JPH02252706A - スチレン系重合体の製造方法 - Google Patents
スチレン系重合体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はスチレン系重合体の製造方法に関し、詳しくは
重合体連鎖の立体化学構造が主、とじてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体を効率よく製造する
方法に関する。
重合体連鎖の立体化学構造が主、とじてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体を効率よく製造する
方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来か
らラジカル重合法等により製造されるスチレン系重合体
は、その立体構造がアタクチック構造を有しており、種
々の成形法、例えば射出成形、押出成形、中空成形、真
空成形、注入成形などの方法によって、様々な形状のも
のに成形され、家庭電気器具、事務機器、家庭用品、包
装容器。
らラジカル重合法等により製造されるスチレン系重合体
は、その立体構造がアタクチック構造を有しており、種
々の成形法、例えば射出成形、押出成形、中空成形、真
空成形、注入成形などの方法によって、様々な形状のも
のに成形され、家庭電気器具、事務機器、家庭用品、包
装容器。
玩具、家具9合成紙その他産業資材などとして幅広く用
いられている。
いられている。
しかしながら、このようなアタクチック構造のスチレン
系重合体は、耐熱性、耐薬品性に劣るという欠点があっ
た。
系重合体は、耐熱性、耐薬品性に劣るという欠点があっ
た。
ところで、本発明者らのグループは、先般、シンジオタ
クテイシテイ−の高いスチレン系重合体を開発すること
に成功し、さらに(A)チタン化合物及び(B)有機ア
ルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物(アルキルア
ルミノキサン)からなる二成分系触媒を用いることによ
りシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体が
得られることを示した(特開昭62−187708号公
報)。
クテイシテイ−の高いスチレン系重合体を開発すること
に成功し、さらに(A)チタン化合物及び(B)有機ア
ルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物(アルキルア
ルミノキサン)からなる二成分系触媒を用いることによ
りシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体が
得られることを示した(特開昭62−187708号公
報)。
しかしながら、上記触媒は、触媒活性が充分に高くな(
、特に高価なアルキルアルミノキサンを使用するために
、触媒コストが高いという問題があった。
、特に高価なアルキルアルミノキサンを使用するために
、触媒コストが高いという問題があった。
そこで、本発明者らは、触媒活性をさらに向上させて触
媒コストを相対的に低下させ、シンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体を一層効率よく製造する方法
を開発すべく、鋭意研究を重ねた。
媒コストを相対的に低下させ、シンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体を一層効率よく製造する方法
を開発すべく、鋭意研究を重ねた。
その結果、スチレン系モノマー(スチレン系単量体)を
予めアルキルアルミノキサンと接触させることにより、
触媒活性が著しく向上することを見出した。本発明はか
かる知見に基いて完成したものである。
予めアルキルアルミノキサンと接触させることにより、
触媒活性が著しく向上することを見出した。本発明はか
かる知見に基いて完成したものである。
すなわち、本発明は、スチレン系単量体とアルキルアル
ミノキサンを予め接触させ、次いで遷移金属化合物を添
加した後、スチレン系単量体の重合を行うことを特徴と
するスチレン系重合体の製造方法を提供するものである
。
ミノキサンを予め接触させ、次いで遷移金属化合物を添
加した後、スチレン系単量体の重合を行うことを特徴と
するスチレン系重合体の製造方法を提供するものである
。
本発明に使用するスチレン系単量体は、スチレン及び/
又はスチレン誘導体である。スチレン誘導体の具体例し
ては、p−メチルスチレン;m−メチルスチレン;0−
メチルスチレン;2,4ジメチルスチレン;2,5−ジ
メチルスチレン;3.4−ジメチルスチレン;3.5−
ジメチルスチレン;p−エチルスチレン;m−エチルス
チレン; P−tert−ブチルスチレンなどのアルキ
ルスチレン、p−クロロスチレン;m−クロロスチレン
;0−クロロスチレン;p−ブロモスチレン;m−ブロ
モスチレン;0−ブロモスチレン;p−フルオロスチレ
ン;m−フルオロスチレン;〇−フルオロスチレン;O
−メチル−p−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチ
レン、p−メトキシスチレン;m−メトキシスチレン:
0−メトキシスチレン;p−エトキシスチレン;m−エ
トキシスチレン;0−エトキシスチレンなどのアルコキ
シスチレン、p−カルボキシメチルスチレン:m−カル
ボキシメチルスチレン;0−カルボキシメチルスチレン
などのカルボキシエステルスチレン、p−ビニルベンジ
ルプロピルエーテルなどのアルキルエーテルスチレン等
、あるいはこれら二種以上混合したものがあげられる。
又はスチレン誘導体である。スチレン誘導体の具体例し
ては、p−メチルスチレン;m−メチルスチレン;0−
メチルスチレン;2,4ジメチルスチレン;2,5−ジ
メチルスチレン;3.4−ジメチルスチレン;3.5−
ジメチルスチレン;p−エチルスチレン;m−エチルス
チレン; P−tert−ブチルスチレンなどのアルキ
ルスチレン、p−クロロスチレン;m−クロロスチレン
;0−クロロスチレン;p−ブロモスチレン;m−ブロ
モスチレン;0−ブロモスチレン;p−フルオロスチレ
ン;m−フルオロスチレン;〇−フルオロスチレン;O
−メチル−p−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチ
レン、p−メトキシスチレン;m−メトキシスチレン:
0−メトキシスチレン;p−エトキシスチレン;m−エ
トキシスチレン;0−エトキシスチレンなどのアルコキ
シスチレン、p−カルボキシメチルスチレン:m−カル
ボキシメチルスチレン;0−カルボキシメチルスチレン
などのカルボキシエステルスチレン、p−ビニルベンジ
ルプロピルエーテルなどのアルキルエーテルスチレン等
、あるいはこれら二種以上混合したものがあげられる。
本発明においては、このようなスチレン系単量体をアル
キルアルミノキサンと予め接触するが、その際使用する
アルキルアルミノキサンとは、アルキルアルミニウム化
合物と水との反応生成物であって、具体的には 一般式 〔式中、nは重合度を示し、2〜50の数であり、R1
は炭素数1〜8のアルキル基を示す。〕で表わされる鎖
状アルキルアルミノキサンあるいは一般式 で表わされる繰り返し単位を有する環状アルキルアルミ
ノキサン等がある。このようなアルキルアルミノキサン
のうち、R1がメチル基であるもの、すなわちメチルア
ルミノキサンが特に好ましい。
キルアルミノキサンと予め接触するが、その際使用する
アルキルアルミノキサンとは、アルキルアルミニウム化
合物と水との反応生成物であって、具体的には 一般式 〔式中、nは重合度を示し、2〜50の数であり、R1
は炭素数1〜8のアルキル基を示す。〕で表わされる鎖
状アルキルアルミノキサンあるいは一般式 で表わされる繰り返し単位を有する環状アルキルアルミ
ノキサン等がある。このようなアルキルアルミノキサン
のうち、R1がメチル基であるもの、すなわちメチルア
ルミノキサンが特に好ましい。
一般に、トリアルキルアルミニウム等のアルキルアルミ
ニウム化合物と水との接触生成物は、上述の鎖状アルキ
ルアルミノキサンや環状アルキルアルミノキサンととも
に、未反応のトリアルキルアルミニウム、各種の縮合生
成物の混合物、さらにはこれらが複雑に会合した分子で
あり、これらはアルキルアルミニウム化合物と水との接
触条件によって様々な生成物となる。
ニウム化合物と水との接触生成物は、上述の鎖状アルキ
ルアルミノキサンや環状アルキルアルミノキサンととも
に、未反応のトリアルキルアルミニウム、各種の縮合生
成物の混合物、さらにはこれらが複雑に会合した分子で
あり、これらはアルキルアルミニウム化合物と水との接
触条件によって様々な生成物となる。
この際のアルキルアルミニウムと水との反応は特に限定
はなく、公知の手法に準じて反応させればよい。例えば
、■アルキルアルミニウムを有機溶剤に溶解しておき、
これを水と接触させる方法、■重合時に当初アルキルア
ルミニウムを加えておき、後に水を添加する方法、さら
には■金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有
機物への吸着水をアルキルアルミニウムと反応させるな
どの方法がある。なお、上記の水にはアンモニア。
はなく、公知の手法に準じて反応させればよい。例えば
、■アルキルアルミニウムを有機溶剤に溶解しておき、
これを水と接触させる方法、■重合時に当初アルキルア
ルミニウムを加えておき、後に水を添加する方法、さら
には■金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有
機物への吸着水をアルキルアルミニウムと反応させるな
どの方法がある。なお、上記の水にはアンモニア。
エチルアミン等のアミン、硫化水素等の硫黄化合物、亜
燐酸エステル等の燐化合物などが20%程度まで含有さ
れていてもよい。
燐酸エステル等の燐化合物などが20%程度まで含有さ
れていてもよい。
本発明に用いるアルキルアルミノキサンとしては、上記
の接触反応の後、含水化合物等を使用した場合には、固
体残渣を濾別し、濾液を常圧下あるいは減圧下で30〜
200″Cの温度、好ましくは40℃〜150℃の温度
で20分〜8時間、好ましくは30分〜5時間の範囲で
溶媒を留去しつつ熱処理したものが好ましい。この熱処
理にあたっては、温度は各種の状況によって適宜室めれ
ばよいが、通常は上記範囲で行う。一般に、30゛C未
満の温度では、効果が発現せず、また200℃を超える
と、アルミノキサン自体の熱分解が起こり、好ましくな
い。熱処理の処理条件により反応生成物は、無色の固体
又は溶液状態で得られる。
の接触反応の後、含水化合物等を使用した場合には、固
体残渣を濾別し、濾液を常圧下あるいは減圧下で30〜
200″Cの温度、好ましくは40℃〜150℃の温度
で20分〜8時間、好ましくは30分〜5時間の範囲で
溶媒を留去しつつ熱処理したものが好ましい。この熱処
理にあたっては、温度は各種の状況によって適宜室めれ
ばよいが、通常は上記範囲で行う。一般に、30゛C未
満の温度では、効果が発現せず、また200℃を超える
と、アルミノキサン自体の熱分解が起こり、好ましくな
い。熱処理の処理条件により反応生成物は、無色の固体
又は溶液状態で得られる。
このようにして得られた生成物を、必要に応じて炭化水
素溶媒で熔解あるいは希釈して触媒溶液として使用する
ことができる。
素溶媒で熔解あるいは希釈して触媒溶液として使用する
ことができる。
このようなアルキルアルミノキサンの好適な例は、プロ
トン核磁気共鳴吸収法で観測されるアルミニウムーメチ
ル基(/M!−CI−1.)結合に基くメチルプロトン
シグナル領域における高磁場成分が50%以下のもので
ある。つまり、上記の接触生成物を、室温下、トルエン
溶媒中でそのプロトン核磁気共鳴(’H−NMR)スペ
クトルを観測すると、A/!−CH,に基くメチルプロ
トンシグナルは、テトラメチルシラン(TMS)基準に
おいて1.0〜−0.5’ppmの範囲に見られる。T
MSのプロトンシグナル(Oppm)が/M!−CH3
に基くメチルプロトン観測領域にあるため、この1!−
CH3に基(メチルプロトンシグナルを、7MS基準に
おけるトルエンのメチルプロトンシグナル2.35pp
mを基準にして測定し、高磁場成分(即ち、−〇、1〜
−0.5ppm)と他の磁場成分(即ち、1.0〜−0
.1ppn+)とに分けたときに、該高磁場成分が全体
の50%以下、好ましくは45〜5%のものが本発明の
アルキルアルミノキサンとして好適に使用できる。
トン核磁気共鳴吸収法で観測されるアルミニウムーメチ
ル基(/M!−CI−1.)結合に基くメチルプロトン
シグナル領域における高磁場成分が50%以下のもので
ある。つまり、上記の接触生成物を、室温下、トルエン
溶媒中でそのプロトン核磁気共鳴(’H−NMR)スペ
クトルを観測すると、A/!−CH,に基くメチルプロ
トンシグナルは、テトラメチルシラン(TMS)基準に
おいて1.0〜−0.5’ppmの範囲に見られる。T
MSのプロトンシグナル(Oppm)が/M!−CH3
に基くメチルプロトン観測領域にあるため、この1!−
CH3に基(メチルプロトンシグナルを、7MS基準に
おけるトルエンのメチルプロトンシグナル2.35pp
mを基準にして測定し、高磁場成分(即ち、−〇、1〜
−0.5ppm)と他の磁場成分(即ち、1.0〜−0
.1ppn+)とに分けたときに、該高磁場成分が全体
の50%以下、好ましくは45〜5%のものが本発明の
アルキルアルミノキサンとして好適に使用できる。
本発明の方法では、このようなアルキルアルミノキサン
を用いてスチレン系単量体と予め接触せしめるが、必要
に応じて芳香族炭化水素系溶媒、例えばベンゼン、トル
エンなどの中で上記接触を行ってもよい。溶媒を用いず
に重合原料であるスチレン系単量体とアルキルアルミノ
キサンを直接接触させる手法は、塊状重合を行う際に好
適である。また、この接触にあたって、有機アルミニウ
ム化合物を添加することは、系中の不純物の除去及び触
媒活性を向上させる点から好ましい。ここで、有機アル
ミニウム化合物としては、一般式%式%() 〔式中、Rz、R3及びR4はそれぞれ水素原子。
を用いてスチレン系単量体と予め接触せしめるが、必要
に応じて芳香族炭化水素系溶媒、例えばベンゼン、トル
エンなどの中で上記接触を行ってもよい。溶媒を用いず
に重合原料であるスチレン系単量体とアルキルアルミノ
キサンを直接接触させる手法は、塊状重合を行う際に好
適である。また、この接触にあたって、有機アルミニウ
ム化合物を添加することは、系中の不純物の除去及び触
媒活性を向上させる点から好ましい。ここで、有機アル
ミニウム化合物としては、一般式%式%() 〔式中、Rz、R3及びR4はそれぞれ水素原子。
炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシ基あるいはハロ
ゲン原子を示し、i及びjはそれぞれ0〜3の整数であ
り、i+jはO〜3の整数である。〕で表わされる化合
物が挙げられる。この有機アルミニウム化合物の具体例
としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム。
ゲン原子を示し、i及びjはそれぞれ0〜3の整数であ
り、i+jはO〜3の整数である。〕で表わされる化合
物が挙げられる。この有機アルミニウム化合物の具体例
としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム。
トリオクチルアルミニウム、クロルジメチルアルミニウ
ム、クロルジエチルアルミニウム、水素化ジエチルアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ジエチル
アルミニウムエトキシドなどがある。これらの化合物の
うち、ハロゲン原子を含まない有機アルミニウム化合物
が好ましく、水素、エチル基及び/又はイソブチル基を
含む有機アルミニウム化合物、例えばトリイソブチルア
ルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化
ジエチルアルミニウムなどがより好ましい。
ム、クロルジエチルアルミニウム、水素化ジエチルアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ジエチル
アルミニウムエトキシドなどがある。これらの化合物の
うち、ハロゲン原子を含まない有機アルミニウム化合物
が好ましく、水素、エチル基及び/又はイソブチル基を
含む有機アルミニウム化合物、例えばトリイソブチルア
ルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化
ジエチルアルミニウムなどがより好ましい。
上述のスチレン系単量体とアルキルアルミノキサンとの
接触(換言すれば、アルキルアルミノキサンの熟成)は
、0〜100℃1好ましくは20〜80℃の温度範囲で
、5分〜2時間、好ましくは10分〜1時間行う。熟成
温度がO″C6未満ほとんど効果がなく、また温度が高
すぎると、熱重合物が生成するという不都合が起こる。
接触(換言すれば、アルキルアルミノキサンの熟成)は
、0〜100℃1好ましくは20〜80℃の温度範囲で
、5分〜2時間、好ましくは10分〜1時間行う。熟成
温度がO″C6未満ほとんど効果がなく、また温度が高
すぎると、熱重合物が生成するという不都合が起こる。
この熟成(接触)のメカニズムは、必ずしも明らかでは
ないが、高分子構造のアルミノキサンの会合状態が解か
れるものと考えられ、色相が淡黄色に変化する。
ないが、高分子構造のアルミノキサンの会合状態が解か
れるものと考えられ、色相が淡黄色に変化する。
本発明の方法では、上記の接触を行った後、さらに遷移
金属化合物を添加する。ここで、遷移金属化合物として
は、チタン化合物、ジルコニウム化合物あるいはバナジ
ウム化合物がある。チタン化合物としては様々なものが
あるが、好ましくは、一般式 %式%() 〔式中、R5,R6,R?及びR@はそれぞれ水素原子
、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアル
コキシ基、炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基。
金属化合物を添加する。ここで、遷移金属化合物として
は、チタン化合物、ジルコニウム化合物あるいはバナジ
ウム化合物がある。チタン化合物としては様々なものが
あるが、好ましくは、一般式 %式%() 〔式中、R5,R6,R?及びR@はそれぞれ水素原子
、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアル
コキシ基、炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基。
炭素数1〜20のアシルオキシ基、シクロペンタジェニ
ルli、 1f[aシクロペンタジェニル基、インデニ
ル基あるいはハロゲン原子を示す、a、b。
ルli、 1f[aシクロペンタジェニル基、インデニ
ル基あるいはハロゲン原子を示す、a、b。
Cはそれぞれ0〜4の整数を示し、d、eはそれぞれ0
〜3の整数を示す。〕 で表わされるチタン化合物およびチタンキレート化合物
よりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物である
。
〜3の整数を示す。〕 で表わされるチタン化合物およびチタンキレート化合物
よりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物である
。
コノ一般式(IV)又は(V)中(7)R’、R6,R
’及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜20のアル
キル基(具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、アミル基、イソアミル基。
’及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜20のアル
キル基(具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、アミル基、イソアミル基。
イソブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基など
)、炭素数1〜20のアルコキシ基(具体的にはメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基。
)、炭素数1〜20のアルコキシ基(具体的にはメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基。
ブトキシ基、アミルオキシ基、ヘキシルオキシ基。
2−エチルへキシルオキシ基など)、炭素数6〜20の
アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基
(具体的にはフェニル基、トリル基。
アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基
(具体的にはフェニル基、トリル基。
キシリル基、ベンジル基など)、炭素数1〜20のアシ
ルオキシ基(具体的にはヘプタデシルカルボニルオキシ
基など)、シクロペンタジェニル基。
ルオキシ基(具体的にはヘプタデシルカルボニルオキシ
基など)、シクロペンタジェニル基。
置換シクロペンタジェニル基(具体的にはメチルシクロ
ペンタジェニル基、1.2−ジメチルシクロペンタジェ
ニル基、ペンタメチルシクロペンタジェニル基など)、
インデニル基あるいはハロゲン原子(具体的には塩素、
臭素、沃素、弗素)を示す。
ペンタジェニル基、1.2−ジメチルシクロペンタジェ
ニル基、ペンタメチルシクロペンタジェニル基など)、
インデニル基あるいはハロゲン原子(具体的には塩素、
臭素、沃素、弗素)を示す。
これらRS、Ra、R?及びRI′は同一のものであっ
ても、異なるものであってもよい。さらにa。
ても、異なるものであってもよい。さらにa。
b、cはそれぞれO〜4の整数を示し、またd。
eはそれぞれ0〜3の整数を示す。
更に好適なチタン化合物としては一般弐TiRxYZ
・・ (■) 〔式中、Rはシクロペンタジェニル基、置換シクロペン
タジェニル基又はインデニル基を示し、X、Y及びZは
それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基
、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜20のア
リール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数
6〜20のアリールアルキル基又はハロゲン原子を示す
。〕 で表わされるチタン化合物がある。この式中のRで示さ
れる置換シクロペンタジェニル基は、例えば炭素数1〜
6のアルキル基で1個以上置換されたシクロペンタジェ
ニル基、具体的にはメチルシクロペンタジェニル基、1
,2−ジメチルシクロペンタジェニル基、ペンタメチル
シクロペンタジェニル基等である。また、x7 Y及び
Zはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキ
ル基(具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基。
・・ (■) 〔式中、Rはシクロペンタジェニル基、置換シクロペン
タジェニル基又はインデニル基を示し、X、Y及びZは
それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基
、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜20のア
リール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数
6〜20のアリールアルキル基又はハロゲン原子を示す
。〕 で表わされるチタン化合物がある。この式中のRで示さ
れる置換シクロペンタジェニル基は、例えば炭素数1〜
6のアルキル基で1個以上置換されたシクロペンタジェ
ニル基、具体的にはメチルシクロペンタジェニル基、1
,2−ジメチルシクロペンタジェニル基、ペンタメチル
シクロペンタジェニル基等である。また、x7 Y及び
Zはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキ
ル基(具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基。
n−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基
、オクチル基、2−エチルヘキシル基等)。
、オクチル基、2−エチルヘキシル基等)。
炭素数1〜12のアルコキシ基(具体的にはメトキシ基
、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基。
、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基。
アミルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基
、2−エチルへキシルオキシ基等)、炭素数6〜20の
アリール基(具体的にはフェニル基。
、2−エチルへキシルオキシ基等)、炭素数6〜20の
アリール基(具体的にはフェニル基。
ナフチル基等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(
具体的にはフェノキシ基等)、炭素数6〜20のアリー
ルアルキル基(具体的にはベンジル基)又はハロゲン原
子(具体的には塩素、臭素。
具体的にはフェノキシ基等)、炭素数6〜20のアリー
ルアルキル基(具体的にはベンジル基)又はハロゲン原
子(具体的には塩素、臭素。
沃素あるいは弗素)を示す。
このような一般式(Vl)で表わされるチタン化合物の
具体例としては、シクロペンタジェニルトリメチルチタ
ン、シクロペンタジェニルトリエチルチタン、シクロペ
ンタジェニルトリプロピルチタン、シクロペンタジェニ
ルトリブチルチタン。
具体例としては、シクロペンタジェニルトリメチルチタ
ン、シクロペンタジェニルトリエチルチタン、シクロペ
ンタジェニルトリプロピルチタン、シクロペンタジェニ
ルトリブチルチタン。
メチルシクロペンタジェニルトリメチルチタン。
■、2−ジメチルシクロペンタジェニルトリメチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリメチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリエチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリエチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリブチルチタ
ン、シクロペンタジェニルメチルチタンジクロリド、シ
クロペンタジェニルエチルチタンジクロリド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルメチルチタンジクロリド、ペ
ンタメチルシクロペンタジェニルエチルチタンジクロリ
ド、シクロペンタジェニルジメチルチタンモノクロリド
、シクロペンタジェニルジエチルチタンモノクロリド、
シクロペンタジェニルチタントリメトキシド、シクロペ
ンタジェニルチタントリエトキシド、シクロペンタジェ
ニルチタントリエトキシド、シクロペンタジェニルチタ
ントリフェノキシド、ペンタメチルシクロペンタジェニ
ルチタントリメトキシド、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルチタントリエトキシド、ペンタメチルシクロペン
タジェニルチタントリエトキシド、ペンタメチルシクロ
ペンタジェニルチタントリブトキシド、ペンタメチルシ
クロペンタジェニルチタントリフェノキシド、シクロペ
ンタジェニルチタントリクロリド、ペンタメチルシクロ
ペンタジェニルチタントリクロリド、シクロペンタジェ
ニルメトキシチタンジクロリド、シクロペンタジェニル
ジメトキシチタンクロリド、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルメトキシチタンジクロリド、シクロペンタジェ
ニルトリベンジルチタン、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルメチルジェトキシチタン、インデニルチタントリ
クロリド。
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリメチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリエチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリエチルチタ
ン、ペンタメチルシクロペンタジェニルトリブチルチタ
ン、シクロペンタジェニルメチルチタンジクロリド、シ
クロペンタジェニルエチルチタンジクロリド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルメチルチタンジクロリド、ペ
ンタメチルシクロペンタジェニルエチルチタンジクロリ
ド、シクロペンタジェニルジメチルチタンモノクロリド
、シクロペンタジェニルジエチルチタンモノクロリド、
シクロペンタジェニルチタントリメトキシド、シクロペ
ンタジェニルチタントリエトキシド、シクロペンタジェ
ニルチタントリエトキシド、シクロペンタジェニルチタ
ントリフェノキシド、ペンタメチルシクロペンタジェニ
ルチタントリメトキシド、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルチタントリエトキシド、ペンタメチルシクロペン
タジェニルチタントリエトキシド、ペンタメチルシクロ
ペンタジェニルチタントリブトキシド、ペンタメチルシ
クロペンタジェニルチタントリフェノキシド、シクロペ
ンタジェニルチタントリクロリド、ペンタメチルシクロ
ペンタジェニルチタントリクロリド、シクロペンタジェ
ニルメトキシチタンジクロリド、シクロペンタジェニル
ジメトキシチタンクロリド、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルメトキシチタンジクロリド、シクロペンタジェ
ニルトリベンジルチタン、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルメチルジェトキシチタン、インデニルチタントリ
クロリド。
インデニルチタントリメトキシド、インデニルチタント
リエトキシド、インデニルトリメチルチタン、インデニ
ルトリベンジルチタン等があげられる。
リエトキシド、インデニルトリメチルチタン、インデニ
ルトリベンジルチタン等があげられる。
これらのチタン化合物のうち、ハロゲン原子を含まない
化合物が好適であり、特に、上述した如きπ電子系配位
子を1個有するチタン化合物が好ましい。
化合物が好適であり、特に、上述した如きπ電子系配位
子を1個有するチタン化合物が好ましい。
さらにチタン化合物としては一般式
〔式中、R9,R”はそれぞれハロゲン原子、炭素数1
〜20のアルコキシ基、アシロキシ基を示し、mは2〜
20を示す。〕 で表わされる縮合チタン化合物を用いてもよい。
〜20のアルコキシ基、アシロキシ基を示し、mは2〜
20を示す。〕 で表わされる縮合チタン化合物を用いてもよい。
さらに、上記チタン化合物は、エステルやエーテルなど
と錯体を形成させたものを用いてもよい。
と錯体を形成させたものを用いてもよい。
上記一般式(V)で表わされる三価チタン化合物は、典
型的には三塩化チタンなどの三ハロゲン化チタン、シク
ロペンタジェニルチタニウムジクロリドなどのシクロペ
ンタジェニルチタン化合物があげられ、このほか四価チ
タン化合物を還元して得られるものがあげられる。これ
ら三価チタン化合物はエステル、エーテ、ルなどと錯体
を形成したものを用いてもよい。
型的には三塩化チタンなどの三ハロゲン化チタン、シク
ロペンタジェニルチタニウムジクロリドなどのシクロペ
ンタジェニルチタン化合物があげられ、このほか四価チ
タン化合物を還元して得られるものがあげられる。これ
ら三価チタン化合物はエステル、エーテ、ルなどと錯体
を形成したものを用いてもよい。
また、遷移金属化合物としてのジルコニウム化合物は、
テトラベンジルジルコニウム、ジルコニウムテトラエト
キシド、ジルコニウムテトラブトキシド、ビスインデニ
ルジルコニウムジクロリド。
テトラベンジルジルコニウム、ジルコニウムテトラエト
キシド、ジルコニウムテトラブトキシド、ビスインデニ
ルジルコニウムジクロリド。
トリイソプロポキシジルコニウムクロリド、ジルコニウ
ムベンジルジクロリド、トリブトキシジルコニウムクロ
リドなどがあり、さらにバナジウム化合物は、バナジル
ビスアセチルアセトナート。
ムベンジルジクロリド、トリブトキシジルコニウムクロ
リドなどがあり、さらにバナジウム化合物は、バナジル
ビスアセチルアセトナート。
バナジルトリアセチルアセトナート、トリエトキシバナ
ジル、トリプロポキシバナジルなどがある。
ジル、トリプロポキシバナジルなどがある。
本発明の方法においては、上記の遷移金属化合物の他に
さらに所望により他の触媒成分、例えば有機アルミニウ
ムなどを加えることもできる。
さらに所望により他の触媒成分、例えば有機アルミニウ
ムなどを加えることもできる。
この有機アルミニウムとしては、一般式%式%)
〔式中、R1−及びRItはそれぞれ独立に炭素数1〜
8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示し、Xは
ハロゲンを示し、kは0<k≦3、mは05m<3、p
はO≦p<3、qは0≦q<3であって、しかもに+m
+p+q=3である〕で表わされる有機アルミニウム化
合物があり、これを加えることにより、活性が更に向上
する。
8、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基を示し、Xは
ハロゲンを示し、kは0<k≦3、mは05m<3、p
はO≦p<3、qは0≦q<3であって、しかもに+m
+p+q=3である〕で表わされる有機アルミニウム化
合物があり、これを加えることにより、活性が更に向上
する。
前記の一般式(■)で表わされる有機アルミニラム化合
物としては、次のものを例示することができる。p=q
=Qの場合に相当するものは、般式R”mA f (O
R”)s−*(式中、R11及びRI!は前記と同じで
あり、kは好ましくは1.5≦に≦3の数である)で表
わされる。m=p=oの場合に相当するものは、一般式
R” kA I X 5−k(式中、R11及びXは前
記と同じであり、kは好ましくは0<k<3である)で
表わされる。m=q=oの場合に相当するものは、一般
弐R”、AIH,。
物としては、次のものを例示することができる。p=q
=Qの場合に相当するものは、般式R”mA f (O
R”)s−*(式中、R11及びRI!は前記と同じで
あり、kは好ましくは1.5≦に≦3の数である)で表
わされる。m=p=oの場合に相当するものは、一般式
R” kA I X 5−k(式中、R11及びXは前
記と同じであり、kは好ましくは0<k<3である)で
表わされる。m=q=oの場合に相当するものは、一般
弐R”、AIH,。
(式中、RI Iは前記と同じであり、kは好ましくは
2≦k<3である)で表わされる。p−0の場合に相当
するものは、一般式R”kA ffi (OR”)、X
。
2≦k<3である)で表わされる。p−0の場合に相当
するものは、一般式R”kA ffi (OR”)、X
。
(式中、R11,RI2及びXは前記と同じであり、0
<k=3.0≦m<3.0≦q<3で、k+rrB+9
=3である)で表わされる。
<k=3.0≦m<3.0≦q<3で、k+rrB+9
=3である)で表わされる。
前記の一般式(■)で表わされる有機アルミニウム化合
物において、p=q−0で、k=3の化合物は、例えば
トリエチルアルミニウム、トリブチルアルミニウム等の
トリアルキルアルミニウム又はこれらの組み合わせから
選ばれ1.好ましいものはトリエチルアルミニウム、ト
リーn−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムである。p=q=oで、1.5≦k<3の場合は、
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウ
ムブトキシド等のジアルキルアルミニウムアルコキシド
、エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミ
ニウムセスキブトキシド等のアルキルアルミニウムセス
キアルコキシドの他に、R”、、、AN(OR’す。、
3等で表わされる平均組成を有する部分的にアルコキシ
化されたアルキルアルミニウムをあげることができる。
物において、p=q−0で、k=3の化合物は、例えば
トリエチルアルミニウム、トリブチルアルミニウム等の
トリアルキルアルミニウム又はこれらの組み合わせから
選ばれ1.好ましいものはトリエチルアルミニウム、ト
リーn−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムである。p=q=oで、1.5≦k<3の場合は、
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウ
ムブトキシド等のジアルキルアルミニウムアルコキシド
、エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミ
ニウムセスキブトキシド等のアルキルアルミニウムセス
キアルコキシドの他に、R”、、、AN(OR’す。、
3等で表わされる平均組成を有する部分的にアルコキシ
化されたアルキルアルミニウムをあげることができる。
m=p=0の場合に相当する化合物の例は、ジエチルア
ルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド。
ルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド。
ジエチルアルミニウムプロミド等のようなジアルキルア
ルミニウムヒドリド(k=2)、エチルアルミニウムセ
スキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エ
チルアルミニウムセスキプロミドのようなアルキルアル
ミニウムセスキハロゲニド(k=1.5)、エチルアル
ミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド
、プチルアルミニウムジブロミド等のようなアルキルア
ルミニウムジハロゲニド(k=1)等の部分的にハロゲ
ン化されたアルキルアルミニウムである。
ルミニウムヒドリド(k=2)、エチルアルミニウムセ
スキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エ
チルアルミニウムセスキプロミドのようなアルキルアル
ミニウムセスキハロゲニド(k=1.5)、エチルアル
ミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド
、プチルアルミニウムジブロミド等のようなアルキルア
ルミニウムジハロゲニド(k=1)等の部分的にハロゲ
ン化されたアルキルアルミニウムである。
m=q=oの場合に相当する化合物の例は、ジエチルア
ルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリド等
のジアルキルアルミニウムヒドリド(k=2)、エチル
アルミニウムジヒドリド、プロビルアルミニウムジヒド
リド等のアルキルアルミニウムジヒドリド(m=k)等
の部分的に水素化されたアルキルアルミニウムである。
ルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリド等
のジアルキルアルミニウムヒドリド(k=2)、エチル
アルミニウムジヒドリド、プロビルアルミニウムジヒド
リド等のアルキルアルミニウムジヒドリド(m=k)等
の部分的に水素化されたアルキルアルミニウムである。
P=Oの場合に相当する化合物の例は、エチルアルミニ
ウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシク
ロリド、エチルアルミニウムエトキシプロミド(k=m
=q=1)等の部分的にアルコキシ化皮ヒハロゲン化さ
れたアルキルアルミニウムである。これらの中でも特に
好適なものは、トリイソブチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウムヒドリドである。
ウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシク
ロリド、エチルアルミニウムエトキシプロミド(k=m
=q=1)等の部分的にアルコキシ化皮ヒハロゲン化さ
れたアルキルアルミニウムである。これらの中でも特に
好適なものは、トリイソブチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウムヒドリドである。
本発明の方法を実施するにあたっては、スチレン系単量
体と接触するアルキルアルミノキサンの配合割合は、特
に制限はないが、好ましくはスチレン系単量体11あた
り0.001〜1モルとし、アルキルアルミノキサン(
場合により有機アルミニウム化合物を含む)と遷移金属
化合物の割合はアルミニウムとチタンとの比、即ちアル
ミニウム/チタン(モル比)として1〜106、好まし
くはlO〜104である。
体と接触するアルキルアルミノキサンの配合割合は、特
に制限はないが、好ましくはスチレン系単量体11あた
り0.001〜1モルとし、アルキルアルミノキサン(
場合により有機アルミニウム化合物を含む)と遷移金属
化合物の割合はアルミニウムとチタンとの比、即ちアル
ミニウム/チタン(モル比)として1〜106、好まし
くはlO〜104である。
スチレン系単量体の重合(あるいは共重合)は、塊状で
もよく、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭
化水素、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素あるいは
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶
媒中で行ってもよい。
もよく、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭
化水素、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素あるいは
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶
媒中で行ってもよい。
また、重合温度は特に制限はないが、一般には0〜10
0℃、好ましくは40〜80℃である。なお、このスチ
レン系単量体の重合(あるいは共重合)は、アルキルア
ルミノキサンとの接触に用いたスチレン系単量体のみを
原料としてもよく、またこのスチレン系単量体とともに
、別途スチレン系単量体を反応系に供給してもよい。
0℃、好ましくは40〜80℃である。なお、このスチ
レン系単量体の重合(あるいは共重合)は、アルキルア
ルミノキサンとの接触に用いたスチレン系単量体のみを
原料としてもよく、またこのスチレン系単量体とともに
、別途スチレン系単量体を反応系に供給してもよい。
さらに、得られるスチレン系重合体の分子量を調節する
には、水素の存在下で重合反応を行うことが効果的であ
る。
には、水素の存在下で重合反応を行うことが効果的であ
る。
このようにして得られるスチレン系重合体は、主として
シンジオタクチック構造を有するものである。ここで、
スチレン系重合体における主としてシンジオタクチック
構造とは、立体化学構造が主としてシンジオタクチック
構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して
側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方
向に位置する立体構造を有することを意味し、そのタフ
ティシティ−は同位体炭素による核磁気共鳴法C″C−
NMR法)により定量される。+IC−NMR法により
測定されるタフティシティ−は、連続する複数個の構成
単位の存在割合、例えば2個の場合はダイアツド、3個
の場合はトリアット。
シンジオタクチック構造を有するものである。ここで、
スチレン系重合体における主としてシンジオタクチック
構造とは、立体化学構造が主としてシンジオタクチック
構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して
側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方
向に位置する立体構造を有することを意味し、そのタフ
ティシティ−は同位体炭素による核磁気共鳴法C″C−
NMR法)により定量される。+IC−NMR法により
測定されるタフティシティ−は、連続する複数個の構成
単位の存在割合、例えば2個の場合はダイアツド、3個
の場合はトリアット。
5個の場合はペンタッドによって示すことができるが、
本発明に言う「主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体」とは、通常はダイアツドで75%
以上、好ましくは85%以上、若しくはペンタッド(ラ
セミペンタマド)で30%以上、好ましくは50%以上
のシンジオタクテイシテイ−を有するポリスチレン、ポ
リ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)
、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香M
エステル)及びこれらの混合物、あるいはこれらを主成
分とする共重合体を意味する。なお、ここでポリ(アル
キルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポ
リ(エチルスチレン)、ポリ(イソプロピルスチレン)
、ポリ (ターシャリ−ブチルスチレン)等があり、ポ
リ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチ
レン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(フルオロスチ
レン)等がある。また、ポリ(アルコキシスチレン)と
しては、ポリ (メトキシスチレン)、ポリ (エトキ
シスチレン)等がある。これらのうち特に好ましいスチ
レン系重合体としては、ポリスチレン。
本発明に言う「主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体」とは、通常はダイアツドで75%
以上、好ましくは85%以上、若しくはペンタッド(ラ
セミペンタマド)で30%以上、好ましくは50%以上
のシンジオタクテイシテイ−を有するポリスチレン、ポ
リ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)
、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香M
エステル)及びこれらの混合物、あるいはこれらを主成
分とする共重合体を意味する。なお、ここでポリ(アル
キルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポ
リ(エチルスチレン)、ポリ(イソプロピルスチレン)
、ポリ (ターシャリ−ブチルスチレン)等があり、ポ
リ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチ
レン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(フルオロスチ
レン)等がある。また、ポリ(アルコキシスチレン)と
しては、ポリ (メトキシスチレン)、ポリ (エトキ
シスチレン)等がある。これらのうち特に好ましいスチ
レン系重合体としては、ポリスチレン。
ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(m−メチルスチレ
ン)、ポリ(p−ターシャリ−ブチルスチレン)、ポリ
(p−クロロスチレン)、ポリ(mクロロスチレン)、
ポリ(p−フルオロスチレン)、さらにはスチレンとp
−メチルスチレンとの共重合体をあげることができる。
ン)、ポリ(p−ターシャリ−ブチルスチレン)、ポリ
(p−クロロスチレン)、ポリ(mクロロスチレン)、
ポリ(p−フルオロスチレン)、さらにはスチレンとp
−メチルスチレンとの共重合体をあげることができる。
本発明の方法により製造されるスチレン系重合体は、一
般に数平均分子量1,000〜5,000,000、好
ましくは50.000〜4,000,000のものであ
り、上記のようにジンジオクタティシティ−の高いもの
であるが、重合後、必要に応じて塩酸等を含む洗浄液で
脱灰処理し、さらに洗浄、減圧乾燥を経てメチルエチル
ケトン等の溶媒で洗浄して可溶分を除去し、得られる不
溶分をさらにクロロホルム等を用いて処理すれば、極め
てシンジオタクテイシテイ−の大きい高純度のスチレン
系重合体が入手できる。
般に数平均分子量1,000〜5,000,000、好
ましくは50.000〜4,000,000のものであ
り、上記のようにジンジオクタティシティ−の高いもの
であるが、重合後、必要に応じて塩酸等を含む洗浄液で
脱灰処理し、さらに洗浄、減圧乾燥を経てメチルエチル
ケトン等の溶媒で洗浄して可溶分を除去し、得られる不
溶分をさらにクロロホルム等を用いて処理すれば、極め
てシンジオタクテイシテイ−の大きい高純度のスチレン
系重合体が入手できる。
(実施例〕
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例1
(1)アルキルアルミノキサン
アルゴン置換した内容積1000dのガラス製容器に、
硫酸銅5水塩(CuS Oa・5 HzO) 1 7.
8g(71ミリモル)、トルエン200戚及びトリメ
チルアルミニウム24d(250ミリモル)を入れ、4
0″Cで8時間反応させた。その後、固体部分を除去し
て得られた溶液から、更に、トルエンを室温下で減圧留
去して接触生成物6.7gを得た。このものの凝固点陣
下法によって測定した分子量は610であった。
硫酸銅5水塩(CuS Oa・5 HzO) 1 7.
8g(71ミリモル)、トルエン200戚及びトリメ
チルアルミニウム24d(250ミリモル)を入れ、4
0″Cで8時間反応させた。その後、固体部分を除去し
て得られた溶液から、更に、トルエンを室温下で減圧留
去して接触生成物6.7gを得た。このものの凝固点陣
下法によって測定した分子量は610であった。
(2)スチレンの重合
アルゴン置換した21のステンレス製オートクレーブに
スチレン400dを入れ、次いで上記(1)で得たメチ
ルアルミノキサンをAj2原子として5ミリモル加え、
70℃で30分間接触処理した。その後、遷移金属化合
物として、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタニウ
ムトリメトキシド0. 0 2 5モルを入れ、同温度
で2時間重合を行った。反応後、塩酸−メタノール溶液
で脱灰し、更にメタノールで洗浄を行った後、乾燥して
重合体5 4. 4 gを得た。転化率は15.0重量
%であった。また、このものは、立体規則性がほぼ10
0%に近いシンジオタクチックポリスチレンであること
を、”C−NMRにより確認した。
スチレン400dを入れ、次いで上記(1)で得たメチ
ルアルミノキサンをAj2原子として5ミリモル加え、
70℃で30分間接触処理した。その後、遷移金属化合
物として、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタニウ
ムトリメトキシド0. 0 2 5モルを入れ、同温度
で2時間重合を行った。反応後、塩酸−メタノール溶液
で脱灰し、更にメタノールで洗浄を行った後、乾燥して
重合体5 4. 4 gを得た。転化率は15.0重量
%であった。また、このものは、立体規則性がほぼ10
0%に近いシンジオタクチックポリスチレンであること
を、”C−NMRにより確認した。
実施例2〜5及び比較例1〜3
下記の第1表に示す成分及び条件を用いて実施例1と同
様にしてスチレンを重合させた。スチレン重合体の収量
及び転化率等を第1表に示す。
様にしてスチレンを重合させた。スチレン重合体の収量
及び転化率等を第1表に示す。
(以下余白)
〔発明の効果〕
以上の如く、本発明の方法によれば、高い触媒活性にて
スチレン系単量体の重合を行うことができる。したがっ
て、本発明の方法を用いてスチレン系単量体を重合すれ
ば、シンジオタクテイシテイ−の高いスチレン系重合体
を効率よく製造することができる。
スチレン系単量体の重合を行うことができる。したがっ
て、本発明の方法を用いてスチレン系単量体を重合すれ
ば、シンジオタクテイシテイ−の高いスチレン系重合体
を効率よく製造することができる。
このようにして得られるシンジオタクチック構造のスチ
レン系重合体は、耐熱性、耐薬品性等の各種物性にすぐ
れたものであり、様々な用途に幅広くかつ有効に利用さ
れる。
レン系重合体は、耐熱性、耐薬品性等の各種物性にすぐ
れたものであり、様々な用途に幅広くかつ有効に利用さ
れる。
手続補正書
(自発)
平成2年5月1日
Claims (3)
- (1)スチレン系単量体とアルキルアルミノキサンを予
め接触させ、次いで遷移金属化合物を添加した後、スチ
レン系単量体の重合を行うことを特徴とするスチレン系
重合体の製造方法。 - (2)スチレン系単量体とアルキルアルミノキサンとの
接触を、0℃〜100℃の温度範囲で5分〜2時間行う
請求項1記載のスチレン系重合体の製造方法。 - (3)遷移金属化合物がチタン化合物、ジルコニウム化
合物あるいはバナジウム化合物である請求項1記載のス
チレン系重合体の製造方法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073816A JPH02252706A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | スチレン系重合体の製造方法 |
US07/489,710 US5023304A (en) | 1989-03-28 | 1990-03-07 | Process for producing styrene-based polymer |
AU51290/90A AU624224B2 (en) | 1989-03-28 | 1990-03-13 | Process for producing styrene-based polymer |
EP90105533A EP0389981B1 (en) | 1989-03-28 | 1990-03-23 | Process for producing styrene-based polymer |
AT90105533T ATE111113T1 (de) | 1989-03-28 | 1990-03-23 | Verfahren zur herstellung eines polymers auf der basis von styrol. |
DE69012183T DE69012183T2 (de) | 1989-03-28 | 1990-03-23 | Verfahren zur Herstellung eines Polymers auf der Basis von Styrol. |
CA002013106A CA2013106A1 (en) | 1989-03-28 | 1990-03-27 | Process for producing styrene-based polymer |
FI901521A FI901521A0 (fi) | 1989-03-28 | 1990-03-27 | Foerfarande foer framstaellning av en styrenbaserad polymer. |
KR1019900004369A KR950012721B1 (ko) | 1989-03-28 | 1990-03-28 | 스티렌계 중합체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073816A JPH02252706A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | スチレン系重合体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02252706A true JPH02252706A (ja) | 1990-10-11 |
Family
ID=13529062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1073816A Pending JPH02252706A (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | スチレン系重合体の製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5023304A (ja) |
EP (1) | EP0389981B1 (ja) |
JP (1) | JPH02252706A (ja) |
KR (1) | KR950012721B1 (ja) |
AT (1) | ATE111113T1 (ja) |
AU (1) | AU624224B2 (ja) |
CA (1) | CA2013106A1 (ja) |
DE (1) | DE69012183T2 (ja) |
FI (1) | FI901521A0 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5247020A (en) * | 1990-01-30 | 1993-09-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing a styrene polymer composition |
DE69127811T3 (de) * | 1990-11-30 | 2012-04-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Verfahren zur herstellung von olefinpolymeren |
JP2939354B2 (ja) * | 1991-03-26 | 1999-08-25 | 出光興産株式会社 | スチレン系重合体の製造方法及びその触媒 |
ATE154367T1 (de) * | 1991-03-27 | 1997-06-15 | Idemitsu Kosan Co | Verfahren zur herstellung eines styrolpolymerisats |
DE69219932T2 (de) * | 1991-03-29 | 1997-09-11 | Idemitsu Kosan Co | Verfahren zur Herstellung eines Homo- oder Copolymerisates des Styrols |
EP0559108B1 (en) * | 1992-03-03 | 1997-05-28 | Idemitsu Kosan Company Limited | Graft copolymer, process for production thereof and resin composition containing same |
JP3216662B2 (ja) * | 1992-10-08 | 2001-10-09 | 出光興産株式会社 | スチレン系重合体の製造方法 |
EP0698619B1 (en) * | 1993-03-31 | 2001-11-07 | Idemitsu Kosan Company Limited | Catalyst for producing vinyl polymer and process for producing vinylaromatic polymer |
US5446117A (en) * | 1993-08-19 | 1995-08-29 | Queen's University At Kingston | Process for producing amorphous syndiotactic polystyrene |
US5756612A (en) * | 1995-03-30 | 1998-05-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing styrenic polymer |
USRE37064E1 (en) * | 1994-03-31 | 2001-02-20 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing styrenic polymer |
US6034024A (en) * | 1996-05-10 | 2000-03-07 | Albemarle Corporation | Heat treated alumoxanes |
IT1286031B1 (it) * | 1996-10-24 | 1998-07-07 | Enichem Spa | Procedimento per la produzione di polimeri vinilaromatici ad elevato grado di sindiotassia |
CN1086192C (zh) * | 1998-11-18 | 2002-06-12 | 中国石油化工集团公司 | 苯乙烯间规聚合工艺 |
US8946365B2 (en) | 2012-01-18 | 2015-02-03 | Eastman Chemical Company | Low molecular weight polystyrene resin and methods of making and using the same |
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Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
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JPS62187708A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-08-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | スチレン系重合体の製造法 |
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US4978730A (en) * | 1987-12-24 | 1990-12-18 | Idemitsu Kosan Company Limited | Process for producing styrene-based polymers and catalyst for use therein |
AU611758B2 (en) * | 1988-02-13 | 1991-06-20 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Process for producing styrene-based polymers and apparatus for producing said polymers |
US4950724A (en) * | 1988-09-27 | 1990-08-21 | The Dow Chemical Company | Suspension polymerization of vinyl aromatic monomers to polymer having high syndiotacticity |
-
1989
- 1989-03-28 JP JP1073816A patent/JPH02252706A/ja active Pending
-
1990
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