JPH03113449A - 感可視光樹脂組成物 - Google Patents
感可視光樹脂組成物Info
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- JPH03113449A JPH03113449A JP1251488A JP25148889A JPH03113449A JP H03113449 A JPH03113449 A JP H03113449A JP 1251488 A JP1251488 A JP 1251488A JP 25148889 A JP25148889 A JP 25148889A JP H03113449 A JPH03113449 A JP H03113449A
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 18
- -1 p-aminobenzylidene Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPXAHQRRLKQYTG-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C1=CC=CC=C1 PPXAHQRRLKQYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N (e)-3-[4-[(e)-2-carboxyethenyl]phenyl]prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)\C=C\C1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- DZEUVBBVBAMNTF-UHFFFAOYSA-N [C-]#N.C1(C=CC(C2=CC=CC=C12)=O)=O Chemical class [C-]#N.C1(C=CC(C2=CC=CC=C12)=O)=O DZEUVBBVBAMNTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 1
- MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N bis(3-nitrophenyl)iodanium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([I+]C=2C=C(C=CC=2)[N+]([O-])=O)=C1 MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N hydrochloride;hydroiodide Chemical class Cl.I AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)(C)C QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、優れた感光度を示す光可溶性樹脂組成物、さ
らに詳しく述べれば、光照射により強酸お発生しうる物
質と酸により容易に加水分解を起こしうる官能基を持つ
高分子物質を含有することを特徴とする感可視光樹脂組
成物に関するものである。
らに詳しく述べれば、光照射により強酸お発生しうる物
質と酸により容易に加水分解を起こしうる官能基を持つ
高分子物質を含有することを特徴とする感可視光樹脂組
成物に関するものである。
従来の技術
感可視光樹脂組成物は、可視発振波長を持つレーザを光
源とする諸技術に用いられる。レーザ光による記録は、
電子計算機により制御できるので、直接描画が可能とな
り、印刷製版、光ビデオディスク原版作製などに利用さ
れている。さらには、レーザ光の単色性に由来する高解
像性のホログラム記録も重要である。このような目的に
適した記録材料には、レーザ光に高感度で感光し、しか
も高い解像性を示すことが要求される。また、実際に使
用するに当たっては、長期にわたって保存安定性に優れ
ていることも必要となる。
源とする諸技術に用いられる。レーザ光による記録は、
電子計算機により制御できるので、直接描画が可能とな
り、印刷製版、光ビデオディスク原版作製などに利用さ
れている。さらには、レーザ光の単色性に由来する高解
像性のホログラム記録も重要である。このような目的に
適した記録材料には、レーザ光に高感度で感光し、しか
も高い解像性を示すことが要求される。また、実際に使
用するに当たっては、長期にわたって保存安定性に優れ
ていることも必要となる。
感光性樹脂はレリーフ画像形成に特徴を持つので、この
点を生かした記録材料に有用であるが、従来の感光性樹
脂の多くはフォトレジスト材料、インキ、塗料、フェス
、印刷製版材料などに利用されており、それらの感光波
長は紫外線領域にとどまっていた。可視レーザ光に感光
する樹脂としては、これまでに、光重合型、光架橋型の
材料が提案されている。例えば、特開昭52−1346
92号においては、多環キノンと3級アミンからなる光
重合組成物、特開昭54−151024号においては、
メロシアニンとトリアジン誘導体を光重合開始剤とする
組成物、特開昭54−155292号においては、イミ
ダゾリルニ量体とアミノフェニル基をもつ環状ケトンを
開始剤とする光重合組成物、特開昭60−22129号
においては、p−フェニレンジアクリル酸残基とピリリ
ウム塩などの増感剤とからなる光架橋性高分子が示され
ている。これらは、可視光に対して比較的高い感度で感
光するものであるが、いわゆるネガ型に属し、解像性に
劣るという難点を有する。
点を生かした記録材料に有用であるが、従来の感光性樹
脂の多くはフォトレジスト材料、インキ、塗料、フェス
、印刷製版材料などに利用されており、それらの感光波
長は紫外線領域にとどまっていた。可視レーザ光に感光
する樹脂としては、これまでに、光重合型、光架橋型の
材料が提案されている。例えば、特開昭52−1346
92号においては、多環キノンと3級アミンからなる光
重合組成物、特開昭54−151024号においては、
メロシアニンとトリアジン誘導体を光重合開始剤とする
組成物、特開昭54−155292号においては、イミ
ダゾリルニ量体とアミノフェニル基をもつ環状ケトンを
開始剤とする光重合組成物、特開昭60−22129号
においては、p−フェニレンジアクリル酸残基とピリリ
ウム塩などの増感剤とからなる光架橋性高分子が示され
ている。これらは、可視光に対して比較的高い感度で感
光するものであるが、いわゆるネガ型に属し、解像性に
劣るという難点を有する。
これに対して、光可溶性樹脂組成物(ポジ型)は解像性
が非常に優れており、その代表例としての0−ナフトキ
ノンジアジド類が実用に供せられていることは周知の通
りである。しかしながら、この感光物は光学的な増感を
行うことは知られておらず、可視光領域ではきわめて低
感度であるという問題点を有している。そこで近年、0
−ナフトキノンシアノド類を使用しない高感度光可溶性
樹脂組成物の提案がなされている。特開昭57=176
035号では、メタクリレート側鎖にオレフィンを導入
したポリマーとメルカプト酸と反応開始剤からなる組成
物、時開59−45439号では、光照射で発生した酸
を触媒として加水分解を起こすポリ−p−t−ブトキン
カルボキシルスチレンからなる組成物、特開昭61−1
67945号では、光照射で発生した酸を触媒として加
水分解を起こすシリルエーテル基を持つ化合物からなる
組成物などが示されている。しかしながら、いずれも長
波長光に感するものではなく、レーザ用感光材料や銀塩
代替材料などとしてfll用するにはなお一層高い感度
が望まれていた。
が非常に優れており、その代表例としての0−ナフトキ
ノンジアジド類が実用に供せられていることは周知の通
りである。しかしながら、この感光物は光学的な増感を
行うことは知られておらず、可視光領域ではきわめて低
感度であるという問題点を有している。そこで近年、0
−ナフトキノンシアノド類を使用しない高感度光可溶性
樹脂組成物の提案がなされている。特開昭57=176
035号では、メタクリレート側鎖にオレフィンを導入
したポリマーとメルカプト酸と反応開始剤からなる組成
物、時開59−45439号では、光照射で発生した酸
を触媒として加水分解を起こすポリ−p−t−ブトキン
カルボキシルスチレンからなる組成物、特開昭61−1
67945号では、光照射で発生した酸を触媒として加
水分解を起こすシリルエーテル基を持つ化合物からなる
組成物などが示されている。しかしながら、いずれも長
波長光に感するものではなく、レーザ用感光材料や銀塩
代替材料などとしてfll用するにはなお一層高い感度
が望まれていた。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、可視光に感光して可溶化する樹脂組成物に関
するものであって、しかも感光速度及び解像性に優れた
特性を併せ持つ感光材料を提供する事を目的としてなさ
れたものである。
するものであって、しかも感光速度及び解像性に優れた
特性を併せ持つ感光材料を提供する事を目的としてなさ
れたものである。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、高感度、高解像性を有し、保存安定性の
良い感可視光樹脂組成物を得るべく鋭意研究を重ねた結
果、本発明を成すに至ったものである。
良い感可視光樹脂組成物を得るべく鋭意研究を重ねた結
果、本発明を成すに至ったものである。
すなわち、
本発明は、(A)一般式
%式%
(式中、R3はterj−ブチル基または2リール−2
−プロピル基を示す) で表される構造単位25〜100モル%と、一般式 %式% (式中、R2はメトキシ、フェノキン、ナフトキシ、t
ert−アミノ基を示す) で表される構造単位0〜75モル%からなるメタクリル
酸系高分子化合物Imと、(B)一般式(式中、RI、
Rtは低級アルキル基を示し、Xは水素原子、フェニ
ル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基またはアルコ
キシカルボニル基から選ばれた残基であり、Yはアシル
基、シアノ基、アンモニオ基またはアルコキシカルボニ
ル基から選ばれた残基であり、nは0またはIである)
で表されるp−アミノベンジリデン誘導体003〜0.
2部と、(C)ジアリールヨードニウム塩0.02〜0
.2部、からなることを特徴とする感可視光樹脂組成物
に関するものである。
−プロピル基を示す) で表される構造単位25〜100モル%と、一般式 %式% (式中、R2はメトキシ、フェノキン、ナフトキシ、t
ert−アミノ基を示す) で表される構造単位0〜75モル%からなるメタクリル
酸系高分子化合物Imと、(B)一般式(式中、RI、
Rtは低級アルキル基を示し、Xは水素原子、フェニ
ル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基またはアルコ
キシカルボニル基から選ばれた残基であり、Yはアシル
基、シアノ基、アンモニオ基またはアルコキシカルボニ
ル基から選ばれた残基であり、nは0またはIである)
で表されるp−アミノベンジリデン誘導体003〜0.
2部と、(C)ジアリールヨードニウム塩0.02〜0
.2部、からなることを特徴とする感可視光樹脂組成物
に関するものである。
本発明の光可溶性樹脂組成物を構成する高分子化合物と
しては、酸によって容易にエステル基が切断されるメタ
クリル酸エステル系高分子が好ましい。この種の高分子
を構成する単重体の具体例としては、メタクリル酸のt
ert−ブチルエステル、2−フェニル−2−プロピル
エステル、2−(p−アニリル)−2−プロピルエステ
ル、2−(p−トリル)−2−プロピルエステル、2−
(p−ビフェニル)−2−プロピルエステルなどをあげ
ることが出来るがこの限りではない。本発明に用いられ
る高分子化合物としては、これらの単量体のみによる重
合体のほかに、メタクリル酸のアルキルエステル、フェ
ニルエステル、ナフチルエステル、メタクリルアミド、
N −t e r tブチルメタクリルアミドなどのビ
ニル系単量体を共重合させたものが用いられる。これら
の共重合性単量体の種類と共重合比を選択することによ
って、目的とする感光性樹脂組成物の特性を調整するこ
とができる。
しては、酸によって容易にエステル基が切断されるメタ
クリル酸エステル系高分子が好ましい。この種の高分子
を構成する単重体の具体例としては、メタクリル酸のt
ert−ブチルエステル、2−フェニル−2−プロピル
エステル、2−(p−アニリル)−2−プロピルエステ
ル、2−(p−トリル)−2−プロピルエステル、2−
(p−ビフェニル)−2−プロピルエステルなどをあげ
ることが出来るがこの限りではない。本発明に用いられ
る高分子化合物としては、これらの単量体のみによる重
合体のほかに、メタクリル酸のアルキルエステル、フェ
ニルエステル、ナフチルエステル、メタクリルアミド、
N −t e r tブチルメタクリルアミドなどのビ
ニル系単量体を共重合させたものが用いられる。これら
の共重合性単量体の種類と共重合比を選択することによ
って、目的とする感光性樹脂組成物の特性を調整するこ
とができる。
成分Bであるジアリールヨードニウム塩は光照射によっ
て酸を発生する性質を持つ。本発明で用いられる化合物
としては、Macromolecules、10.13
07(+977)l:#8載の化合物、例えば、ジフェ
ニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(
p−アニリル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(p−t−ブチルフェニル)ヨ
ードニウム、などのヨードニウムのクロリド、プロミド
あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩
、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげることができる
。
て酸を発生する性質を持つ。本発明で用いられる化合物
としては、Macromolecules、10.13
07(+977)l:#8載の化合物、例えば、ジフェ
ニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(
p−アニリル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(p−t−ブチルフェニル)ヨ
ードニウム、などのヨードニウムのクロリド、プロミド
あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩
、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげることができる
。
成分Cであるp−ジアルキルアミノベンジリデン誘導体
はジアリールヨードニウム塩の光分解を増感する機能を
有する。一般式(It)で表される化合物を以下に例示
する。
はジアリールヨードニウム塩の光分解を増感する機能を
有する。一般式(It)で表される化合物を以下に例示
する。
本発明の光可溶性樹脂組成物に含有される成分Bのジア
リールヨードニウム塩の量は、高分子化合物ニジアリー
ルヨードニウム塩の重量比で1=0.03からI:0.
2までの範囲をとることが可能である。さらに、高分子
化合物と増感剤との重量比は1:0.02からI:0.
2の範囲である。
リールヨードニウム塩の量は、高分子化合物ニジアリー
ルヨードニウム塩の重量比で1=0.03からI:0.
2までの範囲をとることが可能である。さらに、高分子
化合物と増感剤との重量比は1:0.02からI:0.
2の範囲である。
本発明の光可溶性樹脂組成物には、所望に応じ高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプの
他、ヘリウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザが利
用できる。これらの光源を用いて所定時間露光した後、
樹脂組成物を暗所で加熱する。加熱温度は60〜150
℃、好ましくは、80〜130℃である。これ以下であ
れば、画像形成に要する時間は著しく長くなるし、これ
以上にしても画像形成の時間を短縮することができない
。加熱時間は加熱温度に依存するが、1〜20分、好ま
しくは、2〜IO分である。また、加熱を水蒸気で飽和
した状態で行うと、画像形成に必要な露光時間を短縮す
ることが可能となり、さらに、本発明の光記録材料の感
度を向上させることが出来る。加熱後、水、アルコール
などの極性溶媒を含有する溶媒で現像することによって
、露光部が可溶化し、高解像性画像が形成される。
灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプの
他、ヘリウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザが利
用できる。これらの光源を用いて所定時間露光した後、
樹脂組成物を暗所で加熱する。加熱温度は60〜150
℃、好ましくは、80〜130℃である。これ以下であ
れば、画像形成に要する時間は著しく長くなるし、これ
以上にしても画像形成の時間を短縮することができない
。加熱時間は加熱温度に依存するが、1〜20分、好ま
しくは、2〜IO分である。また、加熱を水蒸気で飽和
した状態で行うと、画像形成に必要な露光時間を短縮す
ることが可能となり、さらに、本発明の光記録材料の感
度を向上させることが出来る。加熱後、水、アルコール
などの極性溶媒を含有する溶媒で現像することによって
、露光部が可溶化し、高解像性画像が形成される。
発明の効果
本発明の感可視光可溶性樹脂組成物は、従来の可視感光
性樹脂よりも優れた感度を有しているので、平版や凸版
用製版材料、各種レリーフの作製、ホログラムの作製な
ど幅広い分野に応用できる。
性樹脂よりも優れた感度を有しているので、平版や凸版
用製版材料、各種レリーフの作製、ホログラムの作製な
ど幅広い分野に応用できる。
以下、実施例をもって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明は、これに限定されるものではない。
、本発明は、これに限定されるものではない。
実施例1〜3
2−フェニル−2−プロパツール17.8gとメタクリ
ル酸クロリド206gをトリエチルアミン26..6g
存在下、酢酸エチル30m:を溶媒として20時間室温
で撹はん反応させた。反応生成物をO,IN塩酸、IN
水酸化ナトリウム水溶液、水で洗浄後、減圧蒸留により
2−フェニル−2−プロピルメタクリレート13.1g
を得た。
ル酸クロリド206gをトリエチルアミン26..6g
存在下、酢酸エチル30m:を溶媒として20時間室温
で撹はん反応させた。反応生成物をO,IN塩酸、IN
水酸化ナトリウム水溶液、水で洗浄後、減圧蒸留により
2−フェニル−2−プロピルメタクリレート13.1g
を得た。
このエステル90gをベンゼン90m1に溶解後、アゾ
ビスイソブチロニトリル(ArBN)l。
ビスイソブチロニトリル(ArBN)l。
Omzを添加したものをアンプルに入れアルゴンガスで
置換後封管した。これを60℃、20時間で重合させた
後、反応物をメタノール中に投じてろ過し、重合体6.
5gを得た。このポリマーを20重量%のジグライム溶
液に調製して、ジフェニルヨードニウム拳ヘキサフルオ
ロフォスフェートと増感剤をそれぞれポリマーに対して
20mm%及びio?4[%となるように添加して感光
液とした。これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布し、
80℃で10分間プリベークを行い、ステップ・タブレ
ット(イーストマン・コダック社製)を通してキセノン
灯で1分間露光した。これを125℃、10分間ポスト
ベークした後、メタノールで現像した。可溶化段数をま
とめて表1に示す。
置換後封管した。これを60℃、20時間で重合させた
後、反応物をメタノール中に投じてろ過し、重合体6.
5gを得た。このポリマーを20重量%のジグライム溶
液に調製して、ジフェニルヨードニウム拳ヘキサフルオ
ロフォスフェートと増感剤をそれぞれポリマーに対して
20mm%及びio?4[%となるように添加して感光
液とした。これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布し、
80℃で10分間プリベークを行い、ステップ・タブレ
ット(イーストマン・コダック社製)を通してキセノン
灯で1分間露光した。これを125℃、10分間ポスト
ベークした後、メタノールで現像した。可溶化段数をま
とめて表1に示す。
実施例4
実施例1で得たメタクリル酸2−フェニル−2−プロピ
ルをメタクリル酸フェニルと1:I共重合させ、この共
重合体0.5.を実施例jで用いた増感剤o、o、sg
とジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロフォスフェ
ート0.Igとともにジグライムに溶解した。その溶液
を実施例■と同様の処方でガラス板上に膜厚的1μmに
スピン塗布し、80℃で10分間プリベークを行った。
ルをメタクリル酸フェニルと1:I共重合させ、この共
重合体0.5.を実施例jで用いた増感剤o、o、sg
とジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロフォスフェ
ート0.Igとともにジグライムに溶解した。その溶液
を実施例■と同様の処方でガラス板上に膜厚的1μmに
スピン塗布し、80℃で10分間プリベークを行った。
これをアルゴンレーザの488 nmの輝線を用い、第
1図のような光学系で交差角22°で露光した表! 各種増感剤を用いたときの感度 後、100℃で10分間ポストベークしたものを!−ブ
タノール:メタノール=!:Iの混合液で現像した。さ
らに、ヘキサンでリンスすることによりホログラムを得
た。このホログラムの回折効率は、露光エネルギー12
0mJ/cm’のときに最大で、17.5%であった。
1図のような光学系で交差角22°で露光した表! 各種増感剤を用いたときの感度 後、100℃で10分間ポストベークしたものを!−ブ
タノール:メタノール=!:Iの混合液で現像した。さ
らに、ヘキサンでリンスすることによりホログラムを得
た。このホログラムの回折効率は、露光エネルギー12
0mJ/cm’のときに最大で、17.5%であった。
実施例5〜+2
メタクリル酸tert−ブチルあるいはメタクリル酸2
−フェニル−2−プロピルを他のメタクリル酸エステル
またはアミドとをベンゼン中で共重合させ、表2に示し
たような結果を得た。これらの高分子のジグライム溶液
に、実施例1で用いた増感剤とジフェニルヨードニウム
塩とをそれぞれ10重量%及び10重量%添加し、陽極
酸化アルミ仮にスピン塗布した。これに、ネガ画像越し
にキャノン灯からの光を照射した後に、実施例1と同様
にしてポストベークしてからメタノールとブタノールの
混合溶液で現像処理を行ったところ、露光部が溶解して
ポジ画像が得られた。
−フェニル−2−プロピルを他のメタクリル酸エステル
またはアミドとをベンゼン中で共重合させ、表2に示し
たような結果を得た。これらの高分子のジグライム溶液
に、実施例1で用いた増感剤とジフェニルヨードニウム
塩とをそれぞれ10重量%及び10重量%添加し、陽極
酸化アルミ仮にスピン塗布した。これに、ネガ画像越し
にキャノン灯からの光を照射した後に、実施例1と同様
にしてポストベークしてからメタノールとブタノールの
混合溶液で現像処理を行ったところ、露光部が溶解して
ポジ画像が得られた。
表2 それぞれの実施例におけるポリメタクリル酸エス
テル tBMA:メタクリル酸Lertブチル、MMA :メ
タクリル酸メチル、DMBMA :メタクリル酸2−フ
ェニルー2−ブロビル、tBMAm: N−ブチルメタ
クリルアミド、PhMA:メタクリル酸フェニル
テル tBMA:メタクリル酸Lertブチル、MMA :メ
タクリル酸メチル、DMBMA :メタクリル酸2−フ
ェニルー2−ブロビル、tBMAm: N−ブチルメタ
クリルアミド、PhMA:メタクリル酸フェニル
第1図は本発明においてホログラム作製に使用される装
置の1例を略式に示した説明図である。 I:レーザ発振器 2:コリメータ 3:反射ミラー 4:ビームスプリッタ− 5:感光材 6:レーザビーム
置の1例を略式に示した説明図である。 I:レーザ発振器 2:コリメータ 3:反射ミラー 4:ビームスプリッタ− 5:感光材 6:レーザビーム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はtert−ブチル基または2−アリー
ル−2−プロピル基を示す) で表される構造単位25〜100モル%と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2はメトキシ、フェノキシ、ナフトキシ、
tert−アミノ基を示す) で表される構造単位0〜75モル%からなるメタクリル
酸系高分子化合物1部と、 (B)一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2は低級アルキル基を示し、Xは
水素原子、フェニル基、アシル基、シアノ基、アンモニ
オ基またはアルコキシカルボニル基から選ばれた残基で
あり、Yはアシル基、シアノ基、アンモニオ基またはア
ルコキシカルボニル基から選ばれた残基であり、nは0
または1である)で表されるp−アミノベンジリデン誘
導体0.02〜0.2部と、 (C)ジアリールヨードニウム塩0.02〜0.2部、
からなることを特徴とする感可視光樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1251488A JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1251488A JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03113449A true JPH03113449A (ja) | 1991-05-14 |
JPH0816784B2 JPH0816784B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=17223549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1251488A Expired - Lifetime JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0816784B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04226461A (ja) * | 1990-04-24 | 1992-08-17 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液体適用型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
JPH04230758A (ja) * | 1990-04-24 | 1992-08-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ドライフィルム型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
JP2007076569A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自転車用錠装置および自転車 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4915372A (ja) * | 1972-03-24 | 1974-02-09 | ||
JPS55151637A (en) * | 1979-05-15 | 1980-11-26 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Radiation sensitive material and film forming method |
JPS5629232A (en) * | 1979-08-16 | 1981-03-24 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
JPS5639539A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-15 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Pattern forming method |
JPS60257444A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-19 | Agency Of Ind Science & Technol | 光架橋性感光材料 |
JPS60258204A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | 光硬化樹脂組成物 |
JPH02309358A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-25 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1251488A patent/JPH0816784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4915372A (ja) * | 1972-03-24 | 1974-02-09 | ||
JPS55151637A (en) * | 1979-05-15 | 1980-11-26 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Radiation sensitive material and film forming method |
JPS5629232A (en) * | 1979-08-16 | 1981-03-24 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
JPS5639539A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-15 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Pattern forming method |
JPS60257444A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-19 | Agency Of Ind Science & Technol | 光架橋性感光材料 |
JPS60258204A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | 光硬化樹脂組成物 |
JPH02309358A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-25 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04226461A (ja) * | 1990-04-24 | 1992-08-17 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液体適用型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
JPH04230758A (ja) * | 1990-04-24 | 1992-08-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ドライフィルム型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
JP2007076569A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自転車用錠装置および自転車 |
JP4703328B2 (ja) * | 2005-09-16 | 2011-06-15 | パナソニック株式会社 | 自転車用錠装置および自転車 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0816784B2 (ja) | 1996-02-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |