JPH01176424A - 気体分離膜 - Google Patents

気体分離膜

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Publication number
JPH01176424A
JPH01176424A JP33451587A JP33451587A JPH01176424A JP H01176424 A JPH01176424 A JP H01176424A JP 33451587 A JP33451587 A JP 33451587A JP 33451587 A JP33451587 A JP 33451587A JP H01176424 A JPH01176424 A JP H01176424A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copolymer
gas separation
separation membrane
polysulfone
membrane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33451587A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Takemoto
浩二 竹本
Tasuke Sawada
太助 沢田
Shigeru Ryuzaki
粒崎 繁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP33451587A priority Critical patent/JPH01176424A/ja
Publication of JPH01176424A publication Critical patent/JPH01176424A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は気体の分離、濃縮を行う気体分離膜に関するも
のである。
従来の技術 近年、混合気体(空気など)から特定の気体(酸素、窒
素など)を分離、濃縮する手段として高分子薄膜を用い
る方法が注目されている。気体分離膜素材としては、ポ
リメチルシロキサン、ポリ(4−メチルペンテン−1)
、ポリスルホン。
ポリスチレン、ポリホスファゼンなどがあり、特に燃焼
用の酸素富化膜葉材としては、気体透過性の優れたポリ
シロキサンを主成分とする高分子が用いられている。膜
強度や製膜性を考慮してポリシロキサン・セグメントを
ハードセグメントテ補強した構成の重合体が開発されて
いる。その−例としては、ポリシロキサンとポリカーボ
ネートのブロック共重合体、又は側鎖に芳香環をもつス
チレン系高分子と、α、W−2官能性ポリシロキサンと
から得られる架橋型共重合体(特開昭56−26506
号)などがある。
発明が解決しようとする問題点 ポリシロキサンと、ポリスルホンと、一部トリメチルシ
リル化したポリヒドロキシスチレンとの共重合体(特開
昭56−26506号)の膜における酸素ガスの透過係
数は、2.0x10 ’(d−d/d・式・mHg)と
、ポリシロキサン膜と同オーダーでちゃ、分離係数は、
2.1から2.2であシ、薄膜の成形性と薄膜状態にお
ける膜強度の点では、ポリシロキサン膜と比較すると格
段の改良がなされている。まだ、ポリシロキサンとフッ
素化ポリスルホンと一部トリメチルシリル化したポリヒ
ドロキシスレンとの共重合体は、分離係数が、2.2か
ら2.3と気体分離性が向上している。しかし、薄膜の
信頼性において不満足である。
本発明は上記欠点に鑑み、薄膜の信頼性を向上させるこ
とを目的とするものである。
問題点を解決するだめの手段 この目的を達成するために本発明の気体分離膜は、p−
ビニルフェノールとスチレンとの共重合物 と、ポリスルホンと、ポリシロキサンとの共重合体によ
多構成されている。
作  用 以上のような構成において、p−ビニルフェノールとス
チレンとの共重合物 を、 に代えて用いることにより、加水分解を受けにくくな9
、化学的に安定となる。よって、このシロキサン共重合
体は化学的に安定となシ、信頼性が向上する。
実施例 次に本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明するが、
本発明の内容は、以下の実施例のみに限定されるもので
はない。
〔実施例1〕 ポリスルホン(My岬1o00o)6qと、リンカ−1
5(丸善石油化学■製) 2.5 gを、クロルベンゼ
ン210yttlと、1,4ジオキサン150./の混
合溶液に溶解し、スターツー撹拌下、70℃にm熟L、
これにα、Wビス(ジエチルアミノ)ポリジメチルシロ
キサン(Mw ’==== 2500 )  を13p
を添加する。添加後、90℃で約1時間反応させ、さら
に温度を上げて110℃で約1時間反応させる。反応終
了後、室温まで冷却し、多量のメタノールに投入して反
応沈殿物を得る。反応沈殿物を再沈殿法によって精製後
、真空乾燥して精製された共重合体(以下、ポリマーH
3と呼ぶ)を得た。
ポリマーH3を2wt%のベンゼン溶液にして、この溶
液にして、この溶液に対し、3wt%のテトラヒドロフ
ランを加え調整液を得る。この調整液を水面上で薄膜化
を行うと透明に近い均一な超薄膜が得られた。このよう
にして得られた膜を多孔質ポリプロピレン(ジュラガー
ド2400.ポリプラスチック■製)上に付着させた。
膜厚は0.1μm以下であった。酸素と窒素の透過係数
をそれぞれこの離を、温度60℃、相対湿度95%の耐
湿槽に放置しておき、100時間毎に槽から取シ出し膜
の分離係数ct(02/PN2)を測定したところ、1
600時間経過してはじめてαが2.0を下廻った。
〔実施例2〕 フッ素化ポリスルホン(Mw岬1oooo)syと、リ
ンカ−15(丸善石油化学■製) 2.5fを、クロル
ベンゼン210rrtlと、1,4ジオキサイン1rs
omlの混合溶液に溶解し、スターツー撹拌下、70°
Cに加熱し、これにα、Wビス(ジエチルアミノ)ポリ
ジメチルシロキサン(Mw→2500)i132を添加
する。添加後、90’Qで約1時間反応させ、さらに温
度を上げて110℃で約1時間反応させる。反応終了後
、室温まで冷却し、多量のメタノールに投入して反応沈
殿物を得る。反応沈殿物を再沈殿法によって精製後、真
空乾燥して41mされた共重合体(以下、ポリマーH8
Fと呼ぶ)を得る。この調整液を水面上で+4膜化を行
うと透明に近い均一な超薄膜が得られた。このようにし
て得られた膜を多孔質ポリプロピレン(ジュラガード2
400.ポリプラスチック■製)上に付着させた。膜厚
は0.1μm以下であった。膜の分離係数α(PO2/
PN2〕は、2.3であった。この膜を、温度θo’C
,相対湿度96%の耐湿槽に放置しておき、100時間
毎に楢から取り出して膜の分離係数α(Po2/PN2
)を測定したところ、2000時間経過してはじめてα
が2.Of、下廻った。
〔比較例1〕 フッ素化ポリスルホン(Mw4Q1oooo ) s 
S’と、86%トリメチルシリル化したポリヒドロキシ
スチレン2.5 f t−クロルベンゼン21011t
lと1,4ジオキサン150m/の混合溶液に溶解し、
スターシー撹拌下、70’Cに加熱し、これに、(E、
Wビス(ジエチルアミノ)ポリジメチルシロキサン(M
waq2500) f 139 k添加する。添加後9
0’Cで約1時間反応させ、さらに温度を上げて110
°Cで約1時間反応させる。反応終了後、室温まで冷却
し、多量のメタノールに投入して、反応沈殿物を得る。
反応沈殿法によって精製後、真空乾燥して精製された共
重合体を得た。この共1合体上2 w t%のベンゼン
溶液にしてこの溶液に対し、3wt% のテトラヒドロ
フラン七加え調整液を得る。
この調整液を水面上で薄膜化を行うと透明に近い均一な
超薄膜が得られた。このようにして得られた膜ヲ多孔質
ポリプロピレン(ジュラガード2400゜ポリプラスチ
ック@製)上に付着させた。膜厚は0・1μm以下であ
った。分離係数α(PO2/PN2)ハ2.3であった
。この膜を、60℃、95%RH耐湿槽に放置しておき
、100時間毎に、檜から取)出して膜の分離係数α(
PO2/PN2)を測定したところ、1200時間でα
が2.0を下廻った。
〔比較例2〕 ポリスルホニ/ (Mw b−p 10000) 5 
fと40%)リメチルシリル化したポリヒドロキシスチ
レン2.62をクロルベンゼン21om/と1y4ジオ
キサン150111/の混合溶液に溶解し、スターラ撹
拌下、70’Cに加熱し、これに(Z、Wビス(ジエチ
ルアミノ)ポリジメチルシロキサン(Mwk−P250
0)  tl”132を添加する添加後90°Cで約1
時間反応させる。反応終了後、室温まで冷却し、多量の
メタノールに投入して反応沈殿物を得る。反応沈殿物を
再沈殿法によって精製後、真空乾燥して精製された共重
合体を得た。この共重合体12wt’Qのベンゼン溶液
にして、この溶液に対し、3wt%のテトラヒドロフラ
ンを加えA整液を得る。この調整液を水面上で薄膜化を
行うと透明に近い均一な超薄膜が得られた。このように
して得られた膜を多孔Xポリプロピレン(ジュラガード
2400.ポリプラスチック■製)上に付着させた。膜
厚は0.1μm以下であった。分離係数α(o2/PN
2)は2.2であった。残りの膜t、温度60°C2相
対湿度96チの耐湿槽に放置しておき、100時間毎に
槽から取シ出して膜の分離係数α(P02/ PN2 
) を測定したところ、1000時間でαが2.0’i
下廻った。
発明の効果 以上のように本発明の気体分離膜は、加水分解されやす
いトリメチルシリル基が存在していないため、その特性
の信頼性が向上し、実用的効果は大なるものがある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)▲数式、化学式、表等があります▼ 上記の構造の化合物(p−ビニルフェノールとスチレン
    との共重合物)とポリスルホンとポリシロキサンとの共
    重合体からなる気体分離膜。
  2. (2)ポリスルホンが、フッ素化されたポリスルホン▲
    数式、化学式、表等があります▼である特許請求の範囲
    第(1)項記載の気体分離膜。
JP33451587A 1987-12-29 1987-12-29 気体分離膜 Pending JPH01176424A (ja)

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JP33451587A JPH01176424A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 気体分離膜

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JP33451587A JPH01176424A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 気体分離膜

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JPH01176424A true JPH01176424A (ja) 1989-07-12

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ID=18278267

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JP33451587A Pending JPH01176424A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 気体分離膜

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03193126A (ja) * 1989-10-31 1991-08-22 Union Carbide Ind Gases Technol Corp スルホン化ヘキサフルオロビス―aポリスルホン膜と流体分離方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03193126A (ja) * 1989-10-31 1991-08-22 Union Carbide Ind Gases Technol Corp スルホン化ヘキサフルオロビス―aポリスルホン膜と流体分離方法

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