JP2750170B2 - ステロイド誘導体の製造法 - Google Patents
ステロイド誘導体の製造法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、式（１） で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールの製造方法、および式（１）の化合物を製造する
過程で得られる新規な中間体に関する。
オールの製造方法、および式（１）の化合物を製造する
過程で得られる新規な中間体に関する。
上記式（１）で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１
α,3β,25−トリオールは、強力なビタミンD3活性を有
する１α,25−ジヒドロキシビタミンD3を製造するため
の中間体として有用なステロイド誘導体である。
α,3β,25−トリオールは、強力なビタミンD3活性を有
する１α,25−ジヒドロキシビタミンD3を製造するため
の中間体として有用なステロイド誘導体である。
〔従来の技術およびその問題点〕 ビタミンD3は、生理活性を発現する前に、まず、肝臓
において25位の炭素がヒドロキシル化されて25−ヒドロ
キシビタミンD3になり、次いで腎臓において１α位の炭
素がヒドロキシル化されて１α,25−ジヒドロキシビタ
ミンD3に代謝されることが知られている。１α,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3は、小腸、腎臓ならびに骨などの
標的器官に運ばれて、例えば、小腸では、粘膜上皮細胞
に作用してカルシウム、リン酸の吸収を促し、腎臓で
は、尿細管上皮細胞に作用してカルシウム、リン酸の再
吸収を促進し、そして、骨では、骨塩の動員を促進する
作用を有する、活性型ビタミンD3の中でも、最も生理活
性が高く、例えば、オステオポローシス（骨粗鬆症）等
の治療に広く用いられている。
において25位の炭素がヒドロキシル化されて25−ヒドロ
キシビタミンD3になり、次いで腎臓において１α位の炭
素がヒドロキシル化されて１α,25−ジヒドロキシビタ
ミンD3に代謝されることが知られている。１α,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3は、小腸、腎臓ならびに骨などの
標的器官に運ばれて、例えば、小腸では、粘膜上皮細胞
に作用してカルシウム、リン酸の吸収を促し、腎臓で
は、尿細管上皮細胞に作用してカルシウム、リン酸の再
吸収を促進し、そして、骨では、骨塩の動員を促進する
作用を有する、活性型ビタミンD3の中でも、最も生理活
性が高く、例えば、オステオポローシス（骨粗鬆症）等
の治療に広く用いられている。
一般に、１α,25−ジヒドロキシビタミンD3は、その
前駆体化合物である上記化合物コレスタ−5,7−ジエン
−１α,3β,25−トリオールの紫外線照射による開環反
応と引き続く異性化反応によって製造されており、従っ
て、上記化合物を効率よく製造する方法は、工業的に優
れた１α,25−ジヒドロキシビタミンD3の製造法を提供
するものということができる。
前駆体化合物である上記化合物コレスタ−5,7−ジエン
−１α,3β,25−トリオールの紫外線照射による開環反
応と引き続く異性化反応によって製造されており、従っ
て、上記化合物を効率よく製造する方法は、工業的に優
れた１α,25−ジヒドロキシビタミンD3の製造法を提供
するものということができる。
従来、コレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリオ
ールの製造法としては、１α,25−ジヒドロキシコレス
テロールを出発原料として用いる方法（「T.Kametani,M
ed.Res.Rev.,７,147〜171（1987）」中の文献参照）等
がある。
ールの製造法としては、１α,25−ジヒドロキシコレス
テロールを出発原料として用いる方法（「T.Kametani,M
ed.Res.Rev.,７,147〜171（1987）」中の文献参照）等
がある。
しかし、上記の方法では、目的化合物の5,7−ジエン
の他に、その異性体である4,6−ジエンが多量に副成す
るので、結果的に収率が低くなり、また、その分離も困
難であるため、この方法は、工業的方法として優れた方
法とはいえない。
の他に、その異性体である4,6−ジエンが多量に副成す
るので、結果的に収率が低くなり、また、その分離も困
難であるため、この方法は、工業的方法として優れた方
法とはいえない。
また、その製造法は１α,25−ジヒドロキシビタミンD
3のみならず、その誘導体合成にも適用できる汎用性を
持った製造法であることがより望ましい。
3のみならず、その誘導体合成にも適用できる汎用性を
持った製造法であることがより望ましい。
さらにまた、式（１）で示される化合物の5,7−ジエ
ン部は酸に敏感であるので、5,7−ジエン部は各反応工
程中保護しておいて、できるだけ式（１）の化合物を得
る直前で除去するのが望ましい。
ン部は酸に敏感であるので、5,7−ジエン部は各反応工
程中保護しておいて、できるだけ式（１）の化合物を得
る直前で除去するのが望ましい。
そこで本発明者らは、上記問題点を回避し、式（１）
で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールを効率よく得る新規な製造法を提供すべく鋭意研
究を重ねた結果、式（２）で示されるハロゲン化物を出
発原料とし新規な中間体を経由する製造法が、上記問題
点を解決しうることを見出して本発明を完成したのであ
る。
で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールを効率よく得る新規な製造法を提供すべく鋭意研
究を重ねた結果、式（２）で示されるハロゲン化物を出
発原料とし新規な中間体を経由する製造法が、上記問題
点を解決しうることを見出して本発明を完成したのであ
る。
すなわち、本発明は、次式： （式中、Ｘは臭素もしくは沃素原子を表わし、Ｒは耐塩
基性の水酸基の保護基を表わす） で示されるハロゲン化物と、次式 （式中、Ｒ′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す） で示されるスルホン化合物とを塩基の存在下に反応させ
て、次式 （式中、Ｒ、Ｒ′は上記定義の通りである） で示される化合物とし、次いで式（４）の化合物のスル
ホニル基を還元的に除去して、次式： （式中、Ｒ、Ｒ′は上記定義の通りである） で示される化合物とし、次いで式（５）の化合物の水酸
基の保護基を除去して、次式： で示される化合物とし、次いで式（６）の化合物の5,7
−ジエンの保護基を除去して、次式： で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールを製造する方法および、上記の式（１）の化合物
を製造する過程で得られる中間体の上記の式（６）で示
される化合物に関する。
基性の水酸基の保護基を表わす） で示されるハロゲン化物と、次式 （式中、Ｒ′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す） で示されるスルホン化合物とを塩基の存在下に反応させ
て、次式 （式中、Ｒ、Ｒ′は上記定義の通りである） で示される化合物とし、次いで式（４）の化合物のスル
ホニル基を還元的に除去して、次式： （式中、Ｒ、Ｒ′は上記定義の通りである） で示される化合物とし、次いで式（５）の化合物の水酸
基の保護基を除去して、次式： で示される化合物とし、次いで式（６）の化合物の5,7
−ジエンの保護基を除去して、次式： で示されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールを製造する方法および、上記の式（１）の化合物
を製造する過程で得られる中間体の上記の式（６）で示
される化合物に関する。
上記化合物中、式（２）、式（３）、式（４）、式
（５）で示される化合物の水酸基の保護基としては、塩
基性条件に耐えうる保護基であればよく、テトラヒドロ
ピラニル基、メトキシメチル基、２−メトキシエトキシ
メチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシ
リル基などが挙げられるが、好ましくはテトラヒドロピ
ラニル基が用いられる。
（５）で示される化合物の水酸基の保護基としては、塩
基性条件に耐えうる保護基であればよく、テトラヒドロ
ピラニル基、メトキシメチル基、２−メトキシエトキシ
メチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシ
リル基などが挙げられるが、好ましくはテトラヒドロピ
ラニル基が用いられる。
本発明の出発原料である式（２）で示されるハロゲン
化物は、式（７）で示される（22E）−エルゴスタ−5,
7,22−トリエン−１α,3β−ジオール・ジアセテート
（Y.Tachibana,Bull.Chem.Soc.Jpn.,61,3915（1988））
から次に示す合成スキームＩのようにして製造すること
ができる。
化物は、式（７）で示される（22E）−エルゴスタ−5,
7,22−トリエン−１α,3β−ジオール・ジアセテート
（Y.Tachibana,Bull.Chem.Soc.Jpn.,61,3915（1988））
から次に示す合成スキームＩのようにして製造すること
ができる。
（式中Ｍはナトリウムまたはリチウム原子を表わし、Ｘ
は臭素または沃素原子を表わし、Ｒは耐塩基性の水酸基
の保護基を表わす） また本発明において用いられるスルホン化合物
（３）、すなわち２−メチル−４−フエニルスルホニル
−２−ブタノール誘導体は下記合成スキームIIに示され
る経路によって容易に得られる。
は臭素または沃素原子を表わし、Ｒは耐塩基性の水酸基
の保護基を表わす） また本発明において用いられるスルホン化合物
（３）、すなわち２−メチル−４−フエニルスルホニル
−２−ブタノール誘導体は下記合成スキームIIに示され
る経路によって容易に得られる。
（式中Ｒ′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す） 上記の式（３）で示される化合物の水酸基の保護基と
しては、塩基性条件に耐えうる保護基であればよく、テ
トラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、２−メトキ
シエトキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ト
リメチルシリル基などが挙げられるが、好ましくはテト
ラヒドロピラニル基が用いられる。
しては、塩基性条件に耐えうる保護基であればよく、テ
トラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、２−メトキ
シエトキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ト
リメチルシリル基などが挙げられるが、好ましくはテト
ラヒドロピラニル基が用いられる。
次に本発明についてさらに詳しく説明する。
式（２）で示されるハロゲン化物と、式（３）で示さ
れるスルホン化合物とを反応させて、式（４）で示され
る化合物を得る工程は次のようにして行なわれる。ま
ず、テトラヒドロフラン中において、−78゜〜−20℃の
温度範囲で、所望によりヘキサメチルホスホリツクトリ
アミド（HMPA）存在下に、ｎ−ブチルリチウムやリチウ
ムジイソプロピルアミド（LDA）などの強有機塩基にて
スルホン化合物（３）のアニオンを形成させ、次いで−
30゜〜−20℃の温度範囲でハロゲン化物（２）を加えて
行なわれる。使用されるスルホン化合物（３）の量はハ
ロゲン化物（２）に対して１〜10倍モル、好ましくは1.
5〜５倍モルの範囲である。また使用される有機塩基の
量はスルホン化合物（３）に対して1.0〜3.0倍モル、好
ましくは1.0〜1.3倍モルの範囲である。
れるスルホン化合物とを反応させて、式（４）で示され
る化合物を得る工程は次のようにして行なわれる。ま
ず、テトラヒドロフラン中において、−78゜〜−20℃の
温度範囲で、所望によりヘキサメチルホスホリツクトリ
アミド（HMPA）存在下に、ｎ−ブチルリチウムやリチウ
ムジイソプロピルアミド（LDA）などの強有機塩基にて
スルホン化合物（３）のアニオンを形成させ、次いで−
30゜〜−20℃の温度範囲でハロゲン化物（２）を加えて
行なわれる。使用されるスルホン化合物（３）の量はハ
ロゲン化物（２）に対して１〜10倍モル、好ましくは1.
5〜５倍モルの範囲である。また使用される有機塩基の
量はスルホン化合物（３）に対して1.0〜3.0倍モル、好
ましくは1.0〜1.3倍モルの範囲である。
式（４）で示される化合物は、酢酸エチル−メタノー
ル混合溶媒中、あるいはリン酸水素二ナトリウム（Na2H
PO4）で飽和したメタノール中、過剰のナトリウムアマ
ルガムにて処理し、スルホニル基を除去することにより
式（５）で示される化合物とする。温度範囲は−40゜〜
室温の範囲で行なわれる。
ル混合溶媒中、あるいはリン酸水素二ナトリウム（Na2H
PO4）で飽和したメタノール中、過剰のナトリウムアマ
ルガムにて処理し、スルホニル基を除去することにより
式（５）で示される化合物とする。温度範囲は−40゜〜
室温の範囲で行なわれる。
式（５）で示される化合物より、１α位、３β位、25
位の水酸基の保護基を除去して、式（６）で示される5,
7−ジエン部の保護されたトリオールとする。先に例と
して挙げた保護基はいずれも酸性条件下で除去できる。
テトロヒドロピラニル基の場合、その除去は通常の酸性
条件による方法で行なわれる。すなわち、酢酸−水、酢
酸−水−テトラヒドロフランのような酸性条件下で、ま
たはメタノールもしくはエタノール中においてｐ−トル
エンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウ
ム、アンバーリスト15などで処理することによって行な
われる。好ましくは、エタノール中0.1〜0.3倍モルのｐ
−トルエンスルホン酸を用いて50゜〜80℃の温度範囲で
行なわれる。
位の水酸基の保護基を除去して、式（６）で示される5,
7−ジエン部の保護されたトリオールとする。先に例と
して挙げた保護基はいずれも酸性条件下で除去できる。
テトロヒドロピラニル基の場合、その除去は通常の酸性
条件による方法で行なわれる。すなわち、酢酸−水、酢
酸−水−テトラヒドロフランのような酸性条件下で、ま
たはメタノールもしくはエタノール中においてｐ−トル
エンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウ
ム、アンバーリスト15などで処理することによって行な
われる。好ましくは、エタノール中0.1〜0.3倍モルのｐ
−トルエンスルホン酸を用いて50゜〜80℃の温度範囲で
行なわれる。
式（６）で示される化合物は、5,7−ジエンの保護基
を除去して、式（１）で示されるコレスタ−5,7−ジエ
ン−１α,3β,25−トリオールとする。この反応は通常
の方法によって行なわれる。すなわち、式（６）で示さ
れる化合物に対して、過剰量の水素化アルミニウムリチ
ウム（LiAlH4）を用いてテトラヒドロフラン中において
その沸点温度で行なわれる。
を除去して、式（１）で示されるコレスタ−5,7−ジエ
ン−１α,3β,25−トリオールとする。この反応は通常
の方法によって行なわれる。すなわち、式（６）で示さ
れる化合物に対して、過剰量の水素化アルミニウムリチ
ウム（LiAlH4）を用いてテトラヒドロフラン中において
その沸点温度で行なわれる。
以上説明したように、本発明によって、有用なステロ
イド誘導体であるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25
−トリオールの効率的な新規製造法が提供される。本発
明の製造法は従来法に比較して、副生成物がなく、収率
よく、しかも誘導体合成にも適用できる汎用性のあるも
のである。
イド誘導体であるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25
−トリオールの効率的な新規製造法が提供される。本発
明の製造法は従来法に比較して、副生成物がなく、収率
よく、しかも誘導体合成にも適用できる汎用性のあるも
のである。
以下、本発明を実施例により詳しく説明するが、これ
らは本発明を限定するものではない。
らは本発明を限定するものではない。
実施例 １ 23−フエニルスルホニル−５α,8α−（４−フエニル−
1,2−ウラゾロ）−１α,3β,25−トリス（テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−コレスト−６−エン（4,R＝THP） ２−メチル−４−フエニルスルホニル−２−テトラヒ
ドロピラニルオキシブタン（3,R′＝THP（547mg、1.75m
mol）の乾燥テトラヒドロフラン（6ml）溶液に、アルゴ
ン下−20℃でｎ−ブチルリチウム（1.5Nヘキサン溶液、
1.17ml、1.75mmol）、次いでヘキサメチルホスホリツク
トリアミド（0.30ml、1.75mmol）を順次加え、同温で20
分間撹拌した。次いで、同温度で22−ヨード−５α,8α
−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−１α,3β−ビス
（テトラヒドロピラニルオキシ）−23,24−ジノルコル
−６−エン（2,X＝I,R＝THP）（700mg、0.88mmol）の乾
燥テトラヒドロフラン（6ml）の溶液を加え、２時間撹
拌した。さらに室温下に１時間撹拌した後に、反応液を
飽和塩化アンモニア水に注ぎ、クロロホルムにて抽出し
た。クロロホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム（無水）にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲ
ルクロマトグラフイー（溶出液：ヘキサン−酢酸エチル
＝2:1〜1:1）にて精製し、587mgの表題化合物（４）を
得た。
1,2−ウラゾロ）−１α,3β,25−トリス（テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−コレスト−６−エン（4,R＝THP） ２−メチル−４−フエニルスルホニル−２−テトラヒ
ドロピラニルオキシブタン（3,R′＝THP（547mg、1.75m
mol）の乾燥テトラヒドロフラン（6ml）溶液に、アルゴ
ン下−20℃でｎ−ブチルリチウム（1.5Nヘキサン溶液、
1.17ml、1.75mmol）、次いでヘキサメチルホスホリツク
トリアミド（0.30ml、1.75mmol）を順次加え、同温で20
分間撹拌した。次いで、同温度で22−ヨード−５α,8α
−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−１α,3β−ビス
（テトラヒドロピラニルオキシ）−23,24−ジノルコル
−６−エン（2,X＝I,R＝THP）（700mg、0.88mmol）の乾
燥テトラヒドロフラン（6ml）の溶液を加え、２時間撹
拌した。さらに室温下に１時間撹拌した後に、反応液を
飽和塩化アンモニア水に注ぎ、クロロホルムにて抽出し
た。クロロホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム（無水）にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲ
ルクロマトグラフイー（溶出液：ヘキサン−酢酸エチル
＝2:1〜1:1）にて精製し、587mgの表題化合物（４）を
得た。
IR（KBr）1750,1695,1605,1505,1400,1145,1130,1030cm
-1。
-1。
NMR（CDCl3）δ 3.1〜3.4（5H,m,9−Ｈと23−Ｈと 3.68（1H,m,1−Ｈ）、3.88（3H, 4.93（1H,m,3H）、6.34（2H,m,6−Ｈと７−Ｈ）、7.3〜
7.9（10H,m,−Ar−Ｈ）。
7.9（10H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 538（M+−トリアゾリン−ジヒドロ
ピラン×３−H2O、２）266（３）、178（62）、199（10
0）。
ピラン×３−H2O、２）266（３）、178（62）、199（10
0）。
実施例 ２ ５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−１α,3
β,25−トリス（テトラヒドロピラニルオキシ）−コレ
スト−６−エン（5,R＝THP） 実施例１のようにして得られた23−フエニルスルホニ
ル−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−ト
リス（テトラヒドロピラニルオキシ）−コレスト−６−
エン（4,R＝THP）（580mg、0.59mmol）をリン酸水素二
ナトリウムで飽和したメタノール（55ml）に溶解し、ナ
トリウムアマルガム（５％、8.14g、17.7mmol）を加
え、アルゴン下室温にて18時間撹拌した。上澄み液を取
り、メタノールを減圧下に留去した後に、残渣に水を加
えてクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は水、
飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム（無水）にて
乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフイ
ー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝3:1）にて精製
し、352mgの表題化合物（５）を得た。
β,25−トリス（テトラヒドロピラニルオキシ）−コレ
スト−６−エン（5,R＝THP） 実施例１のようにして得られた23−フエニルスルホニ
ル−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−ト
リス（テトラヒドロピラニルオキシ）−コレスト−６−
エン（4,R＝THP）（580mg、0.59mmol）をリン酸水素二
ナトリウムで飽和したメタノール（55ml）に溶解し、ナ
トリウムアマルガム（５％、8.14g、17.7mmol）を加
え、アルゴン下室温にて18時間撹拌した。上澄み液を取
り、メタノールを減圧下に留去した後に、残渣に水を加
えてクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は水、
飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム（無水）にて
乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフイ
ー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝3:1）にて精製
し、352mgの表題化合物（５）を得た。
IR（KBr）1750,1695,1605,1505,1400,1130,1030cm-1。
NMR（CDCl3）δ 3.18（1H,m,9−Ｈ）、3.47（3H,m, 3.70（1H,m,1−Ｈ）、3.90（3H, 4.92（1H,m,3−Ｈ）、6.24〜6.45（2H,m,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.28〜7.50（5H,m,−Ar−Ｈ）。
Ｈ）、7.28〜7.50（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 482（M+−トリアゾリン−ジヒドロ
ピラン×２−H2O、13）、398（70）、380（46）、226
（56）、119（100）。
ピラン×２−H2O、13）、398（70）、380（46）、226
（56）、119（100）。
実施例 ３ ５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−コレス
ト−６−エン−１α,3β,25−トリオール（６） 実施例２のようにして得られた５α,8α−（４−フエ
ニル−1,2−ウラゾロ）−１α,3β,25−トリス（テトラ
ヒドロピラニルオキシ）−コレスト−６−エン（5,R＝T
HP）（345mg、0.58mmol）、ｐ−トリエンスルホン酸−
水和物（16mg、0.08mmol）の95％エタノール（3.5ml）
溶液を70℃にて４時間撹拌した。反応液よりエタノール
を減圧下に留去した後に残渣に飽和食塩水を加えクロロ
ホルムにて抽出した。クロロホルム層は飽和食塩水にて
洗浄し、硫酸マグネシウム（無水）にて乾燥後に濃縮し
た。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：酢
酸エチル）にて精製し、213mgの表題化合物（６）を得
た。なお、分析用サンプルはメタノール−エーテルより
再結晶化して調製した。
ト−６−エン−１α,3β,25−トリオール（６） 実施例２のようにして得られた５α,8α−（４−フエ
ニル−1,2−ウラゾロ）−１α,3β,25−トリス（テトラ
ヒドロピラニルオキシ）−コレスト−６−エン（5,R＝T
HP）（345mg、0.58mmol）、ｐ−トリエンスルホン酸−
水和物（16mg、0.08mmol）の95％エタノール（3.5ml）
溶液を70℃にて４時間撹拌した。反応液よりエタノール
を減圧下に留去した後に残渣に飽和食塩水を加えクロロ
ホルムにて抽出した。クロロホルム層は飽和食塩水にて
洗浄し、硫酸マグネシウム（無水）にて乾燥後に濃縮し
た。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：酢
酸エチル）にて精製し、213mgの表題化合物（６）を得
た。なお、分析用サンプルはメタノール−エーテルより
再結晶化して調製した。
m.p. 177〜179℃ ▲〔α〕23 D▼ −86.3゜（ｃ＝0.26、CHCl3） IR（KBr）3380,3180,1745,1685,1600,1505,1410,1315,1
030cm-1。
030cm-1。
NMR（CDCl3）δ 0.79（3H,s,18−H3）、0.82（3H,s,19
−H3）、0.94（3H,d,J＝5.9Hz,21−H3）、1.18（6H,s,2
6−H3と27−H3）、3.68（1H,m,1−Ｈ）、4.81（1H,m,3
−Ｈ）、6.17と6.34（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.31〜7.39（5H,m,−Ar−Ｈ）。
−H3）、0.94（3H,d,J＝5.9Hz,21−H3）、1.18（6H,s,2
6−H3と27−H3）、3.68（1H,m,1−Ｈ）、4.81（1H,m,3
−Ｈ）、6.17と6.34（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.31〜7.39（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 416（M+−トリアゾリン、10）、398
（７）、380（７）、251（８）、119（100）。
（７）、380（７）、251（８）、119（100）。
実施例 ４ コレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリオール
（１） 水素化アルミニウムリチウム（110mg）の乾燥テトラ
ヒドロフラン（10ml）懸濁液に、実施例３のようにして
得られた５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）
−コレスト−６−エン−１α,3β,25−トリオール
（６）（128mg、0.22mmol）の乾燥テトラヒドロフラン
（3ml）溶液を加え、２時間撹拌還流した。次いで水冷
下に水（0.1ml）、10％水酸化ナトリウム水（0.1ml）、
水（0.3ml）を加え、さらに室温下に30分間撹拌した。
引き続き、硫酸マグネシウム（無水）を加え30分間撹拌
し、セライトにて過した後に液を濃縮した。残渣は
シリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢
酸エチル＝1:3）にて精製し、63mgの表題化合物（１）
を得た。分析用サンプルはさらにメタノール−エーテル
より再結晶化して調製した。
（１） 水素化アルミニウムリチウム（110mg）の乾燥テトラ
ヒドロフラン（10ml）懸濁液に、実施例３のようにして
得られた５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）
−コレスト−６−エン−１α,3β,25−トリオール
（６）（128mg、0.22mmol）の乾燥テトラヒドロフラン
（3ml）溶液を加え、２時間撹拌還流した。次いで水冷
下に水（0.1ml）、10％水酸化ナトリウム水（0.1ml）、
水（0.3ml）を加え、さらに室温下に30分間撹拌した。
引き続き、硫酸マグネシウム（無水）を加え30分間撹拌
し、セライトにて過した後に液を濃縮した。残渣は
シリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢
酸エチル＝1:3）にて精製し、63mgの表題化合物（１）
を得た。分析用サンプルはさらにメタノール−エーテル
より再結晶化して調製した。
m.p. 207〜209℃ ▲〔α〕24 D▼ −79.1゜（ｃ＝0.24、THF） IR（KBr）3470,3350,1650,1600,1375,1075,1050,1040cm
-1。
-1。
NMR（CDCl3）δ 0.63（3H,s,18−H3）、0.95（3H,s,19
−H3）、0.96（3H,d,J＝約5Hz,21−H3）、1.22（6H,s,2
6−H3と27−H3）、3.78（1H,m,1−Ｈ）、4.07（1H,m,3
−Ｈ）、5.38（1H,m,7−Ｈ）、5.74（1H,m,6−Ｈ）。
−H3）、0.96（3H,d,J＝約5Hz,21−H3）、1.22（6H,s,2
6−H3と27−H3）、3.78（1H,m,1−Ｈ）、4.07（1H,m,3
−Ｈ）、5.38（1H,m,7−Ｈ）、5.74（1H,m,6−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 416（M+,25）、398（20）、380（2
0）、287（４）、251（22）、158（100）。
0）、287（４）、251（22）、158（100）。
参考例 １ （22E）−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）
−エルゴスタ−6,22−ジエン−１α,3β−ジオール・ジ
アセテート（８） （22E）−エルゴスタ−5,7,22−トリエン−１α,3β
−ジオール・ジアセテート（７）（2.46g、5.0mmol）の
クロロホルム（20ml）溶液に、４−フエニル−1,2,4−
トリアゾリン−3,5−ジオン（1.04g、6.0mmol）のアセ
トン（15ml）溶液を室温にて撹拌下に滴下した。反応液
から溶媒を減圧下に留去した後に、残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝2:
1）にて精製し、3.0gの泡状の表題化合物（８）を得
た。
−エルゴスタ−6,22−ジエン−１α,3β−ジオール・ジ
アセテート（８） （22E）−エルゴスタ−5,7,22−トリエン−１α,3β
−ジオール・ジアセテート（７）（2.46g、5.0mmol）の
クロロホルム（20ml）溶液に、４−フエニル−1,2,4−
トリアゾリン−3,5−ジオン（1.04g、6.0mmol）のアセ
トン（15ml）溶液を室温にて撹拌下に滴下した。反応液
から溶媒を減圧下に留去した後に、残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝2:
1）にて精製し、3.0gの泡状の表題化合物（８）を得
た。
▲〔α〕25 D▼ −139゜（ｃ＝1.09、CHCl3） IR（KBr）1750,1700,1600,1505,1395,1240,1030cm-1。
NMR（CDCl3）δ 0.79と0.82（6H,各々d,J＝3.7Hz,26−H
3と27−H3）、0.84（3H,s,18−H3）、0.89（3H,d,J＝6.
8Hz,28−H3）、1.02（3H,d,J＝6.6Hz,21−H3）、1.06
（3H,s,19−H3）、 3.25（1H,dd,J1＝5.6Hz、J2＝13.7Hz,9−Ｈ）、5.11（1
H,m,1−Ｈ）、5.20（2H,m,22−Ｈと23−Ｈ）、5.89（1
H,m,3−Ｈ）、6.33と6.45（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７
−Ｈ）、7.24〜7.51（5H,m,Ar−Ｈ）。
3と27−H3）、0.84（3H,s,18−H3）、0.89（3H,d,J＝6.
8Hz,28−H3）、1.02（3H,d,J＝6.6Hz,21−H3）、1.06
（3H,s,19−H3）、 3.25（1H,dd,J1＝5.6Hz、J2＝13.7Hz,9−Ｈ）、5.11（1
H,m,1−Ｈ）、5.20（2H,m,22−Ｈと23−Ｈ）、5.89（1
H,m,3−Ｈ）、6.33と6.45（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７
−Ｈ）、7.24〜7.51（5H,m,Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 671（M+,0.3）、496（0.4）、436
（８）、376（100）、251（28）、209（23）、155（3
4）。
（８）、376（100）、251（28）、209（23）、155（3
4）。
参考例 ２ 22−オキソ−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾ
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3α−ジオ
ール・ジアセテート（９） 参考例１のようにして得られた（22E）−５α,8α−
（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−エルゴスタ−6,22
−ジエン−１α,3β−ジオール・ジアセテート（８）
（10.00g、14.9mmol）を１％ピリジン−塩化メチレン
（400ml）混合液に溶解した後、−65℃にて撹拌下にオ
ゾン（0.07mmol/min）を４時間30分吹き込んだ。アルゴ
ンを通してオゾンを追い出した後、−65℃にてジメチル
スルフイド（20ml）を15分間で滴下した。同温度下で１
時間撹拌した後、１時間かけて徐々に室温に戻した。反
応液を２％塩酸（400ml）、飽和食塩水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウム（無水）で乾燥した後に濃縮した。残
渣はシリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝1:1）にて精製した後、ベンゼンより
再結晶化して4.40gの表題化合物（９）を得た。
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3α−ジオ
ール・ジアセテート（９） 参考例１のようにして得られた（22E）−５α,8α−
（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−エルゴスタ−6,22
−ジエン−１α,3β−ジオール・ジアセテート（８）
（10.00g、14.9mmol）を１％ピリジン−塩化メチレン
（400ml）混合液に溶解した後、−65℃にて撹拌下にオ
ゾン（0.07mmol/min）を４時間30分吹き込んだ。アルゴ
ンを通してオゾンを追い出した後、−65℃にてジメチル
スルフイド（20ml）を15分間で滴下した。同温度下で１
時間撹拌した後、１時間かけて徐々に室温に戻した。反
応液を２％塩酸（400ml）、飽和食塩水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウム（無水）で乾燥した後に濃縮した。残
渣はシリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝1:1）にて精製した後、ベンゼンより
再結晶化して4.40gの表題化合物（９）を得た。
m.p. 191〜193℃ ▲〔α〕25 D▼ −131゜（ｃ＝1.06、CHCl3） IR（KBr）2720,1740,1685,1605,1505,1405,1370,1250,1
230,1035cm-1。
230,1035cm-1。
NMR（CDCl3）δ 0.87（3H,s,18−H3）、1.07（3H,s,19
−H3）、1.14（3H,d,J＝6.8Hz,21−H3）、 3.26（1H,dd,J1＝5.4Hz,J2＝14.2Hz,9−Ｈ）、5.12（1
H,m,1−Ｈ）、5.88（1H,m,3−Ｈ）、6.36と6.44（2H,AB
q,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.26〜7.51（5H,m,−Ar
−Ｈ）、9.55（1H,d,J＝3.4Hz,22−Ｈ）。
−H3）、1.14（3H,d,J＝6.8Hz,21−H3）、 3.26（1H,dd,J1＝5.4Hz,J2＝14.2Hz,9−Ｈ）、5.12（1
H,m,1−Ｈ）、5.88（1H,m,3−Ｈ）、6.36と6.44（2H,AB
q,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.26〜7.51（5H,m,−Ar
−Ｈ）、9.55（1H,d,J＝3.4Hz,22−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 603（M+,0.3）、428（0.3）、368
（11）、308（100）、235（20）、177（20）、141（5
7）。
（11）、308（100）、235（20）、177（20）、141（5
7）。
参考例 ３ ５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−
ジノルコル−６−エン−１α,3β,22−トリオール−１
α,3β−ジアセテート（10） メタノール（100ml）中の参考例２で得られた22−オ
キソ−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−2
3,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオール・ジ
アセテート（９）（9.50g、15.8mmol）に、室温にて撹
拌下に、水素化ホウ素ナトリウム（0.30g、7.9mmol）を
数回に分けて加えた。さらに10分間撹拌した後に、酢酸
（0.3ml）を加え10分間撹拌した。反応液より減圧下に
メタノールと留去した後に、残渣に水を加えクロロホル
ムにて抽出した。クロロホルム層は水、飽和食塩水にて
洗浄後、硫酸マグネシウム（無水）にて乾燥し、濃縮し
た。残渣として9.50gの粗の表題化合物（10）を得た。
このものはさらに精製することなく次の工程に用いた
が、分析用サンプルはヘキサン−酢酸エチルより再結晶
化して調製した。
ジノルコル−６−エン−１α,3β,22−トリオール−１
α,3β−ジアセテート（10） メタノール（100ml）中の参考例２で得られた22−オ
キソ−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−2
3,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオール・ジ
アセテート（９）（9.50g、15.8mmol）に、室温にて撹
拌下に、水素化ホウ素ナトリウム（0.30g、7.9mmol）を
数回に分けて加えた。さらに10分間撹拌した後に、酢酸
（0.3ml）を加え10分間撹拌した。反応液より減圧下に
メタノールと留去した後に、残渣に水を加えクロロホル
ムにて抽出した。クロロホルム層は水、飽和食塩水にて
洗浄後、硫酸マグネシウム（無水）にて乾燥し、濃縮し
た。残渣として9.50gの粗の表題化合物（10）を得た。
このものはさらに精製することなく次の工程に用いた
が、分析用サンプルはヘキサン−酢酸エチルより再結晶
化して調製した。
m.p. 203〜205℃ ▲〔α〕25 D▼ −117゜（ｃ＝1.07、CHCl3） IR（KBr）3440,1740,1695,1680,1605,1510,1410,1370,1
250,1235,1100,1035cm-1。
250,1235,1100,1035cm-1。
NMR（CDCl3）δ 0.85（3H,s,18−H3）、1.05（3H,d,J＝
6.3Hz,21−H3）、1.06（3H,s,19−H3）、 3.27（1H,dd,J1＝4.9Hz,J2＝13Hz,9−Ｈ）、3.32（1H,d
d,J1＝6.9Hz,J2＝10.6Hz,22−Ｈ）、3.64（1H,dd,J1＝
3.7Hz,J2＝10.6Hz,22−Ｈ）、5.11（1H,m,1−Ｈ）、5.8
8（1H,m,3−Ｈ）、6.33と6.45（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈ
と７−Ｈ）、7.28〜7.52（5H,m,−Ar−Ｈ）。
6.3Hz,21−H3）、1.06（3H,s,19−H3）、 3.27（1H,dd,J1＝4.9Hz,J2＝13Hz,9−Ｈ）、3.32（1H,d
d,J1＝6.9Hz,J2＝10.6Hz,22−Ｈ）、3.64（1H,dd,J1＝
3.7Hz,J2＝10.6Hz,22−Ｈ）、5.11（1H,m,1−Ｈ）、5.8
8（1H,m,3−Ｈ）、6.33と6.45（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈ
と７−Ｈ）、7.28〜7.52（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 370（M+−トリアゾリン−酢酸、1
8）、310（100）、251（12）、197（46）、141（57）。
8）、310（100）、251（12）、197（46）、141（57）。
参考例 ４ ５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−
ジノルコル−６−エン−１α,3β,22−トリオール−１
α,3β−ジアセテート・22−ｐ−トルエンスルホネート
（11） 参考例３で得られた粗の５α,8α−（４−フエニル−
1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１
α,3β,22−トリオール−１α,3β・ジアセテート（1
0）（9.50g）を乾燥ピリジン（45ml）に溶解し、水冷撹
拌下に塩化ｐ−トルエンスルホニル（4.50g、23.6mmo
l）を加え、同温度にて４時間撹拌した。次いで反応液
に水を加え１時間撹拌した後に、反応液を氷水にあけク
ロロホルムで抽出した。クロロホルム層は水、５％塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウム（無水）で乾燥した後に濃縮し
た。残渣はシリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘ
キサン−酢酸エチル＝1:1〜1:2）にて精製し9.33gの表
題化合物（11）を得た。
ジノルコル−６−エン−１α,3β,22−トリオール−１
α,3β−ジアセテート・22−ｐ−トルエンスルホネート
（11） 参考例３で得られた粗の５α,8α−（４−フエニル−
1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１
α,3β,22−トリオール−１α,3β・ジアセテート（1
0）（9.50g）を乾燥ピリジン（45ml）に溶解し、水冷撹
拌下に塩化ｐ−トルエンスルホニル（4.50g、23.6mmo
l）を加え、同温度にて４時間撹拌した。次いで反応液
に水を加え１時間撹拌した後に、反応液を氷水にあけク
ロロホルムで抽出した。クロロホルム層は水、５％塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウム（無水）で乾燥した後に濃縮し
た。残渣はシリカゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘ
キサン−酢酸エチル＝1:1〜1:2）にて精製し9.33gの表
題化合物（11）を得た。
IR（KBr）1750,1700,1600,1505,1400,1245,1180,1030cm
-1。
-1。
NMR（CDCl3）δ 0.80（3H,s,18−H3）、1.01（3H,d,J＝
6.6Hz,21−H3）、1.05（3H,s,19−H3）、 2.44（3H,s,−Ar−ｐ−CH3）、3.25（1H,dd,J1＝5.6Hz,
J2＝13.4Hz,9−Ｈ）、3.73（1H,dd,J1＝6.6Hz,J2＝8.8H
z,22−Ｈ）、4.01（1H,dd,J1＝2.4Hz,J2＝8.8Hz,22−
Ｈ）、5.09（1H,m,1−Ｈ）、5.87（1H,m,3−Ｈ）、6.33
と6.41（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.32〜7.5
0（7H,m,−Ar−Ｈ）、7.77（2H,d,J＝8.1Hz, 参考例 ５ 22−ヨード−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾ
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオ
ール・ジアセテート（12、Ｘ＝Ｉ） 参考例４のようにして得た５α,8α−（４−フエニル
−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１
α,3β,22−トリオール−１α,3β−ジアセテート−22
−ｐ−トルエンスルホネート（11）（2.61g、3.44mmo
l）とヨウ化ナトリウム（2.57g、17.1mmol）の乾燥N,N
−ジメチルホルムアミド（20ml）溶液を80℃にて30分間
撹拌した。冷後、反応液を水に注ぎクロロホルムにて抽
出した。クロロホルム層は水、５％チオ硫酸ナトリウム
水溶液、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム（無
水）で乾燥した後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマ
トグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝3:2〜
1:1）にて精製し、2.33gの表題化合物（12）を得た。分
析用サンプルは、ヘキサン−酢酸エチルより再結晶化し
て調製した。
6.6Hz,21−H3）、1.05（3H,s,19−H3）、 2.44（3H,s,−Ar−ｐ−CH3）、3.25（1H,dd,J1＝5.6Hz,
J2＝13.4Hz,9−Ｈ）、3.73（1H,dd,J1＝6.6Hz,J2＝8.8H
z,22−Ｈ）、4.01（1H,dd,J1＝2.4Hz,J2＝8.8Hz,22−
Ｈ）、5.09（1H,m,1−Ｈ）、5.87（1H,m,3−Ｈ）、6.33
と6.41（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.32〜7.5
0（7H,m,−Ar−Ｈ）、7.77（2H,d,J＝8.1Hz, 参考例 ５ 22−ヨード−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾ
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオ
ール・ジアセテート（12、Ｘ＝Ｉ） 参考例４のようにして得た５α,8α−（４−フエニル
−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１
α,3β,22−トリオール−１α,3β−ジアセテート−22
−ｐ−トルエンスルホネート（11）（2.61g、3.44mmo
l）とヨウ化ナトリウム（2.57g、17.1mmol）の乾燥N,N
−ジメチルホルムアミド（20ml）溶液を80℃にて30分間
撹拌した。冷後、反応液を水に注ぎクロロホルムにて抽
出した。クロロホルム層は水、５％チオ硫酸ナトリウム
水溶液、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム（無
水）で乾燥した後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマ
トグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝3:2〜
1:1）にて精製し、2.33gの表題化合物（12）を得た。分
析用サンプルは、ヘキサン−酢酸エチルより再結晶化し
て調製した。
m.p. 173〜174℃ ▲〔α〕23 D▼ −64.4゜（ｃ＝1.12、CHCl3） IR（KBr）1740,1685,1600,1505,1410,1250,1230,1030cm
-1。
-1。
NMR（CDCl3）δ 0.87（3H,s,18−H3）、1.04（3H,d,J＝
6.6Hz,21−H3）、1.06（3H,s,19−H3）、 3.12〜3.36（3H,m,9−Ｈと22−H2）、5.11（1H,m,1−
Ｈ）、5.88（1H,m,3−Ｈ）、6.34と6.44（2H,ABq,J＝8.
3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.28〜7.51（5H,m,−Ar−Ｈ）。
6.6Hz,21−H3）、1.06（3H,s,19−H3）、 3.12〜3.36（3H,m,9−Ｈと22−H2）、5.11（1H,m,1−
Ｈ）、5.88（1H,m,3−Ｈ）、6.34と6.44（2H,ABq,J＝8.
3Hz,6−Ｈと７−Ｈ）、7.28〜7.51（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 540（M+−トリアゾリン、0.3）、48
0（８）、420（95）、251（20）、141（100）、119（6
5）。
0（８）、420（95）、251（20）、141（100）、119（6
5）。
参考例 ６ 22−ヨード−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾ
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオ
ール（13、Ｘ＝Ｉ） 参考例５のようにして得た22−ヨード−５α,8α−
（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル
−６−エン−１α,3β−ジオール・ジアセテート（12）
（1.23g、1.72mmol）に水酸化ナトリウム（0.14g、3.5m
mol）のメタノール（20ml）溶液を加え、30分間撹拌還
流した。反応液よりメタノールを減圧下に留去した後
に、残渣に水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロ
ホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム（無
水）で乾燥後に濃縮した。残渣として1.05gの粗製の表
題化合物（13）を得た。分析用サンプルはクロロホルム
−酢酸エチルより再結晶化して調製した。
ロ）−23,24−ジノルコル−６−エン−１α,3β−ジオ
ール（13、Ｘ＝Ｉ） 参考例５のようにして得た22−ヨード−５α,8α−
（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノルコル
−６−エン−１α,3β−ジオール・ジアセテート（12）
（1.23g、1.72mmol）に水酸化ナトリウム（0.14g、3.5m
mol）のメタノール（20ml）溶液を加え、30分間撹拌還
流した。反応液よりメタノールを減圧下に留去した後
に、残渣に水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロ
ホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム（無
水）で乾燥後に濃縮した。残渣として1.05gの粗製の表
題化合物（13）を得た。分析用サンプルはクロロホルム
−酢酸エチルより再結晶化して調製した。
m.p. 172〜174℃ ▲〔α〕23 D▼−65.4゜（ｃ＝1.14、CHCl3） IR（KBr）3420,1745,1680,1600,1505,1400,1150,1090,1
030cm-1。
030cm-1。
NMR（CDCl3）δ 0.84（6H,br s,18−H3と19−H3）、1.0
5（3H,d,J＝5.6Hz,21−H3）、3.02〜3.35（3H,m,9−Ｈ
と22−H2）、3.70（1H,m,1−Ｈ）、4.80（1H,m,3−
Ｈ）、6.20と6.34（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.29〜7.40（5H,m,−Ar−Ｈ）。
5（3H,d,J＝5.6Hz,21−H3）、3.02〜3.35（3H,m,9−Ｈ
と22−H2）、3.70（1H,m,1−Ｈ）、4.80（1H,m,3−
Ｈ）、6.20と6.34（2H,ABq,J＝8.3Hz,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.29〜7.40（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 456（M+−トリアゾリン,13）、438
（５）、436（11）、420（10）、410（20）、328
（５）、251（15）、177（68）、119（100）。
（５）、436（11）、420（10）、410（20）、328
（５）、251（15）、177（68）、119（100）。
参考例 ７ 22−ヨード−５α,8α−（４−フエニル−1,2−ウラゾ
ロ）−１α,3β−ビス（テトラヒドロピラニルオキシ）
−23,24−ジノルコル−６−エン（2,X＝I,R＝THP） 参考例６のようにして得た粗製の22−ヨード−５α,8
α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノル
コル−６−エン−１α,3β−ジオール（13）（1.05
g）、ジヒドロピラン（0.43g、5.12mmol）、触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸−水和物の乾燥塩化メチレン（20
ml）溶液を室温下に24時間撹拌した。反応液は飽和炭酸
水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム（無水）にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲル
クロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝
2:1）で精製し、1.00gの表題化合物（２）を得た。
ロ）−１α,3β−ビス（テトラヒドロピラニルオキシ）
−23,24−ジノルコル−６−エン（2,X＝I,R＝THP） 参考例６のようにして得た粗製の22−ヨード−５α,8
α−（４−フエニル−1,2−ウラゾロ）−23,24−ジノル
コル−６−エン−１α,3β−ジオール（13）（1.05
g）、ジヒドロピラン（0.43g、5.12mmol）、触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸−水和物の乾燥塩化メチレン（20
ml）溶液を室温下に24時間撹拌した。反応液は飽和炭酸
水素ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム（無水）にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲル
クロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エチル＝
2:1）で精製し、1.00gの表題化合物（２）を得た。
IR（KBr）1750,1690,1600,1505,1400,1130,1115,1030cm
-1。
-1。
NMR（CDCl3）δ 0.87（3H,s,18−H3）、0.96と0.99（3
H,pair of s,19−H3）、1.05（3H,d,J＝5.9Hz,21−S
H3）、3.10〜3.65（5H,m,9−Ｈと22−H2と 3.70（1H,m,1−Ｈ）、 4.75（2H, 4.95（1H,m,3−Ｈ）、6.30〜6.45（2H,m,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.30〜7.50（5H,m,−Ar−Ｈ）。
H,pair of s,19−H3）、1.05（3H,d,J＝5.9Hz,21−S
H3）、3.10〜3.65（5H,m,9−Ｈと22−H2と 3.70（1H,m,1−Ｈ）、 4.75（2H, 4.95（1H,m,3−Ｈ）、6.30〜6.45（2H,m,6−Ｈと７−
Ｈ）、7.30〜7.50（5H,m,−Ar−Ｈ）。
質量スペクトルm/e 624（M+−トリアゾリン、0.8）、54
0（２）、454（10）、437（48）、420（23）、382（1
5）、309（10）、251（12）、177（48）、119（100）。
0（２）、454（10）、437（48）、420（23）、382（1
5）、309（10）、251（12）、177（48）、119（100）。
参考例 ８ ２−メチル−４−フエニルスルホニルブタン−２−オー
ル（14） 水素化ナトリウム（60％鉱物油分散、5.6g）をペンタ
ンにて洗浄し、次いでジメチルスルホキシド（DMSO）
（70ml）、メチルフエニルスルホン（21.8g）を加え、
アルゴン気流下に70℃で90分撹拌した。反応液を０℃に
冷却後、乾燥テトラヒドロフラン（70ml）を加え、次い
でイソブチレンオキシド（14.0g）の乾燥テトラヒドロ
フラン（35ml）溶液を滴下し、室温で３時間撹拌した。
テトラヒドロフランを減圧下に留去した後に、残渣を氷
水に注ぎベンゼンで抽出した。ベンゼン層は水洗し、硫
酸ナトリウム（無水）で乾燥後に濃縮した。残渣はシリ
カゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エ
チル＝3:1）で精製し、20.7gの表題化合物（14）を得
た。
ル（14） 水素化ナトリウム（60％鉱物油分散、5.6g）をペンタ
ンにて洗浄し、次いでジメチルスルホキシド（DMSO）
（70ml）、メチルフエニルスルホン（21.8g）を加え、
アルゴン気流下に70℃で90分撹拌した。反応液を０℃に
冷却後、乾燥テトラヒドロフラン（70ml）を加え、次い
でイソブチレンオキシド（14.0g）の乾燥テトラヒドロ
フラン（35ml）溶液を滴下し、室温で３時間撹拌した。
テトラヒドロフランを減圧下に留去した後に、残渣を氷
水に注ぎベンゼンで抽出した。ベンゼン層は水洗し、硫
酸ナトリウム（無水）で乾燥後に濃縮した。残渣はシリ
カゲルクロマトグラフイー（溶出液；ヘキサン−酢酸エ
チル＝3:1）で精製し、20.7gの表題化合物（14）を得
た。
NMR（CDCl3）δ 1.21（6H,s）、1.71（1H,s）、1.85（2
H,m）、3.12（2H,m）、7.54〜7.94（5H,m）。
H,m）、3.12（2H,m）、7.54〜7.94（5H,m）。
質量スペクトルm/e 230（M+）、213、200、143、77、4
3。
3。
参考例 ９ ２−メチル−４−フエニルスルホニル−２−テトヒドロ
ピラニルオキシブタン（3,R′＝THP） 参考例８のようにして得た２−メチル−４−フエニル
スルホニルブタン−２−オール（14）（8.0g）、ジヒド
ロピラン（4.4g）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウ
ム（880mg）の乾燥塩化メチレン（250ml）溶液を室温下
に６時間反応させた。次いで反応液を水で２回、飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム（無水）で乾燥後に濃縮
した。残渣をヘキサン−酢酸エチルより結晶化させ、8.
28gの表題化合物（３）を得た。
ピラニルオキシブタン（3,R′＝THP） 参考例８のようにして得た２−メチル−４−フエニル
スルホニルブタン−２−オール（14）（8.0g）、ジヒド
ロピラン（4.4g）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウ
ム（880mg）の乾燥塩化メチレン（250ml）溶液を室温下
に６時間反応させた。次いで反応液を水で２回、飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム（無水）で乾燥後に濃縮
した。残渣をヘキサン−酢酸エチルより結晶化させ、8.
28gの表題化合物（３）を得た。
m.p. 80〜82℃ NMR（CDCl3）δ 1.18と1.21（6H,各々ｓ）、1.12〜1.90
（6H,m）、1.90（2H,m）、3.1〜3.41（2H,m）、3.88（1
H,m）、4.58（1H,m）、7.52〜7.94（5H,m）。
（6H,m）、1.90（2H,m）、3.1〜3.41（2H,m）、3.88（1
H,m）、4.58（1H,m）、7.52〜7.94（5H,m）。
Claims (3)
- 【請求項１】式 （式中、Ｒは耐塩基性である水酸基の保護基を、Ｒ′は
耐酸性である水酸基の保護基を表す） で表されるコレスタ−６−エン誘導体。 - 【請求項２】式 （式中、Ｘは臭素または沃素原子を表し、Ｒは耐塩基性
である水酸基の保護基を表す） で表されるハロゲン化物を式 （式中Ｒ′は耐酸性である水酸基の保護基を表す） で表されるスルホン化合物と反応させることからなる、
式 で表されるコレスタ−６−エン誘導体の製造方法。 - 【請求項３】式 （式中Ｒは耐塩基性である水酸基の保護基を、Ｒ′は耐
酸性である水酸基の保護基を表す） で表されるコレスタ−６−エン誘導体を、還元的に処理
してスルホニル基を除去して式 で表される化合物とし、次いでこの化合物の水酸基の保
護基を除去して式 で表されるトリオール化合物とし、さらに5,7−ジエン
の保護基を除去することを特徴とする、式 で表されるコレスタ−5,7−ジエン−１α,3β,25−トリ
オールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1254836A JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1254836A JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03118391A JPH03118391A (ja) | 1991-05-20 |
| JP2750170B2 true JP2750170B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=17270530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1254836A Expired - Fee Related JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2750170B2 (ja) |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1254836A patent/JP2750170B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03118391A (ja) | 1991-05-20 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |