JPH0278090A - メモリ装置の供給電圧安定化回路 - Google Patents

メモリ装置の供給電圧安定化回路

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JPH0278090A
JPH0278090A JP1129015A JP12901589A JPH0278090A JP H0278090 A JPH0278090 A JP H0278090A JP 1129015 A JP1129015 A JP 1129015A JP 12901589 A JP12901589 A JP 12901589A JP H0278090 A JPH0278090 A JP H0278090A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はメモリ装置内で一定の基準電圧を発生するため
の回路に関するものである。
(従来の技術) 第2図、第3図は従来技術の回路例である。第2図にお
ける従来の基準電圧発生回路は、供給電圧Vce端に連
結されたPMO5)ランジスタM1と接地電圧Vss端
に連結されたNMOSトランジスタをそれぞれダイオー
ド(dlOde)+M造にて直列に連結し、前記PMO
SトランジスタM1とNMO3t−ランジスタM2の連
結点において基準電圧Voを得るように構成した。
第3図における基準電圧発生回路は、PMOSトランジ
スタMll、NMOS)ランジスタM12及び2つのN
+−P+ダイオードD11.DI2を直列に連結し、前
記P、NMOSトランジスタMll、M12を常にON
状態に維持し、P。
NMOS)ランジスタMll、M12の連結点において
基準電圧Voを得るように構成した。 かかる回路では
P、NMOSトランジスタM11゜M12でスタンドバ
イ(standby)電流を制御しなからNMOSトラ
ンジスタM12のON抵抗とN+−p+ダイオードD1
1.D12のスレッショルド(threshold)電
圧で基準電圧Voを決定するようになる。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、第2図に示された従来技術においては、
NMOSトランジスタM2では低レベルの基準電圧を取
り、PMOSトランジスタM1では必要とする基準電圧
を調整するようになるが、このとき基準電圧が供給電圧
Vccの変動により敏感に変動する問題がある。
第3図に示された従来技術においては、第2図に示され
た回路より供給電圧Vccの電圧変動に伴う基準電圧V
oの変動を減少させることができるが、供給電圧Vcc
と接地電圧Vss間のDC電流通路(path)が常に
開かれているために数10μAのスタンドバイ電流が流
れる問題がある。
本発明は前記の如き問題点を解決するためのものであっ
て、その目的とするところは供給電圧の変動に伴う基準
電圧の変動を最小化し、基準電圧発生回路内に流れるス
タンドバイ電流を効果的に制御することができるし、初
期基準電圧レベルを早く形成することができるようにし
たメモリ装置内の基準電圧発生回路を提供することにあ
る。
(課題を解決するための手段) 本発明の基準電圧発生回路においては、メモリ装置内に
設けられた低電圧発生回路から発生された供給電圧Vc
cより低い電圧を供給するための低電圧供給線と、前記
低電圧供給線に連結されてスタンドバイ(standb
y)電流を最少に減少させるだめのスタンドバイ(st
andby)電流制御手段と、前記スタンドバイ電流制
御手段に連結されと、−定基準電圧を形成するための抵
抗手段と、前記スタンドバイ電流制御手段と前記抵抗手
段間の連結点に連結された基準電圧出力線と、前記低電
圧供給線と前記基準電圧出力線間に位置し前記スタンド
バイ電流制御手段と並列に連結され初期電圧レベルを短
い時間内に形成するための初期電圧形成手段とから構成
され、メモリ装置内に一定の基準電圧を発生することを
特徴とする。
(作 用) 供給電圧Vccより低い電圧、例えば1/2vCCの如
き電圧を得るためにメモリ装置内に設けられている低電
圧発生回路PGの出力電圧を利用する。
低電圧発生回路PGの出力電圧は低電圧供給線を通じて
スタンドバイ電流制御手段と初期電圧形成手段で供給さ
れて回路内に流れるスタンドバイ電流を最少に減少させ
、初期電圧を早く形成するようになる。
次に抵抗手段を通過しながら、スタンドバイ電流制御手
段と抵抗手段間の連結点に連結された基準電圧出力線を
通じて一定の基準電圧をメモリ回路等に供給するように
なる。
(実 施 例) 第1図は本発明の実施例である。
第1図において、スタンドバイ電流制御手段1は2つの
エンハンスメント型PMOSトランジスタMIOI、M
2O3から、初期電圧形成手段2はエンハンスメント型
NMOSトランジスタM106から、抵抗手段3は2つ
のエンハンスメントJ42NMOSトランジスタM10
4.M2O3,PMOSトランジスタM103からそれ
ぞれ構成されている。
2つのエンハンスメント型PMO8)ランジスタMIO
I、M102は互いに直列に連結されており、主にスタ
ンドバイ電流を制御するための機能をなす。PMOSト
ランジスタM101のドレンは低電圧供給線L1に連結
され、該ゲートは接地電圧に連結され、該ソースはPM
OSトランジスタM102のドレンに連結される。PM
OSトランジスタM102のゲートは接地電圧Vssに
連結される。
ここでエンハンスメント型PMO5)ランジスタを使用
した理由はPMOSトランジスタが一般抵抗やNMO8
)ランジスタに比し温度変化及びプロセス(proce
ss)の変化に伴う電流の変化を最少にすることができ
るからである。
基準電圧を形成するための抵抗手段としては、エンハン
スメント型PMO8)ランジスタMIO3と2つのエン
ハンスメント型NMOSトランジスタM104.M2O
3から構成した。
NMOSトランジスタM104.M2O3は、ダイオー
ド構造として結合されており、各ゲートは各ドレンに連
結し、NMOSトランジスタM104のソースはNMO
SトランジスタM105のドレンに連結し、そのソース
は接地電圧Vssに連結する。
かかるNMO8)ランジスタM104.MIO5による
電圧形成はP+ −N+電圧ダイオード又はダイオード
構造のPMOSトランジスタに比べてプロセスによる特
性変化が少なく、スレ・ソショルド電圧調節が容易であ
り、温度特性の良い効果がある。
PMOSトランジスタM103は前記NMOSトランジ
スタM104.M2O3によって決定された電瓜を若干
上昇させる役割をし、PMOSトランジスタを使用した
理由は前記PMOS)ランジスタMIOI、M102に
おいて説明したとおりである。
PMOSトランジスタM103のドレンは、前記したM
OS)ランジスタMI Q2のソースに連結され、その
ゲートは接地電圧Vssに連結され、そのソースはM2
O3のドレンに連結される。
そして、電源が印加された後、初期出力レベルを早く形
成するためにスレッショルド電圧の温度特性の良いNM
OSトランジスタM106を低電圧供給線L1と基準電
圧出力線L2間に、ダイオード構造に連結する。低電圧
供給線L1と基準電圧出力線L2間に2つ以上のNMO
Sトランジス夕を連結することが可能である。
さらにまた、図において、PGはメモリ装置内において
、供給電圧Vccより低い電圧を発生する低電圧発生回
路を示す。例えば低電圧供給線Ll上の電圧を1 / 
2 V c cに維持しようとする場合には既存のDR
AMで使用されているセルのプレート電圧Vp又はビッ
トラインプレチャージ(precharge)電圧(V
 BL)発生器を使用することにより別途の電圧発生回
路が必要としなくなる。
そして、一定の基準電圧(Vo)は連結点(N)に連結
された基準電圧出力線(L2)を通じて発生するように
なる。
(発明の効果) 以上述べたように、本発明により供給電圧の変動に伴う
出力電圧の変動を最少に減らすことができるし、基準電
圧発生回路内に流れるスタンドバイ電流の流れを相当に
制限することができるし、初期基準電圧のレベルを早く
形成することができるように構成した効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基学電圧発生回路の実施例を示す回路
図、第2図、第3図は従来例を示す回路図である。 M101〜M103・・・・・・PMOSトランジスタ
M104〜M106・・・・・・NMOSトランジスタ
N・・・・・・・・・連結点 Ll・・・・・・低電圧供給線 L2・・・・・・基準電圧出力線 特許出願人   サムソン エレクトロニクスカンパニ
ー リミテッド 代  理  人        弁理士  −色  健
  輔同           弁理士  松  本 
 雅  利口二

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)メモリ装置内に設けられた低電圧発生回路(PG
    )から発生された供給電圧Vccより低い電圧を供給す
    るための低電圧供給線(L1)と、前記低電圧供給線(
    L1)に連結されてスタンドバイ(standby)電
    流を最少に減少させるためのスタンドバイ(stand
    by)電流制御手段と、前記スタンドバイ電流制御手段
    に連結され一定基準電圧を形成するための抵抗手段と、
    前記スタンドバイ電流制御手段と前記抵抗手段間の連結
    点に連結された基準電圧出力線(L2)と、前記低電圧
    供給線(L1)と前記基準電圧出力線(L2)間に位置
    し、前記スタンドバイ電流制御手段と並列に連結され初
    期電圧レベルを短い時間内に形成するための初期電圧形
    成手段から構成され、メモリ装置内に一定な基準電圧を
    発生することを特徴とする基準電圧発生回路。
  2. (2)前記スタンドバイ電流制御手段は互いに直列に連
    結された第1及び第2MOSトランジスタから構成され
    ていることを特徴とする請求項1記載のメモリ装置内の
    基準電圧発生回路。
  3. (3)前記抵抗手段は互いに直列に連結された第3、第
    4及び第5MOSトランジスタから構成されていること
    を特徴とする請求項1記載のメモリ装置内の基準電圧発
    生回路。
  4. (4)前記初期電圧形成手段は第6MOSトランジスタ
    から構成されたことを特徴とする請求項1記載のメモリ
    装置内の基準電圧発生回路。
  5. (5)前記初期電圧形成手段は2つ以上のNMOSトラ
    ンジスタから構成されたことを特徴とする請求項1記載
    のメモリ装置内の基準電圧発生回路。
  6. (6)前記低電圧供給線(L1)上の電圧は供給電圧V
    ccの1/2であることを特徴とする請求項1記載のメ
    モリ装置内の基準電圧発生回路。
  7. (7)前記第1及び第2MOSトランジスタはエンハン
    スメント型PMOSトランジスタであり、前記第1MO
    Sトランジスタは前記低電圧供給線(L1)に連結され
    たドレン(drain)及び接地電圧に連結されたゲー
    ト(gate)及び前記第2MOSトランジスタのドレ
    インに連結されたソース(source)を有しており
    、前記第2MOSトランジスタは接地電圧に連結された
    ゲートを有していることを特徴とする請求項2記載のメ
    モリ装置内の基準電圧発生回路。
  8. (8)前記第3MOSトランジスタはエンハンスメント
    型PMOSトランジスタであり、前記第4及び第5MO
    Sトランジスタはエンハンスメント型NMOSトランジ
    スタであり、前記第3MOSトランジスタは前記スタン
    ドバイ制御手段に連結されたドレン、接地電圧に連結さ
    れたゲート及び前記第4トランジスタのドレンに連結さ
    れたソースを有しており、前記第4MOSトランジスタ
    は該ドレンに連結されたゲート及び前記第5MOSトラ
    ンジスタのドレンに連結されたソースを有しており、前
    記第5MOSトランジスタはソノ第5MOSトランジス
    タのドレンに連結されたゲート及び接地電圧に連結され
    たソースを有していることを特徴とする請求項3記載の
    メモリ装置内の基準電圧発生回路。
  9. (9)前紀第6MOSトランジスタはエンハンスメント
    型NMOSトランジスタであり、前記低電圧供給線(L
    1)とそのゲートに連結されたドレン及び前記基準電圧
    出力線(L2)に連結されたソースを有していることを
    特徴とする請求項4記載のメモリ装置内の基準電圧発生
    回路。
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