JPH0223517A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて好適な垂
直磁気記録媒体に関し、 高透磁率な軟磁性層を厚膜化して記録再生特性の向上を
図ると共に、その軟磁性層上の垂直磁性薄膜、保護膜及
び潤滑膜の表面をヘッド吸着のない低摩擦、低摩耗の摺
動性能を発揮する粗面に形成することを目的とし、 基板と垂直磁性薄膜との間に、表面を粗面加工（テクス
チャリング法、化学エツチング法、イオンエツチング法
など）により微小凹凸の粗面にした軟磁性層を設けた構
成とする。

〔産業上の利用分野〕

本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて
好適な垂直磁気記録媒体に係り、特にＣ３Ｓ　（Ｃｏｎ
ｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏｐ）特性と耐久性等に優
れた二層膜構造の垂直磁気記録媒体に関するものである
。

磁気ディスク装置では、磁気ディスクの回転が停止時に
は磁気ヘッドがディスク面に接触しており、磁気ディス
クの回転速度の上昇と共に磁気ヘッドが浮上して一定間
隔を保った状態で情報の記録再生を行うＣ３Ｓ方式が広
く用いられている。

このようなＣ３Ｓ方式では、磁気ヘッドは磁気ディスク
面上に浮上するまでに比較的高速でディスク面と接触摺
動することから、磁気ヘッド及び磁気ディスク表面の摩
擦損傷を避けるために、該磁気ディスク表面には潤滑膜
が施されている。

しかし、この潤滑膜が施された磁気ディスクの表面が平
滑過ぎるとＣ５Ｓ動作時等に磁気ヘッドがそのディスク
面に潤滑剤により吸着されてヘッドクラッシュを発生す
る傾向がある。このため、Ｃ８Ｓ動作時等においてヘッ
ド吸着のない、かつ表面潤滑性（耐久性）に優れた垂直
磁気記録媒体が必要とされている。

（従来の技術〕 従来、Ｃ３Ｓ動作時等におけるヘッド吸着を防止し、か
つ耐クラツシユ性を向上した垂直磁気記録媒体として第
３図に示すものが知られている。

この記録媒体はディスク基板１１の表面をラッピングテ
ープ等を用いた機械的な粗面加工（テクスチャリング法
とも呼ばれる）によって、微小な凹凸（０，１μｍ以下
）を有する粗面１２にし、かかる基板１１表面上に、例
えば０．５μｍの膜厚のＮｉ−Ｆｅ等からなる高透磁率
な軟磁性層（裏打ち層とも呼ぶ）１３と、０．２μ割の
膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層、即ち垂直磁性薄
膜１４とをめっき法及びスパッタリング法等により順に
積層形成し、更にその上面に、磁気ヘッドの接触摺動に
よる摩擦、摩耗、或いはヘッドクラッシュから媒体面を
保護するための、保護膜１５と潤滑膜１６が施されてい
る。

このようにディスク基板１１の表面を粗面１２に構成す
ると、その上に積層される軟磁性層１３、垂直磁性薄膜
１４、保護膜１５及び潤滑膜１６の各表面は、ディスク
基板１１の粗面を継承した微小な凹凸状の面となり、こ
の面により磁気ヘッドとの接触面積が減少する結果、ヘ
ッドの吸着が防がれると共に、潤滑膜１６の存在により
磁気ヘッドに対する低摩擦、低摩耗が維持され、耐クラ
ツシユ性を良好にする。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで上記したような二層膜構造の垂直磁気記録媒体
において、高透磁率な軟磁性層１３は記録再生時に垂直
磁性薄膜１４の裏面に発生する分極磁荷を抑制し、かつ
垂直減磁界を減らすことにより磁化の減少を防ぎ、さら
に磁気ヘッドに対する磁束のリターンパスを形成する等
、磁気ヘッドの一部の機能を担っている。そのため良好
な記録再生特性を得るには、軟磁性層１３の膜厚は厚い
ほど望ましい。

しかしながら、該軟磁性層１３の膜厚を厚くすると、そ
の表面がディスク基板１１の粗面１２を継承した微小な
凹凸状の面となり難くなる。特に膜形成速度の大きいめ
っき法によって厚い軟磁性層を形成した場合はこの現象
が顕著である。

従って、このような軟磁性層上に形成した垂直磁性薄膜
１４は基より保護膜１５及び潤滑膜１６の表面は前記デ
ィスク基板１１の粗面１２の影響を受けない平坦な面と
なり、その結果、前記磁気ヘッドの吸着防止の効果が失
われるといった問題があった。

本発明は上記した従来の問題点に鑑み、高透磁率な軟磁
性層を厚く形成しても、その軟磁性層上に設けた垂直磁
性薄膜、保ｌ！膜及び潤滑膜の表面が自然に粗面化され
、ヘッド吸着を防止すると共に、耐クラツシユ性に優れ
た新規な垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする
ものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記した目的を達成するため、基板上に表面が
粗面加工により微小凹凸の粗面にされた高透磁率な軟磁
性層を設け、その上に該軟磁性層表面の微小凹凸に対応
した凹凸の表面をそれぞれ有する垂直磁性薄膜、保護膜
及び潤滑膜を設けた構成とする。

〔作　用〕

Ｌ記したように基板上に形成された高透磁率な軟磁性層
の表面を、粗面加工（テクスチャリング法、化学エツチ
ング法、イオンエツチング法等）により微小な凹凸面状
にすると、該軟磁性層を記録再生特性の向上のために厚
膜化しても、その上に設けた垂直磁性薄膜、即ち垂直記
録層の表面は膜厚が薄いために軟磁性層の微小な凹凸面
を十分に継承した粗面となる。

その結果、その垂直記録層上に設けた保護膜及び潤滑膜
の表面も同様に微小な凹凸状の粗面となり、磁気ヘッド
との接触面積が低減されると共に、潤滑膜の膜厚が適度
となるので、磁気ヘッドの吸着防止と低摩擦、低摩耗に
よる耐久性が大幅に向上する。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図は本発明に係る垂直磁気記録媒体の一実施例を示
す要部断面図で、第２図（ａ）〜（Ｃ）はその製造例を
工程順に説明する図であるが、前記第３図の従来例と同
等部分には同一符号を付している。

第１図、第２図（ａ）〜（Ｃ）において、１１は表面が
平滑に研磨仕上げされたアルミニウム（ＡＮ）、或いは
ガラス等からなるディスク基板１１てあり、この上には
第２図（萄で示されるようにＮｉ−Ｆｅ等からなる高透
磁率な軟磁性層２１がめつき法、或いはスパッタリング
法等により膜厚２〜３μ−に厚く形成されている。ここ
で本実施例が従来例と異なるのは、ディスク基板１１の
表面が平滑面である点と、軟磁性Ｎ２１の表面が第２図
（ロ）に示すように微小凹凸状の粗面２２に形成されて
いる点である。軟磁性層２１の表面を粗面２２にする加
工法としては、前述したテクスチャリング法、化学エツ
チング法、或いはイオンエツチング法等が採用でき、こ
れによって当該軟磁性層２１の表面に、例えば０．１μ
ｍ以下の微小凹凸を有する粗面２２を形成する。

そして、このように表面を粗面２２とした軟磁性１ｉ２
１．Ｊ：に、第２図（Ｃ）　ニ示すようニＣｏ−Ｃｒか
らなる膜厚約０．２μｍの垂直磁性薄膜２３と、カーボ
ン等よりなる膜厚０．０１〜０．０３μｍの保護膜２５
がスパッタリング法等により順次形成される。この垂直
磁性薄膜２３及び保護膜２４は製法的には従来例と何ら
変わりはないが、構造的にはその表面が前記軟磁性層２
１表面の粗面２２に対応した明確な微小な凹凸面となる
。

更にその保護膜２４の表面に潤滑膜２５として、例えば
パーフロロポリエーテルを塗布し、これにより垂直磁気
記録媒体が完成する。

かくすれば、先の〔作用〕項で述べたように高透磁率な
軟磁性層２１の膜厚に関係無く、該軟磁性層２１上に形
成した垂直磁性薄膜２３、保護膜２４及び潤滑膜２５の
表面は自然に微小な凹凸を有する粗面となり、磁気ヘッ
ドに対する接触面積の低減が可能となる。

なお、軟磁性層２１を厚く形成するとその表面に、成膜
中における異常成長、或いは異物の巻き込み等による突
起等が発生し易くなるけれども当該軟磁性層表面を粗面
加工することにより、この異常突起も同時に除去できる
といった副次的な作用効果も期待できる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
記録媒体によれば、高透磁率な軟磁性層の膜厚を厚くし
て記録再生特性を向上し、かつその上に設けた垂直磁性
薄膜、保護膜及び潤滑膜の表面を所望の荒さの粗面にし
て磁気ヘッドの吸着防止と低摩擦、低摩耗性の良好な摺
動特性を有する信頼性の高い垂直磁気記録媒体を得るこ
とが可能となる優れた利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る垂直磁気記録媒体の一実施例構成
を示す要部断面図、 第２図（ａ）〜（Ｃ）は上記実施例の垂直磁気記録媒体
の製造例を工程順に示す要部断面図、 第３図は従来の垂直磁気記録媒体を説明するための要部
断面図である。 第１図及び第２図（ａ）〜（Ｃ）において、！■はディ
スク基板、２１は軟磁性層、２２は粗面、２３は垂直磁
性薄膜、２４は保護膜、２５は潤滑膜をそれぞれ示す。 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板（１１）上に表面が粗面加工により微小凹凸の粗面
   （２２）にされた高透磁率な軟磁性層（２１）を設け、
   その上に該軟磁性層表面の微小凹凸に対応した凹凸の表
   面をそれぞれ有する垂直磁性薄膜（２３）、保護膜（２
   ４）及び潤滑膜（２５）を設けてなることを特徴とする
   垂直磁気記録媒体。