JPH03100353U - - Google Patents
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- JPH03100353U JPH03100353U JP766990U JP766990U JPH03100353U JP H03100353 U JPH03100353 U JP H03100353U JP 766990 U JP766990 U JP 766990U JP 766990 U JP766990 U JP 766990U JP H03100353 U JPH03100353 U JP H03100353U
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- JP
- Japan
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- mass filter
- quadrupole mass
- terminal
- leaf spring
- rod
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
第１図は本考案実施例の要部構成断面図であり
、第２図は従来例の構成説明図、第３図は四重極
マスフイルタの従来例構成断面図である。 １……プラズマトーチ、２，２２，２４……流
量制御部、３……アルゴンガス供給源、４……試
料槽、４′……試料ガス導入口、５……ネブライ
ザ、６……高周波誘導コイル、７……高周波誘導
結合プラズマ、８……ノズル、９……スキマー、
１１……フオアチヤンバー、１３……センターチ
ヤンバー、１６……マスフイルタ、１７……リア
チヤンバー、２０……信号処理部、２１……円筒
状のホルダー、２２……四重極マスフイルタのロ
ツド（棒状部材）、２３……セラミツクホルダー
、２４……ネジ穴、２５，２５′……端子、２６
……絶縁物、２７……板バネ、２８……四重極マ
スフイルタコンタクト、２９……固定用プレート
、３０……固定用ネジ。
、第２図は従来例の構成説明図、第３図は四重極
マスフイルタの従来例構成断面図である。 １……プラズマトーチ、２，２２，２４……流
量制御部、３……アルゴンガス供給源、４……試
料槽、４′……試料ガス導入口、５……ネブライ
ザ、６……高周波誘導コイル、７……高周波誘導
結合プラズマ、８……ノズル、９……スキマー、
１１……フオアチヤンバー、１３……センターチ
ヤンバー、１６……マスフイルタ、１７……リア
チヤンバー、２０……信号処理部、２１……円筒
状のホルダー、２２……四重極マスフイルタのロ
ツド（棒状部材）、２３……セラミツクホルダー
、２４……ネジ穴、２５，２５′……端子、２６
……絶縁物、２７……板バネ、２８……四重極マ
スフイルタコンタクト、２９……固定用プレート
、３０……固定用ネジ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励起し
生じたイオンを真空中に導入し四重極マスフイル
タを通して質量分析計検出器に導いて検出するこ
とによつて試料中の被測定元素を分析する分析計
において、 前記四重極マスフイルタの中心部を形成する４
本のロツドと、該ロツドを支えるセラミツクホル
ダーと、駆動電圧が印加される端子と、該端子に
接続された板バネと、該板バネと接触するように
配設された四重極マスフイルタコンタクトと、前
記端子が絶縁物を介して固定された固定用プレー
トと、該固定用プレートが固定用ネジを介して固
定されると共に前記マスフイルタの外枠を形成す
る円筒状ホルダーとを具備し、前記ロツドに前記
板バネと四重極マスフイルタコンタクトを介して
前記端子から四重極マスフイルタの駆動用電圧を
印加することを特徴とする高周波誘導結合プラズ
マ質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP766990U JPH03100353U (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP766990U JPH03100353U (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100353U true JPH03100353U (ja) | 1991-10-21 |
Family
ID=31511324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP766990U Pending JPH03100353U (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100353U (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07142026A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Shimadzu Corp | 四重極質量分析装置 |
| JPH1097838A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JP2001351563A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
| WO2019155543A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894745A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Agency Of Ind Science & Technol | 多重極レンズ |
| JPS63155547A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 四重極質量分析計の分析管 |
| JPS646352A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Yokogawa Electric Corp | High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP766990U patent/JPH03100353U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894745A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Agency Of Ind Science & Technol | 多重極レンズ |
| JPS63155547A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 四重極質量分析計の分析管 |
| JPS646352A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Yokogawa Electric Corp | High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07142026A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Shimadzu Corp | 四重極質量分析装置 |
| JPH1097838A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JP2001351563A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
| WO2019155543A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
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