦＩＯが送られてきて、−コマＦＩＯに対応し
て設けられたフィルム側マークＦＭか、フォトマスク側
マークＭＭの像の投影位置に達すると、穴であるフィル
ム側マークＦＭを透過したアライメント波長の光（第４
図中の点線）により、検出部４０は信号を発生する。こ
の信号の強さの経時的変化を第６図に示す。

第４図に示すように、検出部４０はフィルムＦの幅方向
に二つ設けられており、システムコントローラ５０には
第６図に示すような形の信号か二つ送られることになる
が、フィルムＦの送り方向は通常幅方向に完全な直角で
はないので、二つの検出部４０からの信号は、時間的に
わずかにずれて送られる。

そこで、この実施例では、遅れて入力された検出部４０
からの信号の立ち下がり時（第６図のＴ３）に停止信号
を発生させるよう、システムコントローラ５０に信号処
理を行わせ、これによりモータ６２を完全に停止させる
（第６図のｈ）。

なお、システムコントローラ５０からの停止信号により
モータ６２が完全に停止する時刻は、遅れて入力された
検出部４０からの信号の立ち下がり時（第６図のＴ、）
に限定されるものではなく、補正値を予め設定しておく
ことにより、遅い方の立ち上がり、速い方の立ち下がり
および速い方の立ち上がりのいずれの時でもよい。

このように速度を減速させてから、検出部４０からの信
号によって停止させると、停止位置の精度か非常に高く
なる。

システムコントローラ５０からの停止信号により、フィ
ルムの一コマＦＩＯか停止すると、システムコントロー
ラ５０からバルブ３４．３５に信号が送られ、コンプレ
ッサ３３を閉にするとともに真空ポンプ３２を開にする
。これにより、−コマＦＩＯはステージ３０に真空吸着
される。

この状態で、さらに投影位置精度の高い露光を行うため
、フォトマスクＭの位置制御を行う。すなわち、−コマ
ＦＩＯのフィルム側マークＦＭのそれぞれの位置に、対
応するフォトマスク側マークＭＭの像が投影されるよう
にフォトマスク位置調節機構ＭＩＯを駆動して、フォト
マスクＭの位置をＸ方向およびＹ方向に移動させならび
に光軸を中心に回転させながら追従制御してフォトマス
クＭの位置合わせを行う。

詳しく説明すると、フォトマスクＭの位置を送り方向に
沿ったＸ方向に走査させると、検出部４０において発生
する電気信号は、第６図に示すように、フォトマスク側
マークＭＭの投影像がフィルム側マークＦＭに重なり始
める立ち上がり部分子１と、両者の重なり面積かほぼ一
定となる平坦部分子２と、フォトマスク側マークＭＭの
投影位置かフィルム側マークＦＭから外れ始める立ち下
がり部分子、とからなるパルス状の波形となる。

そこで、Ｘ方向においてフォトマスクＭを最終的に停止
させるべき位置は、マークの重なり面積か最大である平
坦部分子１の例えば中央に対応する時刻ｔ、のときの位
置に設定するのがよい。従って、システムコントローラ
５０には、走査した際のフォトマスクＭの位置の情報と
その時の検出部４０からの信号の値が記憶され、これら
を処理してフォトマスクＭのＸ方向における最適位置を
決定してサーボモータＭ１２に駆動信号を送る。

以上と同様にして、Ｙ方向についてもフォトマスクＭを
走査して検出部４０に信号を発生させ、システムコント
ローラ５０の信号処理によってＹ方向におけるフォトマ
スクＭの最適位置を決定してＹ方向のサーボモータＭ１
２に駆動信号を送る。

なお、上記のＸ方向、Ｙ方向の位置調節は、いずれか一
方の検出部４０を使って行う。Ｘ方向、Ｙ方向の位置調
節が終了した後は、他方の検出部４０からの信号を受け
なから、フォトマスクＭを光軸を中心として回転させて
走査する。この際の他方の検出部４０からの信号も第６
図と同様の形になるので、フォトマスクＭの回転角の情
報とその際の検出部４０からの信号の値により、回転方
向（θ方向）でのフォトマスクＭの最適位置を決定し、
θ方向のサーボモータＭ１２に駆動信号を送る。このよ
うにしてフォトマスクＭのＸ、　Ｙ、　　θの位置調節
が行われる。

以上のようにしてフォトマスクＭの位置合わせが終了し
た後、前述のシャープカットフィルタを退避させ、露光
波長の光が照射部１０から出射されるようにして、投影
位置に保持されたーコマＦ１０にフォトマスクＭの回路
パターンＭＰを露光する。

次に、第１図のフィルム露光装置を使用した本発明のフ
ィルム露光方法の他の実施例を説明する。

この実施例は、既述の実施例の方法と略同様であるが、
この例においては、遅れて入力された検出部４０からの
信号の立ち上がり時（第６図のＴ、）の際に、停止信号
を発生させるよう、システムコントローラ５０に信号処
理を行わせる。

そして、ステップ送り後におけるフォトマスクＭの位置
制御は次のようにして行われる。

フォトマスク位置調節機構ＭＩＯを駆動して、フィルム
側マークＦＭを含む領域に、フォトマスク側マークＭＭ
の一次投影像を走査させるとともに、フィルム側マーク
ＦＭを透過した光を検出器４３により受光させ、検出器
４３よりの出力信号の立ち上がりカーブと立ち下がりカ
ーブにおける互いに等しい出力レベルの位置、例えば第
９図のＴ、における出力値の１／１０の出力が検出され
た時の位置ｔ４およびｔ、をそれぞれ記憶し、記憶され
たそれぞれの位置に基づいて、例えば、ｔ４とｔ５との
中間点ｔ６に停止するようフォトマスク位置調節機構Ｍ
１０を駆動させる。

このような方法によれば、フォトマスク側マークＭＭの
像とフィルム側マークＦＭとの重なり面積がほぼ一定と
なる位置にフォトマスクＭを停止させることかできるの
で、より確実な位置制御か可能になる。

次に、本発明のフィルム露光装置の他の実施例について
説明する。

このフィルム露光装置は、第７図に示すように、フォト
マスク側マークＭＭの一次投影像を、検出器４３か設け
られた位置とは異なる位置に分割して投影する例えばハ
ーフミラ−４６よりなる第２の光学系と、この第２の光
学系による二次投影像を受けるイメージセンサ−７１と
、イメージセンサ−７１を介して接続されたモニター機
構７２とを具備してなるものである。

このような、フィルム露光装置を使用することにより、
イメージセンサ７１によって、投影されたフォトマスク
側マークＭＭの像をモニターすることかでき、操作者は
正しい位置制御がなされているか否かを目視により確認
することかてきる。

以上、本発明の実施例について説明したか、本発明のフ
ィルム露光装置においては、下記のように、種々変更を
加えることか可能である。

■フィルム側マークＦＭは、穴に限定されるものではな
く、穴に透光性のフィルム等を貼付したものであっても
よい。このような構成によれは、検出部４０ヘゴミか進
入することによる問題が発生しない。

■第８図に示すように、遮光シャッタ１５を露光光路中
に介挿させて遮光すると共に、楕円集光鏡１６に設けら
れた採光穴１７から例えば光ファイバー１８によってラ
ンプ１１よりの光をフォトマスク側マークＭＭに照射す
ることにより位置合わせを行い、露光時にはこの遮光シ
ャッタ１５を露光光路から退避させる方法によれば、シ
ャープカットフィルタを使用することなく露光波長の光
をそのまま位置合わせ用の光として用いることができる
。

また、本発明のフィルム露光方法においても、下記のよ
うに、種々変更を加えることか可能である。

■既述の実施例は、検出部４０からの信号Ｉこよりフィ
ルムの一コマＦＩＯを停止させた後、フォトマスクＭの
位置制御を行うものであるが、これに限られず、例えば
、予め定められた送り距離を検出部からの信号によらな
いて送るようにしてモータ６２を停止させた後、フォト
マスクＭの位置制御を行ってもよい。また、検出部４ｏ
からの信号によりフィルムの一コマＦＩＯを停止させる
動作のみで、フォトマスク側マークＭＭの像の投影位置
か最適位置になるならば、各コマごとにおけるフォトマ
スクＭの位置制御は不要であり、例えばフィルムの停止
動作をｌＯ回程度の複数回行った後、フォトマスクＭの
位置制御を１回行うようにしてもよい。

■フォトマスクＭの位置制御を行う場合において、フィ
ルム側マークＦＭが既知の半径を有する真円形等である
場合には、検出信号の立ち上がり状態を予測することが
可能であるので、当該真円の半径等を予めシステムコン
トローラ５０に記憶させることにより、検出信号の立ち
上がり時を検知するのみて位置制御することかてきる。

また、フィルム側マークＦＭの大きさかフォトマスク側
マークＭＭの大きさに比へて極めて小さい場合には、検
出信号は第１Ｏ図のようなビク状の形となるため、立ち
上がり位置および立ち下がりを考慮することなく、この
ピークに対応する位置に従って位置制御すればよい。

〔発明の効果〕

本発明のフィルム露光装置によれば、フォトマスクには
少なくとも二つ以上のフォトマスク側マークか形成され
、フィルムの一コマには、上記フォトマスク側マークの
それぞれに対応するフィルム側マークが形成されている
ので、両者のマークを一致させることにより、精度の高
い露光を行うことができる。

特に、フォトマスク側アライメント用マークの一次投影
像を再度投影する光学系と、この光学系による二次投影
像を受ける検出器とを具備しているものてあれば、より
適正な位置制御を行うことかできる。

本発明のフィルム露光方法によれば、フォトマスク側マ
ークとフィルム側マークとが一致したことを検出してか
らフィルムの一コマを停止させるので、精度の高い露光
を行うことかできる。

本発明の他のフィルム露光方法によれは、位置ずれして
搬送された場合でも、それに追従してフォトマスクの位
置か変更されるので、投影される像の位置精度が高くな
り、さらに精度の高い露光を行うことかできる。

特に、検出器よりの出力信号の立ち上がりカーブと立ち
下がりカーブにおける互いに等しい出力レベルの位置を
それぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に基づいて
、フォトマスクの位置制御を行えば、より確実な位置制
御が可能になる。

また、イメージセンサ−と、モニター機構とを具備して
なるフィルム露光装置を用い、投影されたフォトマスク
側アライメント用マークの像をモニターする場合には、
正しい位置制御がなされているか否かを目視により確認
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例のフィルム露光装置の説明図、
第２図はフォトマスク側アライメント用マークの説明図
、第３図はフィルム側アライメント用マークの説明図、
第４図は第１図に示した装置の要部をフィルムの送り方
向から見た説明図、第５図はモータの速度曲線図、第６
図、第９図および第１０図は検出信号の波形図、第７図
は検出部の一例を示す説明図、第８図は照射部よりの光
をフォトマスク側アライメント用マークに照射する一例
を示す説明図である。Ｆ・・・フィルム　　　　　Ｍ・・・フォトマスク１０
・・・照射部　　　　　　１１・・・ランプ１５・・・
遮光シャッタ　　　１６・・・楕円集光鏡１７・・・採
光穴　　　　　　１８・・・光ファイバーＭＰ・・・回
路パターンＦＭ・・・フィルム側アライメント用マークＭＭ・・・
フォトマスク側アライメント用マークＭＩＯ・・・フォ
トマスクの位置調節機構Ｍｌｌ・・・フォトマスクホル
ダーＭ１２・・・サーボモータ　　２０・・・投影レンズ３
０・・・ステージ　　　　　３１・・・真空吸着孔３２
・・・真空ポンプ　　　　３３・・・コンプレッサ３４
３５・・・バルブ　　　　３６．３７・・・昇降ローラ
４０・・検出部　　　　　　４１・・・対物レンズ４２
・・・集光レンズ　　　　４３・・・検出器４４・・・
増幅器　　　　　　４６・・・ハーフミラ−５０・・・
システムコントローラ６０・・・フィルム送り機構　６１・・・送りローラ６
２・・・モータ　　　　　　６３．６５・・・押えロー
ラ６４・・・スプロケットローラ６６、６７・・・補助ローラ６９・・・巻き取りリール７２・・・モニター機構６８・・・巻き出しリール７１・・・イメージセンサー牛４図ｊ２）○ 、＋５図１２時間＋６図１３２時藺牛７図牽８図中９図４６５時間十１０図時間　（イ装置）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）帯状のフィルムの長さ方向に沿って並ぶ複数のコ
マに順次に回路パターンを露光していくフィルム露光装
置であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置に配置されたフォトマ
スクと、フォトマスクの位置調節機構と、照射されたフォトマスクの像を投影する投影レンズと、投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを一コマず
つステップ送りするフィルム送り機構とを具備し、帯状のフィルムには、一コマの各々に対応して少なくと
も二つ以上のフィルム側アライメント用マークが形成さ
れ、フォトマスクには、フィルムに投影して転写すべき回路
パターンとともに、前記フィルム側アライメント用マー
クのそれぞれに対応してフォトマスク側アライメント用
マークが形成されていることを特徴とするフィルム露光
装置。
（２）請求項１に記載のフィルム露光装置を使用したフ
ィルム露光方法であって、フィルム送り機構によりフィルムの一コマがステップ送
りされてきた時に、その一コマに係るフィルム側アライ
メント用マークがフォトマスク側アライメント用マーク
の像の投影位置に達したか否かを検出部により検出し、この検出部からの信号によって一コマを停止させ、その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方法
。
（３）請求項１に記載のフィルム露光装置を使用したフ
ィルム露光方法であって、フィルム送り機構によりフィルムの一コマをステップ送
りし、このステップ送り後に停止した一コマに係るフィルム側
アライメント用マークの位置に、フォトマスク側アライ
メント用マークの像が投影されるように、フォトマスク
位置調節機構を駆動してフォトマスクの位置制御を行い
、その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方法
。
（４）請求項１に記載のフィルム露光装置において、フィルム側アライメント用マークは、フィルムに形成さ
れた穴または透光部により構成されていることを特徴と
するフィルム露光装置。
（５）請求項４に記載のフィルム露光装置において、投影レンズによる像の投影位置に投影されたフォトマス
ク側アライメント用マークの一次投影像を再度投影する
光学系と、この光学系による二次投影像を受ける検出器
とを具備してなることを特徴とするフィルム露光装置。
（６）請求項５に記載のフィルム露光装置を使用したフ
ィルム露光方法であって、フィルム送り機構によりフィルムの一コマをステップ送
りし、このステップ送り後、フォトマスク位置調節機構を駆動
することにより、停止した一コマに係るフィルム側アラ
イメント用マークを含む領域に、フォトマスク側アライ
メント用マークの一次投影像を走査させるとともに、当該フィルム側アライメント用マークを透過した光を検
出器により受光させ、当該検出器よりの出力信号の立ち
上がりカーブと立ち下がりカーブにおける互いに等しい
出力レベルの位置をそれぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に基づいて、フォトマスク側
アライメント用マークの像をフィルム側アライメント用
マークと一致させるようフォトマスク位置調節機構を駆
動して、フォトマスクの位置制御を行い、その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方法
。
（７）請求項５に記載のフィルム露光装置において、フォトマスク側アライメント用マークの一次投影像を、
検出器が設けられた位置とは異なる位置に分割して投影
する第２の光学系と、この第２の光学系による二次投影
像を受けるイメージセンサーと、当該イメージセンサー
を介して接続されたモニター機構とを具備してなること
を特徴とするフィルム露光装置。