JPH01948A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規な感光性樹脂組成物に関し、さらに詳し
くはプリント配線板製造の際のソルダーレジストや無電
解メツキレジスト等に使用される電気′ｆＩｊＡ縁性と
耐熱性に優れた感光性樹脂組成物に関するものである。

（従来の技術） 従来、プリント配線板の製造において、ソルダーマスク
（永久マスクともいう）や化学メツキ用レジストとして
使用される感光性樹脂組成物は極めて有用なものである
ことはよく知られている。

ソルダーマスクの主な役δＩは、はんだ付は時における
ショートを防ぐこと、使用されている銅の腐蝕を防ぐこ
と及び長期にわたって電気絶縁性を保証することにある
。かかるソルダーマスクの用途に用いられるソルダーレ
ジストとしては、エポキシ樹脂を主成分とする樹脂組成
物が知られている。

このようなソルダーレジストを用いてソルダーマスクを
形成する方法としては、エポキシ樹脂系ソルダーレジス
トからなるインキを基板上にスクリーン印刷した後、加
熱して硬化させるか、あるいは光によって硬化させる方
法が挙げられる。しかしながら、このような印刷方式で
は、印刷時のブリード、にじみ、スキップ（回路の間隙
にインキが充填されない現象）等の問題があり１微細化
と高密度化の進む最近のプリント配線板の要求に対応で
きなくなりつつあった。

かかる印刷方式に代わる有力な技術の一つは。

写真法（基板上に一定の厚さの感光層を塗布し、ネガフ
ィルムを通して活性光線を照射し２次いで現像して画像
を形成する方法。）である。写真法を採用して高精度な
画像を形成するためには、ソルダーマスクとし使用でき
る特性を備えた感光性樹脂が不可欠であることも知られ
ており、従来、このような目的に適した樹脂組成物が種
々提案されている。例えば、特開昭５８−１６３９３７
号公報、特開昭５９−５３５３ｊ号公報、特開昭６０−
２０８３３７号公報３特開昭６１−２７１号公報等には
、ＬＬ、Ｉ−）リクロルエタン、トリクロルエチレン、
トルエン、キシレン。

ブチルセロソルブ等の有機溶剤で現像可能で、ソルダー
レジストとして使用可能な樹脂組成物の例が開示されて
いる。

また、一方では作業環境や経済性を考慮して。

炭酸ナトリウム水溶液等の弱アルカリ水で現像可能なも
のが検討され、特開昭６０−１２１４４４号公報８特開
昭６１−２４３８６９号公報等にはアルカリ現像型感光
性樹脂組成物の例が開示されており、また本発明者らも
先に、特願昭６２−３８８３９号においてアルカリ現像
型感光性樹脂組成物を提案した。

しかしながら、これらの樹脂組成物はいずれも光に対す
る感度が十分でなく、この組成物を用いて写真法でソル
ダーマスクを形成する場合には。

露光時間を幾分長く採らなければならないという問題が
あったばかりでなく、長い露光時間を要するだめに、光
源から発生する熱に長時開−されるので、ネガフィルム
が膨張してパターンの解像性が低下するという問題があ
った。

従来、感光性樹脂組成物の感度、すなわち光重合速度を
上げる方法としては、エチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート。

ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチ
ロールプロパンジアクリレート等の不飽和カルボン酸と
脂肪族ポリオール化合物とのエステル（ポリオール系ア
クリレート）、ウレタン結合を介して末端にアクリロイ
ル基又はメタクリロイル基を有するウレタンアクリレー
ト、エステル結合を介して末端にアクリロイル基又はメ
タクリロイル基を有するエステルアクリレート等に代表
される光重合性架橋剤（反応性希釈剤とも称されている
。）が使用されている。

しかしながら、これらの一般に使用されている光重合性
架橋剤は、粘度が低く、かつ単位分子あたりのアクリロ
イル基又はメタクリロイル基の数が少ないので、目的と
する怒光速度を得るためには、ベースポリマーに対して
大量に加えることが必要であり、その場合には塗膜を乾
燥したときに粘着性が生ずる。しかるに、前記のように
写真法によりソルダーマスクのパターンを形成するには
。

感光層とネガフィルムを真空密着して使用することが避
けられないので、乾燥塗膜に粘着性がないことは不可欠
である。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は２以上のような従来の問題点が解決されたソル
ダーマスクとして使用できる感光性樹脂組成物を提供す
ることを目的とするものである。

すなわち９本発明の第１の目的は、耐アルカリ性、耐有
機溶剤性、耐熱性、電気絶縁性１機械的強度等に優れた
ソルダーマスクとして有用な感光性樹脂組成物を提供す
ることにある。さらに１本発明の第２の目的は、光に対
する感度が良好で短い露光時間で容易に硬化しろる感光
性樹脂組成物を提供することにある。さらにまた５本発
明の第３の目的は、塗膜を乾燥したときの粘着性が少な
い感光性樹脂組成物を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明者等は、このような問題点を解決するために鋭意
研究の結果、末端にアクリレート基又はメタクリレート
基を有する新規なウレタンアクリレートを光重合性架橋
剤として使用することにより１本発明の目的が達成され
ることを見出して本発明に到達した。

すなわち３本発明は、（ａ）下記一般式（Ｉ）で示され
る末端アクリレート基又は／及びメタクリレート基を有
する重合性モノマー又は／及びそのオリゴマー、（ｂ）
高分子重合体及び（ｃ）光重合開始剤からなり、上記３
成分の総重量１００重量部に対し。

成分（８１が４〜５０重量部、成分（ｂ）が９５〜３０
重量部及日び成分（ｃ）が１〜２０重量部であることを
特徴とする感光性樹脂組成物を要旨とするものである。

Ｘ３／　　　　　　　　　　　　　　＼（ここで＋Ｒ１
は水素原子又はメチル基を表す）又は炭素数１〜３のア
ルキル基を表し、Ｙはジイソシアネート残基を表す。た
だし＋ＸＩ〜Ｘ６のうちる。

以下１本発明の詳細な説明する。

まず２本発明の感光性樹脂組成物に含まれる成分（ａ）
である末端アクリレート基又はメタクリレート基〔以下
、末端（メタ）アクリレート基と称す。〕を有する重合
性モノマー又は／及びそのオリゴマーとしては１前記一
般式（ｒ）で示されるものである。

上記一般式（１）において、Ｘ、〜Ｘ６は＝シＨ２（Ｊ
−シーシ＝シｔｌ　Ｚ　＋（ここで、ＲＩは水素原子又
はメチル基を表す。）又は炭素数１〜３のアルキル基を
表す。

ただし、Ｘｌ−Ｘａのうち少なくとも一つは。

である。ここで、Ｒ１としては水素原子が好ましい。

前記一般式ＣＩ）において、Ｙは下記一般式（ＩＩ）で
表されるジイソシアネート化合物の残基である。

０ＣＮ−Ｙ−ＮＣ〇−〜−−［ＩＩ） 一般式（Ｉ）で示される末端（メタ）アクリレート基を
有する重合性モノマー又は／及びそのオリゴマーを製造
するには、一般式（ＩＩ）で表されるジイソシアネート
化合物と、同一分子内に少なくとも２個の（メタ）アク
リレート基と１個の水酸基を有する化合物をモル比で１
＝２になるようにして加熱反応させることによって得る
ことができる。

一般式（ＩＩ）で示されるジイソシアネート化合物の具
体例としては１例えば、トリメチレンジイソシアネート
テトラメチレンジイソシアネートヘキサメチレンジイソ
シアネート、トリメチルへキサメチレンジイソシアネー
ト　リジンジイソシアネート、４．４’−ジフェニルメ
タンジイソシアネート水添４，４′−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、２．４−トリレンジイソシアネート
、２．６−トリレンジイソシアネートキシリレンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられ
る。

一般式〔Ｉ〕で示される重合性七ツマ−を製造するため
の、同一分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリレー
ト基と１個の水酸基を有する化合物の具体例としては１
例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト　ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジアクリレート　２−ヒド
ロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロキシプロパ
ン。

２−ヒドロキシ−１，３−ジメタクリロキシプロパン、
グリセリンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物に含まれる成分（ｂ）である
高分子重合体は２組成物として良好な塗膜を与え、未露
光部が現像液により除去できるものはすべて用い得るが
、好適には、（ｉ）ノボラック型エポキシアクリレート
、ビスフェノール型エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂の
水酸基の水素原子を少なくとも一部置換した重合体、も
しくは（１１）ビニル系重合体が用いられる。

（ｉ）の重合体の例としては、ノボラック型エポキシ樹
脂のエポキシ基に（メタ）アクリル酸を付加させたもの
、さらにその水酸基に酸無水物を付加させて弱アルカリ
水溶液で現像可能にしたもの。

ビスフェノール化合物とエピハロヒドリンとの重縮合反
応により得られる重合体の水酸基に直接（メタ）アクリ
ル酸もしくは酸無水物を反応させたものであり、その主
要繰り返し単位は、下記一般式［１１１）又はＣｒＶ３
で示されるものである。

式中、Ｒ＋、Ｒｚ−Ｒｓは水素原子、炭素数１〜５のア
ルキル基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ４は水素原子又
はメチル基を表し、Ｚは水素原子又は−Ｃ−Ｘ−ＣＯ０
Ｈ（ここで、Ｘは酸無水物の残基を表す。） 式中＋Ｒ５〜Ｒ８は水素原子、炭素数１〜５のアルキル
基又はハロゲン原子を表し、Ｘは−ＣＨ，−。

Ｃ（ｃＲ３）！　　、　　Ｓ　Ｏｚ−を表し。

ＣＨ。

■ （ここで、Ｘは、酸無水物の残基を表す。）を表す。

（ｉｉ　）のビニル系重合体の例としては、ビニル基含
有モノマーを重合することにより得られるが。

それらモノマーとしては、（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル
、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ
）アクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アク
リロニトリル、スチレン、２．４．６−トリブロモフエ
ニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに、ジ
アリルフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリ
ルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリ
ルエステル化金物を重合体も使用できる。

本発明の感光性樹脂組成物に含まれる成分（ｃ）である
光重合開始剤としては１例えば、アセトフェノン、２，
２−ジェトキシアセトフェノン、Ｐ−ジメチルアセトフ
ェノン、Ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロ
ロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、　　Ｐ
−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセ
トフェノン類、ジベンゾフェノン、２−クロロベンゾフ
ェノン、Ｐ、Ｐ’−ジクロロベンゾフェノン、Ｐ、Ｐ’
−ビスジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン
ともいう。）、Ｐ、Ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフ
ェノン、　　３．３’、４．４’−テトラ−（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル
、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル等のベンゾインエー
テル類、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウ
ラムモノサルファイド、テトラメチルチウラムジサルフ
ァイド、チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、
２，４ジエチルチオキサンソン、２−メチルチオキサン
ソン等のイオウ化合物、２−エチルアントラキノン。

’１−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチル
アントラキノン、１．２−ベンズアントラキノン。

２．３−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン
類、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキ
シド、ジーｔｅｒｔ−ブチルバーオキシド、クメンパー
オキシド等の有機過酸化物、２，４．５−トリアリール
イミダゾールニ量体、リボフラビンテトラブチレート、
２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベ
ンゾオキサゾール。

２−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物、
２，４．６−）リス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２．２．２−１−リブロモエタノール。

トリブロモメチルフェニルスルホン等の有機ハロゲン化
合物が挙げられる。

これらの化合物は組み合わせて使用することもできる。

また、それ自体では光重合開始剤として作用しないが、
上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合
開始剤の能力を増大させ得るような化合物を添加するこ
ともできる。そのような化合物としては２例えば、ベン
ゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエ
タノールアミン等の第三級アミンを挙げることができる
。

本発明の感光性樹脂組成物は、成分（ａ）、成分（ｂ）
及び成分（ｃ）からなり、各成分の配合割合は使用目的
により異なるが、３成分の総重量１００重量部に対して
、成分（ａ）は４〜５０重量部、成分（ｂ）は９５〜３
０重量部及び成分（ｃ）は１〜２０重量部の範囲とする
必要があり、この範囲内において選択される。

本発明の感光性樹脂組成物において、成分（ａ）の配合
割合が４重量部より少ないと、感度すなわち光重合速度
が低くなるので好ましくない。一方。

５０重量部を超えると、乾燥後の塗膜に粘着性が生じる
ので、好ましくない。

また、成分（ｂ）の配合割合が９５重量部を超えると。

光重合速度が低くなるので、好ましくない。一方。

３０重量部より少ないと、乾燥後の塗膜に粘着性が生じ
るばかりか、密着性、耐熱性、耐薬品性等の塗膜物性が
低下し易くなる。

さらに、成分（ｃ１の配合割合が１重量部より少ないと
、光重合速度が低くなるので、好ましくない。

一方、　２０重量部を超えると、光が塗膜を通過しに＜
＜、塗膜の基板まで到達しがたくなり、樹脂と基板との
密着性が低下する傾向があるので、好ましくない。

その他９本発明の樹脂組成物においては、必要に応じて
、エポキシ系の樹脂、熱重合禁止剤、フィラー、染料、
顔料、可塑剤、リベリング剤、密着性向上剤、消泡剤、
ｊ１燃剤、希釈用有機溶剤を配合させることができる。

溶剤としては２本発明の感光性樹脂組成物を溶解するも
のなら特に限定されないが１例えば、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、
キシレン、モノクロルベンゼン等の芳香族炭化水素、１
，１．１−１−リクロルエタン、トリクロルエチレン、
パークロルエチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ
等のエーテル類等が使用される。

また、現像処理に用いられる現像液は、露光部にダメー
ジを与えず、未露光部を溶解するものであれば、その種
類について特に制限はないが、１゜１．１−トリクロル
エタン、トリクロルエチレン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素や１〜２重量％の炭酸ナトリウム水溶液等が好まし
く用いられる。

次に９本発明の樹脂組成物を用いる好ましい態様として
プリント配線用への使用例を説明する。

例えば、写真法によりパターン形成を行う場合には５本
発明の感光性樹脂組成物を適当な溶剤を用いて溶液とす
る。溶液の粘度は、目的に応じて溶剤の種類又は組成物
の濃度を変えることにより調製することができる。そし
て、この溶液を浸漬法。

スプレー法、ロールコータ−法あるいはスピンナー塗布
法により、基板上に２０〜３０μｍの厚さに塗布し、溶
剤を除去する。次いで、この上にネガフィルムをあて、
活性光線を照射して露光部を硬化させ、現像処理により
未露光部を溶出させることにより保護被膜を形成する。

また、この溶液を可ｆＱ性の支持フィルム、例えばポリ
エステルフィルム上に塗布、乾燥し、この上にポリエチ
レンフィルムをカバーしてなる三層のドライフィルムと
して使用することもできる。

上記の方法でパターンが形成された保護被膜は。

通常のソルダーマスク、化学メツキ等のための耐蝕膜と
なるが、現像後、８０〜２００°Ｃで１０分間〜２時間
加熱処理することにより、さらに優れた特性を有する保
護被膜とすることができる。

（実施例） 以下５本発明を実施例及び参考例によって具体的に説明
する。

参考例１ ２．４−１−リレンジイソシアネート８７．０　ｇ　（
０，５０モル）、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト２９８ｇ（１，０モル）、ラウリル酸ジブチル錫０．
３２ｇ及びハイドロキノンモノメチルエーテルｏ、０５
０ｇの混合液を７０℃で４時間加熱し、−船人〔Ｉ〕で
示される末端アクリレート基を有する重合性モノマーを
得た（以下、このものを化合物Ａと称す）。

化合物Ａの赤外吸収スペクトルは２２６０ｃｍ”’にイ
ソシアネート基による吸収が認められなかったので。

反応は定量的に進行したことを確認した。

参考例２ 参考例１における２、ｉｌ−リレンジイソシアネート８
７．０　ｇに代えて、ヘキサメチレンジイソシアネー！
−８４，０ｇ　（０，５０モル）を用いた以外は、参考
例１と同様に操作することにより、−船人（Ｔ）で示さ
れる末端アクリレート基を有する重合性モノマーを得た
（以下、このものを化合物Ｂと称す）。

参考例３ 参考例１における２、４−１−リレンジイソシアネート
８７．０ｇに代えて、イソホロンジイソシアネート１１
１　ｒｓ　（０，５０モル）を用いた以外は、参考例１
と同様に操作することにより、−船人〔Ｉ〕で示される
末端アクリレート基を有する重合性モノマーを得た（以
下、このものを化合物Ｃと称す）。

参考例４ ２．４−トリレンジイソシアネート５２．２　ｇ　（０
，３０モル）、トリメチロールプロパンジアクリレート
１５０　ｇ　（０，６１モル）、ジラウリル酸ジブチル
錫０．１０ｇ及びｐ−ベンゾキノン０．０２０ｇの混合
液を８０℃で５時間加熱し、−船人〔Ｉ〕で示される末
端アクリレート基を有する重合性モノマーを得た（以下
、このものを化合物りと称す）。

参考例５ 参考例４におけるトリメチロールプロパンジアクリレー
ト１５０ｇに代えて、ジペンタエリスリトール３２０　
ｇ　（０，６１モル）を用いた以外は、参考例４と同様
に操作することにより、−船人〔【〕で示される末端ア
クリレート基を有する重合性七ツマ−を得た（以下、こ
のものを化合物Ｅと称す）。

参考例６ イソホロンジイソシアネー）　４４．４　ｇ　（０，２
０モル）。

２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロキ
シプロパン８５．６　ｇ　（０，４０モル）、ジブチル
錫アセテート０．２０ｇ及び２．６−シーｔｅｒｔ−ブ
チル−４−メチルフェノール０．０１０　ｇの混合液を
、８０°Ｃで６時間加熱し、−船人ＣＩ）で示される末
端（メタ）アクリレート基を有する重合性七ツマ−を得
た（以下、このものを化合物Ｆと称す）。

参考例７ 参考例６におけるイソホロンジイソシアネート４４．４
ｇに代えて、２．４−１−リレンジイソシアネート３４
．８　ｇ　（０，２０モル）を用いた以外は、参考例６
と同様に操作することにより、−船人〔Ｉ〕で示される
末端（メタ）アクリレート基を有する重合性モノマーを
得た（以下、このものを化合物Ｇと称す）。

参考例８ トリメチルへキサメチレンジイソシアネート６３．０　
ｇ　（０，３０モル）、２−ヒドロキシ−１，３−ジメ
タクリロキシプロパン１３７　ｇ　（０，６０モル）、
トリエチレンジアミン０．１０ｇ及びハイドロキノンモ
ノメチルエーテル０．０２０　ｇの混合液を８０℃で５
時間加熱し、−船人〔Ｉ〕で示される末端メタアクリレ
ート基を有する重合性モノマーを得た（以下、このもの
を化合物Ｈと称す）。

実施例１〜８．比較例１〜３ 参考例１〜８で得られた化合物Ａ−Ｈ（（ａ）成分〕。

０−タレゾールノボラック型エポキシアクリレートＣ（
ｂｌ成分〕、光重合開始剤〔（ｃ）成分〕、エポキシ樹
脂、フィラー、顔料、熱硬化剤及び有機溶剤を、テスト
用の３本ロールミルを用いて、それぞれ第１表に示した
配合割合（重量部）で混練して。

レジストインキを調合した。次いで１　これらのレジス
トインキを脱脂洗浄した厚さ１．８ｍｍの銅張積層板上
に２０〜３０μｍの厚さに塗布して乾燥し、乾燥後ネガ
フィルムを密着させ、５００ワツトの超高圧水銀ランプ
（ウシオ電機側製、ｔｚｖ−５９０）ヲ用いて波長３６
５ｎｍ付近の照度１００ｍＷ／ａｄの紫外線を３０秒間
照射（露光量３００ｍ　Ｊ　／　ｃ＋＋ｆ）　した。露
光後１超音波洗浄器を用いて変性クロロセン（エターナ
ＩＲ，旭化成工業側製）にて、２５℃で３０秒間現像し
、塗膜の未露光部分を除去した。その後。

熱風乾燥器を用いて１４０℃で１時間加熱処理を行った
。得られたサンプルについて塗膜を乾燥性。

露光硬度、塗膜硬度、基板との密着性、はんだ耐熱性、
耐薬品性、耐溶剤性を評価した。その結果を第２表に示
した。

なお、比較例としては成分（ａ）として市販の光重合性
架橋剤を用いた。

なお、上記の性能評価は、銅張積層板上にソルダーレジ
ストインキを２０〜３０μｍの厚さで塗布し。

熱風乾燥器を用いて７０℃で３０分間乾燥して得られた
塗膜について、下記の如（行った。

〔塗膜の乾燥性〕

塗膜の乾燥性は、　　ＪｒＳ　　Ｋ−５４００に準じて
評価した。

評価のランクは次のとおりである。

○；全くタックが認められないもの △：わずかにタックが認められるもの ×：顕著にタックが認められるもの 〔露光感度〕 コダックステップタブレット階２　〔イーストマンコダ
ック■製、光学濃度段差０．１５．２１段差のネガフィ
ルム〕を塗膜に密着し、５００ワツト超高圧水銀ランプ
を用いて３００　ｍ　Ｊ　／　ｃｎｌの光量を照射した
。

次いでこの塗膜を前述の変性クロロセン水溶液に対する
現像性試験にかけ、銅箔上に残有するステップタブレッ
トの段数を調べた。（この評価法では高感度であるほど
残有する段数が多くなる。）〔塗膜硬度〕 ５００ワツト超高圧水銀ランプを用いて５００ｍ　Ｊ　
／ｃｔ＆の光量を照射した塗膜の硬度を、ＪＩＳＤ−０
２０２に準じて鉛筆硬度で評価した。

〔基板との密着性〕

５００ワツト超高圧水銀ランプを用いて５００ｍ　Ｊ　
／ｃｔｌの光量を照射した塗膜に、　　ＪＩＳ　　Ｄ−
０２０２ニ準じて、少な（とも１００個のゴバン目を作
るようにクロスカットを入れ１次いでセロテープ〔ニチ
バン■製接着テープの商標名〕を用いてビーリング試験
を行い、ゴバン目の剥離の状態を目視によって評価した
。評価のランクは次のとおりである。

○：全ての測定点で全く剥離が認められなかったもの △：１００の測定点中１〜２０の点で剥離が認められた
もの Ｘ　：　１００の測定点中２１以上の点で剥離が認めら
れたもの 〔はんだ耐熱性〕 ５００ワツト超高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／−
の光量を照射した塗膜を、　　ＪＩＳ　　Ｄ−０２０２
に準じて２６０℃のはんだ浴に２０秒間浸漬し、浸漬後
の塗膜の状態を評価した。評価のランクは次のとおりで
ある。

○：塗膜の外観に異常なし ×：塗膜の外観にふくれ、溶融、剥離あり〔耐薬品性〕 ５００ワツト超高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／　
ｃｎｌの光量を照射した塗膜を、下記の薬品に下記の条
件で浸漬し、浸漬後の外観、密着性を評価した。

耐酸性：１０重量％塩酸溶液（５０℃、１時間）耐アル
カリ性：１０重量％苛性ソーダ水溶液（３０℃、１時間
） 耐溶剤性ニトリクロルエタン（３０℃、１時間）：塩化
メチレン（３０℃、１時間） ：イソプロビルアルコール（３０℃１１時間） 評価のランクは次のとおりである。

Ｏ：異常なし ×：溶解又は膨潤あり 実施例９〜１２．比較例４〜７ 参考例２で得られた化合物Ｂ〔成分（ａｌ）、Ｏ−クレ
ゾールノボラック型エポキシアクリレート〔成分（ｂ）
）、ベンゾフェノン／ミヒラーケトン９：１重量比の混
合物〔成分（ｃ））、エポキシ樹脂（０−タレゾールノ
ボランク型エポキシ樹脂）、フィラー（タルク）、顔料
（フタロシアニングリーン）。

熱硬化剤（ジシアンジアミド）、熱重合禁止剤（ハ身ド
ロキノンモノメチルエーテル）及び有機溶剤（ブチルセ
ロソルブ／セロソルブアセテートｌ：１重量比の混合物
）を第３表に示した配合割合（重量部）として、前記実
施例の同様にしてレジストインキを調合した０次いで、
これら前記実施例と同様にして、サンプルを作成し、得
られたサンプルの特性を評価した。その結果を第４表に
示した（実施例９〜１２）。

比較のため、参考例１で得られた化合物Ａを成分（ａ）
として用いた以外は、上記実施例９〜１２と同様の成分
をとし、第３表に示した配合割合で。

実施例１〜１２と同様にして、レジストインキを調合し
、サンプルを作成した。得られた結果を第４表に示した
（比較例４〜７）。

第１表 〔注〕 ■成分（ａ）〜（ｃ）の割合の下段の括弧内の数字は、
３次分１００重量部に対する割合を示す。

■成分（ａ） ＰＥＡ；ペンタエリスリトールトリアクリレートＴＰＤ
；Ｉ−ＩＪメチロールプロパンジアクリレートＵＡＬ　
ｉウレタンアクリレート ■成分（ｃ） Ｂ　Ｐ　Ｈ；ベンゾフェノン ＭＫ；ミヒラーケトン ＥＡＴ　；　２−エチルアントラキノンＤＡＢ　；ジエ
チルアミノベンゾフェノンＢＤＫ　；ベンジルジメチル
ケタール。

ＤＥＴ；２．４−ジエチルチオオキサンソン■エポキシ
樹脂 ＣＮＥ　ｉ　Ｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
〔油化シェル■製エピコート１８０−３６５３ＢＥＡ；
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔油化シヱル■製エピ
コー）１００１３ ■熱硬化剤 ＤＣＡｉジシアンジアミド ＢＦＡｉＢＦ３・アミン塩 ■括弧内の比は重量比 第２表 第３表 〔注〕 ■成分（ａｌ〜（ｃ１の割合の下段の括弧内の数字は、
３成分１００重量部に対する割合を示す。

第４表 （発明の効果） 本発明の樹脂組成物は、乾燥塗膜の粘着性がなく、シか
も、高感度である。また、塗膜の耐酸性。

耐アルカリ性、耐溶剤性、はんだ耐熱性、電気絶縁性１
機械的強度８表面硬度等も優れている。このため２本発
明の樹脂組成物は、ソルダーレジスト、フルアイディテ
ィブ法におけるメツキレジスト等の永久保護マスクの用
途に好適であるばかりでなく、プリント配線板関連のエ
ツチングレジストや眉間絶縁材料、感光性接着剤、塗料
、プラスチックのハードコート材、オフセット印刷板と
してのＰＳ版、スクリーン印刷用の感光液やレジストイ
ンキ等の巾広い分野に感光性樹脂組成物として使用する
ことができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）下記一般式〔 I 〕で示される末端アクリ
   レート基又は／及びメタクリレート基を有する重合性モ
   ノマー又は／及びそのオリゴマー、（ｂ）高分子重合体
   及び（ｃ）光重合開始剤からなり、上記３成分の総重量
   １００重量部に対し、成分（ａ）が４〜５０重量部、成
   分（ｂ）が９５〜３０重量部及び成分（ｃ）が１〜２０
   重量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 式中、Ｘ＿１〜Ｘ＿６は▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿１は水素原子又はメチル基を表す）又は
   炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｙはジイソシアネー
   ト残基を表す。ただし、Ｘ＿１〜Ｘ＿６のうち少なくと
   も一つは▲数式、化学式、表等があります▼であ る。