JPH02262537A - ３，５，６―トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

３，５，６―トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法

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JPH02262537A
JPH02262537A JP1331777A JP33177789A JPH02262537A JP H02262537 A JPH02262537 A JP H02262537A JP 1331777 A JP1331777 A JP 1331777A JP 33177789 A JP33177789 A JP 33177789A JP H02262537 A JPH02262537 A JP H02262537A
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chemical formulas
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JP1331777A
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Kenji Inoue
健二 井上
Keiichi Yonezu
米津　敬一
Noboru Kamiyama
昇 上山
Satomi Takahashi
高橋　里美
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は３，５．６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導体
の製造方法に関するものである。３，５．６−トリヒド
ロキシヘキサン酸誘導体は、抗高脂血症剤としての作用
が注目されている一連のＴ（ＭＧＣｏＡ（Ｈｙｄｒｏｘ
ｙ　ｍｅｔｈｙｌ　ｇｌｕｔａｒｙｌ　−ＣｏＡ）還元
酵素阻害剤の共通な合成中間体として有用な化合物であ
る。
［従来の技術］ ３．５．６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方
法としては、 （イ）Ｌ−リンゴ酸から出発する方法（特開昭６（ロ）
１．３．５−トリヒドロキンベンゼン（フロログルシノ
ール）から出発する方法［テトラヘドロン・レターズ（
Ｔ　ｅＬｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌ　ｅｔｔｅｒｓ）、２
３．２４３５（１９８４）、ＵＳＰ−４５７１４２８コ
（ハ）アリルアルコール誘導体から出発する方法［テト
ラヘドロン・レターズ、２５．３３９１（１９８４）コ （ＳＲ：ＳＳ＝〜ｌ：１） 等が知られている。
［発明が解決しようとする問題点］ 上記方法のうち、（イ）のＬ−リンゴ酸から出発する方
法は、光学活性が得られるメリットはあるが、多段の反
応工程を必要とし、またカルボニルジイミダゾールの様
な比較的高価な試薬を使わねばならない。また（口）の
１．３．５−）リヒドロキシベンゼンから出発する方法
は、反応工程は短いが生成物がラセミ体であり、ＨＭＧ
−ＣｏＡＲＩ中間体として有用な（３Ｒ，５Ｓ）の立体
配置を有する光学活性体を製造する方法としては問題を
有している。更に、（ハ）のアリルアルコール誘導体か
ら出発する方法は、光学活性体を得てはいるものの、ア
ルデヒドとブロモ酢酸エチルの反応の段階で立体選択性
が殆どないという問題点を有しており、３，５．６−ト
リヒドロキシヘキサン酸誘導体もしくはその誘導体の工
業的な製造法としては、必ずしも実用的であるとは言い
難い。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者らはかかる実情に鑑み、効果的で経済性に優れ
た３、５．６−１−リヒドロキシヘキサン酸誘導体の工
業的に有利な製法を確立すべく鋭意検討した結果、ニト
リルとα−ハロ酢酸エステルの、亜鉛および／または亜
鉛−銅存在下に於ける反応（リフすマドスキー）を鍵反
応として用いることにより、上記誘導体が効率的に製造
できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、式（Ｉ）： ［式中、Ｐｌお上びＰ２は水素または水酸基の保護基を
表し、共同で環を形成していることもあり、Ｒはアルキ
ル基を表す。］ で示される３、５．６−ドリヒドロキシヘキサン酸誘導
体の製造方法であって、式（■）：［式中、Ｐｌおよび
Ｐ２は前記と同意義である。］で示されるブチロニトリ
ル誘導体と、式（■）：Ｘ””ＣＯＯＲ（ＩＩ［） Ｅ式中、Ｘはハロゲンを表し、Ｒは前記と同意義である
。］ で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および／また
は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式（■）：［式中、Ｐ
ｌ、２重およびＲは前記と同意義である。コで示される
ケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸誘導体を還元す
ることを含んで成る方法に関する。
本発明の製造方法において、ブチロニトリル誘導体（ｎ
）としては、３．４−ジヒドロキシブチロニトリルを使
用し得る。３．４−ジヒドロキシブチロニトリルは、３
−クロル−１，２−プロパンジオールのシアノ化によっ
て容易に調製可能である。
ブチロニトリル誘導体（ｎ）として、ヒドロキシ保護し
た３、４−ジヒドロキシブチロニトリルを用いることも
できる。この場合、ヒドロキシ保護基としては、トリフ
ェニルメチル基、アセトニド基、ベンゾイル基、置換ベ
ンゾイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホ
ニル基、アセチル基、置換シリル基等種々のものを用い
ることができる。
例えばｐｌとしてトリフェニルメチル基を用いることに
より、ブチロニトリル誘導体（ＩＩ）の結晶性が高まり
、単離が容易になる。
Ｐｔ＜トリフェニルメチル基、Ｐｔが水素である化合物
（ＩＩ）は、例えば塩化メチレン−ピリジンの混合溶媒
中で、３．４−ジヒドロキシブチロニトリルをトリフェ
ニルメチルクロリドで処理することにより容易に合成で
きる。この粗生成物の単離、精製は、常法により、ヘキ
サン−酢酸エチル等の溶媒から再結晶することにより容
易に行うことができる。
また、ｐｌおよびＰｔがアセトニド基である化合物（Ｉ
［）は、例えば３，４−ジヒドロキシブチロニトリルと
２．２−ジメトキシプロパンおよび／またはアセトンと
の反応により容易に合成できる。
ｐｌがベンゾイル基、ｐｔが水素である化合物（■）の
合成は、３，４−ジヒドロキシブチロニトリルを例えば
ピリジン中でベンゾイルクロライドと反応させることに
より達成し得る。
α−ハロ酢酸エステル（ＩＩＩ）としては、α−ブロモ
酢酸エチル、α−ブロモ酢酸メチル、α−ブロモ酢酸ｔ
−ブチル等が好適に使用できる。
ブチロニトリル誘導体（Ｉｌ）とα−ハロ酢酸エステル
（ＤＩ）との反応（リフォマトスキー反応）は、金属触
媒の存在下に、適当な反応溶媒中で行う。金属としては
亜鉛を塩酸等で活性化したものや、亜鉛−銅を用いるこ
とが収率良く反応を進行させる上で好ましい。溶媒とし
ては、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、
シクロヘキサン等を単独らしくは混合溶媒として用いる
ことができる。
この反応は、例えばα−ブロモ酢酸エチルをブチロニト
リル誘導体（ＩＩ）および活性亜鉛のテトラヒドロフラ
ン溶液に室温ないし８０℃、好ましくは５０〜７０℃の
温度で加えることによって行うことができ、この際α−
ブロモ酢酸エチルの自己縮合を最少限に抑えるため、ゆ
っくり滴下することが好ましい。しかし乍ら、必ずしも
このような方法に限る必要はなく、種々の方法を用いて
行うことができる。
この反応の一次生成物は、構造式（■）［式中、ｐ　Ｉ
　、　ｐ　！およびＲは前記と同意義である。］で示さ
れるエナミンもしくはシッフ塩基であり、ケト酸誘導体
（ＩＶ）はこのエナミンもしくはシッフ塩基を加水分解
することにより容易に得られる。
ケト酸誘導体（ＩＶ）は、一般にケトンをアルコールま
で還元する水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛
、水素化ホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド、水素化ビス（２−メトキシエトキシ
）アルミニウムナトリウム等の還元剤を用いるか、接触
水素添加することにより容易に還元することができ、ト
リヒドロキシヘキサン酸誘導体（Ｉ）に変換し得る。化
合物（ＩＶ）の還元において、シン型とアンチ型の２種
の立体配置を有する化合物（Ｉ）が生成し得るが、ヒド
リド型還元剤を用いた場合、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻
害剤中間体として有用なシン型の立体配置を有する異性
体が一般に優先的に生成してくる傾向がある。反応の立
体特異性は、基質であるケト酸誘導体（ＩＶ）と還元方
法との組み合せにより変化するが、水素化ホウ素ナトリ
ウムとトリアルキルボランの組み合せや、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素亜鉛、
水素化ホウ素リチウム等を用いた場合に高い特異性を示
す傾向にある。また、接触還元を行う場合、Ｐｄ（Ｃ）
、Ｐｔ（Ｃ）、ＰｔＯ＊、ラネーＮｉ等、通常ケトンか
らアルコールへの還元に用いられる触媒を用いることが
できる。
本発明によると、３，５．６−トリヒドロキシヘキサン
酸誘導体（Ｉ）を更に処理して、３および５位の２つの
２級ヒドロキシル基だけを保護した、式（Ｖ）： ［式中、ＱｌおよびＱ２は水酸基の保護基を表し、共同
で環を形成していることもあり、Ｒはアルキル基を表す
。］ で示される３、５．６−　トリヒドロキシヘキサン酸誘
導体（Ｖ）を得ることもできる。
そのためには、まず化合物（Ｉ）の３．５および６位の
３つの水酸基全部を保護して、式（■）：［式中、Ｑ３
は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を表し、Ｑ’ＳＱ
”およびＲは前記と同意義である。］で示される３、５
．６−ドリヒドロキシヘキサン酸誘導体（ＶＴ）を得る
。この場合、３および５位のヒドロキシ保護基とエステ
ル基を残して、６位のヒドロキシ保護基のみを後で脱保
護できるように保護基を選択する。例えばＱ３がベンゾ
イル基、置換ベンゾイル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基の場合、ＱｌおよびＱｌとして°アセトニド、シクロ
へキシリデンケタール等のケータル型保護基を好都合に
用いることができる。アセトニド化は、ジメトキシプロ
パンおよび／またはアセトンを用いて常法に従って酸性
条件下で行うことができる。
すべてのヒドロキシル基を保護した３、５．６−ドリヒ
ドロキシヘキサン酸誘導体（Ｖ［）は、実施例に示す様
に、６位ヒドロキシ保護基と３．５位ヒドロキシ保護基
およびエステル基の組み合せに応じた方法で処理して、
６位の１級ヒドロキシル基のみを選択的に脱保護して化
合物（Ｖ）を得る。例えば、Ｑ３がベンゾイル基、Ｑｌ
およびＱ２がアセトニド基、Ｒｈ（ｔ−ブチル基の場合
、化合物（ＶＩ）を水−メタノール中、ＮａＯＨで処理
することにより、容易に６位の脱保護が達成できる。ま
た、Ｑ３がｔ−ブチルジメチルシリル基またはｔ−ブチ
ルジフェニルシリル基、ＱｌおよびＱｌがアセトニド基
、Ｒがｔ−ブチル基の場合、化合物（ＶＩ）をテトラヒ
ドロフラン中テトラブチルアンモニウムフルオライドで
処理することにより容易に脱保護できる。しかしながら
必ずしもこれらの方法に限られることなく、種々の方法
を用いることができる。
［発明の効果］ 本発明によれば、経済的かつ効率的にＨＭＧ−ＣｏＡ還
元酵素阻害剤中間体として有用な３．５６−ドリヒドロ
キシヘキサン酸誘導体を製造することができる。
［実施例］ 以下、実施例及び参考例をあげて本発明を更に説明する
が、もとより本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１　：Ｓ　−３−ヒドロキシ−４−トリフェニル
メトキシブチロニトリルの製造 Ｓ−３，４−ジヒドロキシブチロニトリル８０１９をピ
リジン１ｑに溶解した溶液に、０℃でトリチルクロライ
ド２９６．４９を塩化メチレン８００ｍ（ｌに溶解した
溶液を加え、室温で１５時間撹拌１゜た。反応液から揮
発物を減圧溜去した後、塩化メチレンｌａと水５００１
Ｑを加え、６Ｎ塩酸で溶液のＰＨを７とした。塩化メチ
レンで抽出しくＩＣＸ２）、硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を減圧溜去し、得られた油状物に酢酸エチル−ヘキ
サン（ｌ：５）の混合溶媒を加えて晶析させることによ
り、２０５９の粗５−３−ヒドロキシー４−トリフェニ
ルメトキシブチロニトリルを得た。これを酢酸５６．４
９の５−３−ヒドロキシ−４−トリフェニルメトキシブ
チロニトリルを結晶として得た。
ｍｐ：Ｉ　４７．５〜１４　Ｂ、０°Ｃ’ＨＮＭＲ（Ｃ
Ｄ　Ｃ１２３）：δ２．５７−２．６７（ｍ。
１Ｈ）、２．５３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、３．２５
（ｄ。
２Ｈ，Ｊ−４Ｈｚ）、３．８０−４．１３（ｍ、ＩＨ）
、７．２２−７．６２（ｍ、１５Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４００．２２８０．１５００．
１４６０．１°２３０．１１２０．７２０ｃｘ−’［α
］”＝−２４，３（ｃ＝ｌ、ＭｅＯＨ）実施例２：Ｓ−
３，４−０−イソプロピリデン−３４−ジヒドロキシブ
チロニトリルの製 造 Ｓ−３，４−ジヒドロキシブチロニトリル３．７４９Ｃ
３７ｍａａｏＱ）と２．２−ジメトキシプロパン１６゜
４ｔｘＱを塩化メチレン５０１１Ｑ、と混合した溶液に
ｐ−トルエンスルホン酸０．１２ｇを加え、室温で１５
時間撹拌した後、飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ水溶液５０好を加
えて１０分間撹拌した。得られた溶液を塩化メチレンで
抽出（１００！ｉ２ｘ　３）Ｌ、飽和食塩水で洗浄（１
００屑（７ｘ２）した。
有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥し、溶媒を溜去す
る事によって４．３９のＳ−３，４−ジヒドロキシブチ
ロニトリルアセトニドを油状物として得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）：δ１．３７および１．４
７（２ｓ、６Ｈ）、２．６３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）
、３．６６−４．５０（ｍ、３Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３０００．２２５０．１３９０．
１３８０．１１６０．１０８０．８４０．５２０Ｇ屑 実施例３：３８−ヒドロキシ−４−ベンゾイロキシ−３
，４−ジヒドロキシブチロニトリルの製造 Ｓ−３，４−ジヒドロキシブチロニトリル２０ｇとピリ
ジン１００ｚＲからなる溶液に０℃でベンゾイルクロラ
イド２３．１ｉｆｆを加え、室温で４時間撹拌した後、
水３００＊Ｑを加え、６Ｎ−ＨＣｌ２でｐＨ２とした後
ＣＨｔ　ＣＱ　ｘで抽出（５００ｘＱｘ　２）Ｌ、硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得られ
た油状物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセトン−
２：Ｉ）によって精製し、２７９の５−３−ヒドロキシ
−４−ベンゾイロキシ−３，４−ジヒドロキシブチロニ
トリルを得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣρ３）：６２．７０（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝６Ｈ２）、３．５８−４．０（ｍ、ＩＨ）、４．２
０−４゜６２（ｍ、３Ｈ）、７．２３−７．８２（ｍ、
３Ｈ）、７゜９−８．２４（ｍ、２Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４７５．２２６０．１７３０．
１６１５．１４６０．１２８０．１１３０．７２０ｃｉ
ｔ”−’ 実施例４：５Ｓ−ヒドロキシ−６−ドリフエニルメトキ
シー３−オキソヘキサン酸エチ ルの製造 活性亜鉛６５．４９と乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ
）６００Ｑを混合した溶液に、７０℃でブロモ酢酸エチ
ル１．９ｔｘσを滴下し、２０分間同じ温度で撹拌した
後、５−３−ヒドロキシ−４−トリフェニルメトキシブ
チロニトリル６８．６９を加え、更にブロモ酢酸エチル
８８．９ｍ９を２時間かけてゆっくりと滴下した。反応
液を７０℃で１時間撹拌した後、０℃１こ冷却し６Ｎ塩
酸を加えてｐＨを２とし、室温で３０分間撹拌した。Ｎ
　ａ　ＨＣＯｓを加えてｐｌ（を７とした後、固体を濾
過によって除き、酢酸エチルで抽出した（５００ｉｆ２
Ｘ４）。有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥し、溶媒
を溜去することによって得られた油状物をシリカゲルの
カラム（ヘキサン］アセトン＝６：ｔ）で精製し、６０
゜６ｇの５８−ヒドロキシ−６−ドリフエニルメトキシ
ー３−オキソヘキサン酸エチルを得た。
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）：δ１．２３（ｔ、３Ｈ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、２．７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、２．７
３−３．０　（ｍ、　Ｌ　Ｈ）、３．１３（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝６Ｈｚ）、３．４２（ｓ、ｌＨ）、４．０−４．４
５（ｍ、３Ｈ）、７．０７−７．５６（ｍ、１５Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（８０１Ｔｌ）：３０７０．３０００．１７４０
、Ｉ４３０、Ｉ２７０．９０５．７４０　ｃｘ−’実施
例５：５Ｓ−ヒドロキシ−６−ドリフエニルメトキシー
３−オキソヘキサン酸エチ ルの製造 活性亜鉛１．５５９と乾燥ＴＨＦ１２ｘＱ、を混合した
溶液に、７０６Ｃでブロモ酢酸エチル０　、２　ｆｆＱ
を滴下し、２０分間同じ温度で撹拌した後、Ｓ−３−ヒ
ドロキシ−４−トリフェニルメトキシブチロニトリル１
．３７９を加え、更にブロモ酢酸エチル１．３３ｘ（ｌ
を１時間かけてゆっ（りと滴下した。
反応液を７０℃で２０分間撹拌した後、室温に戻し、Ｔ
ＨＰ３６ｘＱと５０％炭酸カリウム水溶液３ｘ（ｌを加
え、室温で３０分間撹拌した。水５０ＲＱを加え、酢酸
エチルで抽出（１００ｔｔｒＱ×３）した後、溶媒を溜
去して得られた油状物に、アセトニトリル１０頗、水１
０酎及びＩＮ塩酸４ｘＱを加え、室温で３０分間撹拌し
た。アセトニトリルを溜去し酢酸エチル（１００Ｘ３）
で抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を溜去す
ることによって得られた油状物をシリカゲルのカラム（
ヘキサン：アセトン＝６ｉ１）にて精製し、９５３１ｇ
の５８−ヒドロキシ−６−ドリフヱニルメトキシー３−
オキソヘキサン酸エチルを得た。
実施例６；５Ｓ−ヒドロキシ−６−ドリフエニルメトキ
シー３−才キソヘキサン酸ｔ−ブチルの製造 活性亜鉛１．９６９と乾燥ＴＨＦ’３０ｚ（！を混合し
た溶液に、５−３−ヒドロキシ−４−トリフェニルメト
キシブチロニトリル３．４３ＳＦを加えた後、７０℃で
ブロモ酢酸ｔ−ブチル５．０８ｉＱを１時間かけて滴下
した。更に２０分間７０℃で撹拌した後、５℃に冷却し
、６Ｎ−ＨＣｌ２でｐＦ（１，８として、１時間撹拌し
た。飽和Ｎ　ａＨＣＯ３水溶液を加えてｐＨ７とした後
、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで抽出（
１００ｍＱＸ　２）した。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカゲルの
カラム（ヘキサン：アセトン＝５：１）で精製し、２．
９９の５Ｓ−ヒドロキシ−６−ドリフエニルメトキシー
３−オキソヘキサン酸（−ブチルを得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　ＣＱｓ）：６　ｆ　、４３　（ｓ
、　９　Ｈ）、２゜７３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、３
．１２（ｄ、２Ｉ（、Ｊ＝５Ｈｚ）、３．３３（ｓ、２
Ｈ）、４．０−４．３（ｍ、　　ＩＨ）、７．１７−７
．５３（糟、１５Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３６００．
２９７０．１７１Ｏ１１１４０，７００ｃｍ−’ ［α］”−一１４．０（ｃ＝　１．０．ＥｔＯＨ）実施
例７：５８−ヒドロキシ−６−ペンゾイロキシー３−オ
キソヘキサン酸ｔ−ブチルの製造 活性亜鉛１　、９６９（３０ｍｍｏｇ）と乾燥ＴＨＦ３
０Ｒａを混合した溶液に、５−３−ヒドロキシ−４ベン
ゾイロキシブチロニトリル２．０５９を加えた後、７０
℃でブロモ酢酸ｔ−ブチル５，０８１１Ｑを１時間かけ
て滴下した。更に２０分間７０℃で撹拌した後、５℃に
冷却し、６Ｎ−ＨＣｌ２でｐＨＩ、８として１時間撹拌
した。飽和Ｎａｌ−１ｃＯｓ水溶液を加えてｐ）（７と
した後、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで
抽出（１００Ｍ＆Ｘ　２）した。
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得
られた油状物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセト
ン−５；ｌ）で精製し、３５５３！９の５８−ヒドロキ
シ−６−ペンゾイロキシー３−オキソヘキサン酸ｔ−ブ
チルを固体として得た。
ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｅ３）：δＬ、４６（ｓ、９Ｈ）
、２゜８５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．０９（ｄ、
ＩＨ，Ｊ＝４Ｈｚ）、３．４２（ｓ、２Ｈ）、４．３２
−４．６（ｍ、３Ｈ）、７．２６−７．６（ｍ、３Ｈ）
、８．０−８．１１（ｍ、２Ｈ） Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）：３４９５．１７３０．１７００．１
３３５．１２９０．１１５０．７２０ｃｘ−’ｍｐ：６
７〜６８℃ 実施例８：Ｓ−５，６−０−イソプロピリデン−５゜６
−シヒドロキシー３−オキソヘキサ ン酸エチルの製造 活性亜鉛１３．９９（２１，２ｍｍｏｆｆ）と乾燥ＴＨ
Ｆ１００屑Ｑを混合した溶液に、Ｓ−３，４−０−イソ
プロピリデン−３，４−ジヒドロキシブチロニトリル１
０ｇを加えた後、６０℃でブロモ酢酸エチル２３．６ｘ
Ｑを１時間かけて滴下し、滴下終了後、更に１時間６０
℃で攪拌した。５℃に冷却し、６Ｎ−Ｔ（ＣＱでｐＨ２
，５として３０分間撹拌した。
５Ｎ−ＮａＯＨでｐＨ７とした後、Ｎ　ａＨＣＯｘ　１
０９を加え、固体を濾去し、溶液を酢酸エチルで抽出（
１５０Ｍ（１×２）ｔ、た。硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を溜去する事により得られた油状物をシリカゲルの
カラム（ヘキサン：アセトン＝４：ｌ）によって精製し
、１２．４９のＳ−５，６−０−イソプロピリデン−５
，６−シヒドロキシー３−オキソヘキサン酸エチルを得
た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１２，）：δ３．２８（ｔ、３Ｈ
，Ｊ＝６Ｈｚ）、１．３５および１．４２（２ｓ、６Ｈ
）、２゜７５−２．９８（ｍ、２Ｈ）、３．４８（ｓ、
２Ｈ）、３゜４５−３．６８（ｍ、ＩＨ）、４．１５（
ｑ、２Ｈ）、４゜０−４．８（ｍ、２Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：　２９９０．１７４０．１７２０
．１２４０．１０７０ｃｘ”” 〔αコ”＝５．２　１（ｃ＝１．２．ＥｔＯＨ）実施例
９：Ｓ−５，６−０−イソプロピリデン−５゜６−シヒ
ドロキシー３−オキソヘキサ ン酸ｔ−ブチルの製造 活性亜鉛３．９２９と乾燥ＴＨＦ６０ｍ１２を混合した
溶液に、Ｓ−３，４−０−イソプロピリデン−３，４−
ジヒドロキシブチロニトリル２．８２９を加えた後、７
０℃でブロモ酢酸ｔ−ブチル９．６９１Ｑを１時間かけ
て滴下した。更に２０分間７０℃で撹拌した後、５℃に
冷却し、６Ｎ−ＨＣｆ２でｐＨ２，５として１時間撹拌
した。飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ水溶液を加えてｐＨ７とした
後、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで抽出
（２００＋ｖ（１×２）した。硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカゲ
ルのカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）によって
精製し、３．６９のＳ−５，６−０−イソプロピリデン
−５゜６−シヒドロキシー３−オキソヘキサン酸し一ブ
チルを得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣρ、）：δｌ、３７および１．４
３（２ｓ、６Ｈ）、１．５０（ｓ、９Ｈ）、２．７３−
３．０（＋ｎ、　２　Ｈ）、３．３５（ｓ、２Ｈ）、３
．４５−３．７（ｍ。
ＩＨ）、４．０７−４．６３（ａ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅ
ａｔ）：　２９９０．１７４０．１７２０．１３７０．
１１７０ｃｘ−’ ［α］”＝６．５９（ｃ＝１．１４．ＥｔＯＨ）実施例
１０：３．５−ジヒドロキシ−６−トリフェニルメトキ
シヘキサン酸エチルの製 乾燥ＴＨＦ８ｘｆ２と乾燥ＥｔＯＨ２ａ＋Ｃの混合溶液
に一７０℃で水素化ホウ素ナトリウム５７ｒ１９を加え
、そのままの温度で２時間撹拌した後、飽和Ｎ）［、Ｃ
ｉ２水溶液２０ｙｔＱを加え、室温で３０分間撹拌した
。ＣＨｔＣ１２ｔで抽出（Ｌ　ＯＱ＊ｉ２Ｘ　３）した
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を溜去することによ
って得られた油状物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：
アセトン−３：ｌ）で精製し、４１５ｉ９の３．５−ジ
ヒドロキン−６−トリフェニルメトキシヘキサン酸エチ
ルを得た。得られた生成物はＩ（ＰＬＣ分析により、６
６：３７のモル比で、（３Ｒ１５Ｓ）及び（３Ｓ、５Ｓ
）体を含むことが確認された。
なおＨＰＬＣの測定条件は以下の通りである：カラム：
ファインバック（Ｆ　ｉｎｅ　　ｐａｋ）Ｓ　Ｉ　ＬＣ
＋ｓ−Ｊ日本分光（株）製）４．６ｍｍＩＤＸ２０ｍｍ カラム温度；４０℃ 移動相：水／アセトニトリル＝　６５　／　３５　（ｖ
／ｖ）流速：　１　、５　ｘ（１／　ｌｌｌ１ｎ検出：
２１０ｇｍ 実施例１１：（３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−６−トリ
フェニルメトキシヘキサン酸エチ ルの製造 乾燥ＴＨＦ３３６ｘＱと乾燥ＭｅＯＨ８４ｘＱの混合溶
媒に、トリエチルボランＩＭ　　ＴＨＦ溶液４６　、２
　ｚ（ｌを室温で加え、そのままの温度で１時間撹拌し
た後、−７０℃で５８−ヒドロキン−６−ドリフエニル
メトキシー３−オキソヘキサン酸エチル１３．３９のＴ
ＨＰ３０ｄ溶液を加え、−７０℃で３０分間撹拌した。
水素化ホウ素ナトリウム１．４９ｇを加え、−７０℃で
２時間撹拌した後、飽和ＮＨ４Ｃｆ２水溶液２００ｘＱ
を冷却したまま徐々に加え、更に飽和ＮＨ，ＯＱ水溶液
２００祿とＥｔＯＨ１００１１２，３０％過酸化水素水
１００スＣの混合物を徐々に加えて室温で３０分間撹拌
した。ＴＨＦを減圧溜去した後、塩化メチレンで抽出し
く５００ｇ（ｂｃ３）、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を溜去することによって得られた油状物をシリカゲルの
カラム（ヘキサン：アセトン＝３：ｌ）によって精製し
、１２．６９の３．５−ジヒドロキシ−６−トリフェニ
ルメトキシヘキサン酸を得た。得られた生成物は）ＩＰ
Ｌｃ分析により、９５；５のモル比で（３Ｒ，５Ｓ）異
性体を有利に含むことが確認された。
実施例１２：（３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−６−ベン
ゾイロキシヘキサン酸ｔ−ブチルの 製造 乾燥ＴＨＦＩ７．１罰と乾燥ＭｅＯＨ８，６酎の混合溶
液に、トリエチルボランＩＭＴＨＦ溶液９．３５ｘＱを
室温で加え、そのままの温度で１時間撹拌した後、−８
０℃で５８−ヒドロキシ−６−ペンゾイロキシー３−オ
キソヘキサン酸ｔ−ブチル２．３７６ｇを加え、−８０
℃で４０分間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム３６
４１１９を加え、そのままの温度で更に２時間撹拌した
。徐々に０℃に昇温しながら飽和Ｎ　Ｈ、Ｃρ水溶液２
５ｘＱを加え、３０分間撹拌後、３０％過酸化水素水１
２゜５村とＥｔＯＨ］２．５ｉＱからなる溶液を加え、
更に３０分間撹拌した。ＴＨＦ’とＥｔＯＨを溜去した
後、ＣＨｔ　Ｃムで抽出（１００肩ρ×２）し、硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事により得られた油
状物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセトン＝５：
ｌ）によって精製し、２．２９の３，５ジヒドロキシ−
６−ベンゾイロキシヘキサン酸（−ブチルが得られた。
得られた生成物はＨＰＬＣ分析により、９８；２のモル
比で（３Ｒ，５Ｓ）異性体を有利に含む事が確認された
。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：δ１．４７　（ｓ、　９　
Ｈ）、１゜６３−１．８２（＋＋＋、２Ｈ）、２．４５
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、４．１−４．３（ｍ、４Ｈ
）、７．３２−７．７（ｍ。
３Ｈ）、８．０−８．２２（ｍ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａ
ｔ）：３４５０．３０００．１７３０．１０４０．８５
０．７２０Ｃ置−電 実施例１３：（３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−６−ベン
ゾイロキシヘキサン酸ｔ−ブチルの 製造 ５Ｓ−ヒドロキシ−６−ベンゾイロキシ−３−オキソヘ
キサン酸ｔ−ブチル２００１９と乾燥ＴＨＦ２ｘＱから
なる溶液に、−７５℃でジイソブチルアルミニウムハイ
ドライドの１Ｍヘキサン溶液」２４蛙を加え、−７５℃
で４．５時間撹拌した。
徐々に０℃に昇温しながらＩＮ−ＨＣ＆でｐＨ７とした
後、酢酸エチルで抽出（ｌｏｉＱ、Ｘ２）Ｌ、硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を溜去する事により得られた油状
物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセトン＝５：１
）によって精製し、１９０′Ｒ９の３゜５−ジヒドロキ
シ−〇−ベンゾイロキシヘキサン酸ｔ−ブチルを得た。
得られた生成物は）ＩＰＬＣ分析により、８０：２０の
比率で（３Ｒ，５Ｓ）異性体を有利に含む事が確認され
た。
実施例１４　：（３Ｒ，５５）−５，６−０−イソプロ
ピリデン−３，５，６−ドリヒドロキ シヘキサン酸エチルの製造 水素化ホウ素リチウムのＩＭ　　ＴＨＰ溶液２９好を一
７０℃に冷却し、Ｓ−５，６−０−イソプロピリデン−
５，６−シヒドロキシー３−オキソヘキサン酸エチル３
．３４！Ｑと乾燥ＴＨＦ４．３ｆｆ（からなる溶液を１
時間かけて滴下した後、更に７０℃で２時間撹拌した。
−７０℃から０℃に昇温しながら２Ｎ−ＨＣＱ１２ｙｔ
（ｌを加えてｐＨ７とした後、ＴＨＦを溜去し、酢酸エ
チルで抽出（５０村ｘ２）した。硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカ
ゲルのカラム（ヘキサン：アセトン＝５：ｌ）にて精製
する事により２．９９の５．６−０−イソプロピリデン
−３，５，６−）ジヒドロキシヘキサン酸エチルを得た
。得られた生成物はＨＰＬＣ分析により７８：２２のモ
ル比で（３Ｒ，５Ｓ）異性体を有利に含むことが確認さ
れた。なおＨＰＬＣの測定条件は以下の通りである。
カラム；キラールセル（Ｃｈｉｒａｌ　　Ｃｅ１ｌ）Ｏ
Ｊ　（ダイセル（株）製）４．６ｍｌ１ｌ　ＤＸ２５０
ｍｍカラム温度：２５℃ 移動相：ヘキサン／イソプロパツール＝９２／８（ｖ／
ｖ） 流速：　０　、９　ｘＱ／　ｗｉｎ 検出：２１Ｏｎ１１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　ＣＩ２．）：δ１．２７　（ｔ、
３　Ｈ，Ｊ　＝６Ｈｚ）、１．３５および１．４（２ｓ
、６Ｈ）、１．６３−１．９３（ｍ、２Ｈ）、２．５０
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．２−３．７４（ｍ、２
Ｈ）、４．０１−４．５３（ｍ、５Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４７０．３０００．１７３０．
１３８０、１１８０、ｌ　　１６０ｃｘ＝実施例１５　
：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ−３，５−０−
イソプロピリデン−３゜ ５−ジヒドロキシヘキサン酸し一ブチ ルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−６−ベンゾイロキシヘ
キサン酸ｔ−ブチル８．９４９とＣＨ，Ｃｌ２ｔ２２．
５酎の混合溶液に、２．２−ジメトキシプロパン３５．
８ｘＱとｐ−１ルエンスルホン酸２６９肩りを加え、室
温で４時間撹拌した後、飽和ＮａＨＣＯｓ水溶液５００
ｘＱを加えた。水層と有機層を分液した後、水層をＣＨ
ｔ　ＣＱ　ｔで抽出しく２０好×２）、合せた有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得
られた油状物をシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセト
ン＝１０：ｆ）で精製する事により７．２４９の（３Ｒ
，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシ−３，５−０−イソプロ
ピリデン−３，５ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルを
結晶として得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３）：δ１．４４（ｓ、９Ｈ
）、■。
４５（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝３Ｈｚ）、１．５５−１．５９（
ｍ２Ｉ（）、２．３５−２．４６（ｍ、２Ｈ）、４．２
２−４゜３７（ｍ、４Ｈ）、７．４３−７．５９（ｍ、
３Ｈ）、８０−８　、１　Ｃｍ、２Ｈ） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）：　２　９　７　５　、　１７２
０、　　ｌ　２７０、　１１５０、Ｉ　１００．７１８
Ｃ肩−１ ｍｐ：５５〜５６℃ 実施例１６　：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ−
３，５−０−イソブチリデン−３，５ −ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチル の製造 （３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−６−ベンゾイロキシヘ
キサン酸ｔ−ブチル１９とＣＨｔＣＱｔ５ｔｘＱの混合
溶液にイソブチルアルデヒドｌ村とｐ−トルエンスルホ
ン酸１０１９を加え、室温で３時間撹拌した後、飽和Ｎ
　ａＨＣＯｓ水溶液２ｊＩＱを加えた。有機層と水層を
分液した後、水層をＣＨｔ　ＣＱｔで抽出しく５０ＪＩ
Ｉ２Ｘ２）、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する
事によって得られた油状物をシリカゲルのカラム（ヘキ
サン：アセトン＝ＩＯ＋１）によって精製し、８０８１
１９の（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−
０−イソブチリデン−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸
ｔ−ブチルを油状物として得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ＋２３）：δ０．９３（ｄ、６１
−（、Ｊ＝６Ｈ２）、　　１．４５（ｓ、９Ｈ）、　　
１．５７−２．０３（ｍ。
３Ｈ）、２．４−２．６（ｍ、２Ｈ）、３．９−４．２
７（ｍ、２Ｈ）、４．２７−４．９３（ｍ、ＩＨ）、７
．２６−７．７３（ｍ、３Ｈ）、７．９８−８．２（ｍ
、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３０００．１７２５．１
４００．１３１０．１０６０．７５０ｃｍ−’ 実施例１７　：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ３
．５−０−シクロへキシルメチレン −３，５−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ ブチルの製造 アルデヒドとしてイソブチルアルデヒドの代りにシクロ
ヘキサンカルボキシアルデヒド５２１ｊＩ９を用いる他
は、実施例１６と同様に反応、後処理及び精製を行い、
８１１ｇ９の（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３
．５−０−シクロｌ＼キルメチレンー３，５−ジヒドロ
キシヘキサン酸ｔ−ブチルを油状物として得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３）：δ０．９３−２．０（
ｍ、１３Ｈ）、１．４（ｓ、９Ｈ）、２．３７−２．５
８＜ｍ、２Ｈ）、３．８０−４゜１７（Ｉｌｌ、２Ｈ）
、４．１７−４゜４（ｍ、３Ｈ）、７．２８−７．６５
（ｍ、３Ｈ）、７．９２−８．１（＋ｎ、３　Ｈ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：２９５０．１７６０．１４９０．
１４１０、ｌ３２０．１０７０．７６０ｃｍ＝実施例１
８　：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ−３，５−
０−エチリデン−３，５−ジ ヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルの製 造 アルデヒドとしてイソブチルアルデヒドの代りにアセト
アルデヒド１ｉ＆を用いる他は実施例Ｉ６と同様に反応
、後処理及び精製を行い、７３３Ｍ９の（３Ｒ，５Ｓ）
−６−ベンゾイロキシ−３５−〇−エチリデンー３．５
−ジヒドロキシヘキサン酸ｔブチルを油状物として得た
。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：δ０．３３（ｄ、：Ｈ−
（、Ｊ＝４Ｈｚ）、１．４３（ｓ、９Ｈ）、１．５６−
１．８７（ｍ。
２Ｉ］）、２．４６（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．９
９−４２５（，２Ｈ）、４．３６（ｄ、２Ｈ，Ｊ　＝４
　Ｈｚ）、４．７７（Ｑ、１）ｆ、Ｊ＝４）（Ｚ）、７
．３７−７．６６（ｍ。
３Ｈ）、８．０３−８．２３（ｍ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅ
ａｔ）：　３０００．１７２０．１３７０．９６０．８
５０．７２０　ｃｒ 実施例１９　：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ３
．５−Ｏ−（１−メチルプロピリデ ン）−３，５−ジヒドロキシヘキサン 酸ｔ−ブチルの製造 ｐ−）ルエンスルホン酸−水和物ｚｌｘｇ（０゜５８ｍ
ｍｏｌ）及びオルトギ酸メチル０．５８ｘｆｆ（５，３
ｍｍｏｌ）を塩化メチレン９ｍＱに溶解し、水冷下、メ
チルエチルケトン３　、６　ｍ１２（４０ｍｍｏりを５
分間かけて滴下した。１０分後、室温に戻し、２時間撹
拌後、これを、（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキンー
３．５−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルｌ。
０９９（３、４ｍｍｏｌ）／塩化メチレン０　、５　ｍ
Ｑの溶液へ加えた。１時間後、２時間後に、それぞれオ
ルトギ酸メチル０．５８ｘ（２を加え、３時間後５村の
５％Ｎ　ａＨＣＯｓ水溶液を加え、撹拌後、塩化メチレ
ン（３０１ｉ２Ｘ２）で抽出した。抽出物を無水Ｎａｔ
ＳＯ４で乾燥後、濾別減圧濃縮により、茶色の油状物を
ｔ、ｔｓ９得た。これを、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ヘキサン；アセトン＝１００：ｌ）により精
製し、（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−
Ｏ−（１−メチルプロピリデン）３．５−ジヒドロキシ
ヘキサン酸ｔ−ブチル０゜７２９（１，９ｍｍｏｌ、５
７％）を無色油状物として得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）：δ０．９１（３Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６Ｈ２）、１．４３　（９Ｈ，ｓ）、１．３〜２．
１（７Ｈ。
ｍ）、２．２〜２．７（２Ｈ，ｍ）、４．１〜４．５（
４Ｈ。
ｍ）、７．３〜７．７（３Ｈ，ｍ）、８．０〜’８．２
（２Ｈ。
ｍ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：２９８０．１７２０．１６１０．
１４６０、ｌ３８０．１２９０．１１７０．９７０．８
６０．７３０　ｃｍ−’ ［α］”＝＋　１．３３°　（ｃｍ　１．０５２．Ｍｅ
ＯＨ）実施例２０　：（３Ｒ，５Ｓ’）−６−ベンゾイ
ロキシ−３，５−０−（１，３−ジメチルブチリデン）
−３，５−ジヒドロキシヘキサ ン酸ｔ−ブチルの製造 メチルエチルケトンの代わりにメチルイソブチルケトン
を用いて実施例１９と同様の反応を行なったところ、（
３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロキシ−３，５−０−（１
，３−ジメチルブチリデン）−３゜５−ジヒドロキシヘ
キサン酸ｔ−ブチルを無色油状物として４０％の収率で
得た。
Ｊ（−ＮＭＲ（ＣＤＣρ、）；δ０．９２（６Ｈ，ｄ、
Ｊ−６Ｈｚ）、１．４３　（９Ｈ，ｓ）、１．２〜２．
１（８Ｈｍ）、２．１〜２．６（２Ｈ，ｍ）、４．０〜
４．５（４Ｈ。
ｍ）、７．３〜７．６（３Ｈ，＋＋＋）、７．９〜８．
２（２Ｈ。
ｍ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：２９７５．１７３０．１６１５、
ｌ４６０．１３８０．１２９５．１１６５．９６５．８
６０．７３０ｃ１１−電 ［α］″０−−０．７０°　（ｃｍ　１　、１３６　、
ＭｅＯＨ）実施例２１　：（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾ
イロキシ−３，５−０−シクロへキシリデン−３゜５−
ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチ チルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−ジヒド
ロキシヘキサン酸ｔ−ブチル６０８ｙ９（１，８７ｍｍ
ｏｌ）と１．１−ジメトキシシクロヘキサン０゜５８　
ｘ（２（３、７９ｍｍｏｌ）を３１１Ｑの塩化メチレン
に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物１８ａｔｙ
（０゜０９　ｍＴＩＩｏｌ）を加えて、室温で１７時間
撹拌した。
さらに１１−ジメトキシシクロヘキサン０．２９ａＱ（
１、８９ｍｍｏｌ）を加え、２時間反応させた後、５％
Ｎ　ａ　ＨＣＯｓ水溶液５ｘＱを加え、５分間撹拌した
。塩化メチレン（２０ｉｏ、Ｘ２）で抽出し、無水Ｎ　
ａｍ　Ｓ　Ｏ４で乾燥をした後、濾別、減圧濃縮により
、茶色の油状物を得た。これを、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：アセトン＝１００：１．５
）により精製すると無色の油状物（一部面化）３９０ｉ
９を得た。これをヘキサンから結晶化させて、無色の結
晶として（３Ｒ，５Ｓ）−６ペンゾイロキシー３．５−
０−シクロへキシリデン−１３，５−ジヒドロキシヘキ
サン酸ｔ−ブチル２９０ｎ（０，７２ｍｍｏｌ、３８％
）を得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ）：δ１．４３（９Ｈ，ｓ）、
１゜２〜２．１（１２Ｈ，＋ａ）、２．２〜２．６（２
Ｈ，ｍ）、４．１〜４．５（４Ｈ，ｍ）、７．３〜７．
６（３Ｈ，ｍ）、７．９〜８．２（２Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）：２９５０．１７２０．１２８０．１
２６０、ｌ１５５．１１２０．９８５．７３５Ｃ肩−１ ［α］”＝　−０、７９°（ｃｍ　１　、００４　、Ｍ
ｅＯＨ）ｍｐ、ニア８〜８０℃ 実施例２２：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−イソプロピリデ
ン−３，５，６−）リヒドロキシへ キサン酸ｔ−ブチルの製造 （３１’（，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−０
−イソプロピリデン−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸
ｔ−ブチル３．６４９とＭｅＯ８３６ｚＱを混合した溶
液にＩ　Ｎ−ＮａＯＨ１０１Ｑを加え、室温で２時間撹
拌した。反応液に水冷しながらＩＮ−ＨＣＱを徐々に加
えてｐＨ７にした後、ＭｅＯＨを減圧溜去し、残った水
溶液をＣＨｔＣＱ２で抽出（７０ｍ＆Ｘ２）した。ＣＨ
ｔ　ＣＱｔ層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜
去する事によって得られた油状物をシリカゲルのカラム
（ヘキサン・アセトン５：１）にて精製し２．３４９の
（３Ｒ，５Ｓ）−３，５０−イソプロピリデン−３，５
，６−ドリヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルを油状物と
して得た。
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ（２ａ）・δ１．４５（ｄ、６Ｈ，
Ｊ−４Ｈｚ）、１．４７（ｓ、９Ｈ）、１．５−１．８
２（ｍ、２Ｈ）、２．３２−２．７１（ｍ、３Ｈ）、３
．４４−３゜６８（ｍ、２Ｈ）、３．８２−４．４３（
ｍ、２Ｈ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：２９８０．１７２０．
１３６５．１２００．１１５０、Ｉ　Ｏ２０ｃｘ＝ ［αコ”＝−５，９０（ｃ＝２．０．ＭｅＯＨ）実施例
２３：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−０−イソブチリデン−
３，５，６−ドリヒドロキシ ヘキサン酸し一ブヂルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−０−イ
ソブチリデン−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブ
チル５００ｘｇをＭｅＯＨ５ｘρに溶解し、室温で５分
間かけてＩ　Ｎ−ＮａＯＨ１，３８ｉ。を加えた。その
まま２，５時間撹拌した後、水１０ｍ（１を加えて、Ｉ
Ｎ−ＨＣ（！で中和（ｐＨ７）した。塩化メチレン（２
５１１Ｉ２×２）テ抽出し、無水Ｎ　ａｔ　Ｓ　Ｏ４で
乾燥後、溶媒を溜去し、無色油状物３６２ｔ７を得た。
これをシリカゲルのカラム（ヘキサン：アセトン＝ＩＯ
：Ｉ）により精製して、２９２ｉＬｊの（３）１，５Ｓ
）−３，５−０−イソブチリデン−３，５６−ドリヒド
ロキシヘキサン酸し一ブチルを無色油状物として得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ）；δ０．９３３（ｄ、６
Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、１．４２（ｓ、９Ｈ）、１．５６−
２．３６（ｍ、　３　Ｈ）、２．３４−２．５８（ｍ、
２Ｈ）、３．４６４．２３　（ｍ、４　Ｈ’）、４．３
（ｄ、Ｉ　Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０
０，３０００，１７４０，１４９５、ｌ０４０．９８０
．　８６０ｃ（’実施例２４：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５
−０−シクロへキシルメチレン−３，５，６−ドリヒ ドロキシヘキサン酸ドブチルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−□−シ
クロへキシルメチレン−３，５−ジヒドロキシヘキサン
酸（−ブチル５００ｔｘｇを実施例２３と同様にしてＩ
　Ｎ−ＮａＯＨ１：２ｘＲで処理した後、後処理及びシ
リカゲルカラム（ヘキサン：アセトン＝ｌＯ：１）によ
る精製を行う事により３１３ｊｙの（３ｒ（，５Ｓ’）
−３，５−０−シクロへキシルメチレン−３，５，６−
ドリヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルを無色油状物とし
て得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１２３）：δ０，８７−２．２
２（ｍ。
ＩＨ）、２．３３−２．５２（ｎ＋、２Ｈ）、３．４４
８−４１６（，４Ｈ）、４．２５（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４５０．２９３０，１７２
０１１４６０．１３７０．１１５０，１０３０，８５０
゜７４０ｃｍ−重 実施例２５：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−０−ｃチリデン
−３，５，６−）ジヒドロキシヘキ サン酸し一ブチルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３５−。
〜エチリデンー３．５−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブ
チル５００ｍｇを実施例２３と同様にしてｌＮ−ＮａＯ
Ｈ１，５ｘ１２で処理した後、後処理及びンリカゲルカ
ラム（ヘキサン：アセトン＝１０：１）ｌこよる精製を
行う事により２２６ｏの（３Ｒ，５Ｓ）３．５−０−エ
チリデン−３，５，６−）ジヒドロキシヘキサン酸ドブ
チルを無色油状物として得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２３）：δ１．３３（ｄ、３ＨＪ
＝６Ｈｚ）、１．４２（ｓ、９Ｈ）、１．７７−２．３
６（＋＋＋２Ｈ５）、２．４８（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ
）、３．５−４゜３２（ｍ、４Ｈ）、４．８３（ｑ、Ｉ
Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４５０，３００
０，１７３０Ｓ１３８０、＋１６０．１０３５．９６０
　ｃｘ−’実施例２６：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−Ｏ−
（１−１デルプロピリデン）−３，５，６−ドリヒドロ
キシヘキサン酸ｔ−ブチルの製造 実施例１９で得られた（３Ｒ，５Ｓ）−６−ベンゾイロ
キシ−３，５−Ｏ−（ＩＴメチルプロピリデン）−３，
５−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチル０．４２９（１
，１ｍｍｏｌ）をメタノール４ｉ（２に溶かし、室温で
５分間かけてｌＮ−ＮａＯＨ１，４１（１，４ｍｍｏｌ
）を加えた。そのまま１時間撹拌した後、水１０次Ｑを
加えてｌＮ−ＭＣＩ２で中和（ｐＨ７）した。
塩化メチレン（２５ｘ９Ｘ２）で抽出し、無水ＮａｔＳ
Ｏ４で乾燥、濾別後、減圧濃縮し、無色油状物０゜４０
９を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキ
サン：アセトン＝１００＋４）で精製して、（３Ｒ，５
Ｓ）−３，５−〇−（ｋｌチルプロピリデン）−３，５
，６−ドリヒドロキシヘキサン酸ｔブチルを無色油状物
として２８０次ｇ（１、Ｏｍｍｏｌ。
９２％）得た。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ２ａ）：δ０．９２（３Ｈ，ｔ
、Ｊ　−７，５Ｈｚ）、１．４５　（９Ｈ，ｓ）、１．
２〜１．９（７Ｈ，ｍ）、２　、１　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ−
ｓ）、２．１〜２．６（２Ｈ。
ｍ）、３．４〜３．７（２Ｈ，ｍ）、３．８〜４．２（
Ｉ　Ｉ（。
ｍ）、４．１〜４．５（ＩＨ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：　３４５０．２９７０．１７３５
．１３８０、１１６０．９５５．８５０　ｃｍ”−’［
α］”＝−１０，３５°　（ｃｍ　Ｉ　、　０２４　、
ＭｅＯＨ）実施例２７：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−０−
’（１，３ジメチルブヂリデン）−３，５，６−’）ジ
ヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチルの 製造 （３ｒ（，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−Ｏ−
（１−メチルプロピリデン）−３，５−ジヒドロキシヘ
キサン酸ｔ−ブチルの代わりに（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペ
ンゾイロキシー３．５−０−（１，３−ツメチルブチリ
デン）−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸し−ブチル（
実施例２０で得たもの）を用いて実施例２６と同様の反
応を行なったところ、無色の油状物として、（３Ｒ，５
Ｓ）−３，５−０−（１。
３−ジメチルブチリデン）−３，５，６−１−ジヒドロ
キシヘキサン酸ｔ−ブチルを得た。収率８１％。
’Ｈ−ＮＭＲＣＣＤＣＱ３＞：δ０．９３（６Ｆ（、ｄ
、Ｊ６！（ｚ）、１．４５（９Ｈ，ｓ）、１．２〜２．
０（８）（ｍ）、２．２〜２．６（３Ｈ，ｍ）、３．４
〜３．７（２Ｈ。
ｍ）、３．９〜４．２（ＩＨ，ｍ）、４．１−４．５（
ＩＨＩ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３５００．２９８０．１７４
０．１３８５．１２６５．１１６０．９６５．８６０ｃ
ｙｒ−’ ［α］”＝−１２，１８”　（ｃ；１．０３４．ＭｅＯ
Ｈ）実施例２８：（３Ｒ，５Ｓ）−３，５−０−シクロ
へキシリデン−３，５，６−）ジヒドロ キシヘキサン酸ｔ−ブチルの製造 （３Ｒ，５Ｓ）−６−ペンゾイロキシー３．５−０（ｌ
−メチルプロピリデン）−３，５−ジヒドロキシヘキサ
ン酸し一ブチルの代わりに、（３Ｒ，５Ｓ）−６−ペン
ゾイロキシー３．５−０−シクロへキシリデン−３，５
−ジヒドロキシヘキサン酸ｔ−ブチル（実施例２１で得
たもの）を用いて、実施例２６と同様の反応を行なった
ところ、無色の油状物として、（３Ｒ，６Ｓ）−３，５
−０−シクロヘキシリデン−３，５，６−ドリヒドロキ
シヘキサン酸ｔ−ブチルを得た。収率８５％。
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣら）：δ１．４７　（９Ｈ，ｓ）
、ｌ。
０〜２．２（１２Ｈ，ｍ）、１．２７（ＩＨ，ｂｒ−ｓ
）、２゜１〜２．６（２Ｈ，ｍ）、３．３〜３．７（２
Ｈ，ｍ）、３９〜４．３（ＩＨ，ｍ）、４．２〜４．５
（ｌ　Ｈ，ｍ）ｒ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４７０．２９６
０．１７４０．１３８０．１１７０．９８０ｃｍ＝ 特許出願人鐘淵化学工業株式会社 代理人　弁理士　前出　葆　はか１名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｐ＾１およびＰ＾２は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもあり、Ｒはア
    ルキル基を表す。］ で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｐ＾１およびＰ＾２は前記と同意義である。］
    で示されるブチロニトリル誘導体と、式（III）：▲数
    式、化学式、表等があります▼（III） ［式中、Ｘはハロゲンを表し、Ｒは前記と同意義である
    。］ で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および／また
    は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式（IV）：▲数式、化
    学式、表等があります▼（IV） ［式中、Ｐ＾１、Ｐ＾２およびＲは前記と同意義である
    。］で示されるケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸
    誘導体を還元することを含んで成る方法。 ２、式（II）で示されるブチロニトリル誘導体として光
    学活性（３Ｓ）−ブチロニトリル誘導体を用い、式（
    I ）で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸
    誘導体として光学活性（５Ｓ）−トリヒドロキシヘキサ
    ン酸誘導体を製造する請求項１記載の製造方法。 ３、式（II）で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） ［式中、Ｔｒはトリフェニルメチル基を表す。］で示さ
    れる化合物を用いる請求項１または２記載の製造方法。 ４、式（II）で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式（IIｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｂ） ［式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は水素、アルキル基もしく
    はアリール基を表すか、または共同でシクロペンチル基
    もしくはシクロヘキシル基を形成している。］ で示される化合物を用いる請求項１または２記載の製造
    方法。 ５、式（II）で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式（IIｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｃ） ［式中、Ｒ＾３およびＲ＾４はアルキル基またはアリー
    ル基を表す。］ で示される化合物を用いる請求項１または２記載の製造
    方法。 ６、式（II）で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式（IIｄ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｄ） ［式中、Ｒ＾５は水素、アルキル基、アルコキシ基また
    はハロゲンを表す。］ で示される化合物を用いる請求項１または２記載の製造
    方法。 ７、式（III）で示されるα−ハロ酢酸エステルとして
    、Ｘが臭素原子である化合物を用いる請求項１から６の
    いずれかに記載の製造方法。 ８、式（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ［式中、Ｑ＾１およびＱ＾２は水酸基の保護基を表し、
    共同で環を形成していることもあり、Ｒはアルキル基を
    表す。］ で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｐ＾１およびＰ＾２は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもある。］で示
    されるブチロニトリル誘導体と、式（III）：▲数式、
    化学式、表等があります▼（III） ［式中、Ｘはハロゲンを表し、Ｒは前記と同意義である
    。］ で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および／また
    は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式（IV）：▲数式、化
    学式、表等があります▼（IV） ［式中、Ｐ＾１、Ｐ＾２およびＲは前記と同意義である
    。］で示されるケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸
    誘導体を還元して、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｐ＾１、Ｐ＾２およびＲは前記と同意義である
    。］で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸
    誘導体となし、更にすべての水酸基を保護して、式（V
    I）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） ［式中、Ｑ＾３は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を
    表し、Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＲは前記と同意義である。 ］で示される誘導体を得、次いで保護基Ｑ＾３のみを選
    択的に脱離することを含んで成る方法。 ９、式（Ｖ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ［式中、Ｑ＾１およびＱ＾２は水酸基の保護基を表し、
    共同で環を形成していることもあり、Ｒはアルキル基を
    表す。］ で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｐ＾１およびＰ＾２は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもあり、Ｒは前
    記と同意義である。］ で示される３，５，６−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体のすべての水酸基を保護して、式（VI）：▲数式、化
    学式、表等があります▼（VI） ［式中、Ｑ＾３は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を
    表し、Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＲは前記と同意義である。 ］で示される誘導体を得、次いで保護基Ｑ＾３のみを選
    択的に脱離することを含んで成る方法。 １０、Ｐ＾１がトリフェニルメチル基、置換されていて
    もよいベンゾイル基または第３級ブチルジメチルシリル
    基であり、Ｐ＾２が水素である式（II）で示される化合
    物。 １１、式（VIａ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VIａ） ［式中、Ｒ＾６はトリフェニルメチル基、置換されてい
    てもよいベンゾイル基または第３級ブチルジメチルシリ
    ル基を表し、Ｒ＾７およびＲ＾８は水素、アルキル基も
    しくはアリール基を表すか、またはシクロペンチル基も
    しくはシクロヘキシル基を形成しており、Ｒは前記と同
    意義である。］ で示される化合物。 １２、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８がメ
    チル基、Ｒがｔ−ブチル基である請求項１１記載の化合
    物。 １３、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方が水素、他方がイソプロピル基、Ｒがｔ−ブチル基で
    ある請求項１１記載の化合物。 １４、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方が水素、他方がシクロヘキシル基、Ｒがｔ−ブチル基
    である請求項１１記載の化合物。 １５、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方が水素、他方がメチル基、Ｒがｔ−ブチル基である請
    求項１１記載の化合物。 １６、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方が水素、他方がフェニル基、Ｒがｔ−ブチル基である
    請求項１１記載の化合物。 １７、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方がメチル基、他方がエチル基、Ｒがｔ−ブチル基であ
    る請求項１１記載の化合物。 １８、Ｒ＾６がベンゾイル基、Ｒ＾７およびＲ＾８の一
    方がメチル基、他方がイソブチル基、Ｒがｔ−ブチル基
    である請求項１１記載の化合物。 １９、Ｒ＾６がベンゾイル基であり、Ｒ＾７およびＲ＾
    ８が共同でシクロヘキシル基を形成しており、Ｒがｔ−
    ブチル基である請求項１１記載の化合物。
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