JPH0287655A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0287655A JPH0287655A JP24148088A JP24148088A JPH0287655A JP H0287655 A JPH0287655 A JP H0287655A JP 24148088 A JP24148088 A JP 24148088A JP 24148088 A JP24148088 A JP 24148088A JP H0287655 A JPH0287655 A JP H0287655A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- cap
- heat sink
- bonded
- insulating substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000003466 welding Methods 0.000 abstract description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特に、ヒートシンクを搭載
した半導体装置構造に関する。
した半導体装置構造に関する。
従来、ヒートシンク搭載型半導体装置は、第3図に示す
ように、半導体素子4は所謂フェイス・ダウン方式で搭
載され、ヒートシンク2は半導体素子搭載用金属板10
上に接着剤8を介して設けられるのが通常である。従っ
て、外部端子3は半導体素子4の気密封止用キャップ6
の周辺に配列される。この場合、ヒートシンク2の搭載
方法には金属ロウ材や樹脂系接着剤を用いる方法または
ネジ止め等で機械的に接続するなどの手段が用いられる
。金属ロウ材を用いる場合は、第3図に示すように半導
体素子搭載面に金属板10を用い、その金属板裏面に、
ヒートシンクを接着することが多い。この金属板10に
は、放熱効果を重視する場合は銅、タングステンを用い
、また、コスI・を重視する場合はモリブデンやコバー
ルが用いられる。ヒートシンクの素材には、アルミニウ
ム銅が多く用いられ、アルミニウム製のヒートシンクを
金属ロウ材で接着する場合は、ヒートシンクの接合部に
鋼材等が用いられている。
ように、半導体素子4は所謂フェイス・ダウン方式で搭
載され、ヒートシンク2は半導体素子搭載用金属板10
上に接着剤8を介して設けられるのが通常である。従っ
て、外部端子3は半導体素子4の気密封止用キャップ6
の周辺に配列される。この場合、ヒートシンク2の搭載
方法には金属ロウ材や樹脂系接着剤を用いる方法または
ネジ止め等で機械的に接続するなどの手段が用いられる
。金属ロウ材を用いる場合は、第3図に示すように半導
体素子搭載面に金属板10を用い、その金属板裏面に、
ヒートシンクを接着することが多い。この金属板10に
は、放熱効果を重視する場合は銅、タングステンを用い
、また、コスI・を重視する場合はモリブデンやコバー
ルが用いられる。ヒートシンクの素材には、アルミニウ
ム銅が多く用いられ、アルミニウム製のヒートシンクを
金属ロウ材で接着する場合は、ヒートシンクの接合部に
鋼材等が用いられている。
樹脂系の接着材を用いる場合は、金属ロウ材を用いる場
合のように半導体素子搭載面に金属板を用いる必要も、
また、アルミニウム製ヒートシンクの接合部に鋼材等を
用いる必要もなく構造が簡単になる。この場合の接着材
には、一般にエポキシ系或いはシリコーン系のものが用
いられている。
合のように半導体素子搭載面に金属板を用いる必要も、
また、アルミニウム製ヒートシンクの接合部に鋼材等を
用いる必要もなく構造が簡単になる。この場合の接着材
には、一般にエポキシ系或いはシリコーン系のものが用
いられている。
このように、上述した従来のし−1−シンク搭載型半導
体装置は、半導体素子がフェイス・ダウン方式で搭載さ
れ半導体素子搭載面と同一方向に外部端子が設けられて
いるので、半導体素子が外部端子に囲まれた構造となる
。そのため、半導体素子搭載面と反対方向に外部端子を
設ける場合、すなわち、半導体素子をフェイス・アップ
方式で搭載する場合に比べて搭載できる半導体素子の大
きさに制限が加わる9特に、最近は実装密度向上のため
半導体装置の小型化が強く要求されるようになり、ピン
・グリッド型半導体装置の出現を見るに至っているので
半導体素子の大きさに制限を受けるフェイス・タウン構
造の不利は免かれない。
体装置は、半導体素子がフェイス・ダウン方式で搭載さ
れ半導体素子搭載面と同一方向に外部端子が設けられて
いるので、半導体素子が外部端子に囲まれた構造となる
。そのため、半導体素子搭載面と反対方向に外部端子を
設ける場合、すなわち、半導体素子をフェイス・アップ
方式で搭載する場合に比べて搭載できる半導体素子の大
きさに制限が加わる9特に、最近は実装密度向上のため
半導体装置の小型化が強く要求されるようになり、ピン
・グリッド型半導体装置の出現を見るに至っているので
半導体素子の大きさに制限を受けるフェイス・タウン構
造の不利は免かれない。
本発明の目的は、上記の状況に鑑み、多数ピン構造の高
集積度半導体素子を搭載し得るヒートシンク搭載型半導
体装置を提供することである。
集積度半導体素子を搭載し得るヒートシンク搭載型半導
体装置を提供することである。
本発明によれば、半導体装置は、電気絶縁基板と、前記
絶縁基板の凹部底面にフェース・アップ方式でマウント
される半導体素子と、前記半導体素子のフェースと反対
側の絶縁基板面から引出される複数個の外部端子と、前
記半導体素子を気密封止する気密封止用キャップと、前
記気密封止用キャップを含んで構成される。
絶縁基板の凹部底面にフェース・アップ方式でマウント
される半導体素子と、前記半導体素子のフェースと反対
側の絶縁基板面から引出される複数個の外部端子と、前
記半導体素子を気密封止する気密封止用キャップと、前
記気密封止用キャップを含んで構成される。
すなわち、本発明によれば、半導体素子は電気絶縁基板
上にフェイス・アップ方式で搭載され素子サイズ上の制
限が取払われると共に、ヒートシンクは半導体素子搭載
面と同方向に搭載され、半導体素子の気密封止用キャッ
プの周辺部、または、キャップ上面を含む広い面積上に
接着されることとなるので、十分な放熱効果を得ること
かできる。
上にフェイス・アップ方式で搭載され素子サイズ上の制
限が取払われると共に、ヒートシンクは半導体素子搭載
面と同方向に搭載され、半導体素子の気密封止用キャッ
プの周辺部、または、キャップ上面を含む広い面積上に
接着されることとなるので、十分な放熱効果を得ること
かできる。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す半導体装置の断面図で
ある。本実施例によれば、電気絶縁基板1には一般に多
く使われるアルミナ・セラミック材が用いられ、また、
半導体素子4には外形が約43mmX43m+n、外部
端子3の総数208本のピン・グリッド・アレイ形素子
が搭載される。この際、気密封止は金属製のシール・リ
ング7と金属製のキャップ6とを抵抗溶接により接着す
るシーム・ウェルド法で行われる。シール・リング7に
はコバールにニッケルめっきまたは金めつきを施し、ま
た、キャップ6にはニッケル・クラッド・コバール材を
用いる。一般にシーム・ウェルド法によると、キャップ
6の板厚が厚い場合接着が難かしくなり、比較的弱い外
力で変形する可能性がある。従って、本実施例ではヒー
トシンク2を接着したときの圧力でキャップ6が変形し
、ボンデインク・ワイヤー5と電気的短絡をおこす可能
性を避けるため、ヒートシンク2側に凹部が設けられる
。ヒートシンク2にはアルミニウムが用いられ表面はア
ルマイト加工される。また、放熱面積を広げるためその
表面には放熱フィンが設けられる。接着材8には、市販
の熱硬化性エポキシ樹脂が用いられる。この際、接着剤
8はヒートシンク2のアルミニウム材、電気絶縁基板1
−のアルミナ・セラミック材に比べて熱抵抗か高いので
、極力薄くする必要がある。本実施例では加熱硬化時に
加圧することにより接着剤8の厚みを約50〜100μ
mとした。
ある。本実施例によれば、電気絶縁基板1には一般に多
く使われるアルミナ・セラミック材が用いられ、また、
半導体素子4には外形が約43mmX43m+n、外部
端子3の総数208本のピン・グリッド・アレイ形素子
が搭載される。この際、気密封止は金属製のシール・リ
ング7と金属製のキャップ6とを抵抗溶接により接着す
るシーム・ウェルド法で行われる。シール・リング7に
はコバールにニッケルめっきまたは金めつきを施し、ま
た、キャップ6にはニッケル・クラッド・コバール材を
用いる。一般にシーム・ウェルド法によると、キャップ
6の板厚が厚い場合接着が難かしくなり、比較的弱い外
力で変形する可能性がある。従って、本実施例ではヒー
トシンク2を接着したときの圧力でキャップ6が変形し
、ボンデインク・ワイヤー5と電気的短絡をおこす可能
性を避けるため、ヒートシンク2側に凹部が設けられる
。ヒートシンク2にはアルミニウムが用いられ表面はア
ルマイト加工される。また、放熱面積を広げるためその
表面には放熱フィンが設けられる。接着材8には、市販
の熱硬化性エポキシ樹脂が用いられる。この際、接着剤
8はヒートシンク2のアルミニウム材、電気絶縁基板1
−のアルミナ・セラミック材に比べて熱抵抗か高いので
、極力薄くする必要がある。本実施例では加熱硬化時に
加圧することにより接着剤8の厚みを約50〜100μ
mとした。
第2図は本発明の他の実施例を示す半導体装置の断面図
である。本実施例は、金属ロー材、フリッパガラス樹脂
系接着材等から成る接着剤9を用いて気密封止した場合
を示す。また、キャップ6は電気絶縁基板1内に落し込
まれた構造となっており、ヒートシンク2との接着面が
平坦化される。この構造にすると、キャップ6の厚みを
厚くでき、十分な強度を持たせられるので、ヒートシン
ク2をキャップ6上にも延在するように接着することが
できる。
である。本実施例は、金属ロー材、フリッパガラス樹脂
系接着材等から成る接着剤9を用いて気密封止した場合
を示す。また、キャップ6は電気絶縁基板1内に落し込
まれた構造となっており、ヒートシンク2との接着面が
平坦化される。この構造にすると、キャップ6の厚みを
厚くでき、十分な強度を持たせられるので、ヒートシン
ク2をキャップ6上にも延在するように接着することが
できる。
以上詳細に説明したように、本発明を実施することによ
って得られる効果は、サイズの大きな半導体素子を搭載
したヒートシンク搭載型半導体装置が得られることであ
り、例えば、外部端子208本のピン・グリッド・アレ
イ型半導体装置に実施した場合は、従来に比べ約2.5
倍の面積比をもつ半導体素子の搭載を可能としたことで
ある。
って得られる効果は、サイズの大きな半導体素子を搭載
したヒートシンク搭載型半導体装置が得られることであ
り、例えば、外部端子208本のピン・グリッド・アレ
イ型半導体装置に実施した場合は、従来に比べ約2.5
倍の面積比をもつ半導体素子の搭載を可能としたことで
ある。
第1図は本発明の一実施例を示す半導体装置の断面図、
第2図は本発明の他の実施例を示す半導体装置の断面図
、第3図は従来のヒートシンク搭載型半導体装置の断面
図である。 1・・・電気絶縁基板、2・・・ヒートシンク、3・・
・外部端子、4・・・半導体素子、5・・・ボンデイン
ク・ワイヤー、6・・・気密封止用キャップ、7・・・
シールリング、8,9・・・接着剤。
第2図は本発明の他の実施例を示す半導体装置の断面図
、第3図は従来のヒートシンク搭載型半導体装置の断面
図である。 1・・・電気絶縁基板、2・・・ヒートシンク、3・・
・外部端子、4・・・半導体素子、5・・・ボンデイン
ク・ワイヤー、6・・・気密封止用キャップ、7・・・
シールリング、8,9・・・接着剤。
Claims (1)
- 電気絶縁基板と、前記絶縁基板の凹部底面にフェース・
アップ方式でマウントされる半導体素子と、前記半導体
素子のフェースと反対側の絶縁基板面から引出される複
数個の外部端子と、前記半導体素子を気密封止する気密
封止用キャップと、前記気密封止用キャップを含む電気
絶縁基板全面に接着されるヒートシンクとを含むことを
特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24148088A JPH0287655A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24148088A JPH0287655A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0287655A true JPH0287655A (ja) | 1990-03-28 |
Family
ID=17074940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24148088A Pending JPH0287655A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0287655A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH047175U (ja) * | 1990-05-09 | 1992-01-22 | ||
JPH0722657A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-24 | Nippon Buroaa Kk | サーモモジュール |
EP0797253A2 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Chip carrier and semiconductor device using the same |
KR100479913B1 (ko) * | 1997-09-10 | 2005-06-16 | 삼성테크윈 주식회사 | 피지에이패키지 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS593554B2 (ja) * | 1977-04-27 | 1984-01-24 | サンリツ工業株式会社 | 電気カミソリ用外刃とその製造方法 |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP24148088A patent/JPH0287655A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS593554B2 (ja) * | 1977-04-27 | 1984-01-24 | サンリツ工業株式会社 | 電気カミソリ用外刃とその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH047175U (ja) * | 1990-05-09 | 1992-01-22 | ||
JPH0722657A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-24 | Nippon Buroaa Kk | サーモモジュール |
EP0797253A2 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Chip carrier and semiconductor device using the same |
EP0797253A3 (en) * | 1996-03-19 | 1999-04-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Chip carrier and semiconductor device using the same |
KR100479913B1 (ko) * | 1997-09-10 | 2005-06-16 | 삼성테크윈 주식회사 | 피지에이패키지 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6153924A (en) | Multilayered lead frame for semiconductor package | |
US5506446A (en) | Electronic package having improved wire bonding capability | |
US5644163A (en) | Semiconductor device | |
US6285075B1 (en) | Integrated circuit package with bonding planes on a ceramic ring using an adhesive assembly | |
JPH06244231A (ja) | 気密半導体デバイスおよびその製造方法 | |
JP2895920B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH03108744A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH09307051A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPH0287655A (ja) | 半導体装置 | |
US20170053856A1 (en) | Semiconductor die attachment with embedded stud bumps in attachment material | |
WO2000008685A1 (fr) | Substrat de cablage, son procede de fabrication, et dispositif a semiconducteur | |
JPH0382060A (ja) | 半導体装置 | |
JP2646994B2 (ja) | ヒートシンク付ピングリッドアレイ | |
JPS5891646A (ja) | 半導体装置 | |
JPH07193160A (ja) | チップキャリア | |
JP2531125B2 (ja) | Icチップキャリアモジュ―ル | |
JP3051225B2 (ja) | 集積回路用パッケージ | |
JPH03248449A (ja) | ヒートシンク搭載型半導体装置 | |
JPH04320052A (ja) | 半導体装置 | |
JP3127948B2 (ja) | 半導体パッケージ及びその実装方法 | |
JP2000124251A (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
JP3314139B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS6043660B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH10242362A (ja) | リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JPH04267360A (ja) | 半導体装置 |