JP2886675B2 - フィルム露光装置およびフィルム露光方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばTAB（Tape Automated Bonding）方
式の電子部品の実装に使用されるフィルム回路基板の製
作に好適なフィルム露光装置およびフィルム露光方法に
関する。

〔従来の技術〕

物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリソ
グラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集
積回路のほか、最近ではTAB方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。

しかして、転写される回路パターンの位置ずれが生ず
ると回路基板用の場合には実装ミスとなるため、搬送さ
れるフィルムの正しい位置にフォトマスクのパターンの
像が露光されるよう位置合わせが必要とされる。この位
置合わせの精度は、例えば±10μｍ以内であることが要
求されている。

この位置合わせは、従来、次のようにして行われてい
た。すなわち、まず露光処理の前において、アライメン
ト用マークが設けられた露光見本をステージに配置し、
ランプからの光をアライメント用マークが設けられたフ
ォトマスクを通して露光してフォトマスク側アライメン
ト用マークの像を投影し、半透過性薄膜を介して、露光
見本上のアライメント用マークと結像したフォトマスク
側アライメント用マークの像の両方を顕微鏡によって観
察する。

フォトマスク側アライメント用マークの像と露光見本
上のアライメント用マークとが一致するように、フォト
マスクの位置調節機構を操作してフォトマスクを光軸に
直角な方向に移動させて、位置合わせを行う。

このようにして位置合わせされたフォトマスクを物体
（面）とした場合の投影レンズの像面の位置に、フィル
ムの一コマを正しく位置させるため、送りローラによる
フィルム送りの距離を予め設定するとともに像面の位置
の手前にスプロケットローラを配置して送り方向の精度
を向上させている。さらに、予め設定された距離のフィ
ルム送りの後に停止したフィルムの一コマに対して位置
決めピンを有するステージが上昇し、位置決めピンがフ
ィルムの一コマの部分のパーフォレーションに下側から
嵌合して像面に対する光軸に直角な平面内での位置合わ
せが行われる。光軸方向での像面に対する位置合わせ
は、ステージが下方から押し上げたフィルムの一コマを
抑える抑え板により行われる。

このように従来の位置合わせは、露光装置の操業を始
める前に、露光見本によってフォトマスクを正しい位置
に配置しておき、送りローラのステップ送りの送り距離
と、送り方向の精度と、ステージの位置決めピンのパー
フォレーションへの嵌合や抑え板とにより、露光しよう
とするフィルムの一コマをフォトマスクに対して正しい
とされる位置に配置するに過ぎないものである。すなわ
ち、露光中はフィルムに対して何のフィードバック制御
もなされていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このようなスプロケットローラや位置
決めピン等による機械的な位置合わせには、精度上限界
があり、例えば±10μｍ程度以下の位置合わせは、もは
やこの方式では行い得ない。

この原因は、例えば帯状に長いフィルムは完全な直線
でなく僅かながら蛇行している場合がある等による。こ
の場合には、スプロケットローラでフィルムを強制的に
真っ直ぐに搬送するようにしても、ステージ上で許容限
度以上にずれて搬送されることがある。

また、フィルムのパーフォレーションにステージに設
けた位置決めピンを強制的に嵌入させて位置決めしてい
るが、上記のように許容限度以上にずれて搬送される
と、パーフォレーションが傷んで広がってしまい、位置
決めピンによる位置決めの精度がさらに低下してしま
う。

また、基板に用いられるフィルムの厚さは、コストダ
ウン等の理由から薄くなる傾向にあり、例えば30μｍ以
下の厚さになると、もはや位置決めピンによる方式は、
パーフォレーションの損傷の問題が大きく、採用し得な
い。

本発明の目的は、位置決めピンのパーフォレーション
への嵌入を不要にしつつ、正しい位置での像の投影を可
能にし、パターンの露光転写位置の精度のさらに高いフ
ィルム露光装置およびフィルム露光方法を提供すること
にある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明のフィルム露光装置
は、帯状のフィルムの長さ方向に沿って並ぶ複数のコマ
に順次に回路パターンを露光していくフィルム露光装置
であって、照射部と、照射部からの光が照射される位置
に配置されたフォトマスクと、フォトマスクの位置調節
機構と、照射されたフォトマスクの像を投影する投影レ
ンズと、投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを
一コマずつステップ送りするフィルム送り機構とを具備
し、帯状のフィルムには、一コマの各々に対応して少な
くとも二つ以上のフィルム側アライメント用マークが形
成され、フォトマスクには、フィルムに投影して転写す
べき回路パターンとともに、前記フィルム側アライメン
ト用マークのそれぞれに対応してフォトマスク側アライ
メント用マークが形成されていることを特徴とする。

本発明のフィルム露光装置において、フィルム側アラ
イメント用マークは、フィルムに形成された穴または透
光部により構成されていることが好ましい。

また、投影レンズによる像の投影位置に投影されたフ
ォトマスク側アライメント用マークの一次投影像を再度
投影する光学系と、この光学系による二次投影像を受け
る検出器とを具備してなることが好ましい。

更に、フォトマスク側アライメント用マークの一次投
影像を、検出器が設けられた位置とは異なる位置に分割
して投影する第２の光学系と、この第２の光学系による
二次投影像を受けるイメージセンサーと、当該イメージ
センサーを介して接続されたモニター機構とを具備して
なることが好ましい。

本発明のフィルム露光方法は、上記のフィルム露光装
置を使用したフィルム露光方法であって、フィルム送り
機構によりフィルムの一コマがステップ送りされてきた
時に、その一コマに係るフィルム側アライメント用マー
クがフォトマスク側アライメント用マークの像の投影位
置に達したか否かを検出部により検出し、この検出部か
らの信号によって一コマを停止させ、その後、露光を行
うことを特徴とする。

本発明の他のフィルム露光方法は、上記のフィルム露
光装置を使用したフィルム露光方法であって、フィルム
送り機構によりフィルムの一コマをステップ送りし、こ
のステップ送り後に停止した一コマに係るフィルム側ア
ライメント用マークの位置に、フォトマスク側アライメ
ント用マークの像が投影されるように、フォトマスク位
置調節機構を駆動してフォトマスクの位置制御を行い、
その後、露光を行うことを特徴とする。

本発明のフィルム露光方法において、フィルム送り機
構によりフィルムの一コマをステップ送りし、このステ
ップ送り後、フォトマスク位置調節機構を駆動すること
により、停止した一コマに係るフィルム側アライメント
用マークを含む領域に、フォトマスク側アライメント用
マークの一次投影像を走査させるとともに、当該フィル
ム側アライメント用マークを透過した光を検出器により
受光させ、当該検出器よりの出力信号の立ち上がりカー
ブと立ち下がりカーブにおける互いに等しい出力レベル
の位置をそれぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に
基づいて、フォトマスク側アライメント用マークの像を
フィルム側アライメント用マークと一致させるようフォ
トマスク位置調節機構を駆動して、フォトマスクの位置
制御を行い、その後、露光を行うことが好ましい。

〔作用〕

フォトマスク側アライメント用マークの投影像の位置
を、フィルム側アライメント用マークに一致させれば、
フォトマスクとフィルムの一コマの位置が合う。

フォトマスク側アライメント用マークの投影像の位置
がフィルム側アライメント用マークに一致したことを検
出してからフィルムの一コマを停止させるようにすれ
ば、停止位置の精度が高くなる。

ステップ送り後に停止した一コマのフィルム側アライ
メント用マークの位置に、フォトマスク側アライメント
用マークが一致するようにフォトマスクの位置を調節す
れば、位置ずれして搬送された場合でも、それに追従し
てフォトマスクの位置が変更されるので、投影される像
の位置精度が高くなる。

フィルム露光装置がフォトマスク側アライメント用マ
ークの一次投影像を再度投影する光学系と、この光学系
による二次投影像を受ける検出器とを具備していれば、
フィルム側アライメント用マークを透過した光が確実に
検出器により受光されるので、検出器が適正な出力信号
を発生し、これにより適正な位置制御が可能になる。

また、このフィルム露光装置を用い、検出器よりの出
力信号の立ち上がりカーブと立ち下がりカーブにおける
互いに等しい出力レベルの位置をそれぞれ記憶し、記憶
されたそれぞれの位置に基づいて、フォトマスクの位置
制御を行えば、フォトマスク側アライメント用マークの
像とフィルム側アライメント用マークとの重なり面積が
ほぼ一定となる位置にフォトマスクを停止させることが
できるので、より確実な位置制御が可能になる。

イメージセンサーと、モニター機構とを具備してなる
露光装置を用い、投影されたフォトマスク側アライメン
ト用マークの像をモニターする場合には、正しい位置制
御がなされているか否かを目視により確認することがで
きる。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例に係るフィルム露光装置の
説明図である。この装置は、帯状のフィルムＦの長さ方
向に沿って順次にフォトマスクＭの回路パターンを露光
していくものである。

10は照射部であり、超高圧水銀灯等のようにレジスト
が感度を有する光を効率的に放射するランプ11を内蔵し
ている。

また、照射部10は、レジストが感度を有する露光波長
の光（第４図中の実線）と、レジストが感度を有しない
アライメント波長の光を切り換えるフィルタを内蔵して
おり、このフィルタを切り換えることにより位置合わせ
時にはフォトマスクＭにアライメント波長の光が照射さ
れ、露光時には露光波長の光が照射される。このフィル
タとしては、例えばレジストが感度を有する500nm以下
の光をカットするシャープカットフィルタが使用され、
露光時にはこのシャープカットフィルタを光路から退避
させる。

Ｍはフォトマスクであり、照射部10からの光が照射さ
れる位置に配置されている。このフォトマスクＭには、
第２図に示すように、フィルムＦに投影して転写すべき
回路パターンMPとともに、後述するフィルム側アライメ
ント用マーク（以下「フィルム側マーク」という。）FM
のそれぞれに対応してフォトマスク側アライメント用マ
ーク（以下「フォトマスク側マーク」という。）MMが形
成されている。フォトマスク側マークMMは方形状の不透
明部分に十文字の透明部分を設けて構成している。MAは
粗調整用マークである。

帯状のフィルムＦには、第３図に示すように、一コマ
F10の各々に対応して二つのフィルム側マークFMが形成
されている。この例ではフィルム側マークFMは丸型の穴
により構成されている。

MM′はフォトマスク側マークの像であり、このフォト
マスク側マークの像MM′は、後述するフォトマスクＭの
移動動作により、フィルム側マークFMを含む領域、すな
わち、投影レンズによる像の投影位置であるフィルムＦ
の上面および穴よりなるフィルム側マークFMの仮想面FK
上を走査される。

本実施例では、フィルム側マークFMおよびフォトマス
ク側マークMMは、フィルムＦの幅方向に二つ設けられて
いるが、これに限られず、フィルムの長さ方向や斜め方
向に二つ設けてもよい。また、三つ、四つとさらに多く
設けてもよい。

M10はフォトマスクの位置調節機構であり、フォトマ
スクホルダーM11とサーボモータM12を備えている。後述
のシステムコントローラ50からの信号によってサーボモ
ータM12が駆動されるとフォトマスクホルダーM11が移動
してフォトマスクＭが追従制御される。このフォトマス
クホルダーM11は、光軸に直角な平面内で互いに直角な
二つの方向（Ｘ方向,Y方向）におけるフォトマスクＭの
位置を調節することが可能であり、また光軸を中心とし
てフォトマスクＭを回転させる調節（θの調節）が可能
である。従って、フォトマスクホルダーM11を駆動する
サーボモータM12は、X,Y,θそれぞれの駆動が可能なよ
うに、実際には三つ設けられている。

20は投影レンズであり、照射されたフォトマスクＭの
像を投影するものである。この投影レンズ20は、例えば
露光線幅５μｍ程度の解像度を有するものである。

30はステージであり、第４図にも示すように、上面が
基準面であり、フィルムＦのステップ送り時にはエアを
吹き出し、露光時にはフィルムを真空吸着する真空吸着
孔31が設けられている。32は真空ポンプ、34はバルブで
ある。この例では、真空吸着孔31は、フィルムＦのステ
ップ送りの際にフィルムＦをエアで浮上させる逆風孔を
兼用しており、33はコンプレッサ、35はバルブである。
36,37はフィルムＦのステップ送りの際にフィルムＦの
前部および後部を浮上させるものである。バルブ34,35
は後述のシステムコントローラ50からの信号によって制
御される。

40は検出部であり、この検出部40は、第４図に示すよ
うに、対物レンズ41と、集光レンズ42と、検出器43とを
有するユニットタイプのものである。この例において検
出部40はステージ30に埋め込まれ、対物レンズ41がフィ
ルム側マークFMとしての穴を臨む位置に配置されてい
る。検出器43は、高感度の光電変換素子よりなる変換
器、例えば光電管またはフォトダイオード等からなる。
また、検出器43としてイメージセンサーを用いることも
できる。44は増幅器である。

50はCPUを含むシステムコントローラである。

60はフィルム送り機構であり、投影レンズ20による像
の投影位置に、フィルムＦの一コマF10をステップ送り
するものである。送りローラ61はモータ62によって駆動
される。モータ62はシステムコントローラ50からの信号
により駆動開始され、後述するようにシステムコントロ
ーラ50からの信号により減速された後、検出部40からの
信号を受けたシステムコントローラ50からの信号により
停止する。63は押えローラ、64はスプロケットローラ、
65は押えローラ、66,67は補助ローラ、68は巻き出しリ
ール、69は巻き取りリールである。

なお、粗調整用マークMAは、後述のフォトマスクＭの
位置制御を行う際の位置制御可能範囲内に、予めフォト
マスクＭを配置しておくものである。

次に、第１図のフィルム露光装置を使用した本発明の
フィルム露光方法の実施例を説明する。

フィルム送り機構60によりフィルムＦの一コマF10が
ステップ送りされてきた時に、この一コマF10に係るフ
ィルム側マークFMが、フォトマスク側マークMMの像の位
置に達したか否かを、検出部40により検出する。

まず、システムコントローラ50からモータ62に駆動開
始信号が送られ、モータ62が第５図の一定速度v₁で回転
してフィルムＦを送って時刻が第５図のt₁になった時、
システムコントローラ50からの信号によりモータ62の速
度が第５図のv₂に減速される。このt₁の時刻は、フィル
ムの一コマF10の長さ等に応じて予め設定される。

このv₂に減速された状態で、検出部40からの信号を処
理したシステムコントローラ50からの停止信号を受け
て、モータ62は回転を停止する。この時刻が第５図のt₂
である。

システムコントローラ50による停止信号の発生は以下
のようにして行われる。第３図に示すように、フィルム
の一コマF10が送られてきて、一コマF10に対応して設け
られたフィルム側マークFMが、フォトマスク側マークMM
の像の投影位置に達すると、穴であるフィルム側マーク
FMが透過したアライメント波長の光（第４図中の点線）
により、検出部40は信号を発生する。この信号の強さの
経時的変化を第６図に示す。

第４図に示すように、検出部40はフィルムＦの幅方向
に二つ設けられており、システムコントローラ50には第
６図に示すような形の信号が二つ送られることになる
が、フィルムＦの送り方向は通常幅方向に完全な直角で
はないので、二つの検出部40からの信号は、時間的にわ
ずかにずれて送られる。

そこで、この実施例では、遅れて入力された検出部40
からの信号の立ち下がり時（第６図のT₃）に停止信号を
発生させるよう、システムコントローラ50に信号処理を
行わせ、これによりモータ62を完全に停止させる（第６
図のt₂）。

なお、システムコントローラ50からの停止信号により
モータ62が完全に停止する時刻は、遅れて入力された検
出部40からの信号の立ち下がり時（第６図のT₃）に限定
されるものではなく、補正値を予め設定しておくことに
より、遅い方の立ち上がり、速い方の立ち下がりおよび
速い方の立ち上がりのいずれの時でもよい。

このように速度を減速させてから、検出部40からの信
号によって停止させると、停止位置の精度が非常に高く
なる。

システムコントローラ50からの停止信号により、フィ
ルムの一コマF10が停止すると、システムコントローラ5
0からバルブ34,35に信号が送られ、コンプレッサ33を閉
にするとともに真空ポンプ32を開にする。これにより、
一コマF10はステージ30に真空吸着される。

この状態で、さらに投影位置精度の高い露光を行うた
め、フォトマスクＭの位置制御を行う。すなわち、一コ
マF10のフィルム側マークFMのそれぞれの位置に、対応
するフォトマスク側マークMMの像が投影されるようにフ
ォトマスク位置調節機構M10を駆動して、フォトマスク
Ｍの位置をＸ方向およびＹ方向に移動させならびに光軸
を中心に回転させながら追従制御してフォトマスクＭの
位置合わせを行う。

詳しく説明すると、フォトマスクＭの位置を送り方向
に沿ったＸ方向に走査させると、検出部40において発生
する電気信号は、第６図に示すように、フォトマスク側
マークMMの投影像がフィルム側マークFMに重なり始める
立ち上がり部分T₁と、両者の重なり面積がほぼ一定とな
る平坦部分T₂と、フォトマスク側マークMMの投影位置が
フィルム側マークFMから外れ始める立ち下がり部分T₃と
からなるパルス状の波形となる。

そこで、Ｘ方向においてフォトマスクＭを最終的に停
止させるべき位置は、マークの重なり面積が最大である
平坦部分T₂の例えば中央に対応する時刻t₃のときの位置
に設定するのがよい。従って、システムコントローラ50
には、走査した際のフォトマスクＭの位置の情報とその
時の検出部40からの信号の値が記憶され、これらを処理
してフォトマスクＭのＸ方向における最適位置を決定し
てサーボモータM12に駆動信号を送る。

以上と同様にして、Ｙ方向についてもフォトマスクＭ
を走査して検出部40に信号を発生させ、システムコント
ローラ50の信号処理によってＹ方向におけるフォトマス
クＭの最適位置を決定してＹ方向のサーボモータM12に
駆動信号を送る。

なお、上記のＸ方向、Ｙ方向の位置調節は、いずれか
一方の検出部40を使って行う。Ｘ方向、Ｙ方向の位置調
節が終了した後は、他方の検出部40からの信号を受けな
がら、フォトマスクＭを光軸を中心として回転させて走
査する。この際の他方の検出部40からの信号も第６図と
同様の形になるので、フォトマスクＭの回転角の情報と
その際の検出部40からの信号の値により、回転方向（θ
方向）でのフォトマスクＭの最適位置を決定し、θ方向
のサーボモータM12に駆動信号を送る。このようにして
フォトマスクＭのX,Y,θの位置調節が行われる。

以上のようにしてフォトマスクＭの位置合わせが終了
した後、前述のシャープカットフィルタを退避させ、露
光波長の光が照射部10から出射されるようにして、投影
位置に保持された一コマF10にフォトマスクＭの回路パ
ターンMPを露光する。

次に、第１図のフィルム露光装置を使用した本発明の
フィルム露光方法の他の実施例を説明する。

この実施例は、既述の実施例の方法と略同様である
が、この例においては、遅れて入力された検出部40から
の信号の立ち上がり時（第６図のT₁）の際に、停止信号
を発生させるよう、システムコントローラ50に信号処理
を行わせる。

そして、ステップ送り後におけるフォトマスクＭの位
置制御は次のようにして行われる。

フォトマスク位置調節機構M10を駆動して、フィルム
側マークFMを含む領域に、フォトマスク側マークMMの一
次投影像を走査させるとともに、フィルム側マークFMを
透過した光を検出器43により受光させ、検出器43よりの
出力信号の立ち上がりカーブと立ち下がりカーブにおけ
る互いに等しい出力レベルの位置、例えば第９図のT₂に
おける出力値の1/10の出力が検出された時の位置t₄およ
びt₅をそれぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に基
づいて、例えば、t₄とt₅との中間点t₆に停止するようフ
ォトマスク位置調節機構M10を駆動させる。

このような方法によれば、フォトマスク側マークMMの
像とフィルム側マークFMとの重なり面積がほぼ一定とな
る位置にフォトマスクＭを停止させることができるの
で、より確実な位置制御が可能になる。

次に、本発明のフィルム露光装置の他の実施例につい
て説明する。

このフィルム露光装置は、第７図に示すように、フォ
トマスク側マークMMの一次投影像を、検出器43が設けら
れた位置とは異なる位置に分割して投影する例えばハー
フミラー46よりなる第２の光学系と、この第２の光学系
による二次投影像を受けるイメージセンサー71と、イメ
ージセンサー71を介して接続されたモニター機構72とを
具備してなるものである。

このような、フィルム露光装置を使用することによ
り、イメージセンサ71によって、投影されたフォトマス
ク側マークMMの像をモニターすることができ、操作者は
正しい位置制御がなされているか否かを目視により確認
することができる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明の
フィルム露光装置においては、下記のように、種々変更
を加えることが可能である。

フィルム側マークFMは、穴に限定されるものではな
く、穴に透光性のフィルム等を貼付したものであっても
よい。このような構成によれば、検出部40へゴミが進入
することにより問題が発生しない。

第８図に示すように、遮光シャッタ15を露光光路中に
介挿させて遮光すると共に、楕円集光鏡16に設けられた
採光穴17から例えば光ファイバー18によってランプ11よ
りの光をフォトマスク側マークMMに照射することにより
位置合わせを行い、露光時にはこの遮光シャッタ15を露
光光路から退避させる方法によれば、シャープカットフ
ィルタを使用することなく露光波長の光をそのまま位置
合わせ用の光として用いることができる。

また、本発明のフィルム露光方法においても、下記の
ように、種々変更を加えることが可能である。

既述の実施例は、検出部40からの信号によりフィルム
の一コマF10を停止させた後、フォトマスクＭの位置制
御を行うものであるが、これに限られず、例えば、予め
定められた送り距離を検出部からの信号によらないで送
るようにしてモータ62を停止させた後、フォトマスクＭ
の位置制御を行ってもよい。また、検出部40からの信号
によりフィルムの一コマF10を停止させる動作のみで、
フォトマスク側マークMMの像の投影位置が最適位置にな
るならば、各コマごとにおけるフォトマスクＭの位置制
御は不要であり、例えばフィルムの停止動作を10回程度
の複数回行った後、フォトマスクＭの位置制御を１回行
うようにしてもよい。

フォトマスクＭの位置制御を行う場合において、フィ
ルム側マークFMが既知の半径を有する真円形等である場
合には、検出信号の立ち上がり状態を予測することが可
能であるので、当該真円の半径等を予めシステムコント
ローラ50に記憶させることにより、検出信号の立ち上が
り時を検知するのみで位置制御することができる。ま
た、フィルム側マークFMの大きさがフォトマスク側マー
クMMの大きさに比べて極めて小さい場合には、検出信号
は第10図のようなピーク状の形となるため、立ち上がり
位置および立ち下がりを考慮することなく、このピーク
に対応する位置に従って位置制御すればよい。

〔発明の効果〕

本発明のフィルム露光装置によれば、フォトマスクに
は少なくとも二つ以上のフォトマスク側マークが形成さ
れ、フィルムの一コマには、上記フォトマスク側マーク
のそれぞれに対応するフィルム側マークが形成されてい
るので、両者のマークを一致させることにより、精度の
高い露光を行うことができる。

特に、フォトマスク側アライメント用マークの一次投
影像を再度投影する光学系と、この光学系による二次撮
影像を受ける検出器とを具備しているものであれば、よ
り適正な位置制御を行うことができる。

本発明のフィルム露光方法によれば、フォトマスク側
マークとフィルム側マークとが一致したことを検出して
からフィルムの一コマを停止させるので、程度の高い露
光を行うことができる。

本発明の他のフィルム露光方法によれば、位置ずれし
て搬送された場合でも、それに追従してフォトマスクの
位置が変更されるので、投影される像の位置精度が高く
なり、さらに精度の高い露光を行うことができる。

特に、検出器よりの出力信号の立ち上がりカーブと立
ち下がりカーブにおける互いに等しい出力レベルの位置
をそれぞれ記憶し、記憶されたそれぞれの位置に基づい
て、フォトマスクの位置制御を行えば、より確実な位置
制御が可能になる。

また、イメージセンサーと、モニター機構とを具備し
てなるフィルム露光装置を用い、投影されたフォトマス
ク側アライメント用マークの像をモニターする場合に
は、正しい位置制御がなされているか否かを目視により
確認することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例のフィルム露光装置の説明図、
第２図はフォトマスク側アライメント用マークの説明
図、第３図はフィルム側アライメント用マークの説明
図、第４図は第１図に示した装置の要部をフィルムの送
り方向から見た説明図、第５図はモータの速度曲線図、
第６図、第９図および第10図は検出信号の波形図、第７
図は検出部の一例を示す説明図、第８図は照射部よりの
光をフォトマスク側アライメント用マークに照射する一
例を示す説明図である。 Ｆ……フィルム、Ｍ……フォトマスク 10……照射部、11……ランプ 15……遮光シャッタ、16……楕円集光鏡 17……採光穴、18……光ファイバー MP……回路パターン FM……フィルム側アライメント用マーク MM……フォトマスク側アライメント用マーク M10……フォトマスクの位置調節機構 M11……フォトマスクホルダー M12……サーボモータ、20……投影レンズ 30……ステージ、31……真空吸着孔 32……真空ポンプ、33……コンプレッサ 34,35……バルブ、36,37……昇降ローラ 40……検出部、41……対物レンズ 42……集光レンズ、43……検出器 44……増幅器、46……ハーフミラー 50……システムコントローラ 60……フィルム送り機構、61……送りローラ 62……モータ、63,65……押えローラ 64……スプロケットローラ 66,67……補助ローラ、68……巻き出しリール 69……巻き取りリール、71……イメージセンサー 72……モニター機構

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】帯状のフィルムの長さ方向に沿って並ぶ複
   数のコマに順次に回路パターンを露光していくフィルム
   露光装置であって、 照射部と、 照射部からの光が照射される位置に配置されたフォトマ
   スクと、 フォトマスクの位置調節機構と、 照射されたフォトマスクの像を投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを一コマず
   つステップ送りするフィルム送り機構とを具備し、 帯状のフィルムには、一コマの各々に対応して少なくと
   も二つ以上のフィルム側アライメント用マークが形成さ
   れ、 フォトマスクには、フィルムに投影して転写すべき回路
   パターンとともに、前記フィルム側アライメント用マー
   クのそれぞれに対応してフォトマスク側アライメント用
   マークが形成されていることを特徴とするフィルム露光
   装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載のフィルム露光装置を使用
   したフィルム露光方法であって、 フィルム送り機構によりフィルムの一コマがステップ送
   りされてきた時に、その一コマに係るフィルム側アライ
   メント用マークがフォトマスク側アライメント用マーク
   の像の投影位置に達したか否かを検出部により検出し、 この検出部からの信号によって一コマを停止させ、 その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方
   法。
3. 【請求項３】請求項１に記載のフィルム露光装置を使用
   したフィルム露光方法であって、 フィルム送り機構によりフィルムの一コマをステップ送
   りし、 このステップ送り後に停止した一コマに係るフィルム側
   アライメント用マークの位置に、フォトマスク側アライ
   メント用マークの像が投影されるように、フォトマスク
   位置調節機構を駆動してフォトマスクの位置制御を行
   い、 その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方
   法。
4. 【請求項４】請求項１に記載のフィルム露光装置におい
   て、 フィルム側アライメント用マークは、フィルムに形成さ
   れた穴または透光部により構成されていることを特徴と
   するフィルム露光装置。
5. 【請求項５】請求項４に記載のフィルム露光装置におい
   て、 投影レンズによる像の投影位置に投影されたフォトマス
   ク側アライメント用マークの一次投影像を再度投影する
   光学系と、この光学系による二次投影像を受ける検出器
   とを具備してなることを特徴とするフィルム露光装置。
6. 【請求項６】請求項５に記載のフィルム露光装置を使用
   したフィルム露光方法であって、 フィルム送り機構によりフィルムの一コマをステップ送
   りし、 このステップ送り後、フォトマスク位置調節機構を駆動
   することにより、停止した一コマに係るフィルム側アラ
   イメント用マークを含む領域に、フォトマスク側アライ
   メント用マークの一次投影像を走査させるとともに、 当該フィルム側アライメント用マークを透過した光を検
   出器により受光させ、当該検出器よりの出力信号の立ち
   上がりカーブと立ち下がりカーブにおける互いに等しい
   出力レベルの位置をそれぞれ記憶し、 記憶されたそれぞれの位置に基づいて、フォトマスク側
   アライメント用マークの像をフィルム側アライメント用
   マークと一致させるようフォトマスク位置調節機構を駆
   動して、フォトマスクの位置制御を行い、 その後、露光を行うことを特徴とするフィルム露光方
   法。
7. 【請求項７】請求項５に記載のフィルム露光装置におい
   て、 フォトマスク側アライメント用マークの一次投影像を、
   検出器が設けられた位置とは異なる位置に分割して投影
   する第２の光学系と、この第２の光学系による二次投影
   像を受けるイメージセンサーと、当該イメージセンサー
   を介して接続されたモニター機構とを具備してなること
   を特徴とするフィルム露光装置。