JPH0256290B2 - - Google Patents
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- JPH0256290B2 JPH0256290B2 JP11911384A JP11911384A JPH0256290B2 JP H0256290 B2 JPH0256290 B2 JP H0256290B2 JP 11911384 A JP11911384 A JP 11911384A JP 11911384 A JP11911384 A JP 11911384A JP H0256290 B2 JPH0256290 B2 JP H0256290B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Description
［産業上の利用分野］
本発明は100から300℃における熱膨張係数が65
×10-7／℃以上、ガラス転移点が600℃以上で、
かつアルカリ金属酸化物の含有率の少ない化学的
耐久性の優れ、更には放射線に対して安定な撮像
管のフエースプレート用ガラスに関するものであ
る。 ［従来技術］ 撮像管としては光導電型のものが広く用いられ
ている。このタイプの撮像管のフエースプレート
としては、ガラス板のに透明導電膜と光導電膜を
つけた構造のものが用いられている。光導電膜と
してはSb2S3、PbO、Siなどが用いられていたが、
最近ではこの他にアモルフアスのSe−As−Te系
の膜、ZnSe−ZnxCd1-xTe系あるいはCdSe−
As2S3系の微結晶の膜などが用いられている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 最近用いられているこれらの光導電膜の熱膨脹
係数は一般の酸化物ガラスよりも著しく大きいの
で歪の少ない光導電面を得るためには、熱膨脹係
数の大きいフエースプレート用ガラスが必要とさ
れる。性能の優れた光導電面を得るためには、
100℃から300℃における平均熱膨脹係数が65×
10-7／℃よりも大きいフエースプレート用ガラス
が必要とされている。 またZnSe−ZnxCd1-xTe系の微結晶を光導電膜
として用いたものでは、これらの物質の膜を付け
たフエースプレートガラスを高温で熱処理して結
晶化することがある。このためには高い移転温度
を持つガラスが必要とされる。この処理に耐える
ためには、ガラスの転移温度は600℃以上である
ことが必要といわれている。またフエースプレー
トは、通常ガラスを傷等の欠陥のないように注意
深く研磨、洗浄し、次いでこれに透明導電膜及び
前記の光導電膜を付けてつくられる。透明導電膜
を付けるガラス表面は汚れのないことが必要とさ
れるので、通常濃硫酸あるいは重クロム酸混液な
どの強酸を用いて洗浄される場合が多い。この洗
浄に耐えるためには化学的耐久性の優れたガラス
が必要とされる。ガラス中のアルカリイオンは撮
像管の熱処理工程において、透明導電膜あるいは
光導電面に拡散し、これらの性能を劣化させるこ
とがあるので、アルカリ金属酸化物を多く含むガ
ラスは好ましくない。これらのことからフエース
プレート用ガラスとしては、100−300℃における
熱膨脹係数が65×10-7／℃以上で、ガラス転移温
度が600℃以上の高膨脹高転移温度であり、かつ
化学的耐久性の優れたアルカリ金属酸物の含有量
の少ないガラスが必要とされる。 ガラスの100−300℃における熱膨脹係数は、直
径４mm、長さ50mmのガラス試料を用いて、石英ガ
ラス製試料支持具を有する示差熱膨脹計により４
℃／分の速度で加熱して100℃と300℃におけるガ
ラス試料の伸びを測定することにより求められ
る。ガラス転移点は、上記のガラス試料と示差熱
膨脹計を用いて測定した高温域における熱膨脹曲
線と低温域における熱膨脹曲線をそれぞれ直線に
近似したときの両直線の交点に対応する温度で表
わされる。ガラスの化学的耐久性は、日本光学硝
子工業会規格に定められている“光学ガラスの化
学的耐久性の測定法（粉末法）”により評価され
る。この方法は標準網ふるい590μｍを通過し、
420μｍにとどまる大きさのガラス粉末（比重グ
ラム）を白金製の標準ふるい177−210μｍからな
る溶出用かごに入れ、これを純水80mlあるいは
Ｎ／100−HNO380mlを入れた石英ガラス製冷却
器付きフラスコに入れ沸騰水浴中にて60分加熱し
た後の重量減少を測定するものである。この方法
により測定した純粋に対する重量減少が0.05％
（重量）以下、Ｎ／100−HNO3に対する重量減少
が0.1％（重量）以下であれば、概ねフエースプ
レートをつくる際の洗浄を耐えることが経験的に
知られている。さらには放射線、例えばコバルト
６０のガンマー線等に対して着色することのない
フエースプレートであることも要求されている。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は高膨脹、高転移温度でかつアルカリ金
属酸化物含有率が少ない化学的耐久性の優れ、さ
らには放射線に対して安定な撮像管のフエースプ
レート用ガラスに関するもので、100−300℃にお
ける熱膨脹係数が65×10-7／℃以上、転移温度が
600℃以上でかつアルカリ金属酸化物含有率が８
重量％以下で濃硫酸あるいは重クロム酸混液など
の強酸による洗浄に耐え、かつ放射線に対して安
定なフエースプレート用ガラスを提供するもので
ある。 本発明の目的には、次の組成から選らばれたガ
ラスが適している。すなわち、重量百分率で
SiO242〜55、B2O32〜10、Al2O31.5〜７、BaO22
〜35、ZrO2＋TiO22〜10、ただしZrO20〜６、
TiO20〜10、Na2O＋K2O0〜８、ただしNa2O0〜
６、K2O0〜５、ZnO0〜５、PbO0〜５、CaO0〜
10、MgO0〜５、かつSiO2＋B2O3＋Al2O3＋BaO
＋ZrO2＋TiO2＋Na2O＋K2Oの合量が少なくと
も90％以上である。 ［成分限定理由］ SiO2の含有量が42〜55％に限定される理由は、
42％以下ではガラスの化学的耐久性が悪くフエー
スプレートの洗剤が耐えられず、55％以上では熱
膨張係数が65×10-7／℃以上のガラスがえられな
いことによる。B2O3の含有率が２〜10％に限定
される理由は、B2O3が２％以下ではガラスが失
透し易く製造が困難になり、10％以上では化学的
耐久性が劣りフエースプレートをつくる際の洗浄
に耐えられないためである。Al2O3の含有率が1.5
〜７％に限定される理由は、Al2O3が1.5％以下で
は化学的耐久性が劣り、７％以上ではガラス融液
の粘性が大きくなり気泡を含まないガラスを製造
することが困難になるためである。BaOの含有
率が22〜35％に限定される理由は、22％以下では
熱膨脹係数が65×10-7／℃以上のガラスを得るこ
とが難しく、35％以上では化学的耐久性が劣るた
めである。 TiO2とZnO2はこの系のガラスの化学的耐久性
を向上させるのに有効であるが、その合量は２〜
10％に限定される。この理由は、２％以下では化
学的耐久性を向上させる効果が少なく、10％以上
ではガラスが失透しやすく製造が困難となるため
である。特にZrO2については、その含有率が６
％を越えるとガラスの失透傾向が著しくなるの
で、好ましくない。またTiO2については、10％
を越えると短波長の可視域に吸収が生じ、ガラス
が着色するので好ましくない。ガラスの失透傾向
が小さく化学的耐久性が優れ、かつ可視域に吸収
のない点から、TiO2とZrO2の最も好ましい含有
率はZrO21〜４％、TiO22〜６％でかつZrO2と合
量が４〜８％の範囲である。Na2O3とK2Oはガラ
ス融液の粘性を低下させ、ガラスの溶融性を改善
するのに有効である。しかし、これらの含有率が
多いと化学的耐久性が悪くなり、かつガラスから
拡散したアルカリイオンによる透明導電膜あるい
は光導電面の特性の劣化が懸念されるので好まし
くない。 Na2OとK2Oの合量が８％以下に限定される理
由は、８％を越える化学的耐久性が悪くなり、フ
エースプレートをつくる際の洗浄に耐えられなく
なるためである。Na2OとK2Oを共存させるとそ
れぞれの成分を単独で含む場合よりもガラスの化
学的耐久性は向上する。この現象はアルカリ混合
効果としてよく知られている。このために本発明
のガラスにおいてはNa2OとK2Oを共存させるこ
とが好ましいが、Na2OあるいはK2Oを単独で用
いることもできる。この場合には化学的耐久性の
点からNa2Oは６％以下、またK2Oは５％以下と
することが望ましい。ガラスの溶融性と化学的耐
久性の点から、Na2OとK2Oの含有率の好ましい
範囲はNa2O0.5〜６％K2O0.5〜５％でかつNa2O
とK2Oの含量が１〜６％である。なお、Na2Oあ
るいはK2Oの一部を他のアルカリ金属酸化物（例
えばLi2O）により置換することも可能である。 BaOの一部を他のアルカリ土類金属酸化物、
あるいは二価金属酸化物により置換すると化学的
耐久性の向上、失透傾向の現象などの点で効果が
ある。これらの成分の好ましい含有率はCaO0〜
10％、MgO0〜５％、ZnO0〜５％、PbO0〜５％
である。しかし、これらの成分の合計量が10％を
越えると熱膨脹係数が小さくなるので、SiO2、
B2O3、Al2O3、BaO、ZrO2、TiO2、Na2O、
K2Oの合量は90％以上であることが必要である。
なお、TiO2あるいはZrO2の一部をLa2O3、Y2O3
などの高原子価成分により置換することも可能で
あるが、これらの原料は高価であるので好ましく
ない。 原子炉の近傍などの強い放射能のある環境下で
使用する撮像管においては、放射線によりフエー
スプレートのガラスが着色する。この着色は本発
明のガラス組成に酸化セリウムを0.3〜１％（重
量百分率）加えることにより防止できる。 ［実施例］ 次に本発明の実施例について説明する。下表に
示した組成のガラスを、原料として硅石粉、ホウ
酸、水酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硝酸バ
リウム酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化鉛、炭酸カルシウム、炭酸ソーダ、炭酸
カリなどを用いて配合して、白金るつぼ中で1400
〜1500℃で溶融した。なお原料の配合に際して
は、必要に応じて、As2O3、Sb2O3等の一般に用
いられている脱胞剤を配合した。溶融したガラス
を徐冷した後に、前記の方法により100〜300℃に
おける平均熱膨脹係数、ガラス転移点、耐久性及
び耐酸性を測定した。この結果も表に合せて示
す。表中に１で示した組成のガラスをZnSe−Znx
Cd1-xTe系の微結晶を光導電面として用いた撮像
管のフエースプレートに用いた結果、特性の優れ
た性能の撮像管がえられた。また表−１の６に示
した組賞のガラスを用いてつくられたフエースプ
レートは、Co60を線源として106レントゲンの放
射線を照射したがガラスの着色は極くわずかであ
つた。
×10-7／℃以上、ガラス転移点が600℃以上で、
かつアルカリ金属酸化物の含有率の少ない化学的
耐久性の優れ、更には放射線に対して安定な撮像
管のフエースプレート用ガラスに関するものであ
る。 ［従来技術］ 撮像管としては光導電型のものが広く用いられ
ている。このタイプの撮像管のフエースプレート
としては、ガラス板のに透明導電膜と光導電膜を
つけた構造のものが用いられている。光導電膜と
してはSb2S3、PbO、Siなどが用いられていたが、
最近ではこの他にアモルフアスのSe−As−Te系
の膜、ZnSe−ZnxCd1-xTe系あるいはCdSe−
As2S3系の微結晶の膜などが用いられている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 最近用いられているこれらの光導電膜の熱膨脹
係数は一般の酸化物ガラスよりも著しく大きいの
で歪の少ない光導電面を得るためには、熱膨脹係
数の大きいフエースプレート用ガラスが必要とさ
れる。性能の優れた光導電面を得るためには、
100℃から300℃における平均熱膨脹係数が65×
10-7／℃よりも大きいフエースプレート用ガラス
が必要とされている。 またZnSe−ZnxCd1-xTe系の微結晶を光導電膜
として用いたものでは、これらの物質の膜を付け
たフエースプレートガラスを高温で熱処理して結
晶化することがある。このためには高い移転温度
を持つガラスが必要とされる。この処理に耐える
ためには、ガラスの転移温度は600℃以上である
ことが必要といわれている。またフエースプレー
トは、通常ガラスを傷等の欠陥のないように注意
深く研磨、洗浄し、次いでこれに透明導電膜及び
前記の光導電膜を付けてつくられる。透明導電膜
を付けるガラス表面は汚れのないことが必要とさ
れるので、通常濃硫酸あるいは重クロム酸混液な
どの強酸を用いて洗浄される場合が多い。この洗
浄に耐えるためには化学的耐久性の優れたガラス
が必要とされる。ガラス中のアルカリイオンは撮
像管の熱処理工程において、透明導電膜あるいは
光導電面に拡散し、これらの性能を劣化させるこ
とがあるので、アルカリ金属酸化物を多く含むガ
ラスは好ましくない。これらのことからフエース
プレート用ガラスとしては、100−300℃における
熱膨脹係数が65×10-7／℃以上で、ガラス転移温
度が600℃以上の高膨脹高転移温度であり、かつ
化学的耐久性の優れたアルカリ金属酸物の含有量
の少ないガラスが必要とされる。 ガラスの100−300℃における熱膨脹係数は、直
径４mm、長さ50mmのガラス試料を用いて、石英ガ
ラス製試料支持具を有する示差熱膨脹計により４
℃／分の速度で加熱して100℃と300℃におけるガ
ラス試料の伸びを測定することにより求められ
る。ガラス転移点は、上記のガラス試料と示差熱
膨脹計を用いて測定した高温域における熱膨脹曲
線と低温域における熱膨脹曲線をそれぞれ直線に
近似したときの両直線の交点に対応する温度で表
わされる。ガラスの化学的耐久性は、日本光学硝
子工業会規格に定められている“光学ガラスの化
学的耐久性の測定法（粉末法）”により評価され
る。この方法は標準網ふるい590μｍを通過し、
420μｍにとどまる大きさのガラス粉末（比重グ
ラム）を白金製の標準ふるい177−210μｍからな
る溶出用かごに入れ、これを純水80mlあるいは
Ｎ／100−HNO380mlを入れた石英ガラス製冷却
器付きフラスコに入れ沸騰水浴中にて60分加熱し
た後の重量減少を測定するものである。この方法
により測定した純粋に対する重量減少が0.05％
（重量）以下、Ｎ／100−HNO3に対する重量減少
が0.1％（重量）以下であれば、概ねフエースプ
レートをつくる際の洗浄を耐えることが経験的に
知られている。さらには放射線、例えばコバルト
６０のガンマー線等に対して着色することのない
フエースプレートであることも要求されている。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は高膨脹、高転移温度でかつアルカリ金
属酸化物含有率が少ない化学的耐久性の優れ、さ
らには放射線に対して安定な撮像管のフエースプ
レート用ガラスに関するもので、100−300℃にお
ける熱膨脹係数が65×10-7／℃以上、転移温度が
600℃以上でかつアルカリ金属酸化物含有率が８
重量％以下で濃硫酸あるいは重クロム酸混液など
の強酸による洗浄に耐え、かつ放射線に対して安
定なフエースプレート用ガラスを提供するもので
ある。 本発明の目的には、次の組成から選らばれたガ
ラスが適している。すなわち、重量百分率で
SiO242〜55、B2O32〜10、Al2O31.5〜７、BaO22
〜35、ZrO2＋TiO22〜10、ただしZrO20〜６、
TiO20〜10、Na2O＋K2O0〜８、ただしNa2O0〜
６、K2O0〜５、ZnO0〜５、PbO0〜５、CaO0〜
10、MgO0〜５、かつSiO2＋B2O3＋Al2O3＋BaO
＋ZrO2＋TiO2＋Na2O＋K2Oの合量が少なくと
も90％以上である。 ［成分限定理由］ SiO2の含有量が42〜55％に限定される理由は、
42％以下ではガラスの化学的耐久性が悪くフエー
スプレートの洗剤が耐えられず、55％以上では熱
膨張係数が65×10-7／℃以上のガラスがえられな
いことによる。B2O3の含有率が２〜10％に限定
される理由は、B2O3が２％以下ではガラスが失
透し易く製造が困難になり、10％以上では化学的
耐久性が劣りフエースプレートをつくる際の洗浄
に耐えられないためである。Al2O3の含有率が1.5
〜７％に限定される理由は、Al2O3が1.5％以下で
は化学的耐久性が劣り、７％以上ではガラス融液
の粘性が大きくなり気泡を含まないガラスを製造
することが困難になるためである。BaOの含有
率が22〜35％に限定される理由は、22％以下では
熱膨脹係数が65×10-7／℃以上のガラスを得るこ
とが難しく、35％以上では化学的耐久性が劣るた
めである。 TiO2とZnO2はこの系のガラスの化学的耐久性
を向上させるのに有効であるが、その合量は２〜
10％に限定される。この理由は、２％以下では化
学的耐久性を向上させる効果が少なく、10％以上
ではガラスが失透しやすく製造が困難となるため
である。特にZrO2については、その含有率が６
％を越えるとガラスの失透傾向が著しくなるの
で、好ましくない。またTiO2については、10％
を越えると短波長の可視域に吸収が生じ、ガラス
が着色するので好ましくない。ガラスの失透傾向
が小さく化学的耐久性が優れ、かつ可視域に吸収
のない点から、TiO2とZrO2の最も好ましい含有
率はZrO21〜４％、TiO22〜６％でかつZrO2と合
量が４〜８％の範囲である。Na2O3とK2Oはガラ
ス融液の粘性を低下させ、ガラスの溶融性を改善
するのに有効である。しかし、これらの含有率が
多いと化学的耐久性が悪くなり、かつガラスから
拡散したアルカリイオンによる透明導電膜あるい
は光導電面の特性の劣化が懸念されるので好まし
くない。 Na2OとK2Oの合量が８％以下に限定される理
由は、８％を越える化学的耐久性が悪くなり、フ
エースプレートをつくる際の洗浄に耐えられなく
なるためである。Na2OとK2Oを共存させるとそ
れぞれの成分を単独で含む場合よりもガラスの化
学的耐久性は向上する。この現象はアルカリ混合
効果としてよく知られている。このために本発明
のガラスにおいてはNa2OとK2Oを共存させるこ
とが好ましいが、Na2OあるいはK2Oを単独で用
いることもできる。この場合には化学的耐久性の
点からNa2Oは６％以下、またK2Oは５％以下と
することが望ましい。ガラスの溶融性と化学的耐
久性の点から、Na2OとK2Oの含有率の好ましい
範囲はNa2O0.5〜６％K2O0.5〜５％でかつNa2O
とK2Oの含量が１〜６％である。なお、Na2Oあ
るいはK2Oの一部を他のアルカリ金属酸化物（例
えばLi2O）により置換することも可能である。 BaOの一部を他のアルカリ土類金属酸化物、
あるいは二価金属酸化物により置換すると化学的
耐久性の向上、失透傾向の現象などの点で効果が
ある。これらの成分の好ましい含有率はCaO0〜
10％、MgO0〜５％、ZnO0〜５％、PbO0〜５％
である。しかし、これらの成分の合計量が10％を
越えると熱膨脹係数が小さくなるので、SiO2、
B2O3、Al2O3、BaO、ZrO2、TiO2、Na2O、
K2Oの合量は90％以上であることが必要である。
なお、TiO2あるいはZrO2の一部をLa2O3、Y2O3
などの高原子価成分により置換することも可能で
あるが、これらの原料は高価であるので好ましく
ない。 原子炉の近傍などの強い放射能のある環境下で
使用する撮像管においては、放射線によりフエー
スプレートのガラスが着色する。この着色は本発
明のガラス組成に酸化セリウムを0.3〜１％（重
量百分率）加えることにより防止できる。 ［実施例］ 次に本発明の実施例について説明する。下表に
示した組成のガラスを、原料として硅石粉、ホウ
酸、水酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硝酸バ
リウム酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化鉛、炭酸カルシウム、炭酸ソーダ、炭酸
カリなどを用いて配合して、白金るつぼ中で1400
〜1500℃で溶融した。なお原料の配合に際して
は、必要に応じて、As2O3、Sb2O3等の一般に用
いられている脱胞剤を配合した。溶融したガラス
を徐冷した後に、前記の方法により100〜300℃に
おける平均熱膨脹係数、ガラス転移点、耐久性及
び耐酸性を測定した。この結果も表に合せて示
す。表中に１で示した組成のガラスをZnSe−Znx
Cd1-xTe系の微結晶を光導電面として用いた撮像
管のフエースプレートに用いた結果、特性の優れ
た性能の撮像管がえられた。また表−１の６に示
した組賞のガラスを用いてつくられたフエースプ
レートは、Co60を線源として106レントゲンの放
射線を照射したがガラスの着色は極くわずかであ
つた。
【表】
【表】
［効果］
本発明のより100℃から300℃における平均熱膨
張係数が65×10-7以上ガラス転移点が600℃以上
でかつアルカリ金属含有量の少ない化学的耐久性
の優れたガラスがえられる。このガラスは光導電
面との熱膨脹係数の差が小さく、かつ光導電面を
高温度で熱処理することができるなどの特徴があ
り、また放射線に対して着色しない撮像管のフエ
ースプレート用ガラスとして適している。
張係数が65×10-7以上ガラス転移点が600℃以上
でかつアルカリ金属含有量の少ない化学的耐久性
の優れたガラスがえられる。このガラスは光導電
面との熱膨脹係数の差が小さく、かつ光導電面を
高温度で熱処理することができるなどの特徴があ
り、また放射線に対して着色しない撮像管のフエ
ースプレート用ガラスとして適している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 重量百分率で SiO2 42−55 B2O3 ２−10 Al2O3 1.5−７ BaO 22−35 ZrO2＋TiO2 ２−10 ただし ZrO2 ０−６ TiO2 ０−10 Na2O＋K2O ０−８ ただし Na2O ０−６ K2O ０−５ ZnO ０−５ PbO ０−５ CaO ０−10 MgO ０−５ SiO2＋B2O3＋Al2O＋BaO＋ZrO2 ＋TiO2＋Na2O＋K2O≧90 である組成から選らばれ、かつ100℃から300℃に
おける平均熱膨脹係数が65×10-7／℃以上、ガラ
ス転移点が600℃以上であることを特徴とする撮
像管のフエースプレートガラス。 ２ ZrO2＋TiO2の合量が４−８重量％（ただし
ZrO21〜４、TiO22〜６）で、Na2O＋K2Oの合
量が１〜６重量％（ただしNa2O0.5〜６、
K2O0.5〜５）である特許請求の範囲第１項記載
の撮像管のフエースプレートガラス。 ３ 基礎組成100重量部に0.3〜1.0重量部の酸化
セリウムを加えて放射線による着色を防止してい
る特許請求の範囲第１項または第２項記載の撮像
管のフエースプレートガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11911384A JPS60264343A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | 撮像管のフエ−スプレ−トガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11911384A JPS60264343A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | 撮像管のフエ−スプレ−トガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60264343A JPS60264343A (ja) | 1985-12-27 |
| JPH0256290B2 true JPH0256290B2 (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=14753238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11911384A Granted JPS60264343A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | 撮像管のフエ−スプレ−トガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60264343A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19738428C1 (de) * | 1997-09-03 | 1998-08-20 | Schott Glaswerke | Bleifreies optisches Bariumflintglas |
| EP1961710A4 (en) * | 2005-12-07 | 2009-12-09 | Nippon Electric Glass Co | OUTER TANK FOR FLUORESCENT LAMP WITH EXTERNAL ELECTRODE |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP11911384A patent/JPS60264343A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60264343A (ja) | 1985-12-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |