JPH03193126A - スルホン化ヘキサフルオロビス―aポリスルホン膜と流体分離方法 - Google Patents

スルホン化ヘキサフルオロビス―aポリスルホン膜と流体分離方法

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JPH03193126A
JPH03193126A JP2292228A JP29222890A JPH03193126A JP H03193126 A JPH03193126 A JP H03193126A JP 2292228 A JP2292228 A JP 2292228A JP 29222890 A JP29222890 A JP 29222890A JP H03193126 A JPH03193126 A JP H03193126A
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membrane
copolymer
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fluid mixture
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ジェイムズ・ハジミ・カワカミ
Benjamin Bikson
ベンジャミン・ビクソン
Gertrud Gotz
ゲルトルート・ゴッツ
Yurdagul Ozcayir
ユルダグル・オズカイイル
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1胛鬼旦ヱ 本発明は、改良された透析膜に関し、また核層を、流体
混合物中の成分を分離するのに用いる方法に関する。改
良された膜は、構造(1):[ここでSはスルホン酸基
又はその塩化物形である] の一般的タイブの反復単位を分子中に含有するスルホン
化ヘキサフルオロビス−Aポリスルホンポリマー若しく
はコポリマー膜である。
バックグラウンド従 ゝ 液体若しくは気体のいずれかである流体混合物の1成分
を、該成分と他の成分との混合物から選択的に透過させ
ることのできるスルボン化透析膜は、斯界において、成
分分離の簡便な、また滲在的に非常に有利な手段と認め
られている。実用的な工業操作の場合、斯かる膜は、流
体供給流れに含まれる所望成分の受容される分離若しく
は選択性レベルを達成でき、それと同時に、成分分離の
望ましく高い生産性若しくは透過率を達成できなければ
ならない。
多種にわたる流体分離を行なうのに種々の透析膜若しく
は半透膜が斯界に知られている。斯かる膜は等方性、複
合又は不均整タイプに分類され、而してこれらの構造も
斯界によく知られている。
本発明は或る種のスルホン化ふっ素化ポリスルホン樹脂
、その調製および使用に関し、更に特定するに、特定の
ふっ素化ポリスルホンから誘導されるカチオン交換樹脂
、斯かる樹脂から誘導される膜およびそれらの応用に関
する。
スルホン化ポリスルホンは有用な耐薬品性イオン交換樹
脂として斯界に知られている。スルホン化ポリアリール
エーテルスルホンの調製はJ、 P。
Quenti、nの米国特許第3.709゜841号お
よび同第4.054.707号に記載されており、更に
スルホン化ポリスルホンの調製の例は米国特許第4,2
68.650号、同第4.273.903号、同第4.
414、368号および同第4.508.852号に見
出すことができる。
スルホン化ポリスルホン膜の調製に関する付加的開示は
米国特許第4.717.395号、同第4゜207、1
82号、同第4.026.977号、同第3゜875、
096号および同第3.855.122号に見出すこと
ができる。
A、 No5hay  およびり、 M、 Robes
onの論文「スルホン化ポリスルホンJ  (J、 A
pp、 Po1. Sci、、20.1885−190
3(1976))で、三酸化硫黄/燐酸トリエチルの、
スルホン化剤としての使用が報告されている。
有用な透析膜であることが知られているポリマーの中に
下記のポリマー反復単位を有するスルホン化ビスフェノ
ール−Aポリスルホンがある:(以下ビスA SPSと呼称) 然るに、ポリマー主鎖中のCH3−C−CH3基をCF
、−CニーCF1基で置き換えるとき、膜形成特性、薬
品耐性および気体透過率における実質的改良が生じ、予
想外の而して従前予測し得なかった、改良された透過分
離特性が膜に付与される。
本発明のスルホン化ポリスルホン材料は、気体分離、逆
浸透および限外3濾過法の如き多くの膜分離法並びに透
析膜としての電気透析の如き電気化学膜分離に、また電
池隔離板膜として有利に用いることができる。
光月j月l要 本発明は、対応する非ふっ素化類似物と比較して予想外
の而して従前予測し得なかった透過性および選択性を示
す改良されたスルホン化ふっ素化ポリスルホン膜に関し
、また流体混合物の1成分を、該成分と他成分との混合
物から分離するのに斜上の膜を用いる方法に関する。ス
ルホン化ふっ素化ポリスルホン透析膜は、ポリマーのス
ルホン化により製造される、分子中に下記一般的タイブ
の構造のポリマー反復単位: (以下F6−ビスA−SPS) を有し、或はポリマー構造の少なくとも50モル%が下
記一般的構造の反復単位: (以下F6−ビスA−PS) を有する、コポリマーを含むポリマーである。
上記式中、Sはスルホン酸基又はその塩化物形であり、
nは分子中のポリマー反復単位の平均数を表わす。塩化
物形は典型的にはアンモニア基、アルカリ金属原子、ア
ルカリ土金属原子、遷移金属原子又は有機カチオン基を
含有しつる。
−日の5 な舌明 本発明は、流体混合物から或る成分を分離するための改
良方法を含む。本発明の方法において、或る種のスルホ
ン化ふっ素化ポリスルホンポリマーの透析膜を用いるこ
とにより、非ふっ素化ポリマーと比較して予想外の、従
前予測し得なかった高い透過率および選択性が得られる
と分かった。本発明方法に有用な透析膜の製造に用いら
れるコポリマーを含むスルホン化ふっ素化ポリスルホン
ポリマーは、分子中に、下記構造のスルホン化ヘキサフ
ルオロポリマー反復単位を有する:只 ここで、Sばスルホン酸基又はその塩化物形であり、n
はポリマー反復単位の平均数を表わす。nによって表わ
される単位数は、ポリマー分子の平均分子量が一般に約
io、ooo以上好ましくは約25、000〜80.0
00である如きものである。
本発明のスルホン化ポリスルホンのいくつかの典型的コ
ポリマーは、六ふっ素化ビスフェノールと慣用の非ふっ
素化ビスフェノールA1ヒドロキノン又は他の非ふっ素
化ビスフェノールとのコポリマーにして、該コポリマー
分子の少なくとも50モル%が六ふっ素化ビスフェノー
ルAポリスルホンで占められるポリスルホンコポリマー
をスルホン化することにより調製することができる。
CF3−C−(:F3基を含有するスルホン化ヘキサフ
ル第コポリマ−(I)の膜の透過性は、例3で得られた
結果から理解しつるように、 ン化膜の透過性と比べて気体透過性において多数倍の高
さを示すと分かった。スルボン化六ふっ素化ポリスルホ
ン膜(I)の透過性における実質的1 増加は全(予想外であり、従前予測することができなか
った。スルホン化ヘキサフルオロポリマー(I)が複合
膜例えば複合多孔質中空繊維膜の製造で超薄型被覆の付
着に常用される溶剤に、より容易に溶解し得、斯くして
より一様に被覆され且つ効率的な複合膜の製造を可能に
することも分かった。本発明のスルホン化ふっ素化ポリ
マー(I)はまた、斯界に知られた非ふっ素化ビスAポ
リスルホンより耐性が高いことも分かった。
本発明のスルホン化ポリスルホンポリマーは斯界に知ら
れたスルホン化方法により調製することができる。例え
ば、Quentinが、芳香族環の部分をヒドロキシス
ルホニル基(−3O3H、スルホン酸基とも呼ばれる)
で置換したポリマーの製造を記している米国特許第3.
709.842号を参照されたい。別の方法は、E、 
E、 Gi 1bert、”5ulfonationa
nd Re1ated Reactions” (R,
E、Krieger Publishing Co、 
NY (1977)並びにA、 No5hayおよびり
M、 Robeson、 J、 of Applied
 Polymer 5cienceV20、p 188
5 (1976)ニ見出t コトカテ@ ル。一般2 に、スルホン化は、不活性溶剤系でのスルホン化剤によ
るポリスルホンの溶液若しくは懸濁物の簡単な混和によ
り実施することができる。三酸化硫黄、クロロスルホン
酸およびオレウムは代表的スルホン化剤である。スルホ
ン化が生じる温度は、本発明のポリスルホンポリマーの
場合減成に対する化学抵抗が良好故にあまり臨界的でな
い。有利な温度は−25℃〜+80℃好ましくは0℃〜
+50℃範囲である。スルホン化生成物ポリマーは通常
、濾過、洗浄および乾燥の如き慣用技法によって反応混
合物から分離される。
本発明の、式(I)のスルホン化ポリスルホン生成物は
、スルホン結合基に対し末端フェニル部分上にスルホネ
ート基を有することが示されている。斯かる位置におけ
る置換は理論上最初に生じるけれども、スルホン化時ス
ルホネート基がポリマーの他の位置又は他のフェニル部
分で置換しうることは当業者により認識されよう。
スルホン化ヘキサフルオロポリマー(I)の置換度DS
は、スルホン化後のポリマー組成物中に存在するポリマ
ー反復単位の平均数の尺度である。典型的には、置換度
は平均して約0.2〜4好ましくは約0.5〜2である
。斯くして、もしも平均してポリマー反復単位(I)の
半分がスルホン化されるなら、置換度は0.5である。
本発明方法に用いられる流体分離膜は、稠密フィルムか
或は斯界で当業者に知られた任意の形状でありうる。ま
た、それは複合膜、不均整膜又は均質ないし等方性の膜
でありうる。膜は中空繊維若しくはチューブ形であり得
、またらせん形、フラットシート若しくは他の形状であ
りうる。当業者は、それらの製造に受容される多くの方
法を知っており、膜をこれらいずれの形状にも調製する
仕方を知っている。
本発明方法に用いられる等方性、複合若しくは不均整タ
イプの膜は一般に、少なくとも1成分を他成分との混合
で含有する流体混合物から少なくともl成分を選択的に
分画することができる単一の透析膜材料、構造(I)の
ポリマー反復単位を含有するスルホン化へキサフルオロ
ビス−Aボリスルホンボリマーより本質上なる。本発明
方法に用いられる不均整膜は、膜構造における二つ以上
の形態学的領域の存在によって識別される。斯かる領域
の一つは、少なくとも1成分を他成分との混合で含有す
る流体混合物から少なくとも1成分を選択的に透過しう
る薄い比較的稠密な半透過性スキンよりなり、他の領域
は、使用時膜の薄いスキン領域の崩壊を排除するのに役
立つ、あまり稠密でない多孔質の本質上非選択性支持領
域よりなる。複合膜は一般に、多孔質支持体上に付加さ
れる適当な半透膜材料、構造(I)のポリマー反復単位
を含有するスルホン化ヘキサフルオロビルAポリスルホ
ンポリマーの薄層ないし被覆を含む。
本発明の反復単位(I)を含有するスルホン化ふっ素化
ポリスルホンは純粋な膜形成性材料すなわちいくつかの
スルホン化ポリスルホンの混合物として或は他の有機な
いし無機材料との混合物で用いることができる。スルホ
ン化ふっ素化ポリスルホンは典型的に膜材料の組成物の
50M量%5 以上を占め、好ましくは70重量%以上を占める。スル
ホン化ふっ素化ポリスルホンとの混合物中に用いること
のできる無機材料のい(つかの典型的例は硫酸若しくは
スルホン酸の如き無機酸である。スルホン化ふっ素化ポ
リスルホンとの混合物として有用な他の材料は、中性か
又はイオン基を含有しつる高分子量ポリマー例えばポリ
ビニルピリジン、ポリエチレンイミン、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール等であり得、或は
低分子量の材料ないし可塑剤例えば有機塩、グリセリン
の如き多価アルコール、エチレンジアミン、ジエチレン
、トリアミン、アクリジン、ピペラジン、ピリジン等の
如き低分子量アミンでありうる。
フラットシート膜は、例えばメトキシエタノール、ジメ
チルホルムアミド等の適当な溶剤に、構造(I)のポリ
マー反復単位を含有するスルホン化ふっ素化へキサフル
オロビス−Aポリスルホンポリマーを溶かしてなる溶液
から、該溶液を流延し、溶剤を蒸発させ、その後キャス
トフィルム6 を減圧下若しくは昇温下又は同条件下で乾燥硬化させる
ことのより容易に調製される。斯かる薄いフィルム膜は
、厚さが約0.5ミル〜10ミル以上好ましくは約1ミ
ル〜3ミルで変動しつる。
しかしながら、フラットシート膜は、気体分離若しくは
逆浸透用に好ましい商用形態ではない。大規模な商業用
途では、中空繊維透析膜は一般に、それがモジュールと
して二次加工されるとき容量単位当り有意に、より大き
な表面積をもたらす故に一般的に一層望ましい。透析膜
層な表面に持つ多孔質中空繊維支持体を含む複合中空繊
維膜は流体分離で有利に用いられる。その製造方法はよ
く知られている(例えば、”Hollow Fiber
sManufacture and Applicat
ion”、編集J、 5cott。
Noyes Data Corporation、 N
、J、 1981. p 264以下を参照のこと)。
多孔質中空繊維ポリスルホン支持体は複合膜の調製に特
に有用である。多孔質ポリスルホン中空繊維は、斯界に
知られているように、溶剤/非溶剤混合物中のポリスル
ホン溶液から、Cabasso等、”Composit
e Hollow FiberMembranes  
、  Journal  of  Applied  
PolymerScience、23.1509−15
23および米国内務省、水質調査科学技術庁、1975
年7月の契約番号14−30−3165用に準備された
”Re5earchand Development 
of N5−1 and Re1ated Po1y−
sulfone Hollow Fibers For
 Reverse OsmosisDesalinat
ion of Seawater  、 P8248,
666に記載の方法を用いて製造される。紡糸法に、周
知のチューブ・イン・チューブ・ジェット技法を用い、
はぼ室温の水を繊維用外部冷媒とした。繊維の中心内腔
における冷媒は空気であった。冷却に続いて、広範囲の
洗浄を行ない気孔形成性材料を除去した。洗浄の後、中
空繊維を熱風乾燥炉に通すことによって昇温乾燥した。
本発明方法に用いたスルホン化ヘキサフルオロビス−A
ポリスルホン分離膜は、メタンよりも水素、またメタン
よりも二酸化炭素、更にまた窒素よりも酸素に関し高い
気体分離を示し、しかも透過速度ないしフラックスが良
好であった。斯かる高い分離特性と透過特性との組合せ
を以てこれら成分を分離する膜の能力は全く予想外であ
り、従来技術のスルホン化ポリスルホンによってしばし
ば示される結果より優れている。例3に示される如く、
本発明のスルホン化ヘキサフルオロビスAポリスルホン
(F6−ビスA−3PS)の使用は、分離プロセスに非
ふっ素化スルホン化ビス−Aポリスルホン(ビスA−8
PS)膜を用いるときに達成されるよりも有意に高い透
過率を示した。例3のデーターは、F6−ビスA−3P
S膜がビスA−8PSより約4倍以上高いヘリウム透過
率および約6倍以上高い酸素透過率を有することを示し
、而してこれらの結果は全く予想外であった。
本発明の膜によって分離される流体混合物は液体、気体
、これらの混合物又は懸濁粒子の混合物でありうる。典
型的な気体混合物は空気、水素/窒素、水素/メタン、
酸素/窒素、アンモニア/窒素、二酸化炭素/酸素、二
酸化炭素/メタン、硫化水素/メタン等である。典型的
な液体混合物は塩と染料の水溶液、水中油懸濁物、砂糖
液9 等である。
特記しない限り、ポリマーの固有透過性および選択性は
フラットシート膜を用いて決定した。
これらの膜は、ポリマーの溶剤溶液からガラスプレート
上に流延させて約1〜3ミル厚の膜を形成し、自然乾燥
することによって調製した。自然乾燥した膜はガラスプ
レートからストリッピングし、70℃の真空炉で1週間
乾燥した。乾燥した膜を2枚のアルミニウム箔にサンド
ウィッチして2、54 c m直径部分を暴露し、透過
セルに入れ、そしてエポキシ樹脂でシールした。セルの
下流側を約2X 10””mmHgまで排気し、上流側
から透過供給ガスを導入した。下流側に透過した気体の
圧力は、MKS−バラトン圧力変換器を用いて測定した
。透過係数Pは定常状態の気体透過率から次式に従って
算定した: dp/dt P=CXVXLX C−常数 ■=収集用受器の容量  0 L−膜の厚さ h−上流圧力 ap/at一定常状態のライン勾配 極限粘度を決定するのに、三つの異なる濃度(0,40
,0,27および0.20 g / d 12 )で還
元粘度ないし内部粘度を測定し、プロットした。各曲線
を零に外挿した。極限粘度は、曲線とy軸との交点と原
点との距離として求めた。測定はウベローデ型粘度計中
25℃で行なった。スルホン化試料の極限粘度は0.5
 N −N a CI20 、ジメチルホルムアミド溶
剤混合物中で測定し、非スルホン化ポリマーの極限粘度
はジメチルホルムアミド又はテトラヒドロフラン中で測
定した。
透過係数PをBarrer単位で記録する。ここで、B
arrerは下記の如く定義される:P、Barrer
 =10−” xcm”(STP)cm/cm”sec
°cmHg下記例は本発明を例示するのに役立つ。
例−−1 Am撹拌機、添加用2戸斗および温度計を備えた反応器
フラスコに、式: のポリマー反復単位を複数含む、4,4“−[2,2,
2トリフルオロ(トリフルオロメチル)エチリデン]ビ
スフェノールと4,4°−ジクロロジフェニルスルホン
とのポリマー10g(以下F6−ビスA−PSと呼称)
および塩化メチレン100mρを装入し、溶解するまで
室温で撹拌した。室温にしたまま、クロロスルホン酸4
.08 m Qの塩化メチレン(36mβ)溶液を添加
用炉斗により15分間にわたって添加した。フラスコの
内容物を常時アルゴン雰囲気下に保持した。反応混合物
が濁化した短い期間、室温で2時間撹拌後、緑色の非常
に粘稠なタフィ−様生成物が生じた。塩化メチレンをデ
カンテーションし、スルホン化ポリマー(以下F6−ビ
スA−3PSと呼称)を三回塩化メチレンで洗浄した。
粗製F6−ビスA−3PSは窒素下エタノールに溶解し
、30℃で回転蒸発させて残留塩化メチレンを除去し、
次いで、透析して残留無機酸を除去した。透析生成物を
50℃で回転蒸発させ、50℃で減圧乾燥した。式:の
ポリマー反復単位を複数含み、以下に示す平均DSを有
するF6−ビスA−3PSを微細な粒状材料として回収
した。F6−ビスA−3PSの極限粘度は0.58dn
/gであり、先駆物質F6−ビスA−PSの出発材料の
場合の0.59dI2/gと比較される。極限粘度がこ
のように近似している事実は、スルホン化反応時ポリマ
ーが減成しないことの明らかな証拠である。F6−ビス
A−Spsのイオン交換容量(I EC)は1.39m
eq/g固体、H′″形であった。DSはポリマー反復
単位当り平均スルホン酸基0.85であった。
B−比較のため、式: のポリマー反復単位を複数含むポリビスフェノール−A
エーテルスルホン(Amoco Performanc
eProducts Inc、の市販品UDEL 35
00)をスルホン化した。撹拌機、添加用?戸斗および
温度計を備えた反応器フラスコに、150℃で乾燥した
ビスA−PS粉末500gを約3時間で装入し、塩化メ
チレン2,500mj2を添加し、溶解するまで室温で
撹拌した。溶液を5℃に冷却し、不活性ガス雰囲気を保
持しながらクロロスルホン酸97m1の塩化メチレン(
388mβ)溶液を1.5時間にわたり5℃で添加した
。反応混合物を更に2時間5℃で撹拌した。塩化メチレ
ンをデカンテーションし、フラスコに残存するスルホン
化ポリマー(以下ビスA−8PSと呼称)の軟質層を引
続き六回塩化メチレン1.000m1/回で洗浄した。
ビスA−3PSは連続的洗浄の回毎に粘稠化した。粗製
ビスA−3PSをインプロパツール1. OOOmβと
脱イオン水75mβとの混合物に溶解し、30分足らず
の撹拌後、濁った黄金色溶液を得た。溶液を回転蒸発さ
せ、残留塩化メチレン溶剤 4 を除去し、567gの恒量(収率94%)になるまで5
0℃で減圧乾燥した。式: のポリマー反復単位を複数含み、以下に示す平均DSを
有するビスA−SPSは、白色の非常に硬い岩様物質で
あり、ボールミルで3日間ローリングすることによって
粉末形状に粉砕せねばならなかった。ビスA−8PSの
極限粘度は0.27 dρ/gであり、先駆物質ビスA
−PSの出発材料と比較された。極限粘度がこのように
有意に減少した事実は、ポリマー減成を最小限にする試
みの中で用いた低いスルホン化温度でさえポリマーはス
ルホン化反応時有意な減成を示したことの明らかな証拠
である。ビスA−SPSのイオン交換容量は1.19m
eq/g固体、H”形であった。DSはポリマー反復単
位当り平均スルポン酸基0.6であった。
例  2 八−撹拌機、温度計、窒素導入用チューブ君よび添加枦
斗を備えた14四つロフラスコに、F6−ビス−PS2
5gおよび塩化メチレン250m℃を装入し、溶解する
まで室温で撹拌した。これを−40℃に冷却し、クロロ
スルホン酸10゜2mβの塩化メチレン(90mρ)溶
液を枦斗により15分間にわたって添加した。−4℃〜
3℃で撹拌した後、温度を室温に上げた。約2時間の撹
拌後、塩化メチレンをデカンテーションした。反応を窒
素雰囲気下で実施した。粗製F6−ビスA−spsを室
温で三回塩化メチレン250mρ/回で洗浄してタフィ
−様F6−ビスA−SPSを得た。これを90/10イ
ソプロパツール/水溶液に溶解し、ヘキサンに注ぐこと
により沈殿させた。白色の塊状粘着質生成物を得た。こ
れをメタノールに溶解し、透析し、回転蒸発させ、50
℃で減圧乾燥し、微細粒状F6−ビスA−SPS(20
,5g>を回収した。極限粘度ば0.48 d fl/
gであった。IECはt、18meq/g固体、H3形
であった。DSはポリマー反復単位当りの平均スルホン
酸基0.7であった。
B−上記バートAからのF6−ビスA−3PSのジメチ
ルホルムアミド溶液より膜を流延させた。70℃の減圧
炉内で1週間乾燥後、膜は下記CおよびDに示す如(塩
化物形に転化した。
Ω−Bに示した如く調製した膜をGO(No3)2の1
モル溶液に一夜入れたままにし、数回脱イオン水でリン
スした後、膜を110℃の真空炉で一夜乾燥した。
D−Bに示した如く調製した膜をアンモニア雰囲気に一
装置いたままにした。窒素で徹底的にフラッシングした
後、膜を透過実験に用いた。
透過結果を表■に記載する。また、イオン形H゛の膜も
表■に示す。
 7 人−一1 酸素透過係数   0.9   1.17  1.24
窒素透過係数   0.13  0.18  0.19
α0□/N26.9   6.4   6.5a He
 / N 2  151  153  131[a]3
0℃で測定した透過係数、Barrerデーターが示す
如く、スルホン酸基のカチオン形は透過係数ないし分離
率に影響を及ぼす。
髭−1 A−4℃反応器にビスA−PS250gと塩化メチレン
2.500 mρを装入し、窒素下溶解し、−4℃に冷
却した。30分間にわたって、クロロスルホン酸48.
5 m 9の塩化メチレン430mβ溶液を約−2℃〜
−4℃で添加した後、更に1時間撹拌した。反応時、塩
化メチレン300m4を添加して、既に蒸発してしまっ
たものに取って代わらせた。反応全体にわたって、窒素
雰囲 8 気を保持した。メタノール/水の9515溶液を添加し
て残留クロロスルホン酸を分解することにより反応を終
了させ、次いで溶剤をデカンテーションした後、30℃
での回転蒸発により塩化メチレンを除去した。粗製ビス
A−3PSをジメチルホルムアミド850mρに溶解し
、10倍過剰のイソプロパツールに注ぐことによって沈
殿させ、濾過し、イソプロパツールで洗浄し、そして5
0℃で減圧乾燥して精製塊状ビスA−3PS275gを
得た。極限粘度は0.35 d I2/ gであった。
IECは1.02meq/g固体、H+形であった。D
Sはポリマー反復単位当り平均スルホン酸基0.5であ
った。
旦−フラットフィルム膜なジメチルホルムアミドから流
延させ、上記の如く透過性および選択性を決定した。0
,5のDSを有するこれらビスA−sps膜を以て得ら
れた透過結果は、表II中0.7のDSを有する例2、
バートAのF6−ビスA−3PS膜と比較される。デー
ターは、F6ビスA−3PS膜が、本例3、バートAの
非ふっ素化ビスA−8PSポリマーを以て製造したビス
A−3PSより約4倍以上高いヘリウム透過性、6倍以
上高い酸素透過性を有することを示し、それによってふ
っ素化F6−ビスA−3PSポリマー膜を用いるときに
達成される利益が予想外であると分かった。
DS 0、5         0.7 酸素透過係数     0.15    0.9窒素透
過係数     0゜022   0.13α02/N
2    6.8     6.9a He / N 
2   220    151[a]30℃で測定した
透過係数、Barrer性−A A−4℃反応器にF6−ビスA−PS200gと塩化メ
チレン2. OOOmβを装入し、窒素下攪拌した。溶
液を一4℃に冷却し、30分間にわたって、クロロスル
ホン酸47.9 mρの塩化メチレン430mβ溶液を
添加した。反応器の内容物を約−20℃〜25℃で加熱
し、そして窒素下5時間撹拌した。塩化メチレンをデカ
ンテーションし、固体ポリマーを3回塩化メチレン2.
 OOOm4/回で洗浄することにより反応を終了させ
た。
粗製F6−ビスA−3PSをエタノール2ρ十水60m
j2で一夜スラリー化し、次いで30’Cで回転蒸発さ
せ、そして30℃で2日間減圧乾燥した。塩酸臭がスル
ホン化反応生成物の半分である精製F6−ビスA−3P
8203gを得た。F6−ビスA−3PSのDSはポリ
マー反復単位当り平均スルホン酸基0.4であった。I
ECは0.74m e q / g固体、H+形であっ
た。
B−フラットフィルム膜を、未透析F6−ビスA−8P
Sのジメチルホルムアミド溶液から流延させ、透過性お
よび選択性を上述の如(決定した。透析結果を表Inに
示す。
鮭−1 八−反応器にF6−ビスA−3PS125g1 と塩化メチレン1.250 m Qを装入し、窒素下撹
拌した。溶液を一6℃に冷却し、45分間にわたってク
ロロスルホン酸37.5mJ2の塩化メチレン337m
℃溶液を添加した。反応器の内容物を室温に加温し、全
6時間撹拌し続けた。塩化メチレンをデカンテーション
し、固体の粗製F6−ビスA−3PSを三回、エタノー
ル1ρに溶解した塩化メチレン1. OOOmβ7回で
洗浄し、回転蒸発させて残留塩化メチレンを除去し、乾
燥した。
F6−ビスA−3PSの収率は144gであり、極限粘
度は0.55dj2/gであった。IECは1.34 
m e q/ g、 H”形であった。DSは0.83
であった。
B−フラットフィルム膜をジメチルホルムアミド溶液か
ら流延させ、透過性および選択性を上述の如く決定した
。透析結果を表■に示す。DSは0.83であった。
データーから理解される如く、DSは0.4から0.8
3に増加し、透過性は、評価した3種の気体ヘリウム、
酸素および窒素に関し減少した。し2 かしながら、O2 /N。
およびHe / N 2 の分離 率は増加した。
置換度      0,40.7   0.83酸素透
過係数   1.07  0.9   0.54窒素透
過係数   0.17  0.13 0.075α02
/N26.32  6.9   7.1aHe/N2 
118  151  197[a130℃で測定した透
過係数、Barrer鯰−玉 上記の如く調製した乾燥多孔質ポリスルホン中空繊維な
F6−ビスA−3PSポリマーで被覆した。被覆溶液は
、0.7のDSおよび1.18 me q / gのI
ECを有するF6−ビスA−8PS(例2)1gをメト
キシエタノールloomβに溶解させることにより調製
した。次いで、溶液を被覆前1,5μのガラスフィルタ
ーにより清適した。米国特許第4゜467.001号に
記載の方法によって、乾燥多孔質ポリスルホン中空繊維
を被覆浴に通すことにより被覆溶液を適用した。次いで
、被覆繊維を乾燥炉に通して溶剤を蒸発させた。炉の温
度を58℃とし、滞在時間を30秒とした。乾燥した複
合多孔質ポリスルホン中空繊維膜をスプール上に収集し
た。斯くして調製せる複合膜を、水素/メタンの70/
30供給気体組成物を用い200psiおよび25℃で
気体分離性に関しテストした。水素の透過率は0.88
ft3(STP)/ft2 ・psi・日であり、H2
/CH4選択性は154であった。
鮭−1 本例は複合逆浸透膜の調製および性能を記載する。複合
膜は、1.41meq/gのイオン交換容量のF6−ビ
スA−3P31.5gをエタノール100m℃に溶解し
て被覆溶液を調製するほかは本質上例6に記載の如き被
覆方法によって調製した。被覆をポリスルホン中空繊維
に適用し、130℃で乾燥した。
上記の如く調製した複合中空繊維膜は逆浸透水脱塩法に
おいて有用と分かった。膜は、37gfdのフラックス
と、1000psi (25℃)の圧力における擬似海
水組成物の90%塩リジェクションを共に示した。
 5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、構造: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [ここでSはスルホン酸基又はその塩化物形である] によって表わされるポリマー反復単位をポリマー分子中
    に含有し且つ約10,000の分子量および約0.2〜
    4のS基の置換度を有するするポリマー若しくはコポリ
    マーを含む樹脂。 2、構造: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [ここでSはスルホン酸基又はその塩化物形である] によって表わされるポリマー反復単位をポリマー分子中
    に含有し且つ約10,000の分子量および約0.2〜
    4のS基の置換度を有するするポリマー若しくはコポリ
    マーを含み、而して改良された透過ないし分離特性を示
    す膜。 3、膜の少なくとも約50重量%が、反復単位( I )
    を含有するポリマー若しくはコポリマーを含む、特許請
    求の範囲第2項記載の膜。 4、ポリマー若しくはコポリマーが約25,000〜8
    0,000の分子量および約0.4〜1.5の置換度を
    有する、特許請求の範囲第2項記載の膜。 5、流体混合物から或る成分を分離する方法であって、
    該流体混合物に、構造: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [ここでSはスルホン酸基又はその塩化物形である] によって表わされるポリマー反復単位をポリマー分子中
    に含有するポリマー若しくはコポリマーを含む透過性分
    離膜の片側を接触させながら、該膜の両側を横切って差
    圧を保持し、そして該膜の他の側から透過成分を除去す
    ることを含む方法。 6、膜材料の少なくとも50重量%が反復単位( I )
    を含有するポリマー若しくはコポリマーを含む、特許請
    求の範囲第5項記載の方法。 7、ポリマー若しくはコポリマーが約25,000〜8
    0,000の分子量および約0.4〜1.5の置換度を
    有する、特許請求の範囲第5項記載の方法。 8、ポリマー若しくはコポリマーがスルホン酸形である
    、特許請求の範囲第5項記載の方法。 9、ポリマー若しくはコポリマーが塩化物形である、特
    許請求の範囲第5項記載の方法。 10、塩化物形がアンモニウム塩である、特許請求の範
    囲第9項記載の方法。 11、塩化物形が遷移金属塩である、特許請求の範囲第
    9項記載の方法。 12、気体分離膜がフィルムである、特許請求の範囲第
    5項記載の方法。 13、分離膜が複合膜である、特許請求の範囲第5項記
    載の方法。 14、分離膜が複合多孔質中空繊維膜である、特許請求
    の範囲第13項記載の方法。 15、流体混合物が気体混合物である特許請求の範囲第
    5項記載の方法。 16、流体混合物が空気を含む、特許請求の範囲第5項
    記載の方法。 17、流体混合物が、水素を少なくとも一つの他の気体
    との混合で含む、特許請求の範囲第5項記載の方法。 18、流体混合物が、酸素を少なくとも一つの他の流体
    成分との混合で含む、特許請求の範囲第5項記載の方法
    。 19、流体混合物が、二酸化炭素を少なくとも一つの他
    の流体成分との混合で含む、特許請求の範囲第5項記載
    の方法。 20、置換度が約0.4〜1.5である、特許請求の範
    囲第5項記載の方法。
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