JPH024253A - 水なし感光性平版印刷版 - Google Patents
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- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷版
を作成し得るポジ型水なし感光性平版印刷版に関し、特
に、シリコーンゴム層をインキ反発層とするポジ型水な
し感光性平版印刷版に関するものである。
を作成し得るポジ型水なし感光性平版印刷版に関し、特
に、シリコーンゴム層をインキ反発層とするポジ型水な
し感光性平版印刷版に関するものである。
水なし平版印刷とは、画線部をインキ受容性、非画線部
をインキ反発性とし、インキの付着性の差異を利用して
、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの被印
刷体にインキを転写して印刷する平版印刷方法において
、非画線部がシリコーンゴムなどのインキ反発性を有す
る物質層からなり、湿し水を用いずに印刷可能であるこ
とを特徴とする印刷方法である。
をインキ反発性とし、インキの付着性の差異を利用して
、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの被印
刷体にインキを転写して印刷する平版印刷方法において
、非画線部がシリコーンゴムなどのインキ反発性を有す
る物質層からなり、湿し水を用いずに印刷可能であるこ
とを特徴とする印刷方法である。
この水なし平版印刷に用いる印刷版としては、インキ反
発層としてシリコーンゴム層を有するものが、数多く提
案されており、基板、感光層、シリコーンゴム層がこの
順に設けられたもの(シリコーンゴム上層型)及び基板
、シリコーンゴム層、感光層がこの順に設けられたもの
(シリコーンゴム下層型)、更に、基板、感光性シリコ
ーンゴム層からなるものが知られている。
発層としてシリコーンゴム層を有するものが、数多く提
案されており、基板、感光層、シリコーンゴム層がこの
順に設けられたもの(シリコーンゴム上層型)及び基板
、シリコーンゴム層、感光層がこの順に設けられたもの
(シリコーンゴム下層型)、更に、基板、感光性シリコ
ーンゴム層からなるものが知られている。
一般に、水なし感光性平版印刷版を得るためには、イン
キ反発性の大きいシリコーンゴム層を設ける必要がある
が、これは、その性質上、他の物質に対しては、良い接
着性を示さない。
キ反発性の大きいシリコーンゴム層を設ける必要がある
が、これは、その性質上、他の物質に対しては、良い接
着性を示さない。
従って、この感光性平版印刷版から得られた水なし平版
印刷版は、インキ反発性が良好でも、感光層とシリコー
ンゴム層との接着性が不十分であったり、接着性が良好
でも、インキ反発性が不十分であったりする。
印刷版は、インキ反発性が良好でも、感光層とシリコー
ンゴム層との接着性が不十分であったり、接着性が良好
でも、インキ反発性が不十分であったりする。
特開昭ゲタ−73202号公報、特開昭弘ター7770
2号公報、特開昭ゲタ−g6103号公報などに、感光
層中、あるいはシリコーンゴム層中に、シリコーンプラ
イマーやシランカップリング剤を含有させ、感光層とシ
リコーンゴム層との接着性を向上させることが提案され
ているが、いずれも、インキ反発性は不十分でおる。
2号公報、特開昭ゲタ−g6103号公報などに、感光
層中、あるいはシリコーンゴム層中に、シリコーンプラ
イマーやシランカップリング剤を含有させ、感光層とシ
リコーンゴム層との接着性を向上させることが提案され
ているが、いずれも、インキ反発性は不十分でおる。
特に、前記シリコーンゴム下層型の場合、感光層とシリ
コーン・ゴム層と間の接着性が向上しても、感光層が現
像により十分に除去されずシリコーンゴム層表面のイン
ク反発性が低下し、印刷時、地汚れの原因となる。この
ような地汚れを引き起こす汚染層を除去するために、特
公昭4 /−473号公報には、現像液として炭素数よ
−20の脂肪族炭化水素の7種又は2種以上を主成分で
あるものを用いることが提案されているが、このような
有機溶剤を主成分とする現像液は、環境汚染問題を起こ
し易く、又現像処理装置の材質なども限られてしまうな
ど、種々の点で問題がある。
コーン・ゴム層と間の接着性が向上しても、感光層が現
像により十分に除去されずシリコーンゴム層表面のイン
ク反発性が低下し、印刷時、地汚れの原因となる。この
ような地汚れを引き起こす汚染層を除去するために、特
公昭4 /−473号公報には、現像液として炭素数よ
−20の脂肪族炭化水素の7種又は2種以上を主成分で
あるものを用いることが提案されているが、このような
有機溶剤を主成分とする現像液は、環境汚染問題を起こ
し易く、又現像処理装置の材質なども限られてしまうな
ど、種々の点で問題がある。
本発明者は、感光層とシリコーンゴム層との接着性が良
好であり、かつ、インキ反発性が良好であり、更に、イ
ンキ着肉性も優れたシリコーンゴム下層型のポジ型水な
し感光性平版印刷版を得ることを目的として鋭意研究を
重ねた結果、特定構造を有する高分子化合物を感光層に
適用すると上記目的を達成できることを見出し、本発明
に到達した。
好であり、かつ、インキ反発性が良好であり、更に、イ
ンキ着肉性も優れたシリコーンゴム下層型のポジ型水な
し感光性平版印刷版を得ることを目的として鋭意研究を
重ねた結果、特定構造を有する高分子化合物を感光層に
適用すると上記目的を達成できることを見出し、本発明
に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、基板、シリコーンゴム層及
び、感光層がこの順に設けられたポジ型水なし感光性平
版印刷版において、該感光層が、オルトキノンジアジド
化合物及び下記一般式〔I〕で表わされる構造単位を/
−30モルチ有する高分子化合物を含有することを特徴
とするポジ型水なし感光性平版印刷版に存する。
び、感光層がこの順に設けられたポジ型水なし感光性平
版印刷版において、該感光層が、オルトキノンジアジド
化合物及び下記一般式〔I〕で表わされる構造単位を/
−30モルチ有する高分子化合物を含有することを特徴
とするポジ型水なし感光性平版印刷版に存する。
(式中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xはアルキ
レン基であシ、nは0又は/の数を示し、 Yはアルキル基又はアルコキシ基で1)、mは0−jの
数を示す。) 以下、本発明の詳細な説明する。
レン基であシ、nは0又は/の数を示し、 Yはアルキル基又はアルコキシ基で1)、mは0−jの
数を示す。) 以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の感光層に用いられるオルトキノンジアジド化合
物は目的に合致するものであればいずれでも使用できる
が、例えば、フェノール類及びアルデヒド類又はケトン
類の重縮合樹脂と下記−数式(n)又は−数式(III
)(式中Xは一8OzYまたは−COYで示される基で
、Yは除去し得る基を意味する)で表わされるオルトキ
ノンジアジドスルホン酸又はカルボン酸誘導体とを化学
的に縮合させることにより得られるオルトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル又はカルボン酸エステルが挙げら
れる。
物は目的に合致するものであればいずれでも使用できる
が、例えば、フェノール類及びアルデヒド類又はケトン
類の重縮合樹脂と下記−数式(n)又は−数式(III
)(式中Xは一8OzYまたは−COYで示される基で
、Yは除去し得る基を意味する)で表わされるオルトキ
ノンジアジドスルホン酸又はカルボン酸誘導体とを化学
的に縮合させることにより得られるオルトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル又はカルボン酸エステルが挙げら
れる。
上記−数式(II)で表わされる化合物の具体例として
は、/、コーペンゾキノンジアジド(2) −a−スル
ホニルクロリド、/、2−ベンゾキノンジアジド(,2
)−≠−カルボニルクロリド、/、2−ベンゾキノ/ジ
アジド(,2) −1−スルホニ/L/ りo IJド
、/、2−ベンゾキノンジアジド(J) −3−カルボ
ニルクロリドなどが挙げられる。上記一般式〔I〕で表
わされる化合物の具体例としては、/、2−ナフトキノ
ンジアジド(2)−4−スルホニルクロリド、/、2−
ナフトキノンジアジド(2)−弘−カルボニルクロリド
、/、2−ナフトキノンジアジド(,2) −j−スル
ホニルクロリド、/、2−ナフトキノンジアジド(2)
−j−カルボニルクロリドなどが挙げられる。
は、/、コーペンゾキノンジアジド(2) −a−スル
ホニルクロリド、/、2−ベンゾキノンジアジド(,2
)−≠−カルボニルクロリド、/、2−ベンゾキノ/ジ
アジド(,2) −1−スルホニ/L/ りo IJド
、/、2−ベンゾキノンジアジド(J) −3−カルボ
ニルクロリドなどが挙げられる。上記一般式〔I〕で表
わされる化合物の具体例としては、/、2−ナフトキノ
ンジアジド(2)−4−スルホニルクロリド、/、2−
ナフトキノンジアジド(2)−弘−カルボニルクロリド
、/、2−ナフトキノンジアジド(,2) −j−スル
ホニルクロリド、/、2−ナフトキノンジアジド(2)
−j−カルボニルクロリドなどが挙げられる。
フェノール類及びアルデヒド類又はケトン類の重縮合樹
脂としては、例えば、特公昭13−2ざu03号公報に
記載されている如く、ピロガロールとアセトンの重縮合
物、特開昭!j−7AJFA号公報に記載されている如
く、ピロガロールとレゾルシンの混合物とアセトンの重
縮合物、特公昭弘!−7610号公報に記載されている
如く、フェノール・ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂
あるいは、メタクレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラ
ック樹脂、特公昭!0−rotJ号公報に記載されてい
る如く、パラ置換フェノール・ホルマリン樹脂(例えば
、パラクレゾール・ホルマリン樹脂、パラーLブチルフ
ェノール・ホルマリン樹脂、パラエチルフェノール・ホ
ルマリン樹脂、パラプロピルフェノール曝ホルマリン樹
脂、バライソプロピルフェノール中ホルマリン樹脂、パ
ラ−n−ブチルフェノール・ホルマリン樹脂、パラオク
チルフェノール・ホルマリン樹脂など)特公昭62−6
0≠07号公報に記載されている如く、炭素原子数3〜
/2のアルキル基又はフェニル基置換フェノールとフェ
ノール又はそのメチル置換体あるいはこれらの混合物と
をモル比l:り〜デ:/で含むフェノール類混合物とホ
ルムアルデヒドの重縮合物(例えば、前記パラ置換フェ
ノールとフェノール・パラクレゾール、メタクレゾール
又はオルトクレゾールの重縮合物など)などが挙げられ
る。
脂としては、例えば、特公昭13−2ざu03号公報に
記載されている如く、ピロガロールとアセトンの重縮合
物、特開昭!j−7AJFA号公報に記載されている如
く、ピロガロールとレゾルシンの混合物とアセトンの重
縮合物、特公昭弘!−7610号公報に記載されている
如く、フェノール・ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂
あるいは、メタクレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラ
ック樹脂、特公昭!0−rotJ号公報に記載されてい
る如く、パラ置換フェノール・ホルマリン樹脂(例えば
、パラクレゾール・ホルマリン樹脂、パラーLブチルフ
ェノール・ホルマリン樹脂、パラエチルフェノール・ホ
ルマリン樹脂、パラプロピルフェノール曝ホルマリン樹
脂、バライソプロピルフェノール中ホルマリン樹脂、パ
ラ−n−ブチルフェノール・ホルマリン樹脂、パラオク
チルフェノール・ホルマリン樹脂など)特公昭62−6
0≠07号公報に記載されている如く、炭素原子数3〜
/2のアルキル基又はフェニル基置換フェノールとフェ
ノール又はそのメチル置換体あるいはこれらの混合物と
をモル比l:り〜デ:/で含むフェノール類混合物とホ
ルムアルデヒドの重縮合物(例えば、前記パラ置換フェ
ノールとフェノール・パラクレゾール、メタクレゾール
又はオルトクレゾールの重縮合物など)などが挙げられ
る。
フェノール類及びアルデヒド類又はケトン類の重縮合樹
脂の水酸基に対するオルトキノンジアジド基のエステル
化率は、/j−100モル係が好ましく、20〜10モ
ルチがより好ましい。
脂の水酸基に対するオルトキノンジアジド基のエステル
化率は、/j−100モル係が好ましく、20〜10モ
ルチがより好ましい。
更に本発明に用いられるオルトキノンジアジド化合物と
して、ポリヒドロキシベンゾフェノンのオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルが挙げられる。
して、ポリヒドロキシベンゾフェノンのオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルが挙げられる。
このポリヒドロキシベンゾフェノンは、ベンゾフェノン
の水素原子2個以上を水酸基に置換してなる化合物、例
えばジヒドロキシイ/シフエノン、トリヒドロキシベン
ゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノ/、ヘンタ
ヒドロキシペンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾフ
ェノン、又はその誘導体(例えばハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、カルボキシル基の置
換体)等が挙げられる。好ましくハトリヒドロキシベン
ゾフエノン又はテトラヒドロキシベンゾフェノンであり
、よす好ましく 1d−2,3,ψ−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、λ、3.≠、l′−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノンが挙げられる。
の水素原子2個以上を水酸基に置換してなる化合物、例
えばジヒドロキシイ/シフエノン、トリヒドロキシベン
ゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノ/、ヘンタ
ヒドロキシペンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾフ
ェノン、又はその誘導体(例えばハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、カルボキシル基の置
換体)等が挙げられる。好ましくハトリヒドロキシベン
ゾフエノン又はテトラヒドロキシベンゾフェノンであり
、よす好ましく 1d−2,3,ψ−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、λ、3.≠、l′−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノンが挙げられる。
このポリヒドロキシベンゾフェノンのオルトナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルは、例えば、前記ポリヒ
ドロキシベンゾフェノンと/、2−ナフトキノンジアジ
ド(L2) −j−スルホニルクロリド、/、2−ナフ
トキノンジアジド(コ)−グースルホニルクロリドなど
とを炭酸アルカリまたはトリエチルアミン等を触媒にし
て、公知の方法で合成することができる。エステル化率
は、30〜100%が好ましい。
ンジアジドスルホン酸エステルは、例えば、前記ポリヒ
ドロキシベンゾフェノンと/、2−ナフトキノンジアジ
ド(L2) −j−スルホニルクロリド、/、2−ナフ
トキノンジアジド(コ)−グースルホニルクロリドなど
とを炭酸アルカリまたはトリエチルアミン等を触媒にし
て、公知の方法で合成することができる。エステル化率
は、30〜100%が好ましい。
更に本発明に用いられるオルトキノンジアジド化合物と
しては、ジェイ・コサール(J。
しては、ジェイ・コサール(J。
Kosar)著「ライト・センシティブ システム」(
”Light−8ensitive Systems
)第337〜310頁(lり6j年)、ジョン・ウィ
リーアンド サンズ(John Wiley & 5o
ns )社 にューヨーク)やダブりニー・ニス・デイ
−・フォレスト(W、 S、 D、 Forest )
著 「フォトレジストJ (”Photoresist
”)第10巻、(lり7j年)、マグローヒ/l/ (
Me Graw−Hill )社にューヨーク)に記載
されている/、2−ベンゾキノンジアジド(2)−μm
スルホン酸フェニルエステル、ビス(/、2−ベンゾキ
ノンジアジド(2) −≠−スルホニル)−ジヒドロキ
シビフェニル、/、2−ベンゾキノンジアジド(2)−
弘−(N−エチル−N−β−ナフチル)−スルホンアミ
ド、/、2−ナフトキノンジアジド(,2) −7−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、/−(/、2−fフ
トキノンジアジド(z)−s−スルホニル) −J、j
−ジメチルピラゾール、/、2−ナフトキノンジアジド
(J −s−スルホン酸−グ“−ヒドロキシジフェニル
−ψ“−アゾ−β−ナフトールエステル、N、N−ジー
(/、2−ナフトキノンジアジド(−2) −j−スル
ホニル)−アニリン、J’−(/、2−ナフトキノンジ
アジド(J−j−スルホニルオキシ)−/−ヒドロキシ
−アントラキノン、l、2−ナフトキノンジアジド(2
)−s−スルホン酸クロリド2モルとび、l′−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルの縮合物、/、2−ナフトキノ
ンジアジド(−2) −j−スルホン酸クロリド2モル
と弘、弘′−ジヒドロキシー1,7′−ジフェニルスル
ホン1モルの縮合物、l、2−ナフトキノンジアジド(
,2) −!r−スルホン酸ジクロリド7モルプルプロ
ガリン1モルの縮合物、l、2−ナフトキノンジアジド
(−2) −j−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホ
ンアミドなどの/、2−キノンジアジド化合物を挙げる
ことができる。
”Light−8ensitive Systems
)第337〜310頁(lり6j年)、ジョン・ウィ
リーアンド サンズ(John Wiley & 5o
ns )社 にューヨーク)やダブりニー・ニス・デイ
−・フォレスト(W、 S、 D、 Forest )
著 「フォトレジストJ (”Photoresist
”)第10巻、(lり7j年)、マグローヒ/l/ (
Me Graw−Hill )社にューヨーク)に記載
されている/、2−ベンゾキノンジアジド(2)−μm
スルホン酸フェニルエステル、ビス(/、2−ベンゾキ
ノンジアジド(2) −≠−スルホニル)−ジヒドロキ
シビフェニル、/、2−ベンゾキノンジアジド(2)−
弘−(N−エチル−N−β−ナフチル)−スルホンアミ
ド、/、2−ナフトキノンジアジド(,2) −7−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、/−(/、2−fフ
トキノンジアジド(z)−s−スルホニル) −J、j
−ジメチルピラゾール、/、2−ナフトキノンジアジド
(J −s−スルホン酸−グ“−ヒドロキシジフェニル
−ψ“−アゾ−β−ナフトールエステル、N、N−ジー
(/、2−ナフトキノンジアジド(−2) −j−スル
ホニル)−アニリン、J’−(/、2−ナフトキノンジ
アジド(J−j−スルホニルオキシ)−/−ヒドロキシ
−アントラキノン、l、2−ナフトキノンジアジド(2
)−s−スルホン酸クロリド2モルとび、l′−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルの縮合物、/、2−ナフトキノ
ンジアジド(−2) −j−スルホン酸クロリド2モル
と弘、弘′−ジヒドロキシー1,7′−ジフェニルスル
ホン1モルの縮合物、l、2−ナフトキノンジアジド(
,2) −!r−スルホン酸ジクロリド7モルプルプロ
ガリン1モルの縮合物、l、2−ナフトキノンジアジド
(−2) −j−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホ
ンアミドなどの/、2−キノンジアジド化合物を挙げる
ことができる。
本発明に用いられるオルトキノンジアジド化合物として
は上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組
合わせて用いてもよい。
は上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組
合わせて用いてもよい。
上記に挙げたこれらのオルトキノンジアジド化合物のな
かで、、2.J、弘−)リヒドロキシペンゾフェノンの
/、2−ナフトキノンジアジド(−2) −j−スルホ
ン酸エステル又は/、2−ナフトキノンジアジド(2)
−μmスルホ/酸エステル、メタクレゾール・ホルムア
ルデヒド・ノボラック樹脂の/、2−ナフトキノンジア
ジド(2)−S−スルホン酸エステル又は/、2−ナフ
トキノンシアシト(,2) −4<−スルホン酸エステ
ル、アルいハ、これらの混合物を用いたときより好まし
い結果が得られる。
かで、、2.J、弘−)リヒドロキシペンゾフェノンの
/、2−ナフトキノンジアジド(−2) −j−スルホ
ン酸エステル又は/、2−ナフトキノンジアジド(2)
−μmスルホ/酸エステル、メタクレゾール・ホルムア
ルデヒド・ノボラック樹脂の/、2−ナフトキノンジア
ジド(2)−S−スルホン酸エステル又は/、2−ナフ
トキノンシアシト(,2) −4<−スルホン酸エステ
ル、アルいハ、これらの混合物を用いたときより好まし
い結果が得られる。
本発明の水なし感光性平版印刷版の感光層中に含有させ
る前記−数式(1)により表わされる構造単位を有する
高分子化合物は、下記−数式(IV)により表わされる
単量体から誘導される巣位を/〜30モルチ、より好ま
しくは、!−20モルチ含有する。
る前記−数式(1)により表わされる構造単位を有する
高分子化合物は、下記−数式(IV)により表わされる
単量体から誘導される巣位を/〜30モルチ、より好ま
しくは、!−20モルチ含有する。
(IV)
(式中、Rは水素原子、又はメチル基であり、Xはメチ
レン基、エチレン基等のアルキレン基であり、nはO又
はlの数を示し、Yは、炭素数/〜弘のアルキル基等の
アルキル基又は炭素数l−弘のアルコキシ基等のアルコ
キシ基であり、 mは0−jの数を示す。) 上記−数式(IV)により表わされる単量体の具体例と
しては、例えば、N−フェニルメタクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N −(3−メチルフェニル
)メタクリルアミド、N−(3−メチルフェニル)アク
リルアミド、N−(3−メトキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(3−メトキシフェニル)アクリルアミド
、N−(u−エチルフェニル)メタクリルアミド、N−
(≠−エチルフェニル)アクリルアミド、N−(≠−エ
トキシ′フェニル)メタクリルアミド、N−(p−エト
キシフェニル)アクリルアミド、N−(≠−ブチルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(u−ブチルフェニル)
アクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−
ベンジルアクリルアミド、N−(≠−メチルベンジル)
メタクリルアミド、N−(≠−メチルベンジル)アクリ
ルアミド、N−(≠−メトキシベンジル)メタクリルア
ミド、N−(p−メトキシベンジル)アクリルアミド、
N−(j−エチルベンジル)メタクリルアミド、N−(
j−エチルベンジル)アクリルアミド、N−(j−エト
キシベンジル)メタクリルアミド、N−(3−エトキシ
ベンジル)アクリルアミド、N−(弘−ブチルベンジル
)メタクリルアミド、N−(p−ブチルベンジル)アク
リルアミドなどが挙げられる。これらの中で好ましいも
のは、N−7エニルメタクリルアミド、N−(J−メト
キシフェニル)メタクリルアミド、N−(<c−メトキ
シフェニル)メタクリルアミドである。
レン基、エチレン基等のアルキレン基であり、nはO又
はlの数を示し、Yは、炭素数/〜弘のアルキル基等の
アルキル基又は炭素数l−弘のアルコキシ基等のアルコ
キシ基であり、 mは0−jの数を示す。) 上記−数式(IV)により表わされる単量体の具体例と
しては、例えば、N−フェニルメタクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N −(3−メチルフェニル
)メタクリルアミド、N−(3−メチルフェニル)アク
リルアミド、N−(3−メトキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(3−メトキシフェニル)アクリルアミド
、N−(u−エチルフェニル)メタクリルアミド、N−
(≠−エチルフェニル)アクリルアミド、N−(≠−エ
トキシ′フェニル)メタクリルアミド、N−(p−エト
キシフェニル)アクリルアミド、N−(≠−ブチルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(u−ブチルフェニル)
アクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−
ベンジルアクリルアミド、N−(≠−メチルベンジル)
メタクリルアミド、N−(≠−メチルベンジル)アクリ
ルアミド、N−(≠−メトキシベンジル)メタクリルア
ミド、N−(p−メトキシベンジル)アクリルアミド、
N−(j−エチルベンジル)メタクリルアミド、N−(
j−エチルベンジル)アクリルアミド、N−(j−エト
キシベンジル)メタクリルアミド、N−(3−エトキシ
ベンジル)アクリルアミド、N−(弘−ブチルベンジル
)メタクリルアミド、N−(p−ブチルベンジル)アク
リルアミドなどが挙げられる。これらの中で好ましいも
のは、N−7エニルメタクリルアミド、N−(J−メト
キシフェニル)メタクリルアミド、N−(<c−メトキ
シフェニル)メタクリルアミドである。
本発明の高分子化合物は、前記−数式(IV)で表わさ
れる単量体と下記の様な付加重合性不飽和化合物とを共
重合することによって得られる。
れる単量体と下記の様な付加重合性不飽和化合物とを共
重合することによって得られる。
他の付加重合性不飽和化合物としては、付加重合性不飽
和結合を/個有する化合物であって、−数式(F/)で
表わされる構造を有しない化合物が挙げられる。具体的
には、例えば、 (A) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アブ クリル酸とロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸t−オクチル、
アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸コ、2−ジメ
チルー3−ヒドロキシグロビル、アクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸よ一ヒドロキシペンチル、トリ
メチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリ
トールモノアクリレート、アクリル酸グリシジル、アク
リル酸ヘンシル、アクリル酸弘−メトキシペンジル、ア
クリル酸フルフリル、アクリル酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸フェニルなどのアクリル酸エステル類。
和結合を/個有する化合物であって、−数式(F/)で
表わされる構造を有しない化合物が挙げられる。具体的
には、例えば、 (A) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アブ クリル酸とロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸t−オクチル、
アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸コ、2−ジメ
チルー3−ヒドロキシグロビル、アクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸よ一ヒドロキシペンチル、トリ
メチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリ
トールモノアクリレート、アクリル酸グリシジル、アク
リル酸ヘンシル、アクリル酸弘−メトキシペンジル、ア
クリル酸フルフリル、アクリル酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸フェニルなどのアクリル酸エステル類。
(B) メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オ
クチル、メタクリル酸コーヒドロキシエチル、メタクリ
ル酸よ一ヒドロキシペンチル、メタクリル酸2−クロロ
エチル、メタクリル酸2.2−ジメチル−3−ヒドロキ
シプロピル、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ぺ/タエリスリトールモノメタクリレート、メタク
リル酸グリシジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
酸弘−メトキシベンジル、メタクリル酸フルフリル、メ
タクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸フェ
ニルなどのメタクリル酸エステル類。
メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オ
クチル、メタクリル酸コーヒドロキシエチル、メタクリ
ル酸よ一ヒドロキシペンチル、メタクリル酸2−クロロ
エチル、メタクリル酸2.2−ジメチル−3−ヒドロキ
シプロピル、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ぺ/タエリスリトールモノメタクリレート、メタク
リル酸グリシジル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
酸弘−メトキシベンジル、メタクリル酸フルフリル、メ
タクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸フェ
ニルなどのメタクリル酸エステル類。
(C) N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−イソプロ
ピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−
シクロヘキシルアクリルアミド、N−(2−ヒドロキシ
エチル)アクリルアミド、N−(<t−ヒドロキシエチ
ル)アクリルアミド、N、N−ジメチルアクリルアミド
、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(2
−ヒドロキシエチル)−N−メチルアクリルアミドなど
のアクリルアミド類。
ルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−イソプロ
ピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−
シクロヘキシルアクリルアミド、N−(2−ヒドロキシ
エチル)アクリルアミド、N−(<t−ヒドロキシエチ
ル)アクリルアミド、N、N−ジメチルアクリルアミド
、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(2
−ヒドロキシエチル)−N−メチルアクリルアミドなど
のアクリルアミド類。
(D) N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタ
クリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−イ
ソプロピルメタクリルアミド、N −7”チルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−
(44−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N、
N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N −エ
チルメタクリルアミド、N−メチル−N −フェニルメ
タクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
エチルメタクリルアミドなどのメタクリルアミド類。
クリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−イ
ソプロピルメタクリルアミド、N −7”チルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−
(44−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N、
N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N −エ
チルメタクリルアミド、N−メチル−N −フェニルメ
タクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
エチルメタクリルアミドなどのメタクリルアミド類。
(E)酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、アリ
ルオキシエタノールなどのアリル化合物。
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、アリ
ルオキシエタノールなどのアリル化合物。
(F) メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエ
チルビニルエーテル、/−メチル−、!、J −ジメチ
ルプロピルビニルエーテル、2−ヒドロ−キシエチルビ
ニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、2−エチルヘ
キシルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニ
ルエーテル類。
チルビニルエーテル、/−メチル−、!、J −ジメチ
ルプロピルビニルエーテル、2−ヒドロ−キシエチルビ
ニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、2−エチルヘ
キシルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニ
ルエーテル類。
(G)安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなどのビニル
エステル類。
エステル類。
(H)スチレン、l−メチルスチレン、3.j−、)メ
チルスチレン、a−メチルスチレン、クークロロメチル
スチレ/、ψ−エトキシメチルスチレン、ψ−メトキシ
スチレン、≠−メトキシー3−メチルスチレン、弘−p
ロロスチレン、3−ブロモスチレンなどのスチレン類。
チルスチレン、a−メチルスチレン、クークロロメチル
スチレ/、ψ−エトキシメチルスチレン、ψ−メトキシ
スチレン、≠−メトキシー3−メチルスチレン、弘−p
ロロスチレン、3−ブロモスチレンなどのスチレン類。
(1) クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどの
クロトン酸エステル類。
クロトン酸エステル類。
(J) イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチルな
どのイタコン酸ジエステル類。
どのイタコン酸ジエステル類。
(K) N−ビニルビロール、N−ビニルピロリドンな
どのN−ビニル化合物。
どのN−ビニル化合物。
(L)その他アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニト
リル、メタクリロニトリルなど。
リル、メタクリロニトリルなど。
更に、前記−数式(IV)で表わされる単量体と共重合
可能でちる付加重合性不飽和化合物であればよい。
可能でちる付加重合性不飽和化合物であればよい。
このような付加重合性不飽和化合物の1種類あるいは2
種類以上と一般式(IV)で表わされる単量体とを共重
合させて得た高分子化合物を本発明で用いるが、重合体
としては、ブロック体、ランダム体、グラフト体などい
ずれも用いることができる。−数式(IV)で表わされ
る薬量体と共重合させる成分としては、アクリル酸メチ
ル、エステ アクリル酸エチルなどのアクリル酸≠−傘ル類、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸2−
ヒドロキシエチルなどのメタクリル酸エステル類、N−
(≠−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−メ
チルメタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、メタ
クリル酸、アクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリルが総合的にみて優れた性能を示し、好ましい。
種類以上と一般式(IV)で表わされる単量体とを共重
合させて得た高分子化合物を本発明で用いるが、重合体
としては、ブロック体、ランダム体、グラフト体などい
ずれも用いることができる。−数式(IV)で表わされ
る薬量体と共重合させる成分としては、アクリル酸メチ
ル、エステ アクリル酸エチルなどのアクリル酸≠−傘ル類、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸2−
ヒドロキシエチルなどのメタクリル酸エステル類、N−
(≠−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−メ
チルメタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、メタ
クリル酸、アクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリルが総合的にみて優れた性能を示し、好ましい。
本発明で用いる高分子化合物としては、前記−数式(I
V)で表わされる単量体/〜10モルチ、アクリル酸=
ル類及び/又はメタクリル酸エステル類及び/又はメタ
クリルアミド類70〜70モルチ、アクリロニトリル又
はメタクリロニトリルO〜弘θモルチ、アクリル酸又は
メタクリル酸0−70モルチを共重合させて得た高分子
化合物が最も好ましい。
V)で表わされる単量体/〜10モルチ、アクリル酸=
ル類及び/又はメタクリル酸エステル類及び/又はメタ
クリルアミド類70〜70モルチ、アクリロニトリル又
はメタクリロニトリルO〜弘θモルチ、アクリル酸又は
メタクリル酸0−70モルチを共重合させて得た高分子
化合物が最も好ましい。
本発明で用いられる高分子化合物の分子量は、ケルパー
ミェーションクロマトグラフィ(以下、GPCと略す)
から測定して、重量平均分子量で約1万〜100万が適
当であり、好ましくは、約3万〜30万の範囲である。
ミェーションクロマトグラフィ(以下、GPCと略す)
から測定して、重量平均分子量で約1万〜100万が適
当であり、好ましくは、約3万〜30万の範囲である。
本発明の水なし感光性平版印刷版において、オルトキノ
ンジアジド化合物の感光層中に占める割合は、j−40
重量%が好ましく、20〜SO重量%がより好ましい。
ンジアジド化合物の感光層中に占める割合は、j−40
重量%が好ましく、20〜SO重量%がより好ましい。
又、前記一般式〔I〕で表わされる構造単位を有する高
分子化合物の感光層中に占める割合は、go〜ヂオ重量
%が好ましく、夕o 、 t o重量%がより好ましい
。
分子化合物の感光層中に占める割合は、go〜ヂオ重量
%が好ましく、夕o 、 t o重量%がより好ましい
。
本発明の水なし感光性平版印刷版の感光層中には、露光
可視画付与剤及び色素を含有させることが有利である。
可視画付与剤及び色素を含有させることが有利である。
露光可視画付与剤としては、露光により酸を発生する物
質、色素としてはこの酸と塩を形成する化合物を用いる
。
質、色素としてはこの酸と塩を形成する化合物を用いる
。
露光により酸を発生する化合物としては、下記−数式で
表されるトリハロアルキル化合物が好ましい。
表されるトリハロアルキル化合物が好ましい。
(ただし、Xaは炭素原子数/〜3のトリハロアルキル
基であり、WはN又はPであり、Zは0、S又はSeで
あり、YはWと2を環化させるとともに発色団を有する
基である。)具体的な化合物としては、 等のベンゾフラン環を有するオキサジアソ゛−ル化合物
、特開昭!IA−717721号公報に記載されている
λ−トリクロロメチルー3−(#−メトキシスチリル)
−/、3.≠−オキサジアゾール化合物等が挙げられる
。
基であり、WはN又はPであり、Zは0、S又はSeで
あり、YはWと2を環化させるとともに発色団を有する
基である。)具体的な化合物としては、 等のベンゾフラン環を有するオキサジアソ゛−ル化合物
、特開昭!IA−717721号公報に記載されている
λ−トリクロロメチルー3−(#−メトキシスチリル)
−/、3.≠−オキサジアゾール化合物等が挙げられる
。
また、特開昭53−31,223号公報に記載されてい
る≠−(2,弘−ジメトキシ−弘−スチリル)−4−ト
リクロロメチル−2−ピロン化合物、2.≠−ビスー(
トリクロロメチル)−6−(≠−メトキシスチリル)−
8−)リアジン化合物、2.IA−ビス−(トリクロロ
メチル)−6−(弘−ジメチルアミノスチリル)−S−
トリアジン化合物等が挙げられる。
る≠−(2,弘−ジメトキシ−弘−スチリル)−4−ト
リクロロメチル−2−ピロン化合物、2.≠−ビスー(
トリクロロメチル)−6−(≠−メトキシスチリル)−
8−)リアジン化合物、2.IA−ビス−(トリクロロ
メチル)−6−(弘−ジメチルアミノスチリル)−S−
トリアジン化合物等が挙げられる。
露光可視画付与剤の添加量は、感光層中0.0 /〜i
o重量%であるのが好ましく、より好ましくは0./〜
3M量−である。
o重量%であるのが好ましく、より好ましくは0./〜
3M量−である。
一方、色素としては一般に酸により塩を形成する化合物
であればいずれ、も使用可能であり、例えばトリフェニ
ルメタン系染料、シアニン染料、ジアゾ染料、スチリル
染料等が挙げられる。
であればいずれ、も使用可能であり、例えばトリフェニ
ルメタン系染料、シアニン染料、ジアゾ染料、スチリル
染料等が挙げられる。
具体的にはビクトリアピュアブルーBOH、エチルバイ
オレット、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリ
ーン、ペイシックツクシン、エオシン、フェノールフタ
レイン、キシレノールブルー コンゴーレッド、マラカ
イトグリーン、オイルブルー#tθ3、オイルピンク#
3/2、クレゾールレッド、オーラミン、グーp−ジエ
チルアミノフェニルイミノナ7トキノン、ロイコマラカ
イトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙げ
られる。色素の添加量は感光層中0.07〜io重量%
が好ましく、より好ましくはo、i−を重量%である。
オレット、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリ
ーン、ペイシックツクシン、エオシン、フェノールフタ
レイン、キシレノールブルー コンゴーレッド、マラカ
イトグリーン、オイルブルー#tθ3、オイルピンク#
3/2、クレゾールレッド、オーラミン、グーp−ジエ
チルアミノフェニルイミノナ7トキノン、ロイコマラカ
イトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙げ
られる。色素の添加量は感光層中0.07〜io重量%
が好ましく、より好ましくはo、i−を重量%である。
本発明の水なし感光性平版印刷版の感光層中には、必要
に応じて更に塗布性向上剤、可塑剤。
に応じて更に塗布性向上剤、可塑剤。
その他の添加剤を添加してもよい。塗布性向上剤として
は、アルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、メ
チルセルロース)、フッ素系界面活性剤類〔例えば、フ
ロラードFC−1730(住人3M社製)〕や、ノニオ
ン系界面活性剤〔例えば、プルロニックL−6μ(旭電
化社製)〕が挙げられ、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を賦与
するための可塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポ
リエチレングリコール、クエン酸) IJフチル、フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジ(コーエチルヘキシル)、リ
ン酸トリクレジル、アビエチン酸エチルなどが挙げられ
、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤としては
例えば、特公昭62−t070/号公報記載のスチレン
−無水マレイン酸共重合体のアルコール類によるハーフ
エステル化物等が挙げられる。
は、アルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、メ
チルセルロース)、フッ素系界面活性剤類〔例えば、フ
ロラードFC−1730(住人3M社製)〕や、ノニオ
ン系界面活性剤〔例えば、プルロニックL−6μ(旭電
化社製)〕が挙げられ、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を賦与
するための可塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポ
リエチレングリコール、クエン酸) IJフチル、フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジ(コーエチルヘキシル)、リ
ン酸トリクレジル、アビエチン酸エチルなどが挙げられ
、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤としては
例えば、特公昭62−t070/号公報記載のスチレン
−無水マレイン酸共重合体のアルコール類によるハーフ
エステル化物等が挙げられる。
これらの添加剤は、その使用対象目的によって異なるが
、通常、感光層中に0.07〜10重量%含有させるの
が好ましい。
、通常、感光層中に0.07〜10重量%含有させるの
が好ましい。
本発明の水なし感光性平版印刷版の感光層を形成させる
ためには、含有させる各成分を各種溶媒、例えば、2−
メトキシエタノール、コーエトキシエタノール、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
/−メトキシ−2−プロパツール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、アセチルアセトン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、トリクロロエタンなどの巣独
、あるいは2種以上の混合溶媒中に、溶解、あるいは分
散して、常法に従い塗布し、通常ψO℃〜/10℃で乾
燥させる。
ためには、含有させる各成分を各種溶媒、例えば、2−
メトキシエタノール、コーエトキシエタノール、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
/−メトキシ−2−プロパツール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、アセチルアセトン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、トリクロロエタンなどの巣独
、あるいは2種以上の混合溶媒中に、溶解、あるいは分
散して、常法に従い塗布し、通常ψO℃〜/10℃で乾
燥させる。
本発明における感光層の好ましい厚さは、0.1 %
/ 003mであシ、よシ好ましくは、0.6〜j O
am、更に好ましくは、/〜JOprnである。
/ 003mであシ、よシ好ましくは、0.6〜j O
am、更に好ましくは、/〜JOprnである。
本発明のシリコーンゴム層において使用されるシリコー
ンゴムは、その目的に適合すればいずれでも使用できる
が、例えば次のような繰り返し単位を有するオルガノポ
リシロキサンを主成分として架橋し得られたシリコーン
ゴムからなるものである。
ンゴムは、その目的に適合すればいずれでも使用できる
が、例えば次のような繰り返し単位を有するオルガノポ
リシロキサンを主成分として架橋し得られたシリコーン
ゴムからなるものである。
分子量は、任意であるが、2ブ℃における粘度が、1〜
50,000ストークスのものが好ましい。
50,000ストークスのものが好ましい。
これらのオルガノポリシロキサンを架橋してシリコーン
ゴムとするには、上式の末端のケイ素原子に水酸基、加
水分解性基(例えば、アシルオキシ基、アルコキシ基、
ケトキシメート基、アミノ基、アミド基など)が結合し
たオルガノポリシロキサンを用いて縮合反応によって架
橋する。
ゴムとするには、上式の末端のケイ素原子に水酸基、加
水分解性基(例えば、アシルオキシ基、アルコキシ基、
ケトキシメート基、アミノ基、アミド基など)が結合し
たオルガノポリシロキサンを用いて縮合反応によって架
橋する。
本発明において、特に好適に使用されるのは、両末端に
水酸基が結合した例えば、α、ω−ジヒドロキシジメチ
ルポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンである。
水酸基が結合した例えば、α、ω−ジヒドロキシジメチ
ルポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンである。
これらに、ケイ素原子に直接結合した゛加水分解性基を
λ個以上有するケイ素化合物、いわゆる架橋剤を添加す
ることが好ましい。
λ個以上有するケイ素化合物、いわゆる架橋剤を添加す
ることが好ましい。
架橋剤の具体例としては、例えば、r−(2ブ
ーアミノエチル)アミノメロピルトリメトキシシラン、
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン
、ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン、
メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シランなど
が挙げられる。
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン
、ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン、
メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シランなど
が挙げられる。
更に、ケイ素原子に直接水素原子が結合したオルガノポ
リシロキサン、例えば、α、ω−ジ辷ドロキシポリハイ
ドロジエンメチルシロキサン、α、ω−ビス(トリメチ
ルシリル)ポリハイドロジエンメチルシロキサ7、/、
J、j、7.ターぺ/タメチルシクロベンタシロキサン
などを添加してもよい。
リシロキサン、例えば、α、ω−ジ辷ドロキシポリハイ
ドロジエンメチルシロキサン、α、ω−ビス(トリメチ
ルシリル)ポリハイドロジエンメチルシロキサ7、/、
J、j、7.ターぺ/タメチルシクロベンタシロキサン
などを添加してもよい。
シリコーンゴム層を得る為には、通常未硬化状態のシリ
コーンゴム層を硬化させる。その硬化の為には触媒とし
て、公知の金属触媒、例えば、有機スズ化合物、有機チ
タン化合物などを添加することが好ましい。
コーンゴム層を硬化させる。その硬化の為には触媒とし
て、公知の金属触媒、例えば、有機スズ化合物、有機チ
タン化合物などを添加することが好ましい。
具体的には、ジプチル錫ジアセテート、トリブチル錫ア
セテート、ジプチル錫ジラウレート、テトラメチルオル
ソチタネート、テトラエチルオルソチタネートなどが挙
げられる。これらの触媒は、シリコーンゴムの総重量に
対して、通常、0,0 / −3重量%、好ましくは、
0.02〜2重量−の範囲で用いられる。
セテート、ジプチル錫ジラウレート、テトラメチルオル
ソチタネート、テトラエチルオルソチタネートなどが挙
げられる。これらの触媒は、シリコーンゴムの総重量に
対して、通常、0,0 / −3重量%、好ましくは、
0.02〜2重量−の範囲で用いられる。
また、補強の目的で、シリカ、炭酸カルシウムなどの無
機充填材を加えることも有用である。
機充填材を加えることも有用である。
本発明のシリコーンゴム層を形成させるためには、上記
の各成分を、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
n−ヘキサン、n−へフタ/、2−メチルヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類、あるいは、これらとベンゼン、ト
ルエン−、キシレンなどの芳香族炭化水素類少量との混
合溶媒に溶解して溶液となしたシリコーンゴム溶液を常
法に従い塗布し、通常、λO℃〜io。
の各成分を、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
n−ヘキサン、n−へフタ/、2−メチルヘキサンなど
の脂肪族炭化水素類、あるいは、これらとベンゼン、ト
ルエン−、キシレンなどの芳香族炭化水素類少量との混
合溶媒に溶解して溶液となしたシリコーンゴム溶液を常
法に従い塗布し、通常、λO℃〜io。
℃で短時間乾燥すると、溶媒が揮発すると同時にある程
度硬化した、まだ粘着性のあるシリコーンゴム層が形成
される。これを、更にSO℃〜ljθ℃の温度の範囲で
数分間以上熱処理すると、十分に硬化した非粘着性のシ
リコーンゴム層が形成される。
度硬化した、まだ粘着性のあるシリコーンゴム層が形成
される。これを、更にSO℃〜ljθ℃の温度の範囲で
数分間以上熱処理すると、十分に硬化した非粘着性のシ
リコーンゴム層が形成される。
本発明におけるシリコーンゴム層の厚さは、0、/ 〜
J 00 μmが好ましく、特に/ −700μm、よ
り好ましくは、−〜jOμmである。
J 00 μmが好ましく、特に/ −700μm、よ
り好ましくは、−〜jOμmである。
本発明の水なし感光性平版印刷版に使用する基板は、平
版印刷機に取り付けることができるたわみ性や、印刷時
にかかる荷重に耐えるものであれば、特に限定されない
。
版印刷機に取り付けることができるたわみ性や、印刷時
にかかる荷重に耐えるものであれば、特に限定されない
。
例えば、コート紙などの紙類、アルミニウム、鉄、亜鉛
などの金属板;ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン
、ポリプロピレンなど)、ホリエステル(例えば、ポリ
エチレンテレフタレートなど)、ポリアミドなどの有機
高分子フィルム、あるいは、これらの複合体;更に、上
記金属板以外のものとアルミ箔などの金属箔との複合体
などが挙げられる。これらの表面上にノ・レーション防
止などの目的で更にコーティングを施したり、あるいは
紫外線吸収剤を含浸、もしくは内部に分散した紙、有機
高分子フィルムなどを基板とすることも可能である。
などの金属板;ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン
、ポリプロピレンなど)、ホリエステル(例えば、ポリ
エチレンテレフタレートなど)、ポリアミドなどの有機
高分子フィルム、あるいは、これらの複合体;更に、上
記金属板以外のものとアルミ箔などの金属箔との複合体
などが挙げられる。これらの表面上にノ・レーション防
止などの目的で更にコーティングを施したり、あるいは
紫外線吸収剤を含浸、もしくは内部に分散した紙、有機
高分子フィルムなどを基板とすることも可能である。
本発明の水なし感光性平版印刷版の製造方法は、表面張
力の非常に小さいシリコーンゴム層上に、公知の塗布方
法で感光層を塗設することは困難であるために、通常、
次のような方法に従い製造される。
力の非常に小さいシリコーンゴム層上に、公知の塗布方
法で感光層を塗設することは困難であるために、通常、
次のような方法に従い製造される。
(1)重合体フィルム上に感光層とシリコーンゴム層と
を、この順序で塗設し、基体とシリコーンゴム層とが密
着するように圧着する方法。
を、この順序で塗設し、基体とシリコーンゴム層とが密
着するように圧着する方法。
(2)基体上に設けたシリコーンゴム層と、重合体フィ
ルム上に設けた感光層とを、シリコーンゴム層と感光層
とが密着するように圧着する方法。
ルム上に設けた感光層とを、シリコーンゴム層と感光層
とが密着するように圧着する方法。
上記重合体フィルムとしては、厚さが007〜300μ
mのポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
アクリロニトリル・ブタジェン・スチレン共重合体フィ
ルム、ポリスチレンフィルム、アクリロニトリル・スチ
レン共重合体フィルム、ポリメタクリル酸メチルフィル
ム、ナイロンtフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポ
リ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム等が挙げられ、表面に放電処理、粗面化処理
などを施して、ぬれ性を改良したフィルムであってもよ
い。
mのポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
アクリロニトリル・ブタジェン・スチレン共重合体フィ
ルム、ポリスチレンフィルム、アクリロニトリル・スチ
レン共重合体フィルム、ポリメタクリル酸メチルフィル
ム、ナイロンtフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポ
リ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム等が挙げられ、表面に放電処理、粗面化処理
などを施して、ぬれ性を改良したフィルムであってもよ
い。
また、本発明の効果を損わない範囲で、感光層とシリコ
ーンゴム層との接着性を向上させる目的で、感光層又は
シリコーンゴム層中にシランカップリング剤又はシリコ
ーンプライマー等を添加してもよい。また同等に、シリ
コーンゴム層と基板との接着性を向上させる目的で、基
板上にシランカップリング剤或いはシリコーンプライマ
ー等を塗布したり、あるいは、シリコーンゴム層中にシ
ランカップリング剤或いはシリコーンプライマー等を添
加してもよい。
ーンゴム層との接着性を向上させる目的で、感光層又は
シリコーンゴム層中にシランカップリング剤又はシリコ
ーンプライマー等を添加してもよい。また同等に、シリ
コーンゴム層と基板との接着性を向上させる目的で、基
板上にシランカップリング剤或いはシリコーンプライマ
ー等を塗布したり、あるいは、シリコーンゴム層中にシ
ランカップリング剤或いはシリコーンプライマー等を添
加してもよい。
本発明の水なし感光性平版印刷版から、水なし平版印刷
版は、次のようにして得られる。即ち、本発明の水なし
感光性平版印刷版の重合体フィルムの上から、あるいは
重合体フィルムを剥離した後、感光層にカーボンアーク
、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ
、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイオンレ
ーザ−ヘリウムカドミウムレーザークリプトンレーザー
等/ r Onm以上の紫外線、可視光線を含む汎用の
光源を好適に使用して画像露光を行なった後、少量の有
機溶媒を含むアルカリ水系現像液を用いて、重合体フィ
ルムがこれら現像液に溶解する場合はその上から、ある
いは重合体フィルムを剥離した後に現像する。
版は、次のようにして得られる。即ち、本発明の水なし
感光性平版印刷版の重合体フィルムの上から、あるいは
重合体フィルムを剥離した後、感光層にカーボンアーク
、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ
、螢光ランプ、タングステンランプ、アルゴンイオンレ
ーザ−ヘリウムカドミウムレーザークリプトンレーザー
等/ r Onm以上の紫外線、可視光線を含む汎用の
光源を好適に使用して画像露光を行なった後、少量の有
機溶媒を含むアルカリ水系現像液を用いて、重合体フィ
ルムがこれら現像液に溶解する場合はその上から、ある
いは重合体フィルムを剥離した後に現像する。
この現像処理により、露光部の感光層は溶解あるいは剥
離除去され、インク反発性のシリコーン層表面が露出し
、非画像部となシ、一方、未露光部の感光層は現像処理
により除去されることなく、インク受容性の画像部を形
成させることによって、水なし平版印刷版を得ることが
できる。
離除去され、インク反発性のシリコーン層表面が露出し
、非画像部となシ、一方、未露光部の感光層は現像処理
により除去されることなく、インク受容性の画像部を形
成させることによって、水なし平版印刷版を得ることが
できる。
本発明の水なし平版印刷版の前記現像処理に用いられる
現像液は特定の有機溶媒と、アルカリ剤と、水とを含有
するものが好ましい。ここに特定の有機溶媒とは、現像
液中に含有させたとき感光層の露光部(非画像部)を溶
解又は膨潤することができ、しかも常温(20℃)にお
いて水に対する溶解度が70重量−以下の有機溶媒をい
う。このような有機溶媒としては上記のような特性を有
するものでありさえすればよく、これらを例示するなら
ば、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢
酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチ
ルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチル等のカル
ボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;エチレング
リコールモツプチルエーテル、エチレングリコールベン
ジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビノール
、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等の
アルコール類;キシレン等のアルキル置換芳香族炭化水
素;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素などがある。
現像液は特定の有機溶媒と、アルカリ剤と、水とを含有
するものが好ましい。ここに特定の有機溶媒とは、現像
液中に含有させたとき感光層の露光部(非画像部)を溶
解又は膨潤することができ、しかも常温(20℃)にお
いて水に対する溶解度が70重量−以下の有機溶媒をい
う。このような有機溶媒としては上記のような特性を有
するものでありさえすればよく、これらを例示するなら
ば、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢
酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチ
ルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチル等のカル
ボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;エチレング
リコールモツプチルエーテル、エチレングリコールベン
ジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビノール
、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等の
アルコール類;キシレン等のアルキル置換芳香族炭化水
素;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素などがある。
これら有機溶媒は2種以上用いてもよい。これら有機溶
媒(7)中fハ、エチレングリコールモノフェニルエー
テルとベンジルアルコールが特に有効である。
媒(7)中fハ、エチレングリコールモノフェニルエー
テルとベンジルアルコールが特に有効である。
これら有機溶媒の現像液中における含有量は、通常、0
.035−20重量%テあり、0./ 〜j重量%が好
ましい。
.035−20重量%テあり、0./ 〜j重量%が好
ましい。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、
(A) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又
は第三リン酸のす) IJウム又はアンモニウム塩、メ
タケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
アンモニア等の無機アルカリ剤 (B) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又は
トリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n
−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、
モノ、ジ又ハトリイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン等の有機化合物等が挙げられる
。
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又
は第三リン酸のす) IJウム又はアンモニウム塩、メ
タケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
アンモニア等の無機アルカリ剤 (B) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又は
トリエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n
−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、
モノ、ジ又ハトリイソプロパノールアミン、エチレンイ
ミン、エチレンジアミン等の有機化合物等が挙げられる
。
これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常0.
05〜g重量%で、好ましくは0,1〜6重量%である
。
05〜g重量%で、好ましくは0,1〜6重量%である
。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、低分子のアルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤
等も用いることができる。前記アルコール、ケトン類と
しては例えばメタノール、エタノール、フロパノール、
ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メトキシブタノール、エトキシブタ
ノール、弘−メトキシ−メチルブタノール、N−メチル
ピロリドン等を用いることが好ましい。また、界面活性
剤としては例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム
、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム
、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好ましい。こ
れらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用量につい
て特に制限はないが、一般に現像液全体に対し約30重
量%以下とすることが好ましい。
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、低分子のアルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤
等も用いることができる。前記アルコール、ケトン類と
しては例えばメタノール、エタノール、フロパノール、
ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、メトキシブタノール、エトキシブタ
ノール、弘−メトキシ−メチルブタノール、N−メチル
ピロリドン等を用いることが好ましい。また、界面活性
剤としては例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム
、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム
、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好ましい。こ
れらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用量につい
て特に制限はないが、一般に現像液全体に対し約30重
量%以下とすることが好ましい。
以下本発明を合成例及び実施例により更に具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
なお、実施例中に用いられる部は、いずれも重量部を示
す。
す。
合成例1
N−フェニルメタクリルアミド≠、0?、アクリロニト
リル3,2f、アクリル酸メチル3.22、アクリル酸
エチル/ /1.tt 1メタクリル酸/、/?、α、
α′−アゾビスイソブチロニトリルO0参lt及びメタ
ノール30.lの混合物を窒素室囲気下、還流温度で重
合反応を行なった。
リル3,2f、アクリル酸メチル3.22、アクリル酸
エチル/ /1.tt 1メタクリル酸/、/?、α、
α′−アゾビスイソブチロニトリルO0参lt及びメタ
ノール30.lの混合物を窒素室囲気下、還流温度で重
合反応を行なった。
を時間後、2−メトキシエタノールlllff1lを加
えた後、油浴の温度を130℃まで上げ、約1時間半で
メタノール及び未反応のモノマーを蒸留により除去する
と同時に未反応の開始剤を分解した。
えた後、油浴の温度を130℃まで上げ、約1時間半で
メタノール及び未反応のモノマーを蒸留により除去する
と同時に未反応の開始剤を分解した。
放冷後、更にλ−メトキシエタノールを加えることによ
り、高分子化合物の35重量%λ−メトキシエタノール
溶液を得た。収率は、約りよ%であった。
り、高分子化合物の35重量%λ−メトキシエタノール
溶液を得た。収率は、約りよ%であった。
下記の条件のGPCにより測定したところ、標準ポリス
チレン換算で、重量平均分子量j、7万であった。以下
同条件で測定した。
チレン換算で、重量平均分子量j、7万であった。以下
同条件で測定した。
(GPC条件)
カラム:東ソー■製TSK−GEL
GMHXL 2本
溶 媒:テトラヒドロフラン
流 速: 1.0だl1分
検 出:UV2tグnm
合成例2
N−フェニルメタクリルアミドa、op、アクリロニト
リル2.7 F 、メタクリル酸メチル2.22、アク
リル酸エチル/ 3.3 ? 、メタクリル酸i3t、
α、α′−アゾビスイソブチロニトリル0.2りt、及
びメタノール20.1の混合物を窒素雰囲気下還流温度
で重合反応を行なった。
リル2.7 F 、メタクリル酸メチル2.22、アク
リル酸エチル/ 3.3 ? 、メタクリル酸i3t、
α、α′−アゾビスイソブチロニトリル0.2りt、及
びメタノール20.1の混合物を窒素雰囲気下還流温度
で重合反応を行なった。
4時間後、λ−メトキシエタノールtAOH1を加えた
後、油浴の温度を120℃まで上げ、約2時間で、メタ
ノール及び未反応の七ツマ−を蒸留により除去すると同
時に未反応の開始剤を分解した。
後、油浴の温度を120℃まで上げ、約2時間で、メタ
ノール及び未反応の七ツマ−を蒸留により除去すると同
時に未反応の開始剤を分解した。
放冷後、更に2−メトキシエタノールを加えることによ
り高分子化合物の3j重量%2−メトキシエタノール溶
液を得た。収率は、約りOチであった。
り高分子化合物の3j重量%2−メトキシエタノール溶
液を得た。収率は、約りOチであった。
重量平均分子量はr万であった。
合成例3
N−(3−メトキシフェニル)メタクリルアミド≠、r
?、アクリロニトリル/、At、メタクリル酸2−ヒド
ロキシエチルJ、31?、メタクリル酸エチル!、7?
、アクリル酸エチル/ 0.jt t、メタクリル酸/
、39.α、α′−アゾビスイソブチロニトリル0.I
I / を及びメタノールJOmlの混合物を窒素雰囲
気下還流温度で3時間重合反応を行なった。
?、アクリロニトリル/、At、メタクリル酸2−ヒド
ロキシエチルJ、31?、メタクリル酸エチル!、7?
、アクリル酸エチル/ 0.jt t、メタクリル酸/
、39.α、α′−アゾビスイソブチロニトリル0.I
I / を及びメタノールJOmlの混合物を窒素雰囲
気下還流温度で3時間重合反応を行なった。
この後の処理は合成例/と同様にして、高分子化合物の
3!重量%2−メトキシエタノール溶液を得た。収率は
、約りよ%であった。
3!重量%2−メトキシエタノール溶液を得た。収率は
、約りよ%であった。
重量平均分子量は、//万であった。
合成例弘
N−(<z−エチルフェニル)メタクリルアミドV、7
2、N−(4’−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド2.2 t 、アクリロニトリル2.72、アクリル
酸エチル/ II、J P、アクリル酸7.32、過酸
化ベンゾイル0.!?、及び、2−メトキシエタノール
λOwlの混合物を窒素雰囲気下、油浴の温度をioo
℃にして、弘時間重合反応を行なった。放冷後、更に2
−メトキシエタノールを加え、高分子化合物の35重量
係2−メトキシエタノール溶液を得た。収率は約り0%
であった。
2、N−(4’−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド2.2 t 、アクリロニトリル2.72、アクリル
酸エチル/ II、J P、アクリル酸7.32、過酸
化ベンゾイル0.!?、及び、2−メトキシエタノール
λOwlの混合物を窒素雰囲気下、油浴の温度をioo
℃にして、弘時間重合反応を行なった。放冷後、更に2
−メトキシエタノールを加え、高分子化合物の35重量
係2−メトキシエタノール溶液を得た。収率は約り0%
であった。
重量平均分子量よ、≠万であった。
実施例/
厚さ約IOμmの本州製紙■製ポリプロピレンフィルム
5Q−20/ #20の内面(濡れ張力3r ayne
/cr/L)に、下記感光液−1をR,D。
5Q−20/ #20の内面(濡れ張力3r ayne
/cr/L)に、下記感光液−1をR,D。
5pecialities Inc製パーコーター77
5,10を用いて塗布し、60℃で6分間乾燥させ、厚
さコ、jμmの感光層を設けた。
5,10を用いて塗布し、60℃で6分間乾燥させ、厚
さコ、jμmの感光層を設けた。
感光液−7
(a) 合成例/の高分子化合物(N−フェニルメタ
クリルアミド/アクリロニトリル/アクリル酸メチル/
アクリル酸エチル/メタクリル酸=10/コ弘/lj/
≠乙/jモルチ)の3j重量%2−メトキシエタノール
溶液・・・200部 (b) 2,3.It−1リヒドロキシペンゾフエノ
ンの/、2−ナフトキノンジアジド(2)−3−スルホ
ン酸エステル(エステル化率り5%)・・・30部(c
)j−)リクロロメチル−1−〔β−(2′−ベンゾフ
リル)ビニル) −/、J、≠−オキサジアゾール
・・・ 7部(d) 住人3
M■製フロラードFC−弘30・・・0.01部 (e) 採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルー
BOH・・・ 1部 (f) −2−二トキシエタノール ・・・1
1.to部次に、この感光層上に、下記シリコーンゴム
溶液−7を回転塗布機を用いて、室温、io。
クリルアミド/アクリロニトリル/アクリル酸メチル/
アクリル酸エチル/メタクリル酸=10/コ弘/lj/
≠乙/jモルチ)の3j重量%2−メトキシエタノール
溶液・・・200部 (b) 2,3.It−1リヒドロキシペンゾフエノ
ンの/、2−ナフトキノンジアジド(2)−3−スルホ
ン酸エステル(エステル化率り5%)・・・30部(c
)j−)リクロロメチル−1−〔β−(2′−ベンゾフ
リル)ビニル) −/、J、≠−オキサジアゾール
・・・ 7部(d) 住人3
M■製フロラードFC−弘30・・・0.01部 (e) 採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルー
BOH・・・ 1部 (f) −2−二トキシエタノール ・・・1
1.to部次に、この感光層上に、下記シリコーンゴム
溶液−7を回転塗布機を用いて、室温、io。
rpmで塗布し、室温で3分間風乾後、4部℃で72分
間乾燥させた。まだ少し粘着性のある未硬化のシリコー
ンゴム層であった。
間乾燥させた。まだ少し粘着性のある未硬化のシリコー
ンゴム層であった。
シリコーンゴム溶液−7
(a) 両末端水酸基のポリジメチルシロキサン(粘
度/ J、000ストークス、トーン・シリコーン■製
BY/A−roi) ・・・/、 00部(b)
メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
・・・ io部(C)
ジプチル錫ジアセテート ・・・ 0.2部(d
) メチルシクロヘキサン ・・・300部
一方、厚さ0,2 II朋のアルミニウム板上に、回転
塗布機を用いて、室温、/ o o rpmで、トーン
・シリコーン■tJ 5H−2260プ5イマーを塗布
し、室温で3分間風乾することにより7 /I/ ミニ
ラム板上にプライマー層を設けた。
度/ J、000ストークス、トーン・シリコーン■製
BY/A−roi) ・・・/、 00部(b)
メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
・・・ io部(C)
ジプチル錫ジアセテート ・・・ 0.2部(d
) メチルシクロヘキサン ・・・300部
一方、厚さ0,2 II朋のアルミニウム板上に、回転
塗布機を用いて、室温、/ o o rpmで、トーン
・シリコーン■tJ 5H−2260プ5イマーを塗布
し、室温で3分間風乾することにより7 /I/ ミニ
ラム板上にプライマー層を設けた。
この上に、前記、感光層、シリコーンゴム層をこの順に
積層されたポリプロピレンフィルムを、プライマー層と
シリコーンゴム層とが接するように、ラミネーターを用
いて、10℃、IO#/crA / 00cm1分で
圧着した。これを、40℃で3分間熱処理した後、ポリ
プロピレンフィルムを剥離した。更に、40℃で50分
間熱処理を施すことにより、シリコーンゴム層を十分に
硬化させ、水なし感光性平版印刷版を得た。
積層されたポリプロピレンフィルムを、プライマー層と
シリコーンゴム層とが接するように、ラミネーターを用
いて、10℃、IO#/crA / 00cm1分で
圧着した。これを、40℃で3分間熱処理した後、ポリ
プロピレンフィルムを剥離した。更に、40℃で50分
間熱処理を施すことにより、シリコーンゴム層を十分に
硬化させ、水なし感光性平版印刷版を得た。
なお、完全に硬化したシリコーンゴム層の膜厚は70μ
mであった。
mであった。
この版を常法に従い、ポジの原画フィルムを通し、ウシ
オ電機■製JlyN高圧水銀灯UMH−3000で70
6mの距離から!θ秒間画像露光した。
オ電機■製JlyN高圧水銀灯UMH−3000で70
6mの距離から!θ秒間画像露光した。
これを下記現像液−7を用いて、22℃、7分間浸漬し
、軽くこすることにより現像処理を施した。露光部の感
光層は除去され、インキ反発性のシリコーンゴム層が露
出し非画像部となり、未露光部の感光層は除去されず、
インキ受容性の画像部となった水なし平版印刷版を得た
。
、軽くこすることにより現像処理を施した。露光部の感
光層は除去され、インキ反発性のシリコーンゴム層が露
出し非画像部となり、未露光部の感光層は除去されず、
インキ受容性の画像部となった水なし平版印刷版を得た
。
現像液−/
※l商品名、花王■製、β−ナフタレンスルホン酸ホル
マリン縮縮合のナトリウム塩この版を用いて、三印刷機
械■製印刷機サン・オフセット・λλOEにて、湿し水
を供給しない状態で東洋インキ製造■製東洋キングウル
トラTKUアクワレスG墨tインキによって印刷を行な
ったところ、印刷初期から地汚れのない美麗な印刷物が
5ooo枚得られた。また、画像部のインキ着肉性は、
非常に良好であった。
マリン縮縮合のナトリウム塩この版を用いて、三印刷機
械■製印刷機サン・オフセット・λλOEにて、湿し水
を供給しない状態で東洋インキ製造■製東洋キングウル
トラTKUアクワレスG墨tインキによって印刷を行な
ったところ、印刷初期から地汚れのない美麗な印刷物が
5ooo枚得られた。また、画像部のインキ着肉性は、
非常に良好であった。
比較例1
実施例1における感光液−lの代わりに下記感光液−2
に変えた以外は、実施例1と同様にして水なし感光性平
版印刷版を作成した。
に変えた以外は、実施例1と同様にして水なし感光性平
版印刷版を作成した。
感光液−2
(a) メタクリル酸ベンジル/アクリロニトリル/
アクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸(
10/2弘//j/弘67zモル%)共重合体(重量平
均分子量r、r万)の30重量%2−メトキシエタノー
ル溶液 ・・・2.30部(b)2.3.≠−トリヒド
ロキシベンゾフェノンの1.2−ナフトキノンジアジド
(,2) −j−スルホン酸エステル(エステル化率9
j%)・・・30部(c)2−)リクロロメチル−1−
(β−(2′−ベンゾフリル)ビニル) −/、3.u
−オキサジアゾール ・・・
1部(d) 住友3M■製フロラードFC,−弘3
0・・・0.07部 (e) 採土ケ谷化学■製ビ・クトリアピュアープル
−BOH・・・1部 (f) 2−エトキシエタノール ・・・37
0部これを実施例/と同様に画像露光し、前記現像液−
7を用いて現像処理を施し、水なし平版印刷版を得た。
アクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸(
10/2弘//j/弘67zモル%)共重合体(重量平
均分子量r、r万)の30重量%2−メトキシエタノー
ル溶液 ・・・2.30部(b)2.3.≠−トリヒド
ロキシベンゾフェノンの1.2−ナフトキノンジアジド
(,2) −j−スルホン酸エステル(エステル化率9
j%)・・・30部(c)2−)リクロロメチル−1−
(β−(2′−ベンゾフリル)ビニル) −/、3.u
−オキサジアゾール ・・・
1部(d) 住友3M■製フロラードFC,−弘3
0・・・0.07部 (e) 採土ケ谷化学■製ビ・クトリアピュアープル
−BOH・・・1部 (f) 2−エトキシエタノール ・・・37
0部これを実施例/と同様に画像露光し、前記現像液−
7を用いて現像処理を施し、水なし平版印刷版を得た。
この版を実施例1と同様の条件で印刷したところ、印刷
初期より地汚れが発生し、印刷を続けても地汚れは回復
しなかった。また、200枚印刷したあたりでベタ部が
損傷した。
初期より地汚れが発生し、印刷を続けても地汚れは回復
しなかった。また、200枚印刷したあたりでベタ部が
損傷した。
比較例λ
実施例/における感光液−/の代わりに下記感光液−3
に変えた以外は、実施例1と同様にして水なし感光性平
版印刷箒舎版を作成した。
に変えた以外は、実施例1と同様にして水なし感光性平
版印刷箒舎版を作成した。
感光液−3
(a) 7クリル酸ベンジル/アクリロニトリル/ア
クリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸(1
0/2≠//j/グA/jモル%)共重合体(重量平均
分子量too、、ooo)の3グ重量% 2−メトキシ
エタノールm液・・・200部 (1)) 、?、J、≠−トリヒドロキシベンゾフェ
ノンの/、2−ナフトキノンジアジド(2)−j−スル
ホン酸エステル(エステル化率Pt%)・・・30部(
c)J−トリクロロメチル−1−(β−(2′−ベンゾ
フリル)ビニル) −i、3.u−オキサジアゾール
・・・ 1部(d) 住友
3M■製フロラードFC−≠30・・・0.07部 (e) 採土ケ谷化学(饗り) IJアビエアーブル
ーBO)(・・・7部 (f) −2−エトキシエタノール ・・・3
00部これを実施例1と同様に画像露光し、前記現像液
−1を用いて、現像処理を施したところ、ややオーバー
現像であった。こうして得た水なし平版印刷版を、実施
例1と同様の条件で印刷したところ、印刷初期より地汚
れが発生した。
クリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸(1
0/2≠//j/グA/jモル%)共重合体(重量平均
分子量too、、ooo)の3グ重量% 2−メトキシ
エタノールm液・・・200部 (1)) 、?、J、≠−トリヒドロキシベンゾフェ
ノンの/、2−ナフトキノンジアジド(2)−j−スル
ホン酸エステル(エステル化率Pt%)・・・30部(
c)J−トリクロロメチル−1−(β−(2′−ベンゾ
フリル)ビニル) −i、3.u−オキサジアゾール
・・・ 1部(d) 住友
3M■製フロラードFC−≠30・・・0.07部 (e) 採土ケ谷化学(饗り) IJアビエアーブル
ーBO)(・・・7部 (f) −2−エトキシエタノール ・・・3
00部これを実施例1と同様に画像露光し、前記現像液
−1を用いて、現像処理を施したところ、ややオーバー
現像であった。こうして得た水なし平版印刷版を、実施
例1と同様の条件で印刷したところ、印刷初期より地汚
れが発生した。
また、インキ着肉性も不良であった。
実施例2〜ψ
実施例1で用いたポリプロピレンフィルムに、下記感光
液をバーコーターAioを用いて塗布し、60℃で6分
間乾燥させ、厚さ約2μmの感光層を設けた。
液をバーコーターAioを用いて塗布し、60℃で6分
間乾燥させ、厚さ約2μmの感光層を設けた。
感光液
(a) 表1の高分子化合物の35重量%2−メトキ
シエタノール溶液 ・・・200部(b)
2..3.II−トリヒドロキシベンゾフェノンの
/、2−ナフトキノンジアジド(、?)−j−スルホン
酸エステル(エステル化率り5%) ・・・13部(C
) メタクレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラック
樹脂の/、2−ナフトキノンジアジド(2)−よ−スル
ホン酸エステル(エステル化率2j%、重量平均分子量
3,000 ) ・・・/j部(d)、?−)リクロ
ロメチル−1−(β−(2′−べ/ゾフリル)ビニル)
−/、J、4t−オキサジアゾール
・・・ 7部(e) 住友3M@4製7
oラー1”FC−41JO・・・0.0部部 (f) 採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルー
BOH−/、2部 (g) 2−エトキシエタノール ′ ・・・3
00部表/ 高分子化合物の組成 但し、表/中ANはアクリロニトリル、MMAはメタク
リル酸メチル、EAはアクリル酸工チル、MAAはメタ
クリル酸、HEMAはメタクリル酸λ−ヒドロキシエチ
ル、EMAはメタクリル酸エチル、HPMAはN −(
<z−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、AAは
アクリル酸をそれぞれ表わす。
シエタノール溶液 ・・・200部(b)
2..3.II−トリヒドロキシベンゾフェノンの
/、2−ナフトキノンジアジド(、?)−j−スルホン
酸エステル(エステル化率り5%) ・・・13部(C
) メタクレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラック
樹脂の/、2−ナフトキノンジアジド(2)−よ−スル
ホン酸エステル(エステル化率2j%、重量平均分子量
3,000 ) ・・・/j部(d)、?−)リクロ
ロメチル−1−(β−(2′−べ/ゾフリル)ビニル)
−/、J、4t−オキサジアゾール
・・・ 7部(e) 住友3M@4製7
oラー1”FC−41JO・・・0.0部部 (f) 採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルー
BOH−/、2部 (g) 2−エトキシエタノール ′ ・・・3
00部表/ 高分子化合物の組成 但し、表/中ANはアクリロニトリル、MMAはメタク
リル酸メチル、EAはアクリル酸工チル、MAAはメタ
クリル酸、HEMAはメタクリル酸λ−ヒドロキシエチ
ル、EMAはメタクリル酸エチル、HPMAはN −(
<z−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、AAは
アクリル酸をそれぞれ表わす。
次にそれぞれの感光層上に、実施例1のシリコーンゴム
溶液−1を実施例/と同様に塗布し、その後の処理も実
施例1と同様にして、3種の水なし感光性平版印刷版を
得た。
溶液−1を実施例/と同様に塗布し、その後の処理も実
施例1と同様にして、3種の水なし感光性平版印刷版を
得た。
実施例/と同様に画像露光した後、下記現像l−jを用
°いて、23℃、20秒間浸漬し、軽くこすることによ
り、現像処理を施し、3種の水なし平版印刷版を得た。
°いて、23℃、20秒間浸漬し、軽くこすることによ
り、現像処理を施し、3種の水なし平版印刷版を得た。
現像i−2
レンスルホン酸ナトリウム
これらの版を用いて、実施例1と同様に印刷したところ
、いずれも、印刷初期から地汚れのない美麗な印刷物が
1万枚以上得られた。また、インキ着肉性は非常に良好
であった。
、いずれも、印刷初期から地汚れのない美麗な印刷物が
1万枚以上得られた。また、インキ着肉性は非常に良好
であった。
本発明によると、感光層とシリコーンゴム層との接着性
が良好で、シリコーンゴム層のインキ反発性が良好で、
かつ感光層のインキ着肉性も優れた、ポジ型水なし感光
性平版印刷版を提供することができるので、本発明は工
業的に極めて有用である。
が良好で、シリコーンゴム層のインキ反発性が良好で、
かつ感光層のインキ着肉性も優れた、ポジ型水なし感光
性平版印刷版を提供することができるので、本発明は工
業的に極めて有用である。
出 願 人 三菱化成株式会社
代 理 人 弁理士 良否月
ほか7名
Claims (1)
- (1)基板、シリコーンゴム層及び感光層がこの順に設
けられたポジ型水なし感光性平版印刷版において、該感
光層が、オルトキノンジアジド化合物及び下記一般式〔
I 〕で表わされる構造単位を1〜50モル%有する高
分子化合物を含有することを特徴とするポジ型水なし感
光性平版印刷版。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
〔 I 〕 (式中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xはアルキ
レン基であり、nは0又は1の 数を示し、 Yはアルキル基又はアルコキシ基であり、 mは0〜5の数を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15249788A JPH024253A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 水なし感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15249788A JPH024253A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 水なし感光性平版印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH024253A true JPH024253A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=15541759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15249788A Pending JPH024253A (ja) | 1988-06-21 | 1988-06-21 | 水なし感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH024253A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995012146A1 (fr) * | 1993-10-26 | 1995-05-04 | Toray Industries, Inc. | Plaque lithographique a sec |
US5866294A (en) * | 1993-10-26 | 1999-02-02 | Toray Industries, Inc. | Water-less quinonediazide lithographic raw plate |
-
1988
- 1988-06-21 JP JP15249788A patent/JPH024253A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995012146A1 (fr) * | 1993-10-26 | 1995-05-04 | Toray Industries, Inc. | Plaque lithographique a sec |
US5866294A (en) * | 1993-10-26 | 1999-02-02 | Toray Industries, Inc. | Water-less quinonediazide lithographic raw plate |
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