JPH031642B2 - - Google Patents
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- JPH031642B2 JPH031642B2 JP56105586A JP10558681A JPH031642B2 JP H031642 B2 JPH031642 B2 JP H031642B2 JP 56105586 A JP56105586 A JP 56105586A JP 10558681 A JP10558681 A JP 10558681A JP H031642 B2 JPH031642 B2 JP H031642B2
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- JP
- Japan
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- pattern
- filter
- positive resist
- color
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カラー撮像装置等に用いられる色分
解用のカラーフイルタの製造方法に関するもので
ある。
解用のカラーフイルタの製造方法に関するもので
ある。
従来、単板式カラー固体撮像素子用フイルタ
や、通常の単管式カラー撮像管用フイルタを形成
する場合には、ゼラチンパターンを有機染料で染
色する方法が用いられている。
や、通常の単管式カラー撮像管用フイルタを形成
する場合には、ゼラチンパターンを有機染料で染
色する方法が用いられている。
第１図に、従来単管式カラー固体撮像素子用フ
イルタに用いられているこの種の製造方法を示
す。同図において、Si素子１の表面上にゼラチン
感光膜２を塗布し（第１図ａ）、露光法によりゼ
ラチンパターン３を形成する（第１図ｂ）。次い
でこれを有機染料で染色し（第１図ｃ）、フイル
タパターン４を形成するが、第２色目以降のフイ
ルタパターンを積層する際の混色を避けるため、
保護膜５で被覆する（第２図ｄ）。この保護膜５
は、ボンデイングパツド６の上にある部分を遠紫
外線露光法で除去し、Si素子１とパツケージ間の
配線が行なえるようにする（第１図ｅ）。
イルタに用いられているこの種の製造方法を示
す。同図において、Si素子１の表面上にゼラチン
感光膜２を塗布し（第１図ａ）、露光法によりゼ
ラチンパターン３を形成する（第１図ｂ）。次い
でこれを有機染料で染色し（第１図ｃ）、フイル
タパターン４を形成するが、第２色目以降のフイ
ルタパターンを積層する際の混色を避けるため、
保護膜５で被覆する（第２図ｄ）。この保護膜５
は、ボンデイングパツド６の上にある部分を遠紫
外線露光法で除去し、Si素子１とパツケージ間の
配線が行なえるようにする（第１図ｅ）。
このように、従来のカラーフイルタの製造方法
においては、染色が容易であるところからゼラチ
ンが利用されている。しかしながらゼラチン感光
膜は、γ値が低くて解像力が劣り、かつ暗反応が
激しいため、露光、現像により形成されるゼラチ
ンパターンの膜厚が作業条件の影響を受けて変動
し易い。従つて染色時のゼラチンパターンの膜厚
の変動が大きいことから、分光特性のばらつきが
大きくなる。また、染色工程を必要とするが、そ
の際、染色液の経時変化等により分光特性に変化
が生じ易い。更に、前述した解像力や暗反応に関
連してパターンの開口部にかぶりが生じ易く、正
常な分光特性が損われる等の欠点を有している。
においては、染色が容易であるところからゼラチ
ンが利用されている。しかしながらゼラチン感光
膜は、γ値が低くて解像力が劣り、かつ暗反応が
激しいため、露光、現像により形成されるゼラチ
ンパターンの膜厚が作業条件の影響を受けて変動
し易い。従つて染色時のゼラチンパターンの膜厚
の変動が大きいことから、分光特性のばらつきが
大きくなる。また、染色工程を必要とするが、そ
の際、染色液の経時変化等により分光特性に変化
が生じ易い。更に、前述した解像力や暗反応に関
連してパターンの開口部にかぶりが生じ易く、正
常な分光特性が損われる等の欠点を有している。
本発明は以上のような状況に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、高寸法精度、高解像度の
パターン形成を可能にし、分光特性のばらつきが
小さく開口部にかぶりの生じないカラーフイルタ
を得ることができるカラーフイルタの製造方法を
提供することにある。
のであり、その目的は、高寸法精度、高解像度の
パターン形成を可能にし、分光特性のばらつきが
小さく開口部にかぶりの生じないカラーフイルタ
を得ることができるカラーフイルタの製造方法を
提供することにある。
このような目的を達成するために、本発明によ
るカラーフイルタの製造方法は、フイルタ層とし
て有機染料を含有する紫外線硬化樹脂を用い、パ
ターンの形成はポジレジストを用いたリフトオフ
方式で行なうものである。以下、実施例を用いて
本発明によるカラーフイルタの製造方法を詳細に
説明する。
るカラーフイルタの製造方法は、フイルタ層とし
て有機染料を含有する紫外線硬化樹脂を用い、パ
ターンの形成はポジレジストを用いたリフトオフ
方式で行なうものである。以下、実施例を用いて
本発明によるカラーフイルタの製造方法を詳細に
説明する。
第２図は、本発明によるカラーフイルタの製造
方法を示す工程図である。同図においてSi素子１
の表面上にポジレジストを塗布し、通常の1/10縮
小投影露光装置等を用いて露光、現像して所定の
ポジレジストパターン７を形成する（第２図ａ）。
次に、シアン有機染料を含有する紫外線硬化形レ
ジスト８を所定の膜厚に塗布する（第２図ｂ）。
次いで、紫外線を全面露光して紫外線硬化形レジ
スト８を硬化すると同時にポジレジストパターン
７を露光する（第２図ｃ）。次に、ポジレジスト
パターン７を現像液で膨潤させた後、スプレー水
洗を行なつてその上の紫外線硬化形レジスト８と
共に除去し、所定のフイルタパターン９を得る
（第２図ｄ）。この時、ボンデイングパツド６の上
のポジレジストパターン７とその上の紫外線硬化
形レジスト８も同時に除去される（第２図ｅ）。
パターン形成後は、硬化を更に完全にするためポ
ストベークを行なう。このポストベークは紫外線
の全面露光で代用してもよい。２色目以降のフイ
ルタ層についても、上記紫外線硬化形レジスト８
に含有するシアン有機染料を各色の有機染料に代
えるのみで、上述したと全く同様の工程を繰返せ
ばよい。
方法を示す工程図である。同図においてSi素子１
の表面上にポジレジストを塗布し、通常の1/10縮
小投影露光装置等を用いて露光、現像して所定の
ポジレジストパターン７を形成する（第２図ａ）。
次に、シアン有機染料を含有する紫外線硬化形レ
ジスト８を所定の膜厚に塗布する（第２図ｂ）。
次いで、紫外線を全面露光して紫外線硬化形レジ
スト８を硬化すると同時にポジレジストパターン
７を露光する（第２図ｃ）。次に、ポジレジスト
パターン７を現像液で膨潤させた後、スプレー水
洗を行なつてその上の紫外線硬化形レジスト８と
共に除去し、所定のフイルタパターン９を得る
（第２図ｄ）。この時、ボンデイングパツド６の上
のポジレジストパターン７とその上の紫外線硬化
形レジスト８も同時に除去される（第２図ｅ）。
パターン形成後は、硬化を更に完全にするためポ
ストベークを行なう。このポストベークは紫外線
の全面露光で代用してもよい。２色目以降のフイ
ルタ層についても、上記紫外線硬化形レジスト８
に含有するシアン有機染料を各色の有機染料に代
えるのみで、上述したと全く同様の工程を繰返せ
ばよい。
このように、フイルタパターンを得るために、
γ値が高くかつ暗反応が無視できる程度に小さい
ポジレジストパターン７を利用するため、パター
ンの寸法精度が高く、解像力が向上する。これに
関連して、高寸法精度のポジレジストパターン７
の上に有機染料含有の紫外線硬化レジスト８から
なるフイルタ層を形成し、該ポジレジストパター
ン７を除去した後にその開口部に残された部分を
もつて所望のフイルタパターン９とするリフトオ
フ方式によつているため、従来のフイルタパター
ン自体を直接に露光で形成する場合のように、露
光時のSi素子表面からの反射等によつてパターン
開口部にかぶりが生じることがない。また、フイ
ルタ層の厚さが塗布時の膜厚のみによつて規定さ
れるため、従来の露光、現像を経て決まる方式に
比べ、そのばらつきが1/2程度に抑えられる。従
つて分光特性のばらつき幅もほぼ半減できる。更
に、塗布後の染色作業が不要であるため、２色目
以降のフイルタ層積層に際して保護膜を形成する
必要はない。
γ値が高くかつ暗反応が無視できる程度に小さい
ポジレジストパターン７を利用するため、パター
ンの寸法精度が高く、解像力が向上する。これに
関連して、高寸法精度のポジレジストパターン７
の上に有機染料含有の紫外線硬化レジスト８から
なるフイルタ層を形成し、該ポジレジストパター
ン７を除去した後にその開口部に残された部分を
もつて所望のフイルタパターン９とするリフトオ
フ方式によつているため、従来のフイルタパター
ン自体を直接に露光で形成する場合のように、露
光時のSi素子表面からの反射等によつてパターン
開口部にかぶりが生じることがない。また、フイ
ルタ層の厚さが塗布時の膜厚のみによつて規定さ
れるため、従来の露光、現像を経て決まる方式に
比べ、そのばらつきが1/2程度に抑えられる。従
つて分光特性のばらつき幅もほぼ半減できる。更
に、塗布後の染色作業が不要であるため、２色目
以降のフイルタ層積層に際して保護膜を形成する
必要はない。
なお、上述した実施例においては、単板式カラ
ー固体撮像素子用フイルタを製造する場合、特に
Si素子１の表面上に直接形成するいわゆるモノリ
シツク方式の場合についてのみ説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、例えば通常
の単管式カラー撮像管用フイルタの製造にも適用
できることは勿論である。その場合、フイルタが
Si素子上ではなく、透明なガラス基板上に形成さ
れる点が異なるのみである。
ー固体撮像素子用フイルタを製造する場合、特に
Si素子１の表面上に直接形成するいわゆるモノリ
シツク方式の場合についてのみ説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、例えば通常
の単管式カラー撮像管用フイルタの製造にも適用
できることは勿論である。その場合、フイルタが
Si素子上ではなく、透明なガラス基板上に形成さ
れる点が異なるのみである。
以上説明したように、本発明によるカラーフイ
ルタの製造方法によれば、フイルタパターンの開
口部にあたる部分にポジレジストパターンを形成
した基板上にフイルタ層としての有機染料含有の
紫外線硬化樹脂を塗布した後、前記ポジレジスト
パターンをその上のフイルタ層と共に剥離除去し
て所望のフイルタパターンを形成することによ
り、高寸法精度、高解像度のパターン形成が可能
となり、分光特性のばらつきが小さくかつ開口部
にかぶりのないカラーフイルタが形成できるとい
う優れた効果を有する。
ルタの製造方法によれば、フイルタパターンの開
口部にあたる部分にポジレジストパターンを形成
した基板上にフイルタ層としての有機染料含有の
紫外線硬化樹脂を塗布した後、前記ポジレジスト
パターンをその上のフイルタ層と共に剥離除去し
て所望のフイルタパターンを形成することによ
り、高寸法精度、高解像度のパターン形成が可能
となり、分光特性のばらつきが小さくかつ開口部
にかぶりのないカラーフイルタが形成できるとい
う優れた効果を有する。
第１図は従来の製造方法の各工程におけるカラ
ーフイルタを示す断面図、第２図は本発明による
カラーフイルタの製造方法の各工程におけるカラ
ーフイルタを示す断面図である。 １……Si素子、７……ポジレジストパターン、
８……紫外線硬化形レジスト、９……フイルタパ
ターン。
ーフイルタを示す断面図、第２図は本発明による
カラーフイルタの製造方法の各工程におけるカラ
ーフイルタを示す断面図である。 １……Si素子、７……ポジレジストパターン、
８……紫外線硬化形レジスト、９……フイルタパ
ターン。
Claims (1)
- １ 基板上にポジレジストを塗布する工程と、該
ポジレジストを露光、現像により所定のパターン
に形成する工程と、このポジレジストパターンを
形成した前記基板上に有機染料を含有する紫外線
硬化形樹脂を全面塗布する工程と、紫外線を全面
露光してこの紫外線硬化形樹脂を硬化すると共に
前記ポジレジストパターンを露光する工程と、露
光したポジレジストパターンをその上の前記紫外
線硬化形樹脂と共に剥離除去して残る紫外線硬化
形樹脂からなるフイルタパターンを形成する工程
とを含むことを特徴とするカラーフイルタの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105586A JPS587608A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105586A JPS587608A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587608A JPS587608A (ja) | 1983-01-17 |
| JPH031642B2 true JPH031642B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=14411598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56105586A Granted JPS587608A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587608A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5711913A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-21 | Tsumura Juntendo Inc | Preparation of hard-capsule of herb medicine |
| JPS6058668A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラ−フィルタ−の製造方法 |
| JPS6199104A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
| FR2586488A1 (fr) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | France Etat | Procede de fabrication de filtres colores, utiles notamment pour la visualisation d'information et support pour la visualisation comportant de tels filtres colores |
| EP0444201A4 (en) * | 1989-09-18 | 1992-12-30 | Idemitsu Kosan Company Limited | Method of producing color filter and resist for light-shielding film used for the method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5246099A (en) * | 1975-10-07 | 1977-04-12 | Warner Lambert Co | Production of pyridd*2*11b** quinazolineeone |
-
1981
- 1981-07-08 JP JP56105586A patent/JPS587608A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5246099A (en) * | 1975-10-07 | 1977-04-12 | Warner Lambert Co | Production of pyridd*2*11b** quinazolineeone |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS587608A (ja) | 1983-01-17 |
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