JPH02182723A - 側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテル - Google Patents
側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテルInfo
- Publication number
- JPH02182723A JPH02182723A JP1290118A JP29011889A JPH02182723A JP H02182723 A JPH02182723 A JP H02182723A JP 1290118 A JP1290118 A JP 1290118A JP 29011889 A JP29011889 A JP 29011889A JP H02182723 A JPH02182723 A JP H02182723A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- aryl
- alkyl
- group
- aromatic polyether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 23
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 title claims abstract description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 title claims description 19
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 title claims description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 14
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 abstract description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 abstract description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- MBFJNZHZZOBMDO-UHFFFAOYSA-N (2,6-difluorophenyl)-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=C(F)C=CC=C1F MBFJNZHZZOBMDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- -1 -N 12 (R=H Chemical group 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 4
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 4
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M cesium fluoride Substances [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical group 0.000 description 2
- VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRHMSTHFVFIPCO-UHFFFAOYSA-N (2,4-difluorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound FC1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FRHMSTHFVFIPCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVXUBCVZKVCBCU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dichlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CVXUBCVZKVCBCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTRGJHDNHIPMEY-UHFFFAOYSA-N (2,6-difluorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KTRGJHDNHIPMEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- PKTUFLPQGKYZPP-UHFFFAOYSA-N [SiH3]OC1=CC=C(O[SiH3])C=C1 Chemical compound [SiH3]OC1=CC=C(O[SiH3])C=C1 PKTUFLPQGKYZPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000000160 carbon, hydrogen and nitrogen elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920000090 poly(aryl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/38—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols
- C08G65/40—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols from phenols (I) and other compounds (II), e.g. OH-Ar-OH + X-Ar-X, where X is halogen atom, i.e. leaving group
- C08G65/4012—Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/48—Polymers modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/20—Polysulfones
- C08G75/23—Polyethersulfones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/05—Polymer mixtures characterised by other features containing polymer components which can react with one another
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規芳香族ポリエーテル、好ましくは側鎖にケ
ト基を含むポリフェニレンエーテル、並びにその使用法
に関する。
ト基を含むポリフェニレンエーテル、並びにその使用法
に関する。
芳香族ポリエーテル、例えばポリフェニレンオキシド(
ppo)、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケト
ンまたはポリエーテルアミドは加熱した際の寸度安定性
が高い重合体である。また酸化に対し比較的耐性をもち
、燃焼し難く、部分的に結晶性のポリアリーレンエーテ
ル、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は
化学薬品および溶媒に対し高度の耐性をもっている。
ppo)、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケト
ンまたはポリエーテルアミドは加熱した際の寸度安定性
が高い重合体である。また酸化に対し比較的耐性をもち
、燃焼し難く、部分的に結晶性のポリアリーレンエーテ
ル、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は
化学薬品および溶媒に対し高度の耐性をもっている。
これらの重合体は二極性非プロトン溶媒中において親核
置換反応により製造できることは公知である。しかしこ
のような反応によりPPOが製造できることは従来知ら
れていなかった。
置換反応により製造できることは公知である。しかしこ
のような反応によりPPOが製造できることは従来知ら
れていなかった。
親核置換反応によってつくられた重合体は官能基(反応
性の基)を含んでいない。従って例えばガス分離用の膜
材料のような或種の用途には不適である。
性の基)を含んでいない。従って例えばガス分離用の膜
材料のような或種の用途には不適である。
本発明によれば親核置換反応によって製造できる新規芳
香族ポリエーテル、特に側鎖にケト基を含んだ芳香族ポ
リエーテルが見出だされた。
香族ポリエーテル、特に側鎖にケト基を含んだ芳香族ポ
リエーテルが見出だされた。
本発明は式(り
ph
但し式中Arは随時C1〜C2−アルキル、C6〜CI
4アリール、07〜C24−アラルキル、C7〜C□−
アルカリールで置換されたC5〜C3゜−アリール基で
あり、 phは随時X−C+ ’= C4−アルキルまたはX−
C+〜C++アリールで置換されたフェニル基であって
、ここにXは酸素(0)または硫黄(S)を表し、nは
30〜250の整数である、 に対応することを特徴とする芳香族ポリエーテJし、好
ましくは側鎖にケト基を含むポリエーテルに関する。
4アリール、07〜C24−アラルキル、C7〜C□−
アルカリールで置換されたC5〜C3゜−アリール基で
あり、 phは随時X−C+ ’= C4−アルキルまたはX−
C+〜C++アリールで置換されたフェニル基であって
、ここにXは酸素(0)または硫黄(S)を表し、nは
30〜250の整数である、 に対応することを特徴とする芳香族ポリエーテJし、好
ましくは側鎖にケト基を含むポリエーテルに関する。
Arは式(Ia)
アリール基Arおよびフェニル基は官能基、例えば−N
l2(R=H,C1−C4−アルキル)が置換している
ことができる。これらの官能基は電子移動性の基である
ことが好ましい。
l2(R=H,C1−C4−アルキル)が置換している
ことができる。これらの官能基は電子移動性の基である
ことが好ましい。
式(りの添字nは3〜250、好ましくは5〜200、
最も好ましくは5〜150の整数である。
最も好ましくは5〜150の整数である。
本発明はまた式(If)
但し式中Xは化学結合、酸素原子、硫黄原子、スルフォ
ン基、カルボニル基または03〜C20−アルキレン基
、好ましくはイングロピリデン基であり、 Rl−R4は互いに独立に水素、C,−C,。−アルキ
ル、メチル、C1〜C14−アリールまたはノXロゲン
、例えばCtまたはBrを表す、 の基であることが好ましい。
ン基、カルボニル基または03〜C20−アルキレン基
、好ましくはイングロピリデン基であり、 Rl−R4は互いに独立に水素、C,−C,。−アルキ
ル、メチル、C1〜C14−アリールまたはノXロゲン
、例えばCtまたはBrを表す、 の基であることが好ましい。
ph
但し式中Hatはハロゲン、例えばフッ素(F)または
塩素(C1)、好ましくはフッ素を表し、Phは随時x
−cl〜c4−アルキルまたはX−Cr 〜C+ +ア
リールで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸
素(0)または硫黄(S)を表す、に対応スるジハロゲ
ノベンゾフェノンを式(I[I)R’3Si−0−Ar
−0−5iR’z (nI )但し式中R5は随時
分岐したC、−C,−アルキル基、好ましくはメチル、
エチルまたはプロピル基であり、 Arは随時C,〜C,−アルキル、C,〜Cl4−アリ
ール、C7〜C!4−アラルキル、C7〜C24−アル
カリールで置換されたC1〜C3゜−アリール基である
、に対応するビス−トリアルキルシリルエーテルと公知
方法で反応させる式(1) 但し式中Arおよびphは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテル、好ましくはポリフェニレンオキ
シドの製造法(方法A)に関する。
塩素(C1)、好ましくはフッ素を表し、Phは随時x
−cl〜c4−アルキルまたはX−Cr 〜C+ +ア
リールで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸
素(0)または硫黄(S)を表す、に対応スるジハロゲ
ノベンゾフェノンを式(I[I)R’3Si−0−Ar
−0−5iR’z (nI )但し式中R5は随時
分岐したC、−C,−アルキル基、好ましくはメチル、
エチルまたはプロピル基であり、 Arは随時C,〜C,−アルキル、C,〜Cl4−アリ
ール、C7〜C!4−アラルキル、C7〜C24−アル
カリールで置換されたC1〜C3゜−アリール基である
、に対応するビス−トリアルキルシリルエーテルと公知
方法で反応させる式(1) 但し式中Arおよびphは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテル、好ましくはポリフェニレンオキ
シドの製造法(方法A)に関する。
式(III)のトリメチルシルエーテルは公知であり、
例えばビスフェノールをヘキサメチルジシラザンと反応
させ、例えば真空清瀬または再結晶により分離する公知
方法によりつくることができる。
例えばビスフェノールをヘキサメチルジシラザンと反応
させ、例えば真空清瀬または再結晶により分離する公知
方法によりつくることができる。
シリルエーテルを製造するのに適したジオールの例は次
の通りである。ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、4
.4″−ジヒドロキシジフェニル、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−スルフォン、4.4’−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−メタン、2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−フロパン(ヒスフェノールA)、1.6−11.7
−12,6−および2,7−す7タレンジオール、フェ
ノールフタレイン等。
の通りである。ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、4
.4″−ジヒドロキシジフェニル、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−スルフォン、4.4’−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−メタン、2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−フロパン(ヒスフェノールA)、1.6−11.7
−12,6−および2,7−す7タレンジオール、フェ
ノールフタレイン等。
式(I[)に対応するジハロゲン化合物の例は次の通す
である。2.6−ジフルオロベンゾフェノン、2゜6−
’;フルオロー4′−メトキシベンゾフェノン、2.6
−ジフルオロ−4′−メチルベンゾフェノン、2.6−
ジフルオロ−4’−(4−アセチルフェノキシ)−ベン
ゾフェノン、2.6−ジフルオロ−4′−メチルメルカ
グトベンゾフェノン等。これらの化合物は公知であり、
例えば公知方法でつくることができる。
である。2.6−ジフルオロベンゾフェノン、2゜6−
’;フルオロー4′−メトキシベンゾフェノン、2.6
−ジフルオロ−4′−メチルベンゾフェノン、2.6−
ジフルオロ−4’−(4−アセチルフェノキシ)−ベン
ゾフェノン、2.6−ジフルオロ−4′−メチルメルカ
グトベンゾフェノン等。これらの化合物は公知であり、
例えば公知方法でつくることができる。
本発明の新規ボリアリールエーテルを製造するための縮
合反応には、塩、例えばアルカリ金属ハロゲン化物、例
えばCsFのようなアルカリ金属塩を触媒として用いる
ことができる。
合反応には、塩、例えばアルカリ金属ハロゲン化物、例
えばCsFのようなアルカリ金属塩を触媒として用いる
ことができる。
触媒として使用する塩は使用する溶媒中でソフトな陽イ
オンとハードな陰イオンに解離する種類であることが好
ましい。
オンとハードな陰イオンに解離する種類であることが好
ましい。
触媒の使用量は式(n)のジハロゲン化合物1モル当た
り約0.O1〜0.1モルである。
り約0.O1〜0.1モルである。
本発明の方法は希釈剤を用いまたは用いないで行うこと
ができるが、好ましくは希釈剤を使用しない。
ができるが、好ましくは希釈剤を使用しない。
使用する反応温度は180〜220°Cの範囲にあり、
縮合が進行するにつれて徐々に上昇させる。最終温度は
280〜320℃の範囲にある。反応が終わりに近付く
につれて真空(最高的1O−3バール)をかける。
縮合が進行するにつれて徐々に上昇させる。最終温度は
280〜320℃の範囲にある。反応が終わりに近付く
につれて真空(最高的1O−3バール)をかける。
副成物として容易に揮発するハロゲン化トリアルキルシ
リルが得られる。
リルが得られる。
特定の一具体化例においては、本発明方法は例工lf2
.4−または2.6−ジハロゲノベンゾフェノンを他の
賦活した芳香族ジハロ化合物と縮合させることにより行
うことができる。またジハロベンゾフェノンは例えば数
種のシリル化したビスフェノールの混合物と縮重合させ
ることができる。
.4−または2.6−ジハロゲノベンゾフェノンを他の
賦活した芳香族ジハロ化合物と縮合させることにより行
うことができる。またジハロベンゾフェノンは例えば数
種のシリル化したビスフェノールの混合物と縮重合させ
ることができる。
従って本発明はまた式(II)
ph
但し式中Halはハロゲン、例えばフッ素(F)または
塩素(CI)、好ましくはフッ素を表し、phは随時X
−C,〜C,−CルールまたはX−C+〜C+aアリー
ルで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸素(
0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロゲノベ
ンゾフェノンを式(IV)HO,−Ar−OH(IV
) Arは随時C,−C4−アルキル、C2〜Cza−アリ
ール、C2〜Cza−アラルキル、C7〜C!4−アル
カリールで置換されたC1〜C3゜−アリール基である
、に対応する芳香族ジヒドロキシ化合物と、式(■)の
ジヒドロキシ化合物に関しl−1,3当量の塩基性触媒
を存在させ、式(II)に対応するジハロゲノベンゾフ
ェノン対式(IV)に対応するジヒドロキシ化合物のモ
ル比を反応に関与する該ジヒドロキシ化合物に関し帆9
8:1〜1.02:lとし、且つ式(V)および/また
は(Vl) (V)、 (Vl)。
塩素(CI)、好ましくはフッ素を表し、phは随時X
−C,〜C,−CルールまたはX−C+〜C+aアリー
ルで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸素(
0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロゲノベ
ンゾフェノンを式(IV)HO,−Ar−OH(IV
) Arは随時C,−C4−アルキル、C2〜Cza−アリ
ール、C2〜Cza−アラルキル、C7〜C!4−アル
カリールで置換されたC1〜C3゜−アリール基である
、に対応する芳香族ジヒドロキシ化合物と、式(■)の
ジヒドロキシ化合物に関しl−1,3当量の塩基性触媒
を存在させ、式(II)に対応するジハロゲノベンゾフ
ェノン対式(IV)に対応するジヒドロキシ化合物のモ
ル比を反応に関与する該ジヒドロキシ化合物に関し帆9
8:1〜1.02:lとし、且つ式(V)および/また
は(Vl) (V)、 (Vl)。
但し式中RI−R@は互いに独立にC,−C,。−アル
キル、シクロアルキル、好ましくはメチル、またはC6
〜C2゜−アリール、好ましくはフェニルであり、 Yはスル7オキシドまたはスルフォン基であり、nは3
.4または5の数である、 の二極性非プロトン溶媒中において溶媒対固体分の比を
to:l−1:lとし反応温度を100〜350’O,
好ましくは150〜250°Cとして反応を行う式(1
)但し式中A「およびphは上記定義の通りであり、n
は30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法(方法B)に関する。
キル、シクロアルキル、好ましくはメチル、またはC6
〜C2゜−アリール、好ましくはフェニルであり、 Yはスル7オキシドまたはスルフォン基であり、nは3
.4または5の数である、 の二極性非プロトン溶媒中において溶媒対固体分の比を
to:l−1:lとし反応温度を100〜350’O,
好ましくは150〜250°Cとして反応を行う式(1
)但し式中A「およびphは上記定義の通りであり、n
は30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法(方法B)に関する。
反応時間は一般に1〜50時間、好ましくは2〜20時
間である。
間である。
式(II)のジハロベンゾフェノンの例には2.6−ジ
フルオロベンゾフェノン、2.6−ジクロロベンゾフェ
ノン、2.4−ジフルオロベンゾフェノン、2.4−ジ
クロロベンゾフェノン等が含マレル。
フルオロベンゾフェノン、2.6−ジクロロベンゾフェ
ノン、2.4−ジフルオロベンゾフェノン、2.4−ジ
クロロベンゾフェノン等が含マレル。
式(IV)に対応するジヒドロキシ化合物の例は次の通
りである。ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、4.4
’−ジヒドロキシジフェニル、4.4’−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−メタン、2.2−ビス−(4−ヒドロキシ7エ二ル
)−プロパン(ビスフェノールA)、l、6−1■、7
−12.6−オよヒ2.7−ナフタレンジオール、フェ
ノールフタレイン等。
りである。ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、4.4
’−ジヒドロキシジフェニル、4.4’−ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−メタン、2.2−ビス−(4−ヒドロキシ7エ二ル
)−プロパン(ビスフェノールA)、l、6−1■、7
−12.6−オよヒ2.7−ナフタレンジオール、フェ
ノールフタレイン等。
N−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタム等が
式(V)に対応する溶媒の例である。
式(V)に対応する溶媒の例である。
式(VI)に対応する溶媒の例はジメチルスル7オキシ
ド、ジフェニルスルフオラン 等である。
ド、ジフェニルスルフオラン 等である。
塩基性触媒の例には塩基性アルカリ金属およびアルカリ
土類金属の塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ナトリウムメタルート、炭酸カリウム、重炭酸カリ
ウム等が含まれる。
土類金属の塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ナトリウムメタルート、炭酸カリウム、重炭酸カリ
ウム等が含まれる。
反応混合物は反応(縮合)を行う前に、例えば通常の補
足剤、例えばトルエン、メシチレン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等を加えて共沸蒸溜により脱水するこ
とが好ましい。好ましくは反応は不活性ガス(例えば窒
素、アルゴン)下で行う。
足剤、例えばトルエン、メシチレン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等を加えて共沸蒸溜により脱水するこ
とが好ましい。好ましくは反応は不活性ガス(例えば窒
素、アルゴン)下で行う。
縮合の進行に伴い反応温度を順次、好ましくは150〜
200℃まで上昇させ、同時に反応混合物から水および
補足剤を除去する。徐々に粘度が上昇することが認めら
れる。
200℃まで上昇させ、同時に反応混合物から水および
補足剤を除去する。徐々に粘度が上昇することが認めら
れる。
次に例えばアルコールまたはアルコール/水混合物、例
えばメタノール、エタノールまたはプロパツールから沈
澱させて重合体を分離する。
えばメタノール、エタノールまたはプロパツールから沈
澱させて重合体を分離する。
本発明の芳香族ポリエーテルは側鎖に置換しているフェ
ニル基Phの反応によりその物理化学的性質を変え得る
ことを特徴としている。例えばメルカプト基は容易に酸
化されてスルフォンになる。
ニル基Phの反応によりその物理化学的性質を変え得る
ことを特徴としている。例えばメルカプト基は容易に酸
化されてスルフォンになる。
本発明の新規芳香族ポリエーテルはPPOよりも親水性
が強い。これらのポリエーテルは例えば特にガス等の分
離に使用できる膜の製造に適している。
が強い。これらのポリエーテルは例えば特にガス等の分
離に使用できる膜の製造に適している。
実施例1(方法A)
10、91g(50ミリモル)の2.6−シフルオロペ
ンゾフエノン、12.72g(50ミリモル)のヒドロ
キノンビス−シリルエーテルおよび100mgのフッ化
セシウムを、窒素雰囲気下において還流冷却器および撹
拌機を備えた100m<2の三日フラスコに入れる。次
に反応混合物を2時間200°Cに加熱し、さらに2時
間250°Cに、次いで30分間280℃に加熱する。
ンゾフエノン、12.72g(50ミリモル)のヒドロ
キノンビス−シリルエーテルおよび100mgのフッ化
セシウムを、窒素雰囲気下において還流冷却器および撹
拌機を備えた100m<2の三日フラスコに入れる。次
に反応混合物を2時間200°Cに加熱し、さらに2時
間250°Cに、次いで30分間280℃に加熱する。
最後の30分間には真空をかける。反応混合物を冷却し
、トリフルオロ酢酸と4倍容のジクロロメタンとの混合
物中に溶解し、メタノールで沈澱させ、濾別して水流ポ
ンプの真空中で120℃において乾燥する。
、トリフルオロ酢酸と4倍容のジクロロメタンとの混合
物中に溶解し、メタノールで沈澱させ、濾別して水流ポ
ンプの真空中で120℃において乾燥する。
収率74%。
CHN分析: C 78.5Q%(計算値79.1
)H 4.31%(計算値4.19) T.: 132℃ 実施例2(方法B) 9.31g(50ミリモル)の4.4″−ジヒドロキシ
ジフェニル、lO,91g(50ミリモル)の2.6−
ジフルオロベンゾフェノンおよび9gの炭酸カリウムを
100m12の無水N−メチルカプロラクタムおよび5
抛αの無水トルエン中に含む溶液を、電動撹拌機、内部
温度計および水分離器を備え予め真空で加熱して窒素を
通じた500m(2の三ツロフラスコに入れる。この溶
液を約3時間脱水する。次いで反応混合物の温度が18
0°Cに上昇するような速度でトルエンを段階的に除去
する。この温度で8時間反応混合物を撹拌する。この間
に粘度が徐々に上昇するのが見られる。
)H 4.31%(計算値4.19) T.: 132℃ 実施例2(方法B) 9.31g(50ミリモル)の4.4″−ジヒドロキシ
ジフェニル、lO,91g(50ミリモル)の2.6−
ジフルオロベンゾフェノンおよび9gの炭酸カリウムを
100m12の無水N−メチルカプロラクタムおよび5
抛αの無水トルエン中に含む溶液を、電動撹拌機、内部
温度計および水分離器を備え予め真空で加熱して窒素を
通じた500m(2の三ツロフラスコに入れる。この溶
液を約3時間脱水する。次いで反応混合物の温度が18
0°Cに上昇するような速度でトルエンを段階的に除去
する。この温度で8時間反応混合物を撹拌する。この間
に粘度が徐々に上昇するのが見られる。
さらにトルエンを除去した後、温度を190−195°
Cに上げ、撹拌を1時間続ける。約200mQのNMC
で溶液を希釈し、高温で濾過し、希酢酸で中和し、10
倍量のメタノール/水混合物(1:l)で沈澱させる。
Cに上げ、撹拌を1時間続ける。約200mQのNMC
で溶液を希釈し、高温で濾過し、希酢酸で中和し、10
倍量のメタノール/水混合物(1:l)で沈澱させる。
1時間重合体を水と共に煮沸し、吸引濾過し、塩化メチ
レンに溶解し、メタノールから沈澱させ、水流ポンプの
真空で80°Cにおいて乾燥する。
レンに溶解し、メタノールから沈澱させ、水流ポンプの
真空で80°Cにおいて乾燥する。
収率:56%
T、: 163℃
実施例3
フェニル基Phの置換基の化学反応による本発明の芳香
族ポリエーテルの変性 3.62g(8ミリモル)のBPA−ビス−トリメチル
シルエーテルおよび2.6−ジフルオロ−4′−メチル
メルカプトベンゾフェノンから得られたポリアリーレン
エーテルを、ジオキサン200mff、氷酢酸25+n
Qおよび酢酸無水物25m4の混合物に溶解する。30
%過酸化水素2.5m12(約25ミリモル)を、0℃
で撹拌しながら注意深く加える。反応溶液を室温で24
時間放置し、次いで1時間加熱還流させる。溶液を冷却
し、これを1.2倍量のメタノール/水混合物(3:l
)に注ぐ。
族ポリエーテルの変性 3.62g(8ミリモル)のBPA−ビス−トリメチル
シルエーテルおよび2.6−ジフルオロ−4′−メチル
メルカプトベンゾフェノンから得られたポリアリーレン
エーテルを、ジオキサン200mff、氷酢酸25+n
Qおよび酢酸無水物25m4の混合物に溶解する。30
%過酸化水素2.5m12(約25ミリモル)を、0℃
で撹拌しながら注意深く加える。反応溶液を室温で24
時間放置し、次いで1時間加熱還流させる。溶液を冷却
し、これを1.2倍量のメタノール/水混合物(3:l
)に注ぐ。
沈澱生成物を吸引濾過し、水流ポンプの真空で7゜℃に
おいて乾燥する。
おいて乾燥する。
収率: 3.6g=93%
反応の完結は’H−NMRスペクトルを用い硫黄原子に
結合したメチル基の共鳴ングナルのシフト値から確認す
ることができる。2.477ppmに存在したシグナル
が酸化後には完全に消失し、3.O5ppmに新しいシ
グナルが現れる。
結合したメチル基の共鳴ングナルのシフト値から確認す
ることができる。2.477ppmに存在したシグナル
が酸化後には完全に消失し、3.O5ppmに新しいシ
グナルが現れる。
本発明の主な特徴及び態様は次の通りである。
10式(1)
但し式中A「は随時C1〜C4−アルキル、06〜CI
4アリール、C7〜C14−アラルキル、07〜0.4
−アルカリールで置換されたC1〜C1゜−アリール基
であり、 phは随時X−C,−C,−アルキルまたはX−C,〜
C,。
4アリール、C7〜C14−アラルキル、07〜0.4
−アルカリールで置換されたC1〜C1゜−アリール基
であり、 phは随時X−C,−C,−アルキルまたはX−C,〜
C,。
アリールで置換されたフェニル基であって、ここにXは
酸素(0)または硫黄(S)を表し、nは30〜250
の整数である、 に対応する芳香族ポリエーテル、好ましくは側鎖にケト
基を含むポリエーテル。
酸素(0)または硫黄(S)を表し、nは30〜250
の整数である、 に対応する芳香族ポリエーテル、好ましくは側鎖にケト
基を含むポリエーテル。
2、 Arは式(la)
R2R。
但し式中Xは化学結合、酸素原子、硫黄原子、スルフォ
ン基、カルボニル基またはC3〜C20−アルキレン基
、好ましくはイソプロピリデン基であり、 R1−R4は互いに独立に水素、C1−C21)−アル
キル、メチル、C6〜C14−アリールまたはハロゲン
、例えばC1またはBrを表す、 上記第1項記載の芳香族ポリエーテル。
ン基、カルボニル基またはC3〜C20−アルキレン基
、好ましくはイソプロピリデン基であり、 R1−R4は互いに独立に水素、C1−C21)−アル
キル、メチル、C6〜C14−アリールまたはハロゲン
、例えばC1またはBrを表す、 上記第1項記載の芳香族ポリエーテル。
3、式(II)
ph
但し式中Halはハロゲン、例えばフッ素(F)または
塩素(CI)、好ましくは7ノ素を表し、phは随時X
−C,−C,−アルキルまたはX−C+〜C+aアリー
ルで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸素(
0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロゲノベ
ンゾフェノンを式(I[I)R5ssi−0−Ar−0
−5iR’ s (In )但し式中R′は随時分
岐したC I””’ Cs−アルキル基、好ましくはメ
チル、エチルまたはプロピル基であり、 Arは随時01〜C4−アルキル、06〜C11−アリ
ール、C2〜C24−アラルキル、C7〜C21−アル
カリールで置換されたC6〜C1゜−アリール基である
、に対応するビス−トリアルキルシリルエーテルと公知
方法で反応させる式(I) 暑 ph 但し式中ArおよびPhは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法。
塩素(CI)、好ましくは7ノ素を表し、phは随時X
−C,−C,−アルキルまたはX−C+〜C+aアリー
ルで置換されたフェニル基であって、ここにXは酸素(
0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロゲノベ
ンゾフェノンを式(I[I)R5ssi−0−Ar−0
−5iR’ s (In )但し式中R′は随時分
岐したC I””’ Cs−アルキル基、好ましくはメ
チル、エチルまたはプロピル基であり、 Arは随時01〜C4−アルキル、06〜C11−アリ
ール、C2〜C24−アラルキル、C7〜C21−アル
カリールで置換されたC6〜C1゜−アリール基である
、に対応するビス−トリアルキルシリルエーテルと公知
方法で反応させる式(I) 暑 ph 但し式中ArおよびPhは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法。
4、式(I[)
但し式中Halはハロゲン、例えばフッ素(F)または
塩素(CI)、好ましくはフン素を表し、phは随時X
−CI−C,−フルキルまfニー11X−C,〜C,。
塩素(CI)、好ましくはフン素を表し、phは随時X
−CI−C,−フルキルまfニー11X−C,〜C,。
アリールで置換されたフェニル基であって、ここにXは
酸素(0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロ
ゲノベンゾフェノンを式(■)HO−Ar−OH(IV
) Arは随時C,〜C4−アルキル、C,−C,、−アリ
ール、C2〜C24−アラルキル、07〜C24−アル
カリールで置換されたC6〜C1゜−アリール基である
、に対応する芳香族ジヒドロキシ化合物と、式(IV)
のジヒドロキシ化合物に関し1〜1.3当量の塩基性触
媒を存在させ、式(n)に対応するジハロゲノベンゾフ
ェノン対式(IV)に対応するジヒドロキシ化合物のモ
ル比を反応に関与する該ジヒドロキシ化合物に関L O
,98:l−1,02: 1とし、且つ式(V)および
/または(VI) 5、上記側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテルを膜の
製造に利用する方法。
酸素(0)または硫黄(S)を表す、に対応するジハロ
ゲノベンゾフェノンを式(■)HO−Ar−OH(IV
) Arは随時C,〜C4−アルキル、C,−C,、−アリ
ール、C2〜C24−アラルキル、07〜C24−アル
カリールで置換されたC6〜C1゜−アリール基である
、に対応する芳香族ジヒドロキシ化合物と、式(IV)
のジヒドロキシ化合物に関し1〜1.3当量の塩基性触
媒を存在させ、式(n)に対応するジハロゲノベンゾフ
ェノン対式(IV)に対応するジヒドロキシ化合物のモ
ル比を反応に関与する該ジヒドロキシ化合物に関L O
,98:l−1,02: 1とし、且つ式(V)および
/または(VI) 5、上記側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテルを膜の
製造に利用する方法。
(V)、 (Vl)。
但し式中R@〜Raは互いに独立にC,−C2゜−アル
キル、シクロアルキル、好ましくはメチル、またはC1
〜C8゜−アリール、好ましくはフェニルであり、 Yはスル7オキシドまIこはスルフォン基であり、nは
3.4または5の数である、 の二極性非プロトン溶媒中において溶媒対固体分の比を
lO:1〜l:1とし反応温度を100〜350°Cと
して反応を行う式(1) 但し式中Arおよびphは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法。
キル、シクロアルキル、好ましくはメチル、またはC1
〜C8゜−アリール、好ましくはフェニルであり、 Yはスル7オキシドまIこはスルフォン基であり、nは
3.4または5の数である、 の二極性非プロトン溶媒中において溶媒対固体分の比を
lO:1〜l:1とし反応温度を100〜350°Cと
して反応を行う式(1) 但し式中Arおよびphは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I )、 但し式中Arは随時C_1〜C_4−アルキル、C_6
〜C_1_4−アリール、C_7〜C_2_4−アラル
キル、C_7〜C_2_4−アルカリールで置換されて
いてもよいC_6〜C_3_0−アリール基であり、 Phは随時X−C_1〜C_4−アルキルまたはX−C
_1〜C_1_4−アリールで置換されていてもよいフ
ェニル基であって、ここにXは酸素(O)または硫黄(
S)を表し、 nは30〜250の整数である、 に対応する芳香族ポリエーテル、好ましくは側鎖にケト
基を含むポリエーテル。 2、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)、 但し式中Halはハロゲン、例えばフッ素(F)または
塩素(Cl)、好ましくはフッ素を表し、Phは随時X
−C_1〜C_4−アルキルまたはX−C_1〜C_1
_4−アリールで置換されていてもよいフェニル基であ
って、ここにXは酸素(O)または硫黄(S)を表す、 に対応するジハロゲノベンゾフェノン類を式(III)R
^6_3Si−O−Ar−O−SiR^5_3(III)
但し式中R^6は随時分岐していてもよいC_1〜C_
6−アルキル基、好ましくはメチル、エチルまたはプロ
ピル基であり、 Arは随時C_1〜C_4−アルキル、C_6〜C_1
_4−アリール、C_7〜C_2_4−アラルキル、C
_7〜C_2_4−アルカリールで置換されていてもよ
いC_6〜C_3_0−アリール基である、 に対応するビス−トリアルキルシリルエーテルと公知方
法で反応させること特徴とする式( I )▲数式、化学
式、表等があります▼( I )、 但し式中ArおよびPhは上記定義の通りであり、nは
30〜250の整数である、 の芳香族ポリエーテルの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3838644.5 | 1988-11-15 | ||
DE3838644A DE3838644A1 (de) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | Aromatische polyether mit seitenstaendigen ketogruppen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02182723A true JPH02182723A (ja) | 1990-07-17 |
Family
ID=6367193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1290118A Pending JPH02182723A (ja) | 1988-11-15 | 1989-11-09 | 側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5004836A (ja) |
EP (1) | EP0369248A3 (ja) |
JP (1) | JPH02182723A (ja) |
DE (1) | DE3838644A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5209848A (en) * | 1991-08-22 | 1993-05-11 | The Dow Chemical Company | Xylylene based polyether membranes for gas separation |
US5288834A (en) * | 1993-03-25 | 1994-02-22 | National Research Council Of Canada | Functionalized polyaryletherketones |
US6017455A (en) * | 1995-05-09 | 2000-01-25 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Porous membrane |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4051109A (en) * | 1968-03-21 | 1977-09-27 | Imperial Chemical Industries Limited | Aromatic polymers |
US3929901A (en) * | 1968-06-01 | 1975-12-30 | Bayer Ag | Dihalophenyl-bis-(hydroxyarylethers) |
US3878169A (en) * | 1971-04-19 | 1975-04-15 | James Edwin Guillet | Photodegradable polyesters prepared from ketonic dicarboxylic acids |
DE3673169D1 (de) * | 1986-09-18 | 1990-09-06 | Amoco Corp | Sulfonierte polyaryletherharze und intermediaere silylsulfonat-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und aus den harzen hergestellte membrane. |
-
1988
- 1988-11-15 DE DE3838644A patent/DE3838644A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-11-03 EP EP19890120320 patent/EP0369248A3/de not_active Withdrawn
- 1989-11-09 JP JP1290118A patent/JPH02182723A/ja active Pending
- 1989-11-13 US US07/435,045 patent/US5004836A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3838644A1 (de) | 1990-05-17 |
EP0369248A3 (de) | 1990-10-17 |
US5004836A (en) | 1991-04-02 |
EP0369248A2 (de) | 1990-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0195448B1 (en) | Process for preparing poly (aryl ether ketone)s | |
JP2002525406A (ja) | 改良されたポリ(ビフェニルエーテルスルホン) | |
US7879199B2 (en) | Polyether ketone, its monomer and its phenolate | |
KR930006259B1 (ko) | 새로운 방향족 폴리술폰에테르케톤 중합체 | |
JP4736254B2 (ja) | 2官能性フェニレンエーテルのオリゴマー体とその製造法 | |
JPH02182723A (ja) | 側鎖にケト基を含む芳香族ポリエーテル | |
US20200048418A1 (en) | A process for preparing a polyarylenesulfone/polyester block copolymer (p) | |
JPH0136849B2 (ja) | ||
EP3744751B1 (en) | Polyarylene ether ketone resin and production method therefor, and molded article | |
KR20190072919A (ko) | 폴리아릴에테르케톤 및 이의 제조 방법 | |
JPS63500871A (ja) | 連鎖延長ポリ(アリ−ルエ−テルケトン) | |
WO1986007598A1 (en) | Chain-extended poly (aryl ether ketones) | |
EP4006079A1 (en) | Polyarylene ether ketone resin, manufacturing method therefor, and molded body | |
JP2552169B2 (ja) | 新規芳香族ポリスルホン及びその製造方法 | |
JPS61159420A (ja) | 芳香族ポリエ−テル系共重合体 | |
JP2551455B2 (ja) | 新規芳香族ポリスルホン及びその製造方法 | |
JP2812942B2 (ja) | 芳香族ポリエーテルおよびその製造方法 | |
JPS62151421A (ja) | 熱可塑性芳香族ポリエ−テルケトン共重合体およびその製造方法 | |
JP2516046B2 (ja) | 新規芳香族ポリスルホン及びその製造方法 | |
JPS58101114A (ja) | ポリエーテル系重合体 | |
JPH0686519B2 (ja) | 耐熱性樹脂及びその製法 | |
JPH0420530A (ja) | ポリアリールエーテルスルホンおよびその製造方法 | |
JPH0676487B2 (ja) | 耐熱性樹脂及びその製造法 | |
Ding et al. | Cyclomer technology for high performance polymers | |
JPH0676486B2 (ja) | 耐熱性樹脂及びその製造方法 |