JPH03188263A - 金属酸化物被覆プラスチック - Google Patents
金属酸化物被覆プラスチックInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は金属酸化物層が被覆されたプラスチックに関す
る。
る。
(従来の技術)
プラスチック基材上にジルコニウム、アルミニウム、ケ
イ素等の金属の酸化物を蒸着等の方法により積層するこ
とが広く研究されているが、プラスチック基材と金属酸
化物の密着性が悪く実用上問題となっていた。
イ素等の金属の酸化物を蒸着等の方法により積層するこ
とが広く研究されているが、プラスチック基材と金属酸
化物の密着性が悪く実用上問題となっていた。
この密着性を改良するため、たとえば特開昭61−25
1801号公報には両層の間に有機バインダー層を形成
することが記載され、特公昭60−12601号公報に
は、両層の間に一酸化物ケイ素の層を形成することが記
載されている。
1801号公報には両層の間に有機バインダー層を形成
することが記載され、特公昭60−12601号公報に
は、両層の間に一酸化物ケイ素の層を形成することが記
載されている。
しかし、前者の方法では有機バインダーを塗布する工程
と金属酸化物を蒸着する工程の2工程が必要であり、か
つバインダー中の溶剤を揮散させるために加熱処理する
必要があるが、基材がプラスチックであるため高温にす
ることができず作業性が悪い。又、溶剤がバインダー中
に残存していると金属酸化物を蒸着する際に溶剤が揮発
し、プラスチック基材と金属酸化物層の密着が妨げられ
る。
と金属酸化物を蒸着する工程の2工程が必要であり、か
つバインダー中の溶剤を揮散させるために加熱処理する
必要があるが、基材がプラスチックであるため高温にす
ることができず作業性が悪い。又、溶剤がバインダー中
に残存していると金属酸化物を蒸着する際に溶剤が揮発
し、プラスチック基材と金属酸化物層の密着が妨げられ
る。
又、後者の方法では一酸化ケイ素の層は耐湿性が悪く、
特に高温高湿下ではプラスチック基材と一酸化ケイ素の
層の間ですぐに剥離してしまう。
特に高温高湿下ではプラスチック基材と一酸化ケイ素の
層の間ですぐに剥離してしまう。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は上記欠点に鑑み、プラスチック基材と金
属酸化物層とが強固に密着した金属酸化物被覆プラスチ
ックを提供することにある。
属酸化物層とが強固に密着した金属酸化物被覆プラスチ
ックを提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明で使用される基材はプラスチックであり、たとえ
ばポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリ塩化ビニル等があげられる。
ばポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリ塩化ビニル等があげられる。
本発明においてはプラスチック基材の一面にニッケル酸
化物を主成分とする層が積層されている。
化物を主成分とする層が積層されている。
この層の最小膜厚は、ニッケルの酸化物膜が連続膜とな
る膜厚以上であればよく、好ましくは150Å以上であ
る。最大膜厚は、好ましくは18m以下がよい。1μm
以上だとクラ・ンクが入りやすくなる。
る膜厚以上であればよく、好ましくは150Å以上であ
る。最大膜厚は、好ましくは18m以下がよい。1μm
以上だとクラ・ンクが入りやすくなる。
この層の作製にあたっては、原料として酸化ニッケルを
使用してもよいし、ニッケルと酸素ガスを反応蒸着して
もよい。又、蒸着は高真空下で行うのが好ましく、好ま
しくは2 X 10− ’Torr以下であり、より好
ましくは5 X 10”’Torr以下である。
使用してもよいし、ニッケルと酸素ガスを反応蒸着して
もよい。又、蒸着は高真空下で行うのが好ましく、好ま
しくは2 X 10− ’Torr以下であり、より好
ましくは5 X 10”’Torr以下である。
形成されたニッケル酸化物の膜組成は、ニッケル酸化物
を主成分とし、残部はMg、Ca、Ti。
を主成分とし、残部はMg、Ca、Ti。
Cr、Mn、Fe、Zn、AI、St、Sr。
Mo、 ln、 Sn、 Ba、 Hf、Ta
、W、 Pbなどの金属または金属酸化物の1種以上
が含まれていてもよい。ニッケル酸化物成分は、好まし
くは80wt%以上である。
、W、 Pbなどの金属または金属酸化物の1種以上
が含まれていてもよい。ニッケル酸化物成分は、好まし
くは80wt%以上である。
又、ニッケル酸化物を主成分とする層の上には、さらに
金属酸化物層が一層以上積層されている。
金属酸化物層が一層以上積層されている。
この層を形成する金属酸化物は特に限定されることはな
く、たとえばSiO,SiO□、Al2O3、MgO,
ZrO,、Tto、 、ZnO等があげられる。また、
金属酸化物は上記のような単一成分でもよいし、これら
の混合物を用いてもよい。膜構成および蒸発原料は、用
途によって適宜法めればよい。例えば、耐摩耗性が要求
されるようであれば最上層としてAlzOz層が好まし
い。
く、たとえばSiO,SiO□、Al2O3、MgO,
ZrO,、Tto、 、ZnO等があげられる。また、
金属酸化物は上記のような単一成分でもよいし、これら
の混合物を用いてもよい。膜構成および蒸発原料は、用
途によって適宜法めればよい。例えば、耐摩耗性が要求
されるようであれば最上層としてAlzOz層が好まし
い。
これら金属酸化物層の膜厚は、用途によって適宜法めれ
ば良いが、一般に1〜30μmである。
ば良いが、一般に1〜30μmである。
又、プラスチック基板の熱変形温度以上で積層すれば、
クラックや剥離が生じやすくなるので、基板の熱変形温
度以下で積層されるのが好ましい。
クラックや剥離が生じやすくなるので、基板の熱変形温
度以下で積層されるのが好ましい。
次に、金属酸化物層を積層する方法を図面を参照して説
明する。第1図は、本発明の真空蒸着装置の一例を示す
模式図である。図中1は真空槽であり、排気口8に直結
される排気袋W(図示せず)によって高真空に排気され
るようになっている。
明する。第1図は、本発明の真空蒸着装置の一例を示す
模式図である。図中1は真空槽であり、排気口8に直結
される排気袋W(図示せず)によって高真空に排気され
るようになっている。
真空槽l内には、蒸発物質5.51.52が供給された
冷却装置付きの銅ハース6.61.62と電子銃フィラ
メント7が配置されている。なお、銅ハース6.61と
62は任意に位置の交換が可能である。銅ハース6の上
方には、所望膜厚で蒸発物を遮るためのシャッター4が
設置されている。また、シャッター4の上方には、プラ
スチック基板3を固定するための基板取付治具2が設け
られている。なお、9は膜厚モニター、10は酸素ガス
導入口である。
冷却装置付きの銅ハース6.61.62と電子銃フィラ
メント7が配置されている。なお、銅ハース6.61と
62は任意に位置の交換が可能である。銅ハース6の上
方には、所望膜厚で蒸発物を遮るためのシャッター4が
設置されている。また、シャッター4の上方には、プラ
スチック基板3を固定するための基板取付治具2が設け
られている。なお、9は膜厚モニター、10は酸素ガス
導入口である。
蒸着するには、真空槽1内のガス圧を5X10−’To
rr以下に減圧させ、銅ハース6に蒸発物質5として酸
化ニッケルを供給し、蒸発物質5を電子銃フィラメント
7によって加熱溶解させ酸化ニッケルを蒸発させて、プ
ラスチック上に厚さ250〜2500人程度の膜を形成
する。次に、蒸発物質5Iとして、例えば二酸化ケイ素
が供給された銅ハース61と銅ハース6の位置を交代さ
せ、銅ハース61の二酸化ケイ素を加熱蒸発させ、酸化
ニッケル層上に二酸化ケイ素膜を形成する。さらに、3
層目を形成するときには、例えば蒸発物質52として酸
化アルミニウムが供給された銅ハース62と銅ハース6
1の位置を交代させ、電子ビーム加熱により酸化アルミ
ニウムを蒸発させ、二酸化ケイ素層上に酸化アルミニウ
ム層を形成する。
rr以下に減圧させ、銅ハース6に蒸発物質5として酸
化ニッケルを供給し、蒸発物質5を電子銃フィラメント
7によって加熱溶解させ酸化ニッケルを蒸発させて、プ
ラスチック上に厚さ250〜2500人程度の膜を形成
する。次に、蒸発物質5Iとして、例えば二酸化ケイ素
が供給された銅ハース61と銅ハース6の位置を交代さ
せ、銅ハース61の二酸化ケイ素を加熱蒸発させ、酸化
ニッケル層上に二酸化ケイ素膜を形成する。さらに、3
層目を形成するときには、例えば蒸発物質52として酸
化アルミニウムが供給された銅ハース62と銅ハース6
1の位置を交代させ、電子ビーム加熱により酸化アルミ
ニウムを蒸発させ、二酸化ケイ素層上に酸化アルミニウ
ム層を形成する。
真空を破ると蒸着膜表面に水の吸着やゴミの付着が起こ
り易くなるため、減圧状態を維持しながら連続して第2
層や第3層目を形成するのが好ましい。
り易くなるため、減圧状態を維持しながら連続して第2
層や第3層目を形成するのが好ましい。
上記作製方法は、電子ビーム加熱方式による真空蒸着法
を示したが、作製方法としては、スパッタリング、イオ
ンブレーティング、真空蒸着法などの物理蒸着法を用い
ることができるが、好ましくはイオンブレーティングま
たは真空蒸着法である。
を示したが、作製方法としては、スパッタリング、イオ
ンブレーティング、真空蒸着法などの物理蒸着法を用い
ることができるが、好ましくはイオンブレーティングま
たは真空蒸着法である。
(実施例)
次に本発明の詳細な説明する。尚、密着性は、60°C
196%R)lの恒温恒湿槽内に7日間放置した後、J
IS D−0202に準じてクロスカットテープ試験を
行った。すなわち剃刀刃を用い蒸着膜表面に1鴫間隔に
切り目を入れ、llllIn2の枡目を100個形成さ
せる。次に、その上にセロファン粘着テープを強く押し
付けた後、表面から90°方向へ引っ張り剥離した後、
蒸着膜の残っている枡目の数をもって密着性の指標とし
た。
196%R)lの恒温恒湿槽内に7日間放置した後、J
IS D−0202に準じてクロスカットテープ試験を
行った。すなわち剃刀刃を用い蒸着膜表面に1鴫間隔に
切り目を入れ、llllIn2の枡目を100個形成さ
せる。次に、その上にセロファン粘着テープを強く押し
付けた後、表面から90°方向へ引っ張り剥離した後、
蒸着膜の残っている枡目の数をもって密着性の指標とし
た。
実施例1.2
プラスチック基板は、60mmX70鵬X2mmのポリ
カーボネート (商品名ニレキサン(旭硝子■))を用
いた。金属酸化物層の形成は、第1図に示す真空蒸着装
置を用いて行った。蒸発物質の加熱は、電子ビーム加熱
式であり、電子銃は日電アネルバ■製の2kWa連E型
電子銃(型名7 980−7104)である。
カーボネート (商品名ニレキサン(旭硝子■))を用
いた。金属酸化物層の形成は、第1図に示す真空蒸着装
置を用いて行った。蒸発物質の加熱は、電子ビーム加熱
式であり、電子銃は日電アネルバ■製の2kWa連E型
電子銃(型名7 980−7104)である。
作製手順は、まず基板3を蒸発物質5から上方30cm
の位置に取り付けた後、3 X 1O−5Torr以下
に排気し、電子ビーム加熱により蒸発物質5を加熱して
、第1表に示した条件でニッケルの酸化物膜を形成した
。さらに、真空を破ることなく続いてSiO□層を形成
した。蒸発原料は第2表に示したように、ニッケル酸化
物層の蒸発原料は高純度酸化ニッケルの蒸着用ペレット
を、Si0g層の蒸発原料には高純度の二酸化ケイ素を
それぞれ用いた。密着性は100であった。
の位置に取り付けた後、3 X 1O−5Torr以下
に排気し、電子ビーム加熱により蒸発物質5を加熱して
、第1表に示した条件でニッケルの酸化物膜を形成した
。さらに、真空を破ることなく続いてSiO□層を形成
した。蒸発原料は第2表に示したように、ニッケル酸化
物層の蒸発原料は高純度酸化ニッケルの蒸着用ペレット
を、Si0g層の蒸発原料には高純度の二酸化ケイ素を
それぞれ用いた。密着性は100であった。
実施例3
ニッケル酸化物層の蒸発原料として第2表に示したよう
に、特級ニッケルを使用し真空槽に酸素を導入し、1.
5 X 10−’Torrで蒸着した以外は、無機化合
物層の蒸発原料、使用した装置、プラスチック基板およ
び作製手順は実施例1と同じであった。密着性は100
であった。
に、特級ニッケルを使用し真空槽に酸素を導入し、1.
5 X 10−’Torrで蒸着した以外は、無機化合
物層の蒸発原料、使用した装置、プラスチック基板およ
び作製手順は実施例1と同じであった。密着性は100
であった。
比較例1
使用した装置およびプラスチック基板は実施例1と同じ
である。作製手順は、真空槽内を3×10−5Torr
以下に排気し、電子ビーム加熱により蒸発物質4を加熱
して第1表に示した条件で基板上に直接二酸化ケイ素(
SiO□)を3μm蒸着した。
である。作製手順は、真空槽内を3×10−5Torr
以下に排気し、電子ビーム加熱により蒸発物質4を加熱
して第1表に示した条件で基板上に直接二酸化ケイ素(
SiO□)を3μm蒸着した。
SiO□層の蒸発原料は、第2表に示したように高純度
の二酸化ケイ素を用いた。密着性はOであった。
の二酸化ケイ素を用いた。密着性はOであった。
比較例2
実施例1で用いたのと同じポリカーボネート板をシリコ
ン系有機塗料(トーレ・シリコン社製、5R2410レ
ジン)に浸漬し、lQcm/minの速度で引上げ、室
温で30分間乾燥した後、80°Cで24時間乾燥した
。シリコン系有機塗料層の厚さは1.5μmであった。
ン系有機塗料(トーレ・シリコン社製、5R2410レ
ジン)に浸漬し、lQcm/minの速度で引上げ、室
温で30分間乾燥した後、80°Cで24時間乾燥した
。シリコン系有機塗料層の厚さは1.5μmであった。
次に、真空槽内に供給し、3 Xl0−’T。
rr以下に排気した後、第1表に示した条件で、第2表
に示した高純度二酸化ケイ素を蒸着した。密着性は0で
あった。
に示した高純度二酸化ケイ素を蒸着した。密着性は0で
あった。
第2表
第1表
(以下余白 )
1) YAMANAKA SEMICONDUCTER
LTD、製ベレット2) YAMANAKA SE台I
C0NDυ(TERLTD、製3)キシダ化学■ 0 トーレ・シリコン■製 (発明の効果) プラスチック上に第一層目としてニッケルの酸化物を主
成分とする層を設けることによって、さらにその上に設
けた金属酸化物層とプラスチックとの密着力が優れ、膜
厚の自由度が大きい金属酸化物被覆プラスチックをえる
ことができる。また、用途に応じた金属酸化物の膜構成
を選択することにより、広範囲で利用することができる
。
LTD、製ベレット2) YAMANAKA SE台I
C0NDυ(TERLTD、製3)キシダ化学■ 0 トーレ・シリコン■製 (発明の効果) プラスチック上に第一層目としてニッケルの酸化物を主
成分とする層を設けることによって、さらにその上に設
けた金属酸化物層とプラスチックとの密着力が優れ、膜
厚の自由度が大きい金属酸化物被覆プラスチックをえる
ことができる。また、用途に応じた金属酸化物の膜構成
を選択することにより、広範囲で利用することができる
。
第1図は真空蒸着装置の一例を示す模式図である。
1・・・真空槽、2一基板取付治具、3・−・・基板、
5・・・蒸発物質、6−・銅ハース
5・・・蒸発物質、6−・銅ハース
Claims (1)
- 1.プラスチック基材の一面に、ニッケル酸化物を主成
分とする層が積層され、さらにその上に金属酸化物が一
層以上積層されていることを特徴とする金属酸化物被覆
プラスチック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3314490A JP2953731B2 (ja) | 1989-09-12 | 1990-02-13 | 金属酸化物被覆プラスチック |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-237958 | 1989-09-12 | ||
JP23795889 | 1989-09-12 | ||
JP3314490A JP2953731B2 (ja) | 1989-09-12 | 1990-02-13 | 金属酸化物被覆プラスチック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03188263A true JPH03188263A (ja) | 1991-08-16 |
JP2953731B2 JP2953731B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=26371781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3314490A Expired - Lifetime JP2953731B2 (ja) | 1989-09-12 | 1990-02-13 | 金属酸化物被覆プラスチック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2953731B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5820994A (en) * | 1996-02-16 | 1998-10-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Laminate and method for preparing same |
JP2011240538A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性シート及びその製造方法 |
WO2013146095A1 (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 学校法人 龍谷大学 | 酸化物膜及びその製造方法 |
CN115011927A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-09-06 | 江苏恒隆通新材料科技有限公司 | 一种真空蒸镀的镀膜材料及其制备方法和应用 |
-
1990
- 1990-02-13 JP JP3314490A patent/JP2953731B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5820994A (en) * | 1996-02-16 | 1998-10-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Laminate and method for preparing same |
JP2011240538A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性シート及びその製造方法 |
WO2013146095A1 (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 学校法人 龍谷大学 | 酸化物膜及びその製造方法 |
JP2013199682A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Ryukoku Univ | 酸化物膜及びその製造方法 |
CN104204279A (zh) * | 2012-03-26 | 2014-12-10 | 学校法人龙谷大学 | 氧化物膜及其制造方法 |
CN115011927A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-09-06 | 江苏恒隆通新材料科技有限公司 | 一种真空蒸镀的镀膜材料及其制备方法和应用 |
CN115011927B (zh) * | 2022-06-29 | 2023-10-31 | 江苏恒隆通新材料科技有限公司 | 一种真空蒸镀的镀膜材料及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2953731B2 (ja) | 1999-09-27 |
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