JPH02148436A - 光ディスク成膜方法 - Google Patents
光ディスク成膜方法Info
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- JPH02148436A JPH02148436A JP30312988A JP30312988A JPH02148436A JP H02148436 A JPH02148436 A JP H02148436A JP 30312988 A JP30312988 A JP 30312988A JP 30312988 A JP30312988 A JP 30312988A JP H02148436 A JPH02148436 A JP H02148436A
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- Pending
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク成膜方法、特に、コンピュータや
画像処理等に適した大容量の記憶媒体の記録膜を選択的
に形成する光ディスク成膜方法に関する。
画像処理等に適した大容量の記憶媒体の記録膜を選択的
に形成する光ディスク成膜方法に関する。
一般に、光ディスクは、中心に穴を有し、さらに記憶領
域に効果的に書き込みや読み出しを行なうためのグルー
ブを形成したガラスやプラスチック基板の前記記憶領域
に記録膜を選択的に成膜したものである。
域に効果的に書き込みや読み出しを行なうためのグルー
ブを形成したガラスやプラスチック基板の前記記憶領域
に記録膜を選択的に成膜したものである。
このように記録膜を選択的に成膜するための従来の光デ
ィスク成膜方法の一例を第３図（ａ）〜（ｃ）に示す。
ィスク成膜方法の一例を第３図（ａ）〜（ｃ）に示す。
第３図（ａ）は成膜前の光ディスク基板の断面図を示し
、光ディスク基板１０１の一方がグルーブ面１０２であ
り、中心穴１０３を有する。
、光ディスク基板１０１の一方がグルーブ面１０２であ
り、中心穴１０３を有する。
第３図（ｂ）は成膜時の断面図であり、光ディスク基板
１０１は、基板ホルダー１０９に掘られた穴１１０に設
置される。光ディスク基板１０１のグルーブ面１０２の
側のグルーブの内周側に前記中心穴１０３を利用して内
周マスク１０４および支持ネジ１０５にて基板ホルダー
１０９に支持し、外周側は、グルーブの最外周の外側を
リング状の金属製の外周マスク１０６および支持ネジ１
０７により、やはり基板ホルダー１０９に支持している
。
１０１は、基板ホルダー１０９に掘られた穴１１０に設
置される。光ディスク基板１０１のグルーブ面１０２の
側のグルーブの内周側に前記中心穴１０３を利用して内
周マスク１０４および支持ネジ１０５にて基板ホルダー
１０９に支持し、外周側は、グルーブの最外周の外側を
リング状の金属製の外周マスク１０６および支持ネジ１
０７により、やはり基板ホルダー１０９に支持している
。
この状態で成膜した場合、記録膜１０８は光ディスク基
板１０１のグルーブ面１０２のみならず内周マスク１０
４および外周マスク１０６の全面に成膜される。
板１０１のグルーブ面１０２のみならず内周マスク１０
４および外周マスク１０６の全面に成膜される。
次に、第３図（ｃ）は成膜後内周マスク１０４および外
周マスク１０６を取りはずし光ディスク基板１０１を取
り出した状態の断面図である。光ディスク基板１０１の
グルーブ面１０２の側の記録領域に記録膜１０８が成膜
されている。
周マスク１０６を取りはずし光ディスク基板１０１を取
り出した状態の断面図である。光ディスク基板１０１の
グルーブ面１０２の側の記録領域に記録膜１０８が成膜
されている。
このような従来の光ディスク成膜方法は内周マスク１０
４および外周マスク１０６の両方に成膜装置の治具とし
て別に製作された物を用いていた。なお治具の材質とし
ては、加工が容易な金属が用いられており成膜時の電界
の歪みを少なくするため前記内周マスク１０４および外
周マスク１０６の基板支持部はテーパ加工がなされてい
る。
４および外周マスク１０６の両方に成膜装置の治具とし
て別に製作された物を用いていた。なお治具の材質とし
ては、加工が容易な金属が用いられており成膜時の電界
の歪みを少なくするため前記内周マスク１０４および外
周マスク１０６の基板支持部はテーパ加工がなされてい
る。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク成
膜方法は、内周マスクおよび外周マスクがとれた治具と
して別個に製作したものを用いており、内周マスクは、
グルーブの最内周に対して内周マスクの外径が寸法的に
十分余裕であるため従来の方法で全く問題がなかったが
、外周側の外周マスクは、エアーサンドイッチ構造とす
るための接着剤の接着強度を確保するため、ある程度の
接着面積が必要であり、グルーブ最外周と外周マスクの
治具の内周の間には殆んど寸法的な余裕がないため前記
外周マスクの内周端は機械的寸法精度の許される範囲内
で、前記グルーブ最外周に近接することになり、前記外
周マスクの内周端をテーパ加工により改善しているにも
かかわらず、グルーブ最外周の近辺では、明らかに外周
マスクによる反射率低下が生じるという欠点があった。
膜方法は、内周マスクおよび外周マスクがとれた治具と
して別個に製作したものを用いており、内周マスクは、
グルーブの最内周に対して内周マスクの外径が寸法的に
十分余裕であるため従来の方法で全く問題がなかったが
、外周側の外周マスクは、エアーサンドイッチ構造とす
るための接着剤の接着強度を確保するため、ある程度の
接着面積が必要であり、グルーブ最外周と外周マスクの
治具の内周の間には殆んど寸法的な余裕がないため前記
外周マスクの内周端は機械的寸法精度の許される範囲内
で、前記グルーブ最外周に近接することになり、前記外
周マスクの内周端をテーパ加工により改善しているにも
かかわらず、グルーブ最外周の近辺では、明らかに外周
マスクによる反射率低下が生じるという欠点があった。
、この欠点を解決しようとして、さらに前記外周マスク
の内周端のテーバ部をより薄くした場合には、機械的強
度が弱くなり、取り扱いが困難となる等の他の問題が生
じ、従来の外周マスクでは改善に限界があった。
の内周端のテーバ部をより薄くした場合には、機械的強
度が弱くなり、取り扱いが困難となる等の他の問題が生
じ、従来の外周マスクでは改善に限界があった。
本発明の光ディスク成膜方法は、中心穴を有し、一方の
面にグルーブを有する光ディスク基板のグルーブの内外
周を所定のマスクを箆して記録膜を選択的に成膜してな
る光ディスクの成膜方法において、前記光ディスク基板
のグルーブの最外周から基板端に向って帯状に形成した
樹脂層を外周マスクとして選択的に記録膜を成膜し、成
膜後前記樹脂層を剥離するように構成される。
面にグルーブを有する光ディスク基板のグルーブの内外
周を所定のマスクを箆して記録膜を選択的に成膜してな
る光ディスクの成膜方法において、前記光ディスク基板
のグルーブの最外周から基板端に向って帯状に形成した
樹脂層を外周マスクとして選択的に記録膜を成膜し、成
膜後前記樹脂層を剥離するように構成される。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図（ａ） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は本発明の一実
施例を示す工程断面図である。
施例を示す工程断面図である。
第１図（ａ）、＜ｂ）、（ｃ）に示す光ディスク成膜方
法は、樹脂層の外周マスクを形成し、記録膜を成膜し、
成膜後樹脂層を剥離して構成される。
法は、樹脂層の外周マスクを形成し、記録膜を成膜し、
成膜後樹脂層を剥離して構成される。
まず、第１図（ａ）に示す樹脂層の外周マスク形成工程
では、中心穴１０３を有する光ディスク基板１０１のグ
ルーブ側の面であるグルーブ面１０２のグルーブの最外
周の外側から基板帯に向って帯状に樹脂層の外周マスク
１０６′を形成している。この帯状の樹脂層の外周マス
ク１０６′は、光ディスク基板に直接形成しているため
、外周マスク１０６′の膜厚は薄く形成すれば良いが後
述のマスク除去を考慮して、一体止剥離できる数１０〜
１００μｍ程度となっている。
では、中心穴１０３を有する光ディスク基板１０１のグ
ルーブ側の面であるグルーブ面１０２のグルーブの最外
周の外側から基板帯に向って帯状に樹脂層の外周マスク
１０６′を形成している。この帯状の樹脂層の外周マス
ク１０６′は、光ディスク基板に直接形成しているため
、外周マスク１０６′の膜厚は薄く形成すれば良いが後
述のマスク除去を考慮して、一体止剥離できる数１０〜
１００μｍ程度となっている。
この樹脂層の材質としては、通常光ディスク基板として
用いられているポリカーボネートやアクリル材と固着す
ることなく一時的に適度な付着力を有し、かつ乾燥し易
い物ならば良く、メタクリル樹脂、アクリレート樹脂１
含成ゴム、フェノール樹脂、メラミン樹脂等々の中から
前述の条件に合った物を用いる。
用いられているポリカーボネートやアクリル材と固着す
ることなく一時的に適度な付着力を有し、かつ乾燥し易
い物ならば良く、メタクリル樹脂、アクリレート樹脂１
含成ゴム、フェノール樹脂、メラミン樹脂等々の中から
前述の条件に合った物を用いる。
次の第１図（ｂ）に示す成膜工程では、前記外周マ、ス
ク１０６′の付いた光ディスク基板１０１を基板ホルダ
ー１０９に設けた穴１１０に設定するとともに内周マス
ク１０４とネジ１０５により基板ホルダー１０９に支持
し、この状態でスパッタにより記録膜１０８が光ディス
ク基板１０１のグルーブ面１０２を含む内周マスク１０
４および外周マスク１０６′を含む全面に成膜される。
ク１０６′の付いた光ディスク基板１０１を基板ホルダ
ー１０９に設けた穴１１０に設定するとともに内周マス
ク１０４とネジ１０５により基板ホルダー１０９に支持
し、この状態でスパッタにより記録膜１０８が光ディス
ク基板１０１のグルーブ面１０２を含む内周マスク１０
４および外周マスク１０６′を含む全面に成膜される。
スパッタの際に外周マスク１０６′が樹脂の薄いマスク
であるため、この外周マスク１０６′の内周端すなわち
グルーブ最外周付近での電界の歪は殆んどなくかつ膜厚
によって生じる陰も殆どないためグルーブ最外周での反
射率の低下がなく記録領域全面に均一な成膜ができる。
であるため、この外周マスク１０６′の内周端すなわち
グルーブ最外周付近での電界の歪は殆んどなくかつ膜厚
によって生じる陰も殆どないためグルーブ最外周での反
射率の低下がなく記録領域全面に均一な成膜ができる。
最後の第１図（ｃ）に示す剥離工程では、前述の内周マ
スク１０４を取りはずし、光ディスク基板１０１を取り
出した後、樹脂層で形成された外周マスク１０６′を剥
離する。ここで、樹脂の膜厚を適当に選ぶことにより簡
単に一体化剥離できる。
スク１０４を取りはずし、光ディスク基板１０１を取り
出した後、樹脂層で形成された外周マスク１０６′を剥
離する。ここで、樹脂の膜厚を適当に選ぶことにより簡
単に一体化剥離できる。
このようにして、記録領域のみに成膜された光ディスク
基板１０１が得られる。
基板１０１が得られる。
次に、第２図を参照しながら、外周マスク形成工程につ
いて説明する。
いて説明する。
第２図は第１図に示す外周マスクの形成方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
高速回転可能な載置台２０１上にグルーブ面１０２を上
にし、中心穴１０３を利用して光ディスク基板１０１を
固定ネジ２０２により載置台２０１に固定する。
にし、中心穴１０３を利用して光ディスク基板１０１を
固定ネジ２０２により載置台２０１に固定する。
次いで図示していない回転手段により、載置台２０１と
ともに光ディスク基板１０１を回転させながら、グルー
ブの最外周から僅かに基板外周側の位置に直上に配置し
たノズル２０３によりシリンジ２０４に収納している液
状樹脂２０５を滴下する。
ともに光ディスク基板１０１を回転させながら、グルー
ブの最外周から僅かに基板外周側の位置に直上に配置し
たノズル２０３によりシリンジ２０４に収納している液
状樹脂２０５を滴下する。
滴下された液状樹脂２０５は遠心力によって、滴下半径
位置から外周に向かって光ディスク基板１０１をコート
しながら乾燥する。
位置から外周に向かって光ディスク基板１０１をコート
しながら乾燥する。
なお、表面張力によって、僅かに滴下位置から内周側を
コートする。
コートする。
従って、滴下位置は重要であり、液状樹脂２０５の粘度
、光ディスク基板１０１の回転等に応じ、事前の予備検
討により決められる。
、光ディスク基板１０１の回転等に応じ、事前の予備検
討により決められる。
本発明の光ディスク成膜方法は、成膜時にグルーブ最外
周付近の成膜領域を決める外周マスクとして金属製の外
周マスクの代りに樹脂製の外周マスクを直接光ディスク
基板に塗布して形成することにより、外周マスクによる
電界の歪みやマスクの内周端での陰をなくすことができ
るので記録領域全面に均一な記録膜の成膜が可能となる
という効果がある。
周付近の成膜領域を決める外周マスクとして金属製の外
周マスクの代りに樹脂製の外周マスクを直接光ディスク
基板に塗布して形成することにより、外周マスクによる
電界の歪みやマスクの内周端での陰をなくすことができ
るので記録領域全面に均一な記録膜の成膜が可能となる
という効果がある。
第１図（ａ） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は本発明の一実
施例を示す工程断面図、第２図は第１図に示す外周マス
クの形成方法を説明するための斜視図、第３図（ａ）。 （ｂ） 、 （ｃ）は従来の一例を示す工程断面図であ
る。 １０１・・・・・・光ディスク基板、１０２・・・・・
・グルーブ面、１０３・・・・・・中心穴、１０４・・
・・・・内周マスク、１０５．１０７・・・・・・ネジ
、１０６，１０６’ ・・・・・・外周マスク、１０８
・・・・・・記録膜、１０９・・・・・・基板ホルダー
１１０・・・・・・穴、２０１・・・・・・載置台、
２０２・・・・・・固定ネジ、２０３・・・・・・ノズ
ル、２０４・・・・・・シリンジ、２０５・・・・・・
液状樹脂。 ｃｂ） 第１図 代理人 弁理士 内 原 晋 （どｌ、ノ 第１図 第２図 第、３図 手続補正書 （方式） 補正の対象 図面 補正の内容
施例を示す工程断面図、第２図は第１図に示す外周マス
クの形成方法を説明するための斜視図、第３図（ａ）。 （ｂ） 、 （ｃ）は従来の一例を示す工程断面図であ
る。 １０１・・・・・・光ディスク基板、１０２・・・・・
・グルーブ面、１０３・・・・・・中心穴、１０４・・
・・・・内周マスク、１０５．１０７・・・・・・ネジ
、１０６，１０６’ ・・・・・・外周マスク、１０８
・・・・・・記録膜、１０９・・・・・・基板ホルダー
１１０・・・・・・穴、２０１・・・・・・載置台、
２０２・・・・・・固定ネジ、２０３・・・・・・ノズ
ル、２０４・・・・・・シリンジ、２０５・・・・・・
液状樹脂。 ｃｂ） 第１図 代理人 弁理士 内 原 晋 （どｌ、ノ 第１図 第２図 第、３図 手続補正書 （方式） 補正の対象 図面 補正の内容
Claims (1)
- 光ディスク基板の最外周のグルーブの外側から基板端に
向って帯状の樹脂層を外周マスクとして形成し、選択的
に記録膜を成膜し成膜後前記樹脂層を剥離することを特
徴とする光ディスク成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30312988A JPH02148436A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 光ディスク成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30312988A JPH02148436A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 光ディスク成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02148436A true JPH02148436A (ja) | 1990-06-07 |
Family
ID=17917231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30312988A Pending JPH02148436A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 光ディスク成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02148436A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62223832A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Sony Corp | 光デイスク及びその製造方法 |
| JPS6358323B2 (ja) * | 1982-09-30 | 1988-11-15 | Fuji Photo Optical Co Ltd |
-
1988
- 1988-11-29 JP JP30312988A patent/JPH02148436A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6358323B2 (ja) * | 1982-09-30 | 1988-11-15 | Fuji Photo Optical Co Ltd | |
| JPS62223832A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Sony Corp | 光デイスク及びその製造方法 |
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