JPH03175486A - 薄膜トランジスタ基板 - Google Patents

薄膜トランジスタ基板

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JPH03175486A
JPH03175486A JP1315812A JP31581289A JPH03175486A JP H03175486 A JPH03175486 A JP H03175486A JP 1315812 A JP1315812 A JP 1315812A JP 31581289 A JP31581289 A JP 31581289A JP H03175486 A JPH03175486 A JP H03175486A
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Japan
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electrode
storage capacitor
wiring electrode
thin film
film transistor
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Yoshiharu Ichikawa
市川 祥治
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜トランジスタ基板に関し、特に製造歩留り
の高い薄膜トランジスタ基板に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の薄膜トランジスタ基板は、第3図に示す
薄膜トランジスタの模式的平面図のように、ストレージ
キャパシタ電8i!1とゲート配線電極3とを同一工程
で形成し、その上にゲート絶縁膜および半導体膜8を形
成し、半導体膜8の不用部分をエツチング除去し、その
上にトレイン配線型f!4を形成しさらに表示電極5を
形成した構成となっていた。ストレージキャパシタ電極
1と絶縁膜を介して対向した表示電極5の重なり容量で
ストレージキャパシタが形成される。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の薄膜トランジスタ基板は、ゲート配線電
極とストレージキャパシタ電極を同一工程で一体に形成
しているためにゲート配線電極の断線や欠陥による抵抗
増大により製造歩留りが低いという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、n−1番目のストレージキャパシタ電極をn
番目のゲート電極に電気的に接続した構成の薄膜トラン
ジスタ基板において、ストレージキャパシタ電極を透明
電極で構成し、ストレージキャパシタ電極の配線電極と
ゲート配線電極を同−の工程で一体に形成したことを特
徴とする。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の模式的平面図である。
ストレージキャパシタ電[1を透明電極で形成した後、
ストレージキャパシタ配線電極2とゲート配線電極3と
を同一工程で形成し、つづいてゲート絶縁膜と半導体I
JI 8を形成し半導体膜8の不用部分をエツチング除
去する。その後ドレイン電極配線4を形成しさらに表示
室ff!5を形成して12インチ液晶デイスプレィ用薄
膜トランジスタ基板とした。
このようにして形成した薄膜トランジスタ基板は、ゲー
ト電極の断線に関しては、歩留りが100%であり従来
の薄膜トランジスタ基板の’y’−1〜電極の断線に関
する歩留り85〜90%に比して優れている。これはス
トレージキャパシタ電極の配線電極とゲート配線電極が
同時に切断しなければ断線欠陥とはならないためである
第2図は本発明の第2の実施例の模式的平面図である。
ス■・レージキャパシタ電極上を透明電極で形成した後
、ストレージキャパシタ配線電極2とゲート配線電極3
とを同一工程で形成し、つづいてゲート絶縁膜と半導体
膜8を形成し半導体膜8の不要部分をエツチング除去す
る。その後ゲート絶縁膜にコンタクトホール6を開け、
次にトレイン電極配線4と接続電極7を同一工程で形成
しさらに表示電極5を形成して12インチ液晶デイスプ
レィ用薄膜トランジスタ基板とした。この薄膜トランジ
スタ基板はゲート電極2本とトレイン電極2本とで分け
られた4つの表示電極で1画素を形成するもので従来の
薄膜トランジスタ基板ではストレージキャパシタの形成
が困難であった。しかしこの実施例では、ストレージキ
ャパシタ電極を透明電極で形成し、ストレージキャパシ
タ電極の配線電極とゲート配線電極を同一の工程で形成
しているため、ゲート電極2本とトレイン電極2本とで
分けられた4つの表示電極で1画素を構成していてさら
にストレージキャパシタを作ることができる。したがっ
て、この薄膜トランジスタ基板を用いた液晶デイスプレ
ィは表示特性が良いという利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ストレージキャパシタ電
極を透明電極で構成し、ストレージキャパシタ電極の配
線電極とゲート配線電極を同一の工程で形成するため、
ゲート配線電極のrIfr線がなく製造歩留りが高い薄
膜トランジスタ基板を提供できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の薄膜トランジスタ基板
を示す模式的平面図、第2図は本発明の第2の実施例の
薄膜トランジスタ基板を示す模式的平面図、第3図は従
来の薄膜トランジスタ基板を示す模式的平面図である。 1・・・ストレージキャパシタ電極、2・・・ストレー
ジキャパシタ配線電極、3・・・ゲート配線電極、4・
・・トレイン配線電極、5・・・表示電極、6・・・コ
ンタク トホール、 7・・ 接続電極、 8・・ 半導体膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  n−1番目のストレージキャパシタ電極をn番目のゲ
    ート配線電極に電気的に接続した構成の薄膜トランジス
    タ基板において、ストレージキャパシタ電極を透明電極
    で構成し、ストレージキャパシタ電極の配線電極とゲー
    ト配線電極を一体に形成したことを特徴とする薄膜トラ
    ンジスタ基板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11194369A (ja) * 1997-10-18 1999-07-21 Samsung Electron Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11194369A (ja) * 1997-10-18 1999-07-21 Samsung Electron Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
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