JPH02162509A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、フロッピーディスク装置などに使用される磁
気ヘッド及びその製造方法に関するものである。

従来の技術 近年、フロッピーディスク型磁気記録再生装置（以下、
ＦＤＤと称す）は、パーソナルコンピューターなどの外
部記憶装置として幅広（使用されており、その大容量化
がはかられている。

高密度化に伴いヘッド構成も狭トラツク・小型化となり
、高性能のヘッドが必要とされる。また、磁気ヘッド材
料も記録媒体の高保磁気化（高Ｈｃ）に対して十分な書
き込みができるように飽和磁束密度Ｂｓの高い金属磁性
材料が用いられてきている。

以下、図面を参照しながら従来のＦＤＤ用磁気ヘッドの
構造及びその製造方法の一例について説明する。

第３図（ａ）、［有］）は従来のＦＤＤ用磁気ヘッドの
構造及び製造方法を示すものである。第３図（ａ）にお
いて、１５はヘッドコアで例えばフェライトのようなバ
ルクの磁性材から構成される。このフェライトコアに、
記録再生用トラック（トラック幅Ｔｗ）を規制するため
にガラス１６がモールドされている。

５は巻線を施すための巻線窓である。また、１７゜１８
はスライダでセラミックなどの非磁性材で構成される。

１１．１２は巻線を巻くための逃げ溝である。

以上のようなヘッドチップ（ヘッドコア）１５をヘッド
スライダ１７．１８で挟持し一体化してＦＤＤ用ヘッド
を形成する。第３図（ｂ）がその従来のＦＤＤ用ヘッド
の外観を示しである。矢印９はヘッド摺動面を示しこの
面でディスクメディアを受けて録再を行うものである。

以上のような従来のＦＤＤ用磁気ヘッドの製造方法には
、例えば、特開昭５９−２１３０１４号公報に示されて
いる方法がある。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のようなヘッドの構成及び製造方法で
は、ヘッドトラック幅をバルク材を研削加工して形成し
ているので、高密度化による狭トラツク化が困難となり
その加工精度もトラック幅のバラツキの原因となる。

また、第３図（ａ）のようにヘッドコアはヘッドコアの
みで加工形成され、そのヘッドコアの両サイドをスライ
ダで挟持する構成となる。一般に、ヘッドコアとスライ
ダの接合には樹脂などの接着材が用いられてきた。例え
ば、高湿下での樹脂の膨潤になるコアースライダ間の段
差ズレは、スペーシングの原因となる。高密度になると
短波長記録となるのでスペーシングは数１００Ａ以下に
抑制しなければならない。

本発明は上記課題に鑑み、高密度化に伴うヘントドラッ
クの狭幅化とその精度向上を図ると共に、ヘッドとスラ
イダの接合を高信頼性のもとで行なうことのできる磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としてい
る。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために、本発明の磁気ヘッドにおい
ては、非磁性の基板上にスパッタリング法などで金属磁
性膜を着膜し、これを主磁路とするヘッドコアが形成さ
れる。

また、上記非磁性基板の形状を考慮すれば、これをヘッ
ドスライダとすることができる。

さらに、ヘッドコアとスライダの接合については、第一
に、非磁性基板に直接金属磁性膜を形成すること、第二
に、もう一方の非磁性基板と金属磁性膜とを接合するに
はガラスを接着層とするＤＧ法を用いること、第三に、
両方の非磁性基板に金属磁性膜を分割して着膜し、その
間をガラスまたは合金の薄膜層で接着する方法などが考
えられる。

作用 上記のように構成された磁気ヘッド及びその製造方法に
よると、まず、トラック幅は金属磁性膜の着膜量で制御
することができ、その着膜量は数１００Ａのオーダーな
ので狭トラツク化・高精度化に適応できる。

ヘッドコアとスライダの接合は前記のようにガラスや金
属などの薄膜層を接着層とするので、樹脂などの接着剤
を使用するよりも、より信顛度高く接合できる。

また、非磁性基板をスライダとして共用しているので、
製造工程の工数低減にもつながる。

実施例 以下本発明の一実施例の磁気ヘッド及びその製造方法に
ついて、図面を参照しながら説明する。

第１図は、本発明の一実施例における磁気ヘッドの構成
図である。第１図において、８は金属磁性薄膜から成る
ヘッドコアである。この金属磁性膜はＣｏを主成分とす
るアモルファス合金を用いた。１３．１４はヘッドスラ
イダで金属磁性薄膜を形成するときの非磁性基板となる
ものである。この非磁性材はチタンを含む酸化物セラミ
ックを用いた。また、５は巻線窓である。

第１図のように構成された磁気ヘッドの製造工程を、第
２図で説明する。

第２図（ａ）〜（局は、その工程順をあられす。

第２図（ａ）は、第一の非磁性基板１の上にスパッタリ
ング法で金属磁性膜３を着膜する工程であり、スライダ
となる非磁性基板は、ＶＴＲ用ヘッドなどの基板に比べ
ると厚さが大きくなっている。第２図（ｂ）は、第二の
非磁性基板２に同様にして金属磁性膜３を形成した後に
、第一、第二のそれぞれの非磁性基板ブロックの金属磁
性膜３上に合金膜４をスパッタリングして、この合金膜
４を接着層として両方の非磁性基板ブロックを圧着接合
する工程である。本実施例では、合金膜４として銀ろう
を用い、その膜厚は数１０００Ａとした。第２図（Ｃ）
は、第２図（ｂ）の−点鎖線のように一体となった両非
磁性基板ブロックを切断し、巻線窓５を設けたＣコア半
体６（第一のコア半体）と、■コア半体７（第二のコア
半体）を加工形成する工程である。

次に、第２図（ｄ）は、Ｃコア半体と■コア半体の対向
面に、それぞれＳｔｏｗなるギャップ部材をスパッタリ
ングしてヘッドの空隙形成を行う工程を示し、８は金属
磁性薄膜で構成されるヘッドコア部である。第２図（ｄ
）の−点鎖線のように一体となった両コア半体を切断す
ると、第２図（ｅ）に示す一つの磁気ヘッドが形成され
る。第２図（ｅ）において、５は巻線窓、８はヘッドコ
ア部を示し、矢印９はヘッド摺動面をあられす。また、
Ｔｗはヘッドトラック幅を示し、このＴｗは金属磁性薄
膜とわずかな厚みの接着層用の合金膜の着膜量で決まる
。

最後に、第２図（ｆ）は、磁気ヘッドの非磁性基板部分
をヘッドスライダとなるような形状に加工する工程を示
す。第２図（ｆ）において、１０はヘッド摺動面上の逃
げ溝で、１１．１２は巻線を施すための逃げ溝である。

第２図（員は、第２図（ｆ）の側面図であり、１１、１
２は巻線用の逃げ溝を、８はヘッドコア部をあられす。

また、１３．１４はスライダで摺動面部分を示している
。

以上のように本実施例によれば、ヘッドトラック幅を薄
膜層の厚み（金属磁性膜と接着用合金膜）で形成するの
で、そのバラツキも小さく、狭トラツク化も可能である
。さらに、薄膜層を形成する非磁性基板をそのままスラ
イダとして利用するので、従来のようなＦＤＤ用ヘッド
に比べて工数が減り、スライダ接着もその信頬度が上が
る。

発明の効果 以上のように本発明は、非磁性基板上にスパッタリング
法などにより金属磁性薄膜を着膜し、その金属磁性薄膜
でヘッドコアを形成するとともに、薄膜層の厚さでヘッ
ドトラック幅を制御する。さらに、薄膜層を形成する非
磁性基板の厚さを大きくしてそれをヘッドスライダに用
いている。ヘッドコアとスライダは一体となっておりそ
の接着は薄膜構成となっているので、信頬性が高い接合
となる。

以上のように本発明の磁気ヘッド及びその製造方法は、
高密度化に対応したものであり、ヘッドの小型化も十分
可能なので、その効果は大なるものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの構成図
、第２図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造
方法を示す工程図、第３図は従来の磁気ヘッドの構成図
である。 １．２・・・・・・非磁性基板、３・・・・・・金属磁
性膜、４・・・・・・合金膜、８・・・・・・ヘッドコ
ア、１３．４４・・・・・・ヘッドスライダ。 代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　はか１名Ｓ−一一巻
課懇 ８−　へ・ソトコア ／、３．／４−　　ヘソトスライタ ４２　図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ヘッドコアとヘッドスライダが一体化された磁気
   ヘッドであって、前記ヘッドコアは、金属磁性薄膜を蒸
   着法またはスパッタリング法で非磁性基板上に着膜し、
   その膜厚をヘッドトラック幅とする構造であり、前記非
   磁性基板をヘッドスライダとすることを特徴とする磁気
   ヘッド。
2. （２）非磁性基板上に蒸着法またはスパッタリング法に
   より金属磁性薄膜と接着層を形成し第一、第二の非磁性
   基板ブロックとする工程と、前記第一の非磁性基板ブロ
   ックと第二の非磁性基板ブロックを圧着接合し主磁路を
   形成する工程と、前記一体となった両非磁性基板ブロッ
   クを切断して第一、第二のコア半体とし、少なくとも一
   方のコア半体に巻線用の溝加工を施す工程と、ヘッドの
   空隙となるギャップ部材を介して前記第一のコア半体と
   第二のコア半体を圧着接合する工程と、前記一体となっ
   た両コア半体を切断する工程と、前記非磁性基板を任意
   の形状のヘッドスライダに加工する工程とを備えたこと
   を特徴とした磁気ヘッドの製造方法。