JPH024796Y2 - - Google Patents
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- JPH024796Y2 JPH024796Y2 JP3258287U JP3258287U JPH024796Y2 JP H024796 Y2 JPH024796 Y2 JP H024796Y2 JP 3258287 U JP3258287 U JP 3258287U JP 3258287 U JP3258287 U JP 3258287U JP H024796 Y2 JPH024796 Y2 JP H024796Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、温度、真空度および圧力を制御して
被接着物を接着するのに用いられる改良した真空
高温加圧装置に関する。
被接着物を接着するのに用いられる改良した真空
高温加圧装置に関する。
真空高温加圧装置は、最近太陽電池の製造最終
工程や、シート状の複合材料の製造および積層プ
リント基板の製造工程で、例えば太陽電池のシリ
コンとガラスとを接着するように、それら被接着
物を真空中で接着するために使用されている。
工程や、シート状の複合材料の製造および積層プ
リント基板の製造工程で、例えば太陽電池のシリ
コンとガラスとを接着するように、それら被接着
物を真空中で接着するために使用されている。
この従来の真空高温加圧装置は、ヒーターおよ
び冷却プレートを有し、被接着物が置かれる下部
の真空脱気室と、被接着物を覆うダイヤフラムを
介した上部圧力制御室との組合せ構造から構成さ
れている。そして下部の真空脱気室に被接着物を
置き、その被接着物の上にダイヤフラムを置いて
上部圧力制御室で密閉し、ヒータに通電して加熱
しながら上部圧力制御室および下部真空脱気室を
真空にし、温度が所定値まで上つたときに、上部
圧力制御室を大気圧にすることにより、ダイヤフ
ラムを介して被接着物に大気圧をかけて接着する
ように構成されている。
び冷却プレートを有し、被接着物が置かれる下部
の真空脱気室と、被接着物を覆うダイヤフラムを
介した上部圧力制御室との組合せ構造から構成さ
れている。そして下部の真空脱気室に被接着物を
置き、その被接着物の上にダイヤフラムを置いて
上部圧力制御室で密閉し、ヒータに通電して加熱
しながら上部圧力制御室および下部真空脱気室を
真空にし、温度が所定値まで上つたときに、上部
圧力制御室を大気圧にすることにより、ダイヤフ
ラムを介して被接着物に大気圧をかけて接着する
ように構成されている。
しかして、このような真空高温加圧装置におい
ては、真空脱気で気泡が入らないこと、強力な接
着力が得られること、品質が揃うことが必要であ
る。これらの要望に対して影響力のあるものの一
つに下部の真空脱気室に設定されるヒーターがあ
げられる。
ては、真空脱気で気泡が入らないこと、強力な接
着力が得られること、品質が揃うことが必要であ
る。これらの要望に対して影響力のあるものの一
つに下部の真空脱気室に設定されるヒーターがあ
げられる。
ところでこのヒーターが真空中で剥き出しにな
つている状態で、温度を上げるとヒーターの金属
面が蒸発して寿命が短くなる。これらの金属蒸気
が真空脱気の気泡捕集に悪影響を及ぼす。またヒ
ーターを大気中に置いてホツトプレートを昇温さ
せる方式のものは、熱収縮が大きいために真空シ
ールと締付ボルトの緩るみの問題と電力消費が大
きくなる。さらにヒーター線をステンレス鋼管で
被服したシースヒーターを使用すると、温度分布
を一様にするためのヒーター配列が困難になる。
つている状態で、温度を上げるとヒーターの金属
面が蒸発して寿命が短くなる。これらの金属蒸気
が真空脱気の気泡捕集に悪影響を及ぼす。またヒ
ーターを大気中に置いてホツトプレートを昇温さ
せる方式のものは、熱収縮が大きいために真空シ
ールと締付ボルトの緩るみの問題と電力消費が大
きくなる。さらにヒーター線をステンレス鋼管で
被服したシースヒーターを使用すると、温度分布
を一様にするためのヒーター配列が困難になる。
本考案の目的は、被接着物に対して均一な温度
分布の加熱のもとに、効率よく真空脱気すること
ができ、かつ均一な加工のもとに安定した強い加
圧力をもつて接着することのできる真空高温加圧
室を提供することにある。
分布の加熱のもとに、効率よく真空脱気すること
ができ、かつ均一な加工のもとに安定した強い加
圧力をもつて接着することのできる真空高温加圧
室を提供することにある。
本考案による真空高温加圧装置は、真空槽を構
成する上部圧力制御室容器と下部真空脱気室容器
とをヒンジで片持ち支持するとともに、その上部
制御室容器に両室を気密に仕切るダイヤフラムを
設け、さらに下部真空脱気室内に載置されるプレ
ートヒーターをその全面に配線した高抵抗金属プ
レートを薄い耐高温絶縁プレートで挾んでモール
ドして構成したことを特徴とするもので、被接着
物に対する均一な加熱、効率の良い真空脱気およ
び均一な加圧力による接着を行なうことができ
る。
成する上部圧力制御室容器と下部真空脱気室容器
とをヒンジで片持ち支持するとともに、その上部
制御室容器に両室を気密に仕切るダイヤフラムを
設け、さらに下部真空脱気室内に載置されるプレ
ートヒーターをその全面に配線した高抵抗金属プ
レートを薄い耐高温絶縁プレートで挾んでモール
ドして構成したことを特徴とするもので、被接着
物に対する均一な加熱、効率の良い真空脱気およ
び均一な加圧力による接着を行なうことができ
る。
以下本考案を第1図、第2図および第3図に示
す実施例について説明する。なお第1図におい
て、本考案の真空高温加圧装置に使用される真空
槽1は、内部に被接着物2が置かれる下部真空脱
気室3と、この下部真空脱気室3の蓋となる上部
圧力制御室4と、この下部真空脱気室3の開口お
よび被接着物2を覆い両室3,4を気密に仕切る
ダイヤフラム5との組合せで構成されている。
す実施例について説明する。なお第1図におい
て、本考案の真空高温加圧装置に使用される真空
槽1は、内部に被接着物2が置かれる下部真空脱
気室3と、この下部真空脱気室3の蓋となる上部
圧力制御室4と、この下部真空脱気室3の開口お
よび被接着物2を覆い両室3,4を気密に仕切る
ダイヤフラム5との組合せで構成されている。
この下部真空脱気室3と上部圧力制御室4とを
形成する各々の容器3a,4aは、図示のように
ヒンジ6によつて片持ち支持されている。すなわ
ち、上部圧力制御室4の容器4aが下部真空脱気
室3の容器3aにヒンジ6を中心に回動すること
によつて開放し又密閉することになる。勿論ヒン
ジ6の回動部にパツキンを設けて気密構成を維持
するようになつている。
形成する各々の容器3a,4aは、図示のように
ヒンジ6によつて片持ち支持されている。すなわ
ち、上部圧力制御室4の容器4aが下部真空脱気
室3の容器3aにヒンジ6を中心に回動すること
によつて開放し又密閉することになる。勿論ヒン
ジ6の回動部にパツキンを設けて気密構成を維持
するようになつている。
下部真空脱気室3および上部圧力制御室4に
は、それぞれバルブ7および8を介して真空ポン
プ9が接続されており、この真空ポンプ9によつ
て両室3,4の真空引きが行なわれる。また下部
真空脱気室3にリーク用のバルブ10が接続さ
れ、上部圧力制御室4には加圧力を調整するため
のバルブ11が接続されている。
は、それぞれバルブ7および8を介して真空ポン
プ9が接続されており、この真空ポンプ9によつ
て両室3,4の真空引きが行なわれる。また下部
真空脱気室3にリーク用のバルブ10が接続さ
れ、上部圧力制御室4には加圧力を調整するため
のバルブ11が接続されている。
さらに下部真空脱気室3の中には、台12を介
して冷却プレート13が設置されている。この冷
却プレート13には細い冷却管が埋めこまれてお
り、この冷却管にバルブ14の制御によつて冷却
水又は冷却風を供給するようになつている。
して冷却プレート13が設置されている。この冷
却プレート13には細い冷却管が埋めこまれてお
り、この冷却管にバルブ14の制御によつて冷却
水又は冷却風を供給するようになつている。
この冷却プレート13の上に本考案によつて最
も重要なエレメントとなるプレートヒーター15
を載置している。このプレートヒーター15は、
第2図および第3図に示すように高抵抗金属プレ
ート16を極力全面に均一に配置するようにヂグ
ザグに配線され、この高抵抗金属プレート16と
その口出線17とをシリコン、テフロン、ポリイ
ミドなどの耐高温絶縁プレート18でサンドイツ
チ状に挾み込んだのち高温プレスで一体にモール
ドして構成したものである。
も重要なエレメントとなるプレートヒーター15
を載置している。このプレートヒーター15は、
第2図および第3図に示すように高抵抗金属プレ
ート16を極力全面に均一に配置するようにヂグ
ザグに配線され、この高抵抗金属プレート16と
その口出線17とをシリコン、テフロン、ポリイ
ミドなどの耐高温絶縁プレート18でサンドイツ
チ状に挾み込んだのち高温プレスで一体にモール
ドして構成したものである。
このプレートヒーター15は、その高抵抗金属
プレート16が真空中に真空に晒されることがな
い。したがつて高抵抗金属プレート16が蒸発す
ることもなく、長寿命で広範囲に均一に加熱し得
るプレートヒーター15が得られる。このために
実際の使用中にプレートヒーター15は、その表
面温度で250℃までの均一な温度分布が得られた。
プレート16が真空中に真空に晒されることがな
い。したがつて高抵抗金属プレート16が蒸発す
ることもなく、長寿命で広範囲に均一に加熱し得
るプレートヒーター15が得られる。このために
実際の使用中にプレートヒーター15は、その表
面温度で250℃までの均一な温度分布が得られた。
このプレートヒータ15の上に薄銅板で作つた
ホツトプレート19が載せられ、このホツトプレ
ート19の上に例えば太陽電池のシリコンとガラ
スとの被接着物2を載置することになる。さらに
下部真空脱気室3の被接着物2の周わりの空間に
窓枠状の脱気枠20を設けている。この脱気枠2
0および被接着物2の上面は、真空加圧時にウレ
タン膜よりなるダイヤフラム5に覆われることに
なる。
ホツトプレート19が載せられ、このホツトプレ
ート19の上に例えば太陽電池のシリコンとガラ
スとの被接着物2を載置することになる。さらに
下部真空脱気室3の被接着物2の周わりの空間に
窓枠状の脱気枠20を設けている。この脱気枠2
0および被接着物2の上面は、真空加圧時にウレ
タン膜よりなるダイヤフラム5に覆われることに
なる。
次にこのように構成された本考案の真空高温加
圧装置の作動を説明する。第1図において、ホツ
トプレート19の上に被接着物2を載せ、その周
わりに脱気枠20を置く。この被接着物2および
脱気枠20の上面にダイヤフラム5を載せて全面
を覆う。このあとに上部圧力制御室4の容器4a
をヒンジ6を中心に回動させて下部真空脱気室3
の容器3aの上面に密閉させ、図示しない締付具
によつて強く締着する。これで容器3a,3bは
真空槽1を形成することになり、その上部圧力制
御室4と下部真空脱気室3とは、被接着物2の上
面を覆うダイヤフラム5で気密に仕切られる。
圧装置の作動を説明する。第1図において、ホツ
トプレート19の上に被接着物2を載せ、その周
わりに脱気枠20を置く。この被接着物2および
脱気枠20の上面にダイヤフラム5を載せて全面
を覆う。このあとに上部圧力制御室4の容器4a
をヒンジ6を中心に回動させて下部真空脱気室3
の容器3aの上面に密閉させ、図示しない締付具
によつて強く締着する。これで容器3a,3bは
真空槽1を形成することになり、その上部圧力制
御室4と下部真空脱気室3とは、被接着物2の上
面を覆うダイヤフラム5で気密に仕切られる。
真空ポンプ9の運転によつて上部圧力制御室4
および下部真空脱気室3を真空引きするととも
に、プレートヒーター15に通電する。プレート
ヒーター15は、第2図および第3図のように全
面に配線した高抵抗金属プレート16を薄い耐高
温絶縁プレート18で一体モールドして構成して
いるため、全面にわたつて均一に加熱される。し
かもこのプレートヒーター15の加熱中に真空引
きされていても、金属プレート16はモールドさ
れ真空中に晒されていないので、金属プレート1
6が蒸発することがない。
および下部真空脱気室3を真空引きするととも
に、プレートヒーター15に通電する。プレート
ヒーター15は、第2図および第3図のように全
面に配線した高抵抗金属プレート16を薄い耐高
温絶縁プレート18で一体モールドして構成して
いるため、全面にわたつて均一に加熱される。し
かもこのプレートヒーター15の加熱中に真空引
きされていても、金属プレート16はモールドさ
れ真空中に晒されていないので、金属プレート1
6が蒸発することがない。
プレートヒーター15の均一加熱は、導熱性の
良い薄い銅板のホツトプレート19によつてさら
に倍加され、被接着物2の短時間に一定温度まで
上昇させることができる。これらの温度調整は、
通電および冷却プレート13への冷却水などの供
給によつて行なわれる。
良い薄い銅板のホツトプレート19によつてさら
に倍加され、被接着物2の短時間に一定温度まで
上昇させることができる。これらの温度調整は、
通電および冷却プレート13への冷却水などの供
給によつて行なわれる。
真空槽1内の温度が規定温度になり、この規定
温度が一定時間を継続したのち、下部真空脱気室
3を真空にしたまま、上部圧力制御室4のバルブ
8を閉じ、加圧力調整用のバルブ11を開放して
上部圧力応力制御室4を大気圧にすることによ
り、下部脱気室3の真空と上部圧力制御室4の大
気圧との圧力差による加圧力がダイヤフラム5に
加わる。したがつて被接着物2はこのダイヤフラ
ム5に加わる圧力によつてホツトプレート19の
上面に強く押しつけられ、均一で強力に接着され
る。
温度が一定時間を継続したのち、下部真空脱気室
3を真空にしたまま、上部圧力制御室4のバルブ
8を閉じ、加圧力調整用のバルブ11を開放して
上部圧力応力制御室4を大気圧にすることによ
り、下部脱気室3の真空と上部圧力制御室4の大
気圧との圧力差による加圧力がダイヤフラム5に
加わる。したがつて被接着物2はこのダイヤフラ
ム5に加わる圧力によつてホツトプレート19の
上面に強く押しつけられ、均一で強力に接着され
る。
接着の終了後に被接着物2を取り出すには、上
部応力制御室3の容器3aとダイヤフラム5とを
一緒にして、ヒンジ6を中心に回動すれば、ダイ
ヤフラム5が接着物2の第1図の左端側からはが
れるため、円滑に被接着物2を取り出すことがで
きる。
部応力制御室3の容器3aとダイヤフラム5とを
一緒にして、ヒンジ6を中心に回動すれば、ダイ
ヤフラム5が接着物2の第1図の左端側からはが
れるため、円滑に被接着物2を取り出すことがで
きる。
以上のように本考案によれば、真空槽を構成す
る上部圧力制御室容器と下部真空脱気室容器とを
ヒンジで片持ち支持するとともに、その上部圧力
制御室容器に両室を気密に仕切るダイヤフラムを
設け、さらに下部真空脱気室内に載置されるプレ
ートヒーターをその全面に配線した高抵抗金属プ
レートを薄い耐高温絶縁プレートで挾んでモール
ドして構成したことにより、プレートヒーターの
高抵抗金属が真空中に晒されないので、金属蒸気
が発することなく効率の良い真空脱気を行なわ
れ、また全面に均一配線によりその上のホツトプ
レートの導熱性と協力して均一な温度分布のもと
に被接着物を加熱することができ、かつ安定に均
一な加応力でもつて被接着物を接着することがで
きる。また上部圧力制御容器と下部真空脱気室容
器とがヒンジで片持ち支持されているので、加圧
後の上部圧力制御容器を開いてダイヤフラムが被
接着物をくつつけて開くことなく、被接着物をス
ムースに取り出すことができるなどの利点を有す
る。
る上部圧力制御室容器と下部真空脱気室容器とを
ヒンジで片持ち支持するとともに、その上部圧力
制御室容器に両室を気密に仕切るダイヤフラムを
設け、さらに下部真空脱気室内に載置されるプレ
ートヒーターをその全面に配線した高抵抗金属プ
レートを薄い耐高温絶縁プレートで挾んでモール
ドして構成したことにより、プレートヒーターの
高抵抗金属が真空中に晒されないので、金属蒸気
が発することなく効率の良い真空脱気を行なわ
れ、また全面に均一配線によりその上のホツトプ
レートの導熱性と協力して均一な温度分布のもと
に被接着物を加熱することができ、かつ安定に均
一な加応力でもつて被接着物を接着することがで
きる。また上部圧力制御容器と下部真空脱気室容
器とがヒンジで片持ち支持されているので、加圧
後の上部圧力制御容器を開いてダイヤフラムが被
接着物をくつつけて開くことなく、被接着物をス
ムースに取り出すことができるなどの利点を有す
る。
第1図は本考案の真空高温加圧装置の一実施例
を示す概略構成図、第2図は本考案に使用するプ
レートヒーターを示す平面図、第3図は第2図
−線に沿う断面図である。 1……真空槽、2……被接着物、3……下部真
空脱気室、3a……下部真空脱気容器、4……上
部圧力制御室、4a……上部応力制御室容器、5
……ダイヤフラム、6……ヒンジ、9……真空ポ
ンプ、13……冷却プレート、15……プレート
ヒーター、16……高抵抗金属プレート、17…
…口出線、18……耐高温絶縁プレート、20…
…脱気枠。
を示す概略構成図、第2図は本考案に使用するプ
レートヒーターを示す平面図、第3図は第2図
−線に沿う断面図である。 1……真空槽、2……被接着物、3……下部真
空脱気室、3a……下部真空脱気容器、4……上
部圧力制御室、4a……上部応力制御室容器、5
……ダイヤフラム、6……ヒンジ、9……真空ポ
ンプ、13……冷却プレート、15……プレート
ヒーター、16……高抵抗金属プレート、17…
…口出線、18……耐高温絶縁プレート、20…
…脱気枠。
Claims (1)
- 真空槽をヒンジで片持ち支持された上部圧力制
御室を形成する容器と下部真空脱気室を形成する
容器とで構成し、その下部真空脱気室内に冷却媒
体通路を有する冷却プレート、全面に配線した高
抵抗金属プレートを薄い耐高温絶縁プレートで挾
んでモールドしたプレートヒーターおよび導熱性
の良い薄板のホツトプレートの順に載置するとと
もに、加圧時にそのホツトプレートの上に被接着
物とその周わりを仕切る脱気枠を置き、さらに加
圧時に被接着物および脱気枠を覆うて下部真空脱
気室と上部圧力制御室とを気密に仕切るダイヤフ
ラムを上部圧力制御室の開口部に設け、その上部
圧力制御室および下部真空脱気室に温度、真空度
および圧力を制御する真空ポンプなどの制御源を
設けたことを特徴とする真空高温加圧装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3258287U JPH024796Y2 (ja) | 1987-03-07 | 1987-03-07 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3258287U JPH024796Y2 (ja) | 1987-03-07 | 1987-03-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63145592U JPS63145592U (ja) | 1988-09-26 |
JPH024796Y2 true JPH024796Y2 (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=30839398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3258287U Expired JPH024796Y2 (ja) | 1987-03-07 | 1987-03-07 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH024796Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-03-07 JP JP3258287U patent/JPH024796Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63145592U (ja) | 1988-09-26 |
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