JPH0217966A - 移動支持体材料に塗布した液体層の乾燥方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、乾燥帯を通って移動する支持体材料に塗布さ
れた、揮発性溶剤成分と非揮発性成分とを含む液相を乾
燥させる方法と装置に関する。

液相を念布した面積の大きいウェブ状材料の乾燥には、
種々な乾燥方法と乾燥装置が用いられている。乾燥させ
るべき典型的な材料の例は、一般に、乾燥過程中に液体
金膜から除去する揮発性成分と乾燥後に支持体材料上に
残留する非揮発性成分とから成る液相を崖布した金属ス
トリップまたはプラスチックフィルムである。

支持体材料の表面は、被覆の結果として、支持体材料の
表面は特別な性質を有し、乾燥後でのみ後の使用に望ま
しい形状になる。この例として、加工されて版面を形成
する、感光性層付き金属ストリップの被覆を挙げること
ができる。

以下の本文で液体塗膜と呼ぶ、溶剤を含む湿った塗膜と
しての物質が金属ストリップまたはプラスチックフィル
ムを被覆し、次に塗膜を乾燥させる工程は、望ましい品
質の層を保証するために、特殊な設備を必要とするプロ
セスである。

この場合の本質的な問題は被後の最終プロセス評価基準
としての塗膜乾燥工程である。

支持体材料上の液体塗膜を乾燥させる場合に、塗膜層か
ら溶剤成分を除去するために、通常熱ガス、特に熱風を
発生させて、支持体材料の表面上に流すことが行われる
。この場合に、熱ガス流は乾燥装置を通過する支持体材
料に均一な被積分布状態で塗布された液体塗膜と直接接
触する。しま及びまだらのない乾燥塗膜面、すなわち残
留成分の均一な分布を保証するために、乾燥設備には液
体塗膜上に空気流を好ましく及び／ｉたけ均一に分布さ
せるように意図された装置を備える。これは被覆ウェブ
の幅全体にわたって均一に乾燥させるだめのものである
。さらに、公知の乾燥設備は空気移動の乱れを最小にす
るための装置を有する、空気移動の乱れは特に乱流移動
のために塗膜面に不利な効果を及ぼし、塗膜面上にまだ
ら形成現象を生ずる。

このような乾燥装置の慣習的な構造は、米国特許第３．
０１２，３３５号によると、核種つエデ上のある一定の
長さに沿って存在する、ドライヤーガスが供給されるガ
ス空間からのドライヤーガスによって乾燥されるべき液
体塗膜の直接上方のガス空間に、複数のスロット、ノズ
ル、孔または多孔質固体を用いて、できるだけ均一に供
給することから成る。この場合に、回転運搬ベルト上の
連続被接ス）　ＩＪツゾまたは被覆プレートは、連続的
にかつ溶剤蒸気をドライヤー空気に放出しながら、乾燥
装置に通される。供給されるドライヤー空気はこの場合
に開放循環式に絶えず更新されるかまたは溶剤濃度の高
い空気を完全に放出される。一部更新または放出したド
ライヤー空気を用いる循環空気プロセスも用いることが
できる。

ストリップの通過方向に対して横に配置された長いノズ
ルまたは長いスロットの場合には、横方向流出が生ずる
場合の圧力勾配によって場の中央で、ノズル出口速度の
低下が生じ、それによってストリップ進行方向に対して
横方向の熱転移と物質移動も影響されるという事実によ
って、乾燥空間からのドライヤー空気の放出にしばしば
問題が生ずる。その結果は縁部の過剰乾燥であり、これ
によって多くの被覆プロセスにおいて乾燥塗膜の好まし
くない構造が生ずる。

それ故、商業的刊行誌［ケミ−・インジエニエール・テ
クニック（Ｃｈｅｍｉｅ　ＩｎｇｅｎｉｅｕｒＴｅｃｈ
ｎｉｋ　）　Ｊ　４２巻、１４号（１９７０年）。

９２７〜９２９貞；４６巻、８号（１９７１年）。

５１６〜５１９頁；４５巻、５号（１９７３年）。

２９０〜２９４頁では、ドライヤーの全ストリップ幅に
わたって定常な熱転移と質量移動を保証するために、ス
ロットノズル・ドライヤーのノズル領域の構造設計の最
適化に関する提案がｆｔ　サれている。スロットノズル
・ドライヤーを最適化するために、種々なノズル面積を
有するスロットノズル領域からの衝突流の物質移動測定
値は広範囲の外部パラメータと相関する。確認された相
互関係は材料表面積１ｒＩＬ２あたりのファン出力に関
して最適のノズル形状を定めるのに用いられる。この場
合に、ノズルスロットがストリップ縁部から中央にかけ
て連続的に増加するスロット幅を有する場合に、ストリ
ップ幅にわたって定常な熱転移と物質移動が行われるこ
とが判明している。

面積の大きい材料ウェブを乾燥させる場合に、局部的な
過剰乾燥とそれに関連した品質低下とを避けるために、
ストリップ幅にわたって高度に均一な熱転移と物質移動
がしばしば要求される。このような場合に、スロットが
ウェブの進行方向に対して横に配列されているスロット
ノズル領域を用いるのが好ましい。ノズル方向に流出す
るスロットノズルドライヤーに観察される端部過剰乾燥
は、スロットに宿った出口速度の分布に帰因すると考え
られる。このことから、この縁部過剰乾燥を避け、材料
ウェブの幅にわたって均一に乾燥させるために、特にノ
ズルドライヤーでは、流出面積はできるかぎり、ノズル
出口面積の６．５倍であるべきであるということが生ず
る。

キャリヤーエアーノズル系を用いて、フィルムストリッ
プまたは金属ストリップをサスペンションドライヤー中
で非接触表面処理することが、先行技術の現在の状態で
ある〔定期刊行誌［ガスヴエルメインターナショナル（
ｇａｓｗａｅｒｍｅ　１ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　）
　Ｊ　２４巻（１９７５）。

１２号、５２７〜５３１頁〕。この場合に、好ましくな
い横方向流を除去するために、ノズル領域において溶剤
を多く含むドライヤー空気を再び抽出する。これによっ
ていわゆるノズルドライヤーまたは衝突ジェットドライ
ヤーが生じ、この場合に特に個々のノズルの淀み点様流
は不利であり、これは層流と乱流の両方において流動学
的不安定性を生じがちであり、これによって特に低粘度
成体塗膜の場合には、不可逆的な乾燥構造が不可避に生
ずる。

乾燥装置の最初の部分における淀み点様流を避けるため
に、ＰＣＴ出願第ＷＯ８２７０６４５０号によると、ド
ライヤー空気を上流室から適当な入口オリフィスとフロ
ーバッフルとを介して弱化中間室に通し、ここからドラ
イヤー空気の一部が、液体塗膜の直接近くに配置された
多孔質フィルター要素を介して、被乾燥ウェブに達する
。このような乾燥作用方式は多孔質保膿シールドと被乾
燥液体塗膜との間に弱められたが溶剤を多く含み、残留
空気との交換によって絶えず更新される弱い空気流が形
成され、多孔質媒体を介して横方向に流出するという事
実に基づくものであり、全体の長さが比較的短い丸めに
、まだら現象を生ずる傾向が弱い塗膜の予備乾燥が達成
される。

この種の乾燥は多孔質保護フィールドを通して溶剤蒸気
／空気混合物が主に拡散されるので、乾燥装置の長さが
非常に長い場合にのみまたは下流に補助乾燥装置を添加
した場合に、ストリップと保護フィールドとの間の空間
内の対流排除が殆んど完全に無い状態で、液体塗膜の完
全な乾燥が可能になる。

今までに用いられた乾燥装置の特別な欠点は、ドライヤ
ー室内の溶剤負荷空気流のために、外部空気と適合しう
るシーリング装置を備えなければならないことである。

液体塗膜の直接上方のドライヤー室内の絶対圧力の大き
さに応じて、真空条件下で必要な新鮮空気の一部が有限
のシー　ＩＪソング隙を介して内部へ流入するかまたは
有効な圧力条件下で溶剤負荷空気の一部が外部へ流出し
て、シーリング間隙内の空気の流れによって未乾燥液体
塗膜上に不可逆的な構造が形成される。

高粘性液相と低粘性液相の両方に関して、乾燥塗膜層の
均一な分布を妨げ、その好ましい性質を損うおそれのあ
る表面構造がもはや現われないようなやり方で、支持体
材料上に塗布した液相を連続操作で乾燥させることがで
きる方法と装置を提供することである。

この目的は、最初に述べた形式の方法によって、液相に
並行に支持体材料の長軸方向にガスが流れ、流れの方向
に乾燥帯内で加速されるようなやり方で達成される。

この場合にガスは液相に沿って平行に、支持体進行方向
と同じ方向にまたは逆の方向に流れ、乾燥帯内で流れの
方向に加速される。

このプロセスが発展すると、ガス流の初期速度ｖ１は初
期速度ｖ１の１０００倍までになる最終速度ｖ２にまで
増加する。支持体材料の走行方向に対して横の、乾燥帯
の各断面積におけるガス流の速度分布はここで定常にな
るように調節される。

プロセスが発展すると、ガス流は加熱され、全ガス流が
乾燥帯の一端で抽出させられる。人口断面及び乾燥帯に
おいて生ずる妨害、例えばガス流中の小さな渦や乱流が
加速ガス流中に吸収され、層流になるように、乾燥帯を
設計することが便利である。この場合に、乾燥帯を通る
流れが一定のガス流量で行われ、乾燥帯の断面積が支持
体材料の走行方向に着実に減少するような形式か、また
は乾燥帯の断面積が一定である場合にもしくは乾燥帯の
断面積が減少する場合にもガス流量が支持体材料の走行
方向に着実に増加するような形式で、このプロセスは適
用される。

このプロセスでは、乾燥帯に導入されるガス流の乱れは
流ｎの方向に局部的に加速されるガス流によって吸収さ
れ、殆んど層状の流れが生ずる。

プロセスがさらに発展すると、支持体材料は乾燥帯を通
って垂直に走行し、支持体材料の片側は被乾燥液体ｌ＠
を含有する。

支持体材料が両側に液体層を有し、支持体材料の両側が
支持体材料の垂直進行方向とは逆方向に流れる乾燥用ガ
スによって乾燥されることも、同様に可能である。下側
に液体層を塗布した支持体材料を乾燥帯に水平にまたは
斜めに通し、乾燥用ガスを支持体材料の下に懸吊成体層
に浴って流すこともできる。

この場合に、乾燥帯を通る流れが一定のガスｉ−ｉで行
われ、乾燥帯の断面積が支持体材料の走行方向に対して
連続的に減少するような形式で、または乾燥帯の断面積
が一定である場合もしくは乾燥帯の断面積が着実に減少
する場合にも支持体材料の走行方向に対して連続的に増
加するような形式でプロセスは実施される。

プロセス中に、例えば、支持体材料は乾燥帯に底部の乾
燥機入口から入り、乾燥帯から上部の乾燥機出口から出
て、下降する全ガス流は乾燥機入口近くから抽出される
。

移動する支持体材料に塗布された、揮発性溶剤成分と非
揮発性溶剤成分とを含む液体層を乾燥させる装置は、支
持体材料が長軸方向に走行する乾燥チャンネルと乾燥用
ガス流が乾燥チャンネルに流入する際に通過するがス透
過性チャンネル被覆面とを有し、ガス透過性面と呼ばれ
るチャンネル被覆面によって限定され、ドライヤーガス
流のこの面の透過性は乾燥チャンネルの長軸方向におい
て調節可能である。

この装置がさらに発展すると、チャンネル被覆面は水平
に延びるチャンネル底部に対してある角度ｔなし、乾燥
チャンネルのチャンネル人口高さはチャンネル出口高さ
よりも高い。

この装置の他の実施態様では、チャンネル被後面が垂直
に延びるチャンネル底面に対してある角度ｔなし、乾燥
チャンネルのチャンネル入口幅はチャンネル出口幅より
も小さい。この場合に、チャンネル人口は複機材料がチ
ャンネルに入る領域である。

本発明の他の発展は特許請求の範囲の請求項１９〜６５
及び３７〜４６の特徴から知ることができる。

本発明は、乾燥チャンネル内に一定のガス流パターンを
生ずる比較的簡単な構造の手段を用いて、支持体材料上
の低粘性または高粘性液体層を好ましく、妨害がなく乾
燥させるという利点を有する。この場合に、ガス流の平
均速度は入口速度ｖ０から乾燥チャンネルの長さに宿っ
て、Ｖ工よりも実質的に大きい出口速度ｖ２まで増加す
る。この場合に、速度分布は側々の乾燥チャンネル断面
において一定であるように調節され、乾燥チャンネルの
形状は、入口断面及び乾燥チャンネル内で生ずるガス流
妨害がガス加速によって吸収され、乾燥のために必要な
全ガス流が乾燥チャンネルの末端において抽出されるよ
うに設計される。

液体層が送風に対して最も敏感であるチャンネル入口で
は、ガス流は層状である。この場合にこの領域のチャン
ネル内の流速度が高いと、溶剤が迅速に除去される。液
体層は特に迅速に乾燥され、幅広いチャンネル出口で生
じうる乱流に対して安定である。支持体材料ストリップ
が垂直上方に進行する場合には、重い溶剤蒸気は向流の
がス流によって重力の方向に、重力の反対方向ではなく
、放出される。

流れを弱化する入口帯を備える必要はなく、幅広いチャ
ンネル出口の流速度の低い領域において乱流が生ずるか
否かは、この場合には層がすでに乾燥しているので、問
題ではない。空気流は非常に加速されるので、乾燥機の
長さを短縮することができる。乾燥帯内の熱転移は特に
ガス流速度によって決定される。同方向のガス流の場合
には、ストリップの加熱と乾燥がチャンネルの出口近く
で行われ、逆方向のガス流の場合には、これが乾燥帯の
チャンネルの入口近くで行われる。

以下では、線図で説明した実施態様の例を参照して、本
発明をより詳細に説明する。

第１図は、概略断面図で、本発明による乾燥装置１の第
１実施態様を示す。例えばアルミニウムの金属ストリツ
ｆまたはフィルムストリップである支持体材料ス）　１
７ツプ４は、支持体材料ストリップ４に揮発性成分と非
揮発性成分とを含む液体層を塗布するスロットダイ３４
を通過する。支持体材料ストリップ４は偏向ローラー３
５の周囲をまわり、入口断面Ａ１を有するチャンネル人
口２７を通って、乾燥チャンネル２に入る。この場合に
支持体材料ストリツ７″４は、乾燥チャンネル２及び乾
燥チャンネル２に隣接する通路チャンネル２０において
、水平なチャンネル底面３に固定されるすなわちチャン
ネル底部内に入つ九サポートローラー６上を走行する。

乾燥装置１は、支持体材料ストリップ４がエアーキャリ
ヤーノズルによって自由浮遊状態で乾燥チャンネル２′
４を通過し、キャリヤー空気が側方に放出される乾燥機
として設計されることもできる。

チャンネル被後面７を水平に延びるチャンネル底面３に
対してある角度をなすガス透過性面として設計する、乾
燥チャンネル２のチャンネル人口２７の高さｈｌは出口
断面積Ａ２を有するチャン多ル出口２８の萬さよりも高
い。チャンネル被後面７は水平なチャンネル底面３に対
して３°９′に等しい角度だけ傾斜しており、透過性チ
ャンネル被後面はチャンネル人口２７から出発して、乾
燥チャンネル２の全長にわたって延びる。

乾燥チャンネル２の上方には、仕切シ１０によってガス
交換室１５から分離する乾燥室５が存在する。ガス交換
室１５内には、ファン１２またはベンチレータが存在し
、そのファン出口１６は仕切り１０内の熱交換器１Ｔの
方に向いている。ガス交換室１５の底面１８には、開口
が存在し、開口内には制限デバイス、例えば制限フラッ
プ１３が存在し、これは水平軸を中心として調節可能で
ある。ガス交換室１５はガス交換室１５０力バー面に隣
接するガス入口１９を有し、制限装置として制限フラッ
プ１４を含む。制限装置は特に、２つの相互交換可能な
オリフィスプレートまたはブレード状シャッター装置か
ら成ることもできる。

ファン１２は゛リターンブレード付き二重流動循環ファ
ンであや、リターンブレードにガス人口１９から加えら
れる新鮮なガス流は乾燥室５に供給される。

乾燥チャンネル２に隣接する通路チャンネル２０は、乾
燥チャンネルのチャンネル出口断面積Ａ２に一致する一
定の断面積を有する。ガス交換室１５の底面１８の下側
は同時に、通路チャンネルの被後面である。通路チャン
ネルのカバー面の上方には、ガス交換室の下流に、ベン
チレータまたは吸引ファン９が存在し、その吸引オリフ
ィスは通路チャンネルの被後面に存在する。制限フラッ
プ８は吸引ファン９の出口１１に存在する。

チャンネル被後面７は、例えば、定常な透過性の連続フ
ィルターを含む。

第２図は本発明による乾燥装置１のｗＪ２実施態様の概
略断面図であり、これは第１実施態様とは異なって、チ
ャンネル被覆面７の上側に添加ガスの付加的な供給装置
２１を有する。ガスは一般には熱風である。乾燥チャン
ネル２は第１実施態様の乾燥チャンネルと同様に設計さ
れ、水平なチャンネル底面３１とこれに対してある角度
をなすチャンネル被覆面７とを有する。チャンネル入口
１２０入ロ断面Ａ１におけるガス流または空気流は零に
近い入口速度ｖｌを有し、チャンネル出口の出口断面Ａ
２における出口速度ｖ２は７５　ｍ／秒までになる。分
りやすくするために、第１図に参照番号９で示した吸引
ファンは第２図では、第１実施態様例と同様に存在する
としても、図示しないことにする。

供給装置２１は、開口断面積が調節可能である、２つの
相互に置換可能なオリフィスプレート２２．２３を有す
るボックスから成る。これらのオリフィスプレー）２２
．２３は互いに直接重ねられるか、または、図示するよ
うに、相互い間隔を置いて配置する。オリフィスプレー
ト２２．２３の開口断面の設定に依存して（第３Ａ図と
第ろ８図を比較のこと）、供給装置２１の個々のボック
スの透過性が異なるので、異なる速度の空気がチャンネ
ル被覆面７を通って、部分的にボックスの長さに対応し
て、流出する。従って、供給装置なしに得られる種々な
がス流速度分布の他に、乾燥チャンネル２の長さに溢っ
て種々な方法で、乾燥チャンネル２に流入するガス流速
度または空気流速度を制御することが可能になる。

ガス交換室１５内の支持体材料ストリップ４の上方には
、大気圧と比較して、例えば６．６５ｍｂａＴの真空が
存在し、ファン１２のファン出口にはｉ、４ｍｂａｒの
正圧が存在する。乾燥室５の供給装置２１の上方では、
正圧は約１．１　ｍｂａｒである。

乾燥装置の底面３１は複数の開口３２を有し、その１つ
はガス交換室１５の反対側にあり、ガス交換室内を占め
る圧力と同じ吸引圧力または真空下にある。これによっ
て、乾燥チャンネル２のサポートローラ６上を通過する
支持体ストリップ材料４０両側が同じ真空下にあること
が保証され、ガス交換室内のみに真空が存在する場合に
ガス交換室１５方向に通常生ずるような支持体材料スト
リップ４の浮き上がりが阻止される。

底面のすぐ上方の側壁にも存在する、残シの開口３２は
側壁のすぐ近くに存在するガス層の抽出を可能にする。

第２図の乾燥装置１のラインＩ−Ｉに溢った断面を示す
第６図から分るように、乾燥チャンネルの断面は長方形
であり、チャンネル高さはチャンネル出口断面Ａ２の方
向に直線的に減少する。チャンネル・被覆面７と供給装
［２１は、例えば、乾燥チャンネル２の側壁２９．３０
の中に入れられる。開口３２の１つは底面３１に認めら
れる。

第４Ａ図と第４Ｂ図は、チャンネル入口からチャンネル
出口にかけて長軸方向に先細りになつ九、トランペット
型の形状を有する乾燥チャンネル２を示す。この型の乾
燥チャンネルは、第１図〜第６図、第９図〜第１０図に
よる実施態様例において、そこに示す乾燥チャンネルの
代りに用いることができる。乾燥チャンネルが先細りの
トランペット型形状であることによって、空気またはガ
ス流の流れの方向への加速が確実に行われる。第４Ａ図
による乾燥チャンネルはわん曲した被俺面とわん曲した
側壁とを有するが、第４Ｂ図による乾燥チャンネルは長
方形の断面を有する、すなわち底面に垂直に整直した側
壁を有し、わん曲した被覆面は有さない。

乾燥チャンネル内の流れの加速は２種類の操作形式によ
って、またはこれらの２つの操作形式の組合せによって
も達成される。第１操作形式では、一定量の空気流が乾
燥チャンネル２を通って流れ、乾燥チャンネルの全ての
断面内に存在し、乾燥チャンネルの断面は人口断面Ａ１
から出口断ｍＡ２までストリップの走行方向に着実に減
少する。チャンネル断面積のチャンネル長さに依存する
減少は、流れ中に導入される乱れが制動され、流れが層
状になるようなやり方で行われる。これは例えば乾燥の
ために必要なガスまたは空気の流量が、第１図による第
１実施態様の制限装置１３．１４が閉じている場合に、
入口断面Ａ１を有するチャンネル入口２７を介して入口
速度ｖ１において吸引ファン９またはベンチレータによ
って吸引され、出口断面Ａ２ｆｔ有するチャンネル出口
２８での出口速度ｖ２まで、ス）　ＩＩツブ走行方向に
チャンネル被覆面が傾斜していることによって加速され
る。

この場合、吸引ファン９またはベンチレータの回転速度
を調節することによって、回転速度に依存しない操作形
式の場合には、吸引ファン９の出口１１の制限フラップ
８を調節することによって、適当な空気流量への調節が
行われる。

Ｗ、２操作形式では、チャンネル被徨面内または上方に
取付けた適当な供給装置によって、乾燥のために必要な
ガスまたは空気流量の添加が行われる。この場合に、乾
燥チャンネル内のガスまたは空気流量はストリップの走
行方向に清爽に増加するかまたは、乱れが制動され、ガ
ス流または空気流が層流に変形するようなやり方で調節
する。このために、第１図から第５Ｂ図までに示すよう
な本発明の実施態様の中で第５Ａ図と第５Ｂ図による実
施態様を以下でさらに詳しく説明するが、乾燥のために
必要なガスまたは空気流量はファン１２すなわちリター
ンブレード付きの循環ファンによって、制限フラップ１
３．１４は開放した状態で、乾燥室５に供給される。空
気またはガス流は乾燥室５から供給装置とチャンネル被
後面７とを介して乾燥チャンネル２内に流入し、乾燥チ
ャンネル２内で出口断面Ａ２の出口速度ｖ２まで加速さ
れる。

この場合、循環ベンチレータのファン１２のリターンブ
レードを介して加えられるガスのみが乾燥室から抽出さ
れて、残りのガスは連続的に循環するように、ファン９
またはベンチレータを調節する。この結果、入口断面Ａ
１には流れが殆んどないかまたはごく少しの流れが存在
するにすぎないことになる。

第９図〜第１２Ｂ図に示す本発明の実施態様においては
第１２Ａ図と第１２Ｂ図による実施態様を以下でさらに
詳しく説明するが、乾燥のために必要なガスまたは空気
流量は供給装置と九チャンネル核種面７及び／またはチ
ャンネル出口２８とを介して乾燥チャンネル２に供給さ
れ、この中でチャンネル入口断面での出口速度まで加速
される。

この結果、乾燥チャンネルの長さに宿った最大速度はチ
ャンネル入口断面において生ずる。

第１図〜第５Ｂ図による実施態様の第１操作形式では、
最適操作のために、まだらまたは面積の大きいブローマ
ークとして被乾燥液体塗膜上に発生するような全てのも
のを初期の乱れがもたらさないように、入口断１１ＡＩ
を大きく設計するかまたは初期速度ｖ１を小さく維持す
る。

最も簡単な操作な場合には、被蝋し九支持体材料ストリ
ップ４をチャンネル底面３の直接近くに案内し、流れの
方向に直線状に傾斜するチャンネル被後面１によって流
れの加速が生ずる。

チャンネル断面の形状は長方形であり、チャンネル高さ
はチャンネル入口高さｈｌからチャンネル出口高さｈ２
まで直線的に減少する。例えば、第４Ａ図と第４Ｂ図に
示すトランペット状の乾燥チャンネル２の形状によって
も同じ効果が得られる。さらに、他のチャンネル形状も
、流れの方向に必要な加速を生ずるものであるかぎり、
可能である。

第９図〜第１２Ｂ図の実施態様による第１操作形式では
、被覆した支持体材料ストリップ４を垂直チャンネル底
面３の直接近くに案内し、チャ／ネル被覆面７がチャン
ネル底面に向って流ｎの方向に収束することによって、
流れの加速が誘発さｎる。チャンネル断面の形状は長方
形であり、チャンネル幅はチャンネル出口１唱６２から
チャンネル入口幅３１まで直線的に械少する。例えば、
＠４Ａ図と第４Ｂ図に示すようなトランペット状の形状
の乾燥チャンネル２によっても、同じ効果が得られる。

さらに、他のチャンネル形状も、流れの方向に必要な加
速を生ずるものであるかぎり、１詣である・第２操作形
式では、チャンネル断面積が長方形である場合に、水平
ま九は鋸直に延びるチャンネル被覆面１を連続がス透迦
性フィルターとして設計するならば、時に良好な乾燥結
果が得られる。乾燥チャンネルの長さに沿ってチャンネ
ル断面積が一定である場合には、すなわち換言すると水
平ま九は垂直に延びるチャンネル被覆面がチャンネル底
面に平行である場合には、乾燥チャンネルに沿ったがス
透過性が一定であり、がス流葉が増加するために、流れ
の望ましい加速が自動的に生ずるが、こｆ’ＬＨ！続フ
ィルタフイルターを変えることによって付加的に制御す
ることもできる。チャ／ネル被覆面７は連続フィルター
を含む必要になく、透過性の異なる同じ厚さの固定フィ
ルターマット２６（第５Ａ図と第１２Ａ図を比較のこと
）を含むこともできる。後者はまた、稠度または構造が
同じであるが厚さの異なるフィルターマットによっても
得られる。他のＩＩＴ能性唯同じ厚さであるが構造ま九
は稠度の異なるフィルターマットを設計することである
。

傾斜したチャ／ネル被覆面７の場合には、がス流首と流
れの加速はチャンネル被覆面の傾斜度によって決定され
る。傾斜チャンネル被覆面７が連続フィルターまたはフ
ィルターマットを含む場合には、これらは均一構造また
は均一稠度であり、乾燥チャンネル２の長さに沿って一
定の透過性を有することが有利である。

一般に乾燥装置１の直前にスロットダイ３４によって実
施する塗布中にすでに放出される溶剤蒸気を抽出しなけ
ればならないときには特に、第１操作形式と第２操作形
式の併用が有利である。

第１操作形式と第２操作形式の両方において、加速流に
明らかに曖つかの方法で液体層の辺速な乾燥と破１支持
体材料ストリップの構造の無い表面品質に寄与する。今
までに実権された研究によると、例えばがス流または空
気流の供給点によって生じた巨視的な乱流は、供給点の
直接下流での乾燥プロセスの妨害がもはや生じなＡよう
に、すなわち乱流が生ずる場所の直接近くで流れが丁で
に層状になるように、第１または第２操作形式を正しく
調整することによって、乾燥チャンネル２内で制動され
る・これががス流ま九は空気流の乱流部分の加速が誘発
されたことの必然的な結果であり、これらの乱流部分は
同時に長軸方向で整直されるかま九は長軸方向で変形さ
れること全観察が示している。

ストリップの近くでは、加速がス流または空気流は支持
体材料ストリップと平行に、その走行方向と同じ方向に
または逆の方向に進行するので、がス流／空気流が液体
塗膜とその境界層流に比べて徐々に辺速になる結果とし
て、揮発性溶剤の拡散路は液体塗膜の近くで小さく維持
され、がス／空気流の高い端部速度での液体層から乾燥
媒質への高い熱転移と高い物質移動とが、乾燥チャンネ
ルの短い長さで可能になる。

空気流がストリップの走行方向とは逆方向に下降する収
ｔＸ乾燥チャンネルでは、ブローマークの無い層が形成
され、空気流と溶剤蒸気とは重力に従う。

乾燥すべき液体被覆支持体材料スト、ＩＪツブ４の幅全
体に適用される流速度が一定であることは、ウェブの走
行方向に対して横に液体塗膜の非常に均一な乾燥を生ず
る。このことば、乾燥帯すなわち乾燥チャンネルの各断
面におけるがス／空気流の速度分布が支持体材料ストリ
ップの走行方向に対して横に一定であるように保持され
なければならないことを意味する〇第５Ａ図は乾燥装置
の＠３実抱態様の概略断面図金示す、Ｃの袈ゲ↑では乾
燥チャンネル２がチャンネル底面３に平行に走り、水平
に延びるチャンネルＪ、Ｉ　ｆ’ｆ面７を有する。水平
チャンネル被覆面７は同じ厚さであるが、空気またはブ
スに対する透過性の異なる固定フィルターマット２６を
含む。第５Ａ図では、透過性の相違は各フィルターマッ
ト２６のハツチングの鴨なる密度によって示すので、チ
ャンネル入口に近いフィルターマットはその透過性の低
さに対応してより密接にハツチングを施され、フィルタ
ーマットの透過性が支持体材料ス）　ＩＪツブ３３の走
行方向に増加することを示すために、フィルターマット
２６のハツチングはチャンネル出口方向に減少する。乾
燥装置の第１実施態様と第２実施態様の成分と同じであ
る、乾燥装置の他の成分には第１図〜第３図と同じ参照
番号を与える。乾燥チャンネル２０チャンネル人口２７
の前には、シーリングマツトロが存在する。チャンネル
断面積は乾燥チャンネル２の長さに旧って一定である。

フィルターマット２６の透過性がｎなるために、腎なる
速度のがス／空気は各個々のフィルターマット２６全通
って流れ、がス／空気流の速度は個々のフィルターマッ
ト２６に割当てた曲り矢印Ｐ１〜Ｐ、の大きさによって
示唆される。供給がス／空気流速度のチャンネル出口方
向への増加は、支持体材料ス）　ＩＪツブ３３の走行方
向への流れの加速を生ずる。

この加速すなわちチャンネル出口方向への流速度の増加
は、支持体材料ス）　ＩＪツブ３３に平行に引いた速度
矢印ｖ１の大きさによって示される。

第５Ｂ図に示す第４実施態様は、カバー面を例外として
第３実ｍ態様と同じである。第４実ｍｓ様の被覆面７は
チャンネル長さに沿って一定の透過性を有する。被覆面
から供給されるが層流１１は、被覆面の透過性が一定で
ある場合にも、出口断面の方向へ増加するので、支持体
材料ストリップ３３の走行方向への流れの加速が生ずる
。

フィルターマット２６から成るがス／空気透儂性チャン
ネル被覆面７が水平に延びないすなわちチャンネル底面
に平行に低びるのではなく、本発明による乾燥装着の第
１実権態様と第２実施態様におけるのと同様にチャンネ
ル底面３に対して傾斜していることも当然可能である。

チャンネル被覆面７は構造と稠度が同じであるが厚さの
異なる固定フィルターマットから成ることもでき、この
場合にフィルターマットの厚さは支持体材料ストリップ
３３０走行方向に減少する、丁なわち換言すると、フィ
ルターマットの透過性はチャンネル出口の方向に増加す
る。

フィルターまたはフィルターマットは、例えば清浄室の
新鮮空気フィルター設備に用いられるような、いわゆる
層状の連続流フィルターである。この種のフィルター要
素は、一方では、がス／空気流からダート粒子を濾別し
、他方では、個々のフィルター愛素から乾燥チャンネル
内への非常に均一な層流を保証する。

第６図は本発明による乾燥装置の第５実施態様の断面を
示し、この装置でａチャンネル被覆面は水平チャンネル
底面３に対してある角度をなしている。チャンネルｆ１
１橿面はがス／空気透過性であり、連続フィルターを含
むが、例えば第５Ａ図に示すような、固定フィルターマ
ットがら製造することもできる。チャンネル、波１面７
の上方には、相互にＫｌ！１４１可能なブレード２５を
會む供給装置１２４が存在する。個々のブレードはチャ
ンネル被覆面７に平行であり、その長軸に沿って調節可
能である。ブレード２５の配置とそれらの調節可能性は
ブレードから構成されるサンブラインドに大体匹敵し、
第６図に示すように、ブレード２５は入口断面ＡＩ近く
では被覆面Ｔに平行であり、出口断面Ａ２０近くでは被
４１１１１７に垂直である。

第５実施態様の他の曹素は乾燥装置の第１冥施態様〜第
５実施態様の対応要素と同じであるので、それらの説明
にくり返さないことにする。

第７図と第８図はそれぞれ、がス／空気流の速度グロフ
ィルと圧力プロフィルすなわち大気圧に対する流れの静
的真空とを、乾燥チャンネルのチャンネル長さの関数と
して各場合に示す。

速度グロフィルの曲線はチャンネル長さに沿った圧力グ
ロフィルの曲線に非常に密接に類似する。本発明の場合
には約５．４ｍであるチャンネル長さの中央までに、流
速間と真ｇ！はチャンネル長さと共にほぼ直線的に増加
するが、乾燥チャンネルの次の半゛分ではこれらのパラ
メータの指数関数的な強い上昇が生ずる。

第９図では、本発明によるｆＬ燥装置１の第６実施態様
を概略断面図として示す。例えばアルミニウムの金属ス
トリップマ九はフィルムストリップである支持体材料ス
トリッ１４はスロットダイ３４を通過するが、このスロ
ットダイ３４が支持体材料ストリップ４に、揮発性溶剤
成分と非揮発性成分とを含む液体層を塗布する。

支持体材料ストリッ１４は偏向ローラー３５の周囲をま
わり、チャンネ歩幅３１を有するチャンネル人口２７を
通って垂直に上昇し、乾燥チャンネル２に入る。ここで
支持体材料ストリップ４は、乾燥チャンネル２内で垂直
なチャンネル底面３内に沈んだまたはチャンネル底部に
入ったサポートローラー６上を走行する。乾燥袋［１は
、支持体材料ストリップ４がエアーサポートノダルによ
って自由浮遊状態で通過する乾燥機としても設計するこ
とができる。チャンネル入口領域では、支持体材料スト
リップが真空を利用してチャンネル底面と接触して通過
し、次にチャンネル２のサポートローラー上を通過する
ことができる。

チャンネル被覆面１は垂直に延びるチャンネル底面３に
対してある角度をなすガス透過性面として設計され、乾
燥チャンネル２のチャンネル入口２７０チャンネル入口
ＩＩ＠　３１　ｉｄチャンネル出口２８のチャンネル出
口幅６２よりも小さい。チャンネル被侵面７はチャンネ
ル人口２７から出発して、乾燥チャンネル２の全長にわ
たって砥びる。

チャンネル被覆面７は透過性が一定である連続フィルタ
ーを含む。乾燥チャンネル２の断面は長方形であり、チ
ャンネル＠はチャンネル人口２７からチャンネル出口幅
６２まで直線的に上方に増加する。ｆＬ！ｌｌＩ！装置
１１の空気室６Ｔは乾燥チャンネル２０側方に配置され
る。空気室６７の垂直側壁には流入路４４．４５．４６
が配置され、これらを通して乾燥用がス特に熱風が流入
し、チャンネル複覆面７を矢印Ｐの方向へ通って乾燥チ
ャンネル２に入る。乾燥チャンネル２のチャンネル出口
２８は、上部方向をフィルターマット４８含有流入ボツ
クス３９によって閉ざされており、この流入ボックスを
通って乾燥用がスが支持体材料ストリップ４０走行方向
Ａとは逆の流れ方向Ｂに下方に流れ、チャンネル入口を
下方に閉ざす抽出ボックス３７に入る。抽出ボックス３
７ＫＨフイルターマツト４７と、が層流中の渦形成を阻
止する斜めに配置され九多孔質インヒンジメントパツフ
ル４９とを備える。流入ボックス３９にも同様に多孔質
インピンジメントバツフル７３を備える。渦形成を抑制
するためにフィルターマット４７のみで充分である場合
にｔ工、このインビンジメント・バッフルを省略するこ
ともできる。チャンネル出口から入るガス流が収束乾燥
チャンネル２内での乾燥に単独で充分である場合には、
チャンネル被覆面７を非透過性材料から製造することが
でき、側壁から乾燥用がスを供給しないため、英検装置
１の垂直側壁内の流入路を省略することができる。

チャンネル人口２７とチャンネル出口２８では、移動す
る支持体材料ストリップ４に対して乾燥チャンネル２を
ラメラシール３８と４０またはラビリンスシールによっ
てできるだけ気密にシールする。ラメラシール３８と４
０は支持体材料ストリップ４に面する抽出ボックス３７
と流入がツクス３９の垂直外壁にそれぞれ取付けられる
。支持体材料ストリップ４のチャンネル人口２７では、
乾燥用がスが抽出ボックス３７を通って取り出され、乱
流を抑制する、が７流速度の上方への増加が乾燥チャン
ネル２内で、チャンネル断面積の縮少と供給もしくは抽
出される乾燥用ブスの速度とに依存しても九らされる。

チャンネル出口２８から出る支持体材料ストリップ４は
垂直方向から、さらに加工するためのある一定方向へ偏
向ローラー３６によって案内される。

乾燥用が７流が支持体材料ストリップ４の走行方向Ａと
逆である場合には、支持体材料ストリップ４上の液体層
が下方収束乾燥チャンネル２内でゾロ−マーク及び構造
を生ずることなく乾燥することが判明している。この種
の乾燥では、が７流と液体層から生ずる溶剤蒸気とは重
力に従う。支持体材料ストリップ４上の、下降加速が７
流に対して向流で乾燥される層は、ある一定の状況下で
重力と落下によって分離した溶剤蒸気に与って生ずるゾ
ロ−マークを示さない。これは、液体層を備えた支持体
材料ストリップ４を乾燥チャンネル内に停止させる静止
テストによって示され、溶剤蒸気の渦が生じないことは
フロー試、験管を用いて示される。

第１０図は、例えば両側に液体層を有し、乾燥チャンネ
ル内’ｋｆ！［上方に走行する支持体材料ストＩｊツズ
４を両側乾燥する乾燥装置の第７実殉態様の概略断面図
を示す。２つの乾燥チャンネル２と２′は垂直に対して
対称的に形成される。第１０図では、乾燥チャンネル２
の外側にあり、流入ざツクス３９と抽出ボックス３γに
結合した要素金示すが、右手乾燥チャンネル２′に結合
した同じ要素は図面全簡略化するｔめに示さないことに
する。

支持体材料ストＩＪッグ４は斜め下方に走行して、ｆホ
発性醪剤成分と非揮発性溶剤成分とから成る塗布すべき
液体を含む容器５０に人９、偏向ローラー５１の周囲を
通り、スキーシー　ａ　−シー５２．５３の間隙及び抽
出ボックス３７゜３７′の間を通って乾燥装置内へ垂直
上方に案内される。

容器５０では、支持体材料ストリップ４の両側に液体（
Ｉ−塗布し、過剰な液体はスキージ一一−シー５２．５
３の間隙内で絞り喉られる。支持体材料ス）　ＩＪツ１
４の両側被覆に他の公知の塗布方法も当然使用可能であ
る。乾燥装置内では、支持体材料ストＩＪツブ４が２つ
の乾燥チャンネル２．２’を相互から分離し、２つの流
入ボックス３９　、３９’の間から乾燥装置を出る。ド
ライヤーガス頃流入ボックス３９　、３９’のフィルタ
ーマットまたは金属線維等を介して支持体材料ス）　Ｉ
Ｊツ１４の走行方向Ａとは逆の流れの方向Ｂ、ｑで垂直
下方に、乾燥チャンネル２゜２′内に吹込まれる。乾燥
チャンネルの断面は下方に狭くなり、チャンネル入口方
向に乾燥用が７流の加速金生ずる。乾燥用ブスはチャン
ネル入口金下方に閉じる抽出ボックス３７　、３７’の
フィルターマットまたは金属繊維を通して抽出される。

左手の抽出ボックス３Ｔから抽出され九乾燥用がスは、
制限フラッグ５５が備えられた空気循環ライン３４を通
って、換気ボックス５６に入る。換気ボックス５６は、
新鮮空気供給速度を制限するために制限フラップが設け
られた新鮮空気供給ラインを有する。新鮮空気は流れの
方向Ｃで換気ボックス５６に流入する〇さらに、使用済
入空気を流れの方向りで放出する排出空気ラインを換気
ざツクス５６に取付ける。この排出空気ラインには、排
出空気速度を制御するために制限フラッグ５９が存在す
る。

空気循環ラインは換気ボックス５６から熱交換器５７に
：通過し、熱交換器中で空気循環ラインに流入する空気
は制限フラップ６０を介して流入ボッ、クス３９に入る
前に加熱される。

乾燥ライン２′から抽出ボックス３７′ヲ通って流出す
る空気流は、循環空気を再処理するために、図示しない
要素ヲ通って上述と同様にして循環し、流入ボックス３
９′を介して乾燥チャンネル２′に戻る。

第１１Ａ因では、本発明の池の実施態様のチャンネル人
口２７の領域を詳細に示す。この実５１１Ｍ様は、支持
体材料ストリツ１４がチャンネル底面に沈下したローラ
ー上を走行せず、支持体材料ストリップ４の背後がチャ
ンネル入口の抽出領域で真空にさらされ、これによって
支持体材料ス）　ＩＪツブが上側に発生したが７流によ
ってわん曲しないことが保証される点を除いて、第９図
による実施態様と実質的に一欲する・この場合に乾燥用
が７流は（特休材料ストリップ４の垂１ぼ上方の走行方
向とは逆の方向に流れるＯ抽出領域には、支持体材料ス
トＩＪツブ４の背後方向に、例えば多孔質グレート４２
によって開放している真空室４１が存在する。真空室の
内部には、抽出がス普たに抽出空気の均一な流出を保証
する有孔金ｖＡシート６８が備えられる。

チャンネル入口２７は、第９図による実施態様の場合と
同様に、抽出ざツクス３Ｔによって下方を閉ざされる。

流ｎの方向Ｂに加速されたが７流は、有孔インビンジメ
／トパツフル４９が斜めに配置されて存在する抽出ボッ
クス３７の内部に、フィルターマット４７、金属繊維等
を通って入る。このインピンジメントバツフルは絶対的
に１安とはかぎらず、抽出ボックス３７内に禍が形成さ
れない場合には、省略することもできる。すなわち、イ
ンピンジメントパッフル４９の目的は抽出ボックス３７
内部での渦の形成を阻止して、乾燥機の全幅にわたって
均一な抽出が保証されるようにすることである。抽出ボ
ックス３１の垂直外側には、支持体材料ストリップ４の
前面に面して、ラメラシール３８またはラビリンスシー
ルが存在し、これは支持体材料ストリップ４から、こ１
に接触せずに、チャンネル入口をできるだけ気密にシー
ルする。

第９図による実施態様と同じやり方で、乾燥用がスまた
は乾燥用字ｋＸは傾斜チャンネルカバー面７を通して乾
燥チャンネルの内部に供給されるＯ 第１１８図には、ラメラシールの代りに、抽出ボックス
３７の垂直外側に取付けられたブレードシール４３がチ
ャンネル入口全支持体材料ストリップ４からできるだけ
気密にシールする点のみを除いて、第１１Ａ図による実
権態様に殆んど一致する実施態様の抽出領域を示す。支
持体材料ストＩＪツ１４の背後には、真空室４１が再び
存在し、上側に発生したが７流による支持体材料ストリ
ップ４のわん曲を阻止する。

第１２Ａ図は乾燥装置１の第８実施態様の概略断面図を
示す、この実権態様では乾燥チャンネル２が垂直なチャ
ンネル底面３に平行に走る、垂直に延びるチャンネル被
覆面７を有する。チャンネル被覆面７はがスまたは空気
に対して同じ厚さ、異なる透過性を有する固定フィルタ
ーマット２６ｆｔ含む。第１２Ａ図では、チャンネル出
口に近いフィルターマットにはその低い透過性に対応し
てより稠密にハンチングが施され、フィルターマットの
透過性が支持体材料ス）　ＩＪッグ３３の走行方向Ａと
は逆に増加することを示すために、フィルターマット２
６のハツチングがチャンネル入口方向に減少するように
、個々のフィルターマット２６のハツチングの密度を変
えることによって透過性の相違を示差する。

第９図と第１１Ａ図による乾燥装置の実権態様の１！素
と同じである、乾燥装置の他の！！Ｗ＆は、第９図、＠
１１Ａ図と同じ参照番号によって示す。乾燥チャンネル
２のチャンネル入口の上流には、フィルターマツ）４７
を含む油出がツクス３７が存在する。チャンネル断面は
乾燥チャンネル２の長さに沿って一定である。しかし、
フィルターマット２６の透過性が異なるために、異なる
流速度のがス／空気流が個々の各フィルターマット２６
を通って流れる、流速度は個々のフィルターマット２６
に割り当てた曲り矢印Ｐ１％Ｐ、の大きさによって示唆
される。空気またはがスはフィルターマツ）４８を含む
流入ざツクス３９１に介して上方から乾燥チャンネル２
に流入する。支持体材料ス）　ＩＪツブ３３の走行方向
とは逆の流れの加速はがス／空気供給速度のチャンネル
入口方向に行われる増加から生ずる。この加速すなわち
チャンネル入口方向への流速度のこの増加は、大きさｔ
増しながら、支持体材料ストリップ３３に平行に引かれ
た速度矢印ｖ１によって示される。乾燥用がスまたは空
気のチャンネル被覆面７からの四方供給は乾燥装置１の
流入路３１から行われる。

第１２Ｂ図に示した第９実施態様μ、被覆面を除いて、
第８実池態様と同じである。第９実施態様の被覆面７は
チャンネル長さに沿って一定の透過性を有する。被覆面
を介して供給されるが７流ｉｔは被覆面の透過性が一定
であってもチャンネル入口方向に増加するので、支持体
材料ストＩＪッグ３３の走行方向とは逆の流れの加速が
生ずる。

流入ボックスと抽出ボックスはそれぞれラビリンスシー
ル４０と３８によって、支持体材料ストリップ３３から
シールされ、ストリップ３３の前面の流れによるストリ
ップわん曲を阻止するために、真空室４１がチャンネル
入口領域における支持体材料ストＩＪッグ３３の背後の
真空を保証する。

チャンネル被覆面７は同じ構造、同じ稠度であるが厚さ
の異なる固定フィルターマットを含み、フィルターマッ
トの厚さは支持体材料ストリップ３３の走向方向に反し
て減少する、すなわち換言すると、フィルターマットの
透過性はチャンネル入口方向に増加する。

第１３図は本発明による乾燥装置の第１０実施態様の断
面図を示す、これによるとチャンネル被覆面７はチャン
ネル出口方向の垂直チャンネル底面３の方向へ収束する
。チャンネル被覆面Ｔはがス／″ｇ！気透過性であり、
連続フィルターを含むが、例えば第１２Ａ図に示すよう
な、固定フィルターマットから製造することもできる。

乾燥チャンネル２のチャンネル入口はチャンネル出口よ
りも大きい。乾燥チャンネル２の断面は後方形であり、
チャンネル幅はチャンネル入口から上方へチャンネル出
口幅まで直線的に減少する。乾燥装置の空気室３９は乾
燥チャンネルの四方に存在する。空気室３９の垂直側壁
には、流入路６２が存在し、これを通って乾燥用がス、
例えば熱風が流入し、チャンネル被覆面７を通って矢印
Ｐ１〜Ｐ４方向に乾燥チャンネル２に入る。矢印Ｐ１〜
Ｐ４の大きさが増加することは、乾燥用が７流が乾燥チ
ャンネル２内で上方に増加すること、すなわち換言する
と、流速度がチャンネル出口方向に増加することを示唆
する。

支持体材料スト＋７ツプ４は７時の位置においてスロッ
トダイ３４と、小さ々Ｍｊ’ｆｌＡ’：ｒ：保って、対
立する偏向ローラー３５の周囲を通る。揮発性溶剤成分
と非１発性溶剤成分から成る液体層が、チャンネル入口
から垂直上方へ乾燥チャンネル２内へ走行する支持体材
料ストリップ４の＃而に、スロットダイ３４によって塗
布される。

この場合に支持体材料ストリップ４はチャンネル底面３
から少し離れて側方に配置されたサポートローラ−６上
金走行する。

チャンネル入口はフィルターマット４８を含む流入ボッ
クス３９によって閉ざされ、乾燥用がスの全てまたは一
部は流入ボックス３９とフィルターマット４８とと通っ
て、支持体材料ストリップ４０走行方向と同方向である
流れの方向日で上方に乾燥チャンネル２に−通って流れ
る。

チャンネル出口はフィルターマット４７をｔむ抽出ボッ
クス３７によって閉ざさｎ、ｃれｔ通って乾燥がスが抽
出される。

チャンネル入口とチャンネル出口にか＾で、乾燥用チャ
ンネル２はラメラシール４０と３８によってまたはラビ
リンスクールによって、できるだけ気密に、しかし摩損
することなく、移動する支持体材料ストリップ４からそ
れぞれシールされる。ラメラシール３８．４０は支持体
材料ストリップ４に面する、抽出ボックス３７または流
入ボックス３９の垂直外壁上ｆＣそれぞれ存在する。

チャ／ネル出口から出る支持体材料ストリップ４は偏向
ローラー３６上を通り、垂直上方からさらに処理ヲ受け
るために斜め下方の走行方向へ通過する◎ 支持体材料ストリップ４０走行方向Ａと同じ方向の乾燥
用が７流は、垂直乾燥俄のチャンネル入口では支持体材
料ストリップ４上の液体層から発生する溶剤蒸気の滴下
を阻止する最小速度の７ｉｌ＆が生じなければならない
。

支持体材料ス）　ＩＪツブ４の走行方向に溶剤蒸気？ｆ
、運ぶために、チャンネル入口での流速度ハ１重力の形
番が乾燥用がスの流１１！度によっテ克服されるような
高さに設定する。これは、屹外用ブスのチャンネル入口
において、流入ボックス内Ｍへのフィルターマット４８
及び仔孔プレート７０の取付けのような、流入ボックス
３９上の適当な手段の結果として、乾燥用がスがすでに
層流に入るような形式で行われる。その結果、溶剤蒸気
は必快な速度で上方に放出される。これによって、支持
体材料ストＩ）ラグ４の被覆前面上にブロー構造が発生
する危険性は避けられる。

８ｇ１４図による本発明の第１１実ｍＢ様では、乾燥チ
ャンネル２は支持体材料ストリップ４の上部６５と下部
３３金水平にｆＮばす。この実権態様では、流入ざツク
ス３９を通って乾燥チャンネル２に流入し、抽出ボック
ス３７全通って乾燥チャンネル２から流出する１芝燥用
がスの流れの方向日は、乾燥チャンネル２を通る支持体
材料ストリップ４の下部の走行方向Ａの逆であり、流れ
は流れの方向已に加速される。

この実ｆｉｌＷ様は、例えば支持体材料スｌ−リップ上
の乾燥した第１層Ｓ１に第２ＷＪ８２全塗布する場合に
用いられる。例えば、上部６５の上側はすでに乾燥した
第１液体層を有しており、偏向ローラー６３の周囲を通
る。スロットダイ６４は１１時の位置に、偏向−ローラ
ー６３から若干の距＃１を保って、存在する。第２液体
層はスロットダイ６４から支持体材料ストリップ４上の
乾燥した第１液体層に塗布される。第２液体層は、水平
に案内される下部３３の下側に懸吊して、乾燥チャンネ
ル２を通る。支持体材料ストリップ４は乾燥チャンネル
２の水平チャンネルカバー７２の下側をこれに沿って案
内される。乾燥チャンネル２０チャンネル底部７１は、
乾燥がスの流れの方向Ｂに収装する。支持体材料ストリ
ップ４に対する乾燥チャンネル２のチャンネル入口はチ
ャンネル出口よりも小さい高ｇｈＷｔ、、チャンネル出
口はフィルターマット４８を含む垂直に整直した流入ボ
ックス３９によって閉ざされる。チャンネル入口は抽出
がツクス３Ｔとこルのフィルターマット４７によって閉
ざされる。流入ボックスと抽出ボックスの両方は、それ
らの水平な上側に、支持体材料ストリップ４の下部３３
からチャンネル出口とチャンネル入口をシールするラビ
リンスシールを有する。

この実施態様の乾燥チャンネルは、その配置と作用形式
において、乾燥チャンネル２が第１０図の実施態様と同
様に垂直ではなく水平に配置されていることと、支持体
材料ストリップの第１層上の第２層の塗布とｔｆＬ燥が
１髪であることとを考慮するならば、第１０図による実
施態様の右手半分に匹敵する。

以下では、乾燥させるべき液体層を塗布した支持体材料
ウェブの３具体例と２比較例を記載する。

具体例１ 有機溶剤中の感光性ぜリマー材料の溶液をオフセット用
に前処理した０、１順厚さのアルミニラムラニジ４に適
切な塗布方法によって、アルミニラムラニジの走行速度
４〜８ｍ／分において均一に塗布する、この溶液は動的
粘度１．４ｍＰａ　ｓを有し、液体塗膜の厚さは２７μ
ｍである。

スロットダイ３４の直後に、アルミニウムウェブは第１
図〜第４図または第６図による実施態様の１つによる乾
燥装置１に入る。チャンネル出口におけるチャンネル出
口高さｈ２は２ｃｍであり、チャンネル入口におけるチ
ャンネル入口高さｈｌは３０αである。乾燥チャンネル
２の全長は１．２ｍであり、チャンネル被覆面はウェブ
の面に対して１３．１°の角度で傾斜している。空気循
環ファン１２はスイッチを入れられていす、制限フラッ
プ１３は閉ざされている。

吸引ファン９の出力は、チャンネル入口においてＱ、３
ｍ／秒に等しい空気速度ｖ１が優勢であるように調整さ
れる。これによって、乾燥チャンネルの出口断面Ａ＋１
において４．５ｍ／秒に等しい空気速１ｆＶａが生ずる
。アルミニウムウエゾ４上の殆んど乾燥した液体塗膜か
ら溶剤残渣を完全に除去するために、先行技術によるノ
ズルドライヤーを下流に設ける、ここでは空気流は一般
に高度に乱流である。

版面を形成することになるアルミニウムウェブ４の生成
感光性Ｒ１は、その厚さとその外観において非常に均一
である。反射光デンシトメーターによると、塗布した全
ル−ト面積にわ九って１．４７の均一光学密度が測定さ
れる。

実験方法は具体例１に多かれ少なかれ一致するが、乾燥
装置１の吸引ファン９はスイッチが入れられていす、塗
布され九アルミニウムウェブ４は第１乾燥領域を通過し
たときに、少量の溶剤の蒸発によって、最初はごくわず
かに乾燥しているにすぎない。液体ｌ！Ｉ膜の実際の乾
燥は下流のノズルドライヤーにおいて行われる。

くもったまたはまだらの構造を有する層が得らｎる。こ
の場合５〜２０關直径の程度の面積の薄い及び厚い部分
が全表面にわたって常に分布している。デンシトメータ
ーによる測定では均一な光学・密度は得られず、むしろ
、光学密度は、測定場所に依存して、１．４３〜１．５
０の間でその大きさが変動する。

具体例２ 有機溶剤に溶解した小胞膜溶液を、適当な塗布方法によ
って、厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムに塗布す
る。塗布速度は５ｍ／分である。この溶液は動的粘度５
．５　ｍＰａａを有し、塗布した液体塗膜の厚さは４０
μｍである。液体ａｌｌ！ｌ！は具体例１に関して述べ
た同じ方法で乾燥させる。

層の均一性を検査するために、塗膜に印刷フレーム中で
大きい面積にわたってＵＶ光線を照射し、矢にこれを１
００℃に短時間加熱することによって現像する。塗膜層
に生じた不透明性は全表面にわたって均一である。

乾燥装置１の吸引ファン９のスイッチを入れない点以外
は、具体例２と同様に、塗布と乾燥を行う。液体塗膜の
実際の乾燥は、比較例１と同様に、下流のノズルドライ
ヤーにおいてのみ行われる。

ＵＶ露光と１２０℃での熱的現像の後に、透過光でポリ
エステルフィルム上の小胞嗅のくもった構造が検出され
る。この場合に、直径５〜２０ｍの薄い部分と厚い部分
が表面に不規則に分布する。

具体例３ ０．３ｉｎ厚さの支持体材料ストリップ４として、オフ
セット印刷用に前処理したアルミニウムウェブに、スト
リップ速度１５ｍ／分において、感光性ポリマー材料の
溶ａを均一に塗布する。

液体塗膜は３３μｍ厚さである。この溶液は動的粘度２
．９　ｍＰａ５を有する。

第２図に示すような乾燥装置１を用いる。チャンネル入
口高さｈＩ＆！０．５ｍであり、チャンネルｈ２−０．
１ｍである。チャンネル被覆面７は多孔質フィルムの形
状であり、アルミニウムウェブに対してまたは支持体材
料ストリップ４に対して４．６°の角度で傾斜している
。

空気循環７アン１２は作動して卦ｐ１制限フラッグ１３
１ｄ開いている。制限フラッグ１４の位置は、新鮮空気
１０００ｍ３／時の空気流量が乾燥室５に吸収されるよ
うに選択す不。等しい空気流潰が乾燥チャンネル２から
吸引ファン１２によって抽出されるので、蒸発した溶剤
が乾燥用空気中に１ｌｌＩＪ１１することはあり得ない
。吸引ファン１２によって空気流ｔを正確に調節した結
果は、流入速ｒｌＶｌが殆んど零になることである。乾
燥チャンネル２０チャンネル長さは約５．７ｍである。

このようにして乾燥させたアルミニウムウェブの面では
、厚い部分も薄い部分も検出されない。反射で測定した
光学密度は全表面にわたって一定である。

実際には、１０〜１２ｍのチャンネル長さの乾燥チャン
ネルを用いるが、チャンネル長さと乾燥用がスの流会と
は特に、乾燥装置ｔを通る支持体材料ストリップの通過
速度に依存する。

【図面の簡単な説明】

第１図ば、本発明による乾燥装置の第１実権−ａ様の概
略断面図、 ＃！２図は、本発明にょろり検装置の第２実抱Ｂ様の概
略断面図、 第４Ａ図と第４Ｂ図はそれぞれ、第１図、第２図、第３
図、第９図と第１０図の実捲態様において長方形断面を
有する乾燥チャンネルの代りに用いることのできる、ト
ランペット状の形状の乾燥チャンネルの透視図、 犯５Ａ図は、本発明による透過性の変化°ｒる被覆面金
有する乾燥装置の第３実施態様の、−部切欠いて開放し
た断面図、 第５Ｂ図は、被覆面の透過性が一定である第５Ａ図と同
じ、本発明の第４実楕態様を示す図、第６図μ、本発明
による乾燥装置の第５実箔態様の断面図、 第７図は、乾燥チャンネルのチャンネル長さの関数とし
てのが７流の速度グミフィルを示す図、 第８図は、乾燥チャンネルのチャンネル長さの関数とし
てのが７流の圧力グミフィル、すなわち大気圧に対する
が７流の静的真空を示す図、第９図は、本発明による、
支持体材料の片側を乾燥する乾燥装置の第６実施態様の
断面図、第１０図は、本発明による支持体材料の両側ｆ
：乾燥する乾燥装置の第７実施態様の概略断面図、 第１１Ａ図は、真空下で支持体材料を通す乾燥装置のチ
ャンネル入口領域の細部概略図、第１１　Ｂｌｌは第１
１Ａ図に比べて若干変更した実施態様のチャンネル入口
領域の概略断面図、第１２Ａ図は、被覆面の透過性が変
動する本発明による乾燥装置のＷｃ８実ｔ！／ＩＡ態様
の断面図、第１２Ｂ図は、被覆面の透過性が一定である
、第１２Ａ図と同じ本発明による第９実ｍ態様の断面図
、 第１３図は、支持体材料ストリップの走行方向と乾燥用
ブスの流れの方向が同じである、本発明による乾燥装置
の第１０実施態様の断面図、第゛１４図は、下方に面し
た液体層を塗布した支持体材料ストリップの下部が水平
に通過する第１１実施態様の概略断面図である◎ １・・・乾燥装置、２・・・乾燥チャンネル、３・・・
チャンネル底面、４・・・支持体材料ストリップ、５・
・・乾燥室、７・・・チャンネル彼覆面、９・・・吸引
ファン、１０・・・仕切り、１２・・・ファン、１３゜
１４・・・制限装置、１５・・・がス交換室、１６・・
・ファン出口、１７・・・熱交換器、１８・・・ガス交
換室底面、１９・・・上部がス入口、２１．２４・・・
重加がス供給装置、２２．２３・・・オリフィスプレー
ト、２５・・・ブレード、２７・・・チャンネル入口、
２８・・・チャンネル出口、３６・・・流入ボックス、
３１・・・抽出ボックス、３８．４０・・・ラメラシー
ル、４１・・・真空室、４２・・・多孔質グレート、４
３・・・ブレードシール ＦＩＧ、ｌ４Ａ ＦＩＧ、４Ｂ フ ＦＩＩ３．７ 駄 ＦＩＧ、８

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、乾燥帯を通つて移動する支持体材料に塗布した、揮
   発性溶剤成分と非揮発性溶剤成分とを含む液体層の乾燥
   方法において、 ガスを支持体材料の長軸方向で液体層に平行に流し、乾
   燥帯内で流れの方向に加速する移動支持体材料に塗布し
   た液体層の乾燥方法。 ２、ガスが支持体材料の走行方向と同じ方向または逆の
   方向に、液体層に沿つて平行に流れ、乾燥帯内で流れの
   方向に加速される請求項１記載の方法。 ３、ガス流の入口速度Ｖ＿１が、入口速度Ｖ＿１の１０
   ００倍までになる最終速度Ｖ＿２に増加する請求項２記
   載の方法。 ４、支持体材料の走行方向に対して横方向に乾燥帯の個
   々の断面における速度分布が一定になる様に調節される
   請求項３記載の方法。 ５、そのガスが加熱され、全ガス流が乾燥帯の一端で抽
   出される請求項１記載の方法。 ６、その入口断面及び乾燥帯内で生じた、例えばガス流
   の渦や乱流のような、外乱が減衰されて、ガス流が層状
   になるような方法で、乾燥帯が設計される請求項４記載
   の方法。 ７、乾燥帯を通る流れが一定ガス容積流量で行われ、乾
   燥帯の断面積が支持体材料の走行方向に定常的に減少す
   る請求項６記載の方法。 ８、乾燥帯の断面積が一定であるときに、ガス容積流量
   が支持体材料の走行方向に定常的に増加する請求項６記
   載の方法。 ９　乾燥帯の断面積が減少するときに、ガス容積流量が
   支持体材料の走行方向に定常的に増加する請求項６記載
   の方法。 １０、支持体材料が乾燥帯を通つて垂直に走行し、支持
   体材料の片側が被乾燥液体層を有する請求項２記載の方
   法。 １１、支持体材料が両側に液体層を有し、支持体材料の
   両側を、支持体材料の走行垂直方向とは逆の方向に流れ
   る乾燥用ガスによつて乾燥させる請求項１０記載の方法
   。 １２、下側に液体層を塗布した支持体材料が水平または
   斜めに乾燥帯を通つて走行し、乾燥用ガスが支持体材料
   の下を懸吊液体層に沿つて流れる請求項２記載の方法。 １３、乾燥帯を通る流れが一定のガス容積流量で行われ
   、乾燥帯の断面積が支持体材料の走行方向とは逆に定常
   的に減少する請求項２記載の方法。 １４、乾燥帯の断面積が一定であるときに、ガス容積流
   量が支持体材料の走行方向とは逆に定常的に増加する請
   求項２記載の方法。 １５、乾燥帯の断面積が減少するときに、ガス容積流量
   が支持体材料の走行方向とは逆に定常的に増加する請求
   項２記載の方法。 １６、支持体材料が乾燥帯に底部から乾燥機入口を通つ
   て入り、乾燥帯の上部から乾燥機出口を通つて出て、下
   降する全ガス流を乾燥機入口の近くから抽出する請求項
   １４記載の方法。 １７、移動する支持体材料に塗布した、揮発性溶剤成分
   と非揮発性溶剤成分を含む液体層の乾燥装置であつて、
   支持体材料が長軸方向で走行する乾燥チャンネルと、乾
   燥用ガス流がそれを通つて乾燥チャンネル内に流入する
   ガス透過性チャンネルカバー面とを有し、チャンネル被
   覆面（７）がガス透過性面として設計され、乾燥用ガス
   流に対する面の透過性が乾燥チャンネル（２）の長軸方
   向で調節可能である、移動支持体材料に塗布した液体層
   の乾燥装置。 １８、チャンネル被覆面（７）が水平に延びるチャンネ
   ル底面（３）に対してある角度をなし、乾燥チャンネル
   （２）のチャンネル入口高さ（ｈ＿１）がチャンネル出
   口高さ（ｈ＿２）よりも大きい請求項１７記載の装置。 １９、傾斜した透過性チャンネル被覆面（７）が、チャ
   ンネル入口から出発して、乾燥チャンネル（２）の全長
   にわたつて延びる請求項１８記載の装置。 ２０、乾燥チャンネル（２）にファン（１２）を含むガ
   ス交換室（１５）を付加し、ファン（１２）のファン出
   口（１６）が乾燥チャンネル（２）の上方に配置された
   ガス交換室（１５）と乾燥室（５）との間の仕切り（１
   ０）内に配置された熱交換器（１７）の方向に向けられ
   る請求項１７記載の装置。 ２１、ガス交換室（１５）がその底面（１８）とその上
   部ガス入口（１９）との両方内に絞り弁（１３、１４）
   を有する請求項２０記載の装置。 ２２、ファン（１２）がリターンブレード付き二重流循
   環ファンであり、リターンブレードを介して加えた新鮮
   空気を乾燥室（５）に供給する請求項２０記載の装置。 ２３、乾燥チャンネルの断面が長方形であり、チャンネ
   ル高さがチャンネル入口高さ（ｈ＿１）からチャンネル
   出口高さ（ｈ＿２）まで直線的に減少する請求項１８記
   載の装置。２４、乾燥チャンネル（２）が長軸方向に先
   細りになるトランペツト形の形状を有し、ガス流を流れ
   の方向に加速させる請求項１８記載の装置。 ２５、乾燥チャンネル（２）が通路チャンネル（２０）
   中に没入し、ガス交換室（１５）の底面（１８）の下側
   が同時に通路チャンネルの被覆面であり、その吸引口が
   被覆面内にあり、その出口（１１）には絞り弁装置（８
   ）が配置された吸引ファン（９）がガス交換室（１５）
   の下流の通路チャンネルの被覆面の上方に備えられた請
   求項１７または２１に記載の装置。 ２６、添加するガスの供給装置（２１、２４）がチャン
   ネル被後面（１）の上側に存在する請求項１８記載の装
   置。 ２７、供給装置（２１）が、調節可能な開口断面積を有
   する、２つの相互交換可能なオリフィスプレート（２２
   、２３）を有するボックスから成る請求項２０記載の装
   置。 ２８、供給装置（２４）が相互調節可能なブレード（２
   ５）を含む請求項２６記載の装置。 ２９、チャンネル被覆面（７）が連続ガス透過性フィル
   ターを形成する請求項１７記載の装置。 ３０、チャンネル被覆面（７）が厚さが同じであるが透
   過性が一定または異なる固定フィルターマット（２６）
   を含む請求項１７記載の装置。 ３１、チャンネル被覆面（７）が粘稠度が同じであるが
   厚さの異なる固定フィルターマットを含む請求項１７記
   載の装置。 ３２、乾燥チャンネル（２）が一定断面積を有しチャン
   ネル被覆面（７）の透過性がチャンネル入口（２７）領
   域の最低値からチャンネル出口（２８）領域の最大値ま
   で、長軸方向に増加する請求項１７記載の装置。 ３３、底面（３１）または底面のすぐ上方の乾燥装置の
   側壁に、側壁のすぐ近くに存在するガス層を抽出する開
   口（３２）を設けた請求項１７記載の装置。 ３４、乾燥装置の底面（３１）が、ガス交換室（５１）
   の反対方向に、開口（３２）を有し、この開口がガス交
   換室中を占める圧力と同じ吸引圧力にさらされる請求項
   ２０記載の装置。 ３５、乾燥チャンネル（２）のチャンネル入口（２７）
   の前にシーリングマット（３６）を配置した請求項１７
   記載の装置。 ３６、チャンネル被覆面（７）が垂直に延びるチャンネ
   ル底面（３）に対してある角度をなし、乾燥チャンネル
   （２）のチャンネル入口幅（ｂ１）がチャンネル出口幅
   （ｂ２）よりも小さい請求項１７記載の装置。 ３７、乾燥チャンネルの断面が長方形であり、チャンネ
   ル幅がチャンネル入口幅（ｂ１）からチャンネル出口幅
   （ｂ２）まで、上方に直線的に増加する請求項３６記載
   の装置。 ３８、乾燥チャンネル（２）がトランペツトの形状に下
   方に狭くなる形状を有し、上部から流入するガス流の垂
   直下方に増大する加速を生ずる請求項３６記載の装置。 ３９乾燥チャンネル（２）が一定の断面を有し、チャン
   ネル被覆面（７）の透過性がチャンネル出口（２８）近
   くの最低値からチャンネル入口（２７）近くの最大値ま
   で、垂直方向に増加する請求項１７記載の装置。 ４０、チャンネル入口（２７）への入口間隙を片側にお
   いてラメラシール（３８）によつて移動する支持体材料
   ストリツプ（４）から制限し、チャンネル入口（２７）
   の領域において乾燥チャンネル（２）を下方へ閉ざす抽
   出ボックス（３７）の、支持体材料ストリツプ（４）に
   面する、垂直外側上にラメラシール（３８）を配置した
   請求項１７記載の装置。 ４１、支持体材料ストリツプ（４）に面する多孔質プレ
   ート（４２）を有する真空室（４１）を支持体材料スト
   リツプの他方の側の抽出ボックス（３７）に対立して配
   置する請求項４０記載の装置。 ４２、チャンネル入口（２７）への入口間隙を片側にお
   いてブレードシール（４３）によつて、支持体材料スト
   リツプ（４）から制限し、抽出ボックス（３７）の、支
   持体材料ストリップ（４）に面する、垂直外側にブレー
   ドシール（４３）を配置する請求項１７記載の装置。 ４３、チャンネル出口（２８）をラメラシール（４０）
   によつて支持体材料ストリップ（４）から、狭い間隙を
   除いて制限し、乾燥チャンネル（２）をチャンネル出口
   （２８）領域において上方へ閉ざす流入ボックス（３９
   ）の、支持体材料ストリップ（４）に面する、垂直外側
   にラメラシールを配置し、乾燥用ガス流は流入ボックス
   を通つて、圧力下で、乾燥チャンネル（２）内に流入す
   る請求項４０記載の装置。