JPH01517A - 液晶封入用セル - Google Patents
液晶封入用セルInfo
- Publication number
- JPH01517A JPH01517A JP61-243764A JP24376486A JPH01517A JP H01517 A JPH01517 A JP H01517A JP 24376486 A JP24376486 A JP 24376486A JP H01517 A JPH01517 A JP H01517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- panel
- cell
- adhesive layer
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 55
- 238000011049 filling Methods 0.000 title claims description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 33
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 21
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 12
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 11
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 11
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 11
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 11
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 11
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 11
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 10
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 8
- 239000005018 casein Substances 0.000 claims description 7
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 claims description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 7
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 5
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 4
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 241001428397 Taito Species 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000003446 memory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示装装置に係わり、更に詳細には、強d
’l’を性液晶?封入すると好適な液晶封入用セルに
関する。
’l’を性液晶?封入すると好適な液晶封入用セルに
関する。
(従来技術)
第3図にツイストネマチック液晶(以下TN型液晶と略
す)?もちいた透過型液晶表示装装置の一例をしめす。
す)?もちいた透過型液晶表示装装置の一例をしめす。
光源11)は三波長型螢光灯・自然光等であり、光源;
1)?出た光は偏光子(2)、透明基板13)。
1)?出た光は偏光子(2)、透明基板13)。
画素電極(4)、配向膜(5)、液晶(6)5配向1漢
(7)、対向電極;8)5透明基板(9)、検光子10
)乞通過する。液晶(6)はスペーサー旧)で一定間隔
に保たれ、又封止材ttaで外気から保護される。画素
電極(4)と対向1・、8)間に電圧と印加すると表示
装置として動〜作する。
(7)、対向電極;8)5透明基板(9)、検光子10
)乞通過する。液晶(6)はスペーサー旧)で一定間隔
に保たれ、又封止材ttaで外気から保護される。画素
電極(4)と対向1・、8)間に電圧と印加すると表示
装置として動〜作する。
液晶(6)の厚みは、従来のTN型液晶・ゲストホスト
型液晶(以下GrI型威晶と略す。)では5μないし1
0μであって、液晶1G)の厚み、即ちjM、4間隔は
スペーサー[111で規制していた。スペーサー旧)は
従来ガラスファイバー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等を
適宜、散布するだけで第一パネル(んと第二パネル(a
とを接合していなかった。第一パネル1んと第二パネル
1aの接合はもっばら封止材1zが担い、該封止材12
1は予め第一パネルIAIまたは第二パネルIB+にシ
ルクスクリーン等で接着剤?印刷した後、二つのパネル
?密着して、刃口熱硬化させていた。
型液晶(以下GrI型威晶と略す。)では5μないし1
0μであって、液晶1G)の厚み、即ちjM、4間隔は
スペーサー[111で規制していた。スペーサー旧)は
従来ガラスファイバー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等を
適宜、散布するだけで第一パネル(んと第二パネル(a
とを接合していなかった。第一パネル1んと第二パネル
1aの接合はもっばら封止材1zが担い、該封止材12
1は予め第一パネルIAIまたは第二パネルIB+にシ
ルクスクリーン等で接着剤?印刷した後、二つのパネル
?密着して、刃口熱硬化させていた。
(発明が解決しようとする問題点)
最近1強誘電性液晶(以下単にフェロ液晶と称する)の
特性が明らかになり、応答性・コントラスト比・メモリ
ー効果・広視野角等の卓越性が注目され1表示装置への
展開が多方面で検討されている。フェロ液晶の特徴?発
現させるためには、液晶封入用セルの電極間隔である液
晶の厚みをセル全域にわたり十分狭く、即ち2μ以下、
望ましくは1μ以下に保持するのが好ましい。しかし、
従来スペーサーとして使われていた前記ガラスファイバ
ー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等の外径?2μ以下の高
精度に加工するのが困難であるばかりか1敗布作業時の
工種で塵埃等による汚染があって、電極間隔を2μ以下
に保つことが困難であった。更にまた封止剤1zと2μ
以下に均一に印刷することも極めて困難であった。従っ
て均一な電極間隔とすることが出来ず、実用的な強誘電
性液晶封入用セルの製作ができなかった。
特性が明らかになり、応答性・コントラスト比・メモリ
ー効果・広視野角等の卓越性が注目され1表示装置への
展開が多方面で検討されている。フェロ液晶の特徴?発
現させるためには、液晶封入用セルの電極間隔である液
晶の厚みをセル全域にわたり十分狭く、即ち2μ以下、
望ましくは1μ以下に保持するのが好ましい。しかし、
従来スペーサーとして使われていた前記ガラスファイバ
ー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等の外径?2μ以下の高
精度に加工するのが困難であるばかりか1敗布作業時の
工種で塵埃等による汚染があって、電極間隔を2μ以下
に保つことが困難であった。更にまた封止剤1zと2μ
以下に均一に印刷することも極めて困難であった。従っ
て均一な電極間隔とすることが出来ず、実用的な強誘電
性液晶封入用セルの製作ができなかった。
また第一パネル(N′)と第二パネル(B′)の隙間が
極端に狭いため、シールおよびスペーサ一部分の電気的
絶縁性が不足する。そのために十分な印可電圧を液晶に
加えろことができず、液晶を、駆動するための障害とな
っていた。
極端に狭いため、シールおよびスペーサ一部分の電気的
絶縁性が不足する。そのために十分な印可電圧を液晶に
加えろことができず、液晶を、駆動するための障害とな
っていた。
(問題点を解決するための具体的手段)すなわち1本発
明は、透明基板上に少なくとも透明な画素電極および該
画素4tf上に配向膜?設けた第1パネルと、透明基板
上に少なくとも透明な対向型・蝋?設けた第2パネルよ
りなる液晶セルに於いて、液晶セル表示面に略均等かつ
微細パターン状にスペーサを兼ねろ妥着層石1パネルと
第2パネルの間に設けたこと?特徴とする液晶封入用セ
ルである。
明は、透明基板上に少なくとも透明な画素電極および該
画素4tf上に配向膜?設けた第1パネルと、透明基板
上に少なくとも透明な対向型・蝋?設けた第2パネルよ
りなる液晶セルに於いて、液晶セル表示面に略均等かつ
微細パターン状にスペーサを兼ねろ妥着層石1パネルと
第2パネルの間に設けたこと?特徴とする液晶封入用セ
ルである。
本発明の具体的な実施例?示す図面に基いて詳細に説明
する。
する。
第1図1イ)及び第1図10)で本発明になる液晶封入
用セルの構成を示す。透明基板13)上にセグメント表
示もしくはマトリクス表示のための透明な画素電極(4
)?設け、(に該画素電極(4)上に配向膜(5)?設
けた第1パネル(N′)と、透明基板(9)上にセグメ
ント表示あるいはマトリクス表示に対応して透明な対向
電+li、+8)Y設ける。該対向電極(8)上に、必
要に応じ、絶縁膜(131を形成した第2パネル(B′
)と?対峙させた状頓で、液晶セル表示面の全面に略平
均して微細パターン状に設けたスペーサーを兼ねる接着
I四囲で第1パネル(豹と第2パネル(Bりとを接合す
る。封止材121は接着層(IIllと同様にして形成
することができる。また、必要に応じ第1図(ハ)に示
すように接着1! +141の近傍に該接着1■と同一
膜厚である剛性の補助スペーサー(14’) を設け
てもよい。透明基板131及び透明基板(9)は、厚み
0.5鴨ないし1.5.のガラス基板が適応でき、光学
研磨?した無アルカ、り金4ガラスが好ましいが、酸化
硅素?コートした青板ガラスでもよい。画素電極14)
及び対向t 極’s)は酸化スズ、#I化インジューム
又はその混合物(ITO)をスパッタ蒸着法等で成模し
、常法に従って任意形状にパターン加工する。配向膜(
5)はポリビニルアルコール、ポリイミド等?オフセッ
ト印刷、スピンコータ等で塗布−乾燥後必要に応じ適宜
パターン化しラプングする。
用セルの構成を示す。透明基板13)上にセグメント表
示もしくはマトリクス表示のための透明な画素電極(4
)?設け、(に該画素電極(4)上に配向膜(5)?設
けた第1パネル(N′)と、透明基板(9)上にセグメ
ント表示あるいはマトリクス表示に対応して透明な対向
電+li、+8)Y設ける。該対向電極(8)上に、必
要に応じ、絶縁膜(131を形成した第2パネル(B′
)と?対峙させた状頓で、液晶セル表示面の全面に略平
均して微細パターン状に設けたスペーサーを兼ねる接着
I四囲で第1パネル(豹と第2パネル(Bりとを接合す
る。封止材121は接着層(IIllと同様にして形成
することができる。また、必要に応じ第1図(ハ)に示
すように接着1! +141の近傍に該接着1■と同一
膜厚である剛性の補助スペーサー(14’) を設け
てもよい。透明基板131及び透明基板(9)は、厚み
0.5鴨ないし1.5.のガラス基板が適応でき、光学
研磨?した無アルカ、り金4ガラスが好ましいが、酸化
硅素?コートした青板ガラスでもよい。画素電極14)
及び対向t 極’s)は酸化スズ、#I化インジューム
又はその混合物(ITO)をスパッタ蒸着法等で成模し
、常法に従って任意形状にパターン加工する。配向膜(
5)はポリビニルアルコール、ポリイミド等?オフセッ
ト印刷、スピンコータ等で塗布−乾燥後必要に応じ適宜
パターン化しラプングする。
また、配向膜15)として5i02の斜方蒸着等も適応
できる。絶縁膜(131は必要に応じS i O2又は
A#20゜等なスパッター等により膜厚0,2μmない
し0.5μmに形成する。絶縁膜(131は耐圧性な向
上させる。
できる。絶縁膜(131は必要に応じS i O2又は
A#20゜等なスパッター等により膜厚0,2μmない
し0.5μmに形成する。絶縁膜(131は耐圧性な向
上させる。
接着層114)はカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分
子昨ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアル
コール、ビニルポリマー、アクIJ L/ −ト樹脂、
ポリアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。
子昨ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアル
コール、ビニルポリマー、アクIJ L/ −ト樹脂、
ポリアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。
ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、またはポリ
アミドから選択される少なくとも一種の樹11ぽからな
るか、あるいは、これら上記の樹脂から選択される少な
くとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからなる。付
言すれば、ここで言うゴムとは、イソプレン系環化ゴム
、ブタジェン系環化ゴムが好ましい。第1図10)に示
″″5″様に表示面の全面にわたり均等に分布形成する
。該接着層イ14)の膜厚は2μm以下好ましくは1μ
m以下である。また該接着層(141の形状としてはド
ツト又はライン状のいずれでもよく、大きさは表示効果
を損わない範囲で十分広いことが望ましい。該接着層1
14)は必要に応じ黒色顔料等乞含有させて遮光層と兼
ねることができる。
アミドから選択される少なくとも一種の樹11ぽからな
るか、あるいは、これら上記の樹脂から選択される少な
くとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからなる。付
言すれば、ここで言うゴムとは、イソプレン系環化ゴム
、ブタジェン系環化ゴムが好ましい。第1図10)に示
″″5″様に表示面の全面にわたり均等に分布形成する
。該接着層イ14)の膜厚は2μm以下好ましくは1μ
m以下である。また該接着層(141の形状としてはド
ツト又はライン状のいずれでもよく、大きさは表示効果
を損わない範囲で十分広いことが望ましい。該接着層1
14)は必要に応じ黒色顔料等乞含有させて遮光層と兼
ねることができる。
さらに付言すると、近時の液晶表示装置はカラー表示な
するものが賞用されているが、この場合は、カラーフィ
ルター層を第一パネルまたは第二パネルのいずれか一方
に設けることになる。カラーフィルターは透明基板と透
明電衝(画素Il!極または対向d[)の間に介在させ
る構造と、透明電極の上方に設ける横置があり、いずれ
も本発明の実施?妨げない。必要に応じて液晶と接する
最上面に妃回模?設ける。
するものが賞用されているが、この場合は、カラーフィ
ルター層を第一パネルまたは第二パネルのいずれか一方
に設けることになる。カラーフィルターは透明基板と透
明電衝(画素Il!極または対向d[)の間に介在させ
る構造と、透明電極の上方に設ける横置があり、いずれ
も本発明の実施?妨げない。必要に応じて液晶と接する
最上面に妃回模?設ける。
また、接着層が対向jる透明電極の間にあって心待のリ
ーク?生じる慣れがある場合には、を極ケ有するパネル
と接着層の間に絶@rmを介在させる手段がある。他の
手段として、透明電極がノくターン状(例えば万線パタ
ーン、セグメントノくターン)に形成されている時は、
接着層を設ける位置?、透明電極が存在しない部分に選
択設定して、丁なわち1画素電極および対向電極の両方
と電気的に接しないか、あるいは一方のみと4気的に接
する使者に接着層を設ければ良い。
ーク?生じる慣れがある場合には、を極ケ有するパネル
と接着層の間に絶@rmを介在させる手段がある。他の
手段として、透明電極がノくターン状(例えば万線パタ
ーン、セグメントノくターン)に形成されている時は、
接着層を設ける位置?、透明電極が存在しない部分に選
択設定して、丁なわち1画素電極および対向電極の両方
と電気的に接しないか、あるいは一方のみと4気的に接
する使者に接着層を設ければ良い。
接着rs 1141の形成方法について具体的に述べろ
と。
と。
第一パネルの配向膜(5)又は、第二パネルの対向成t
4181上あるいは、必要に応じ形成された絶縁膜α3
上の一方又は1両方にカゼイン、グリュー、ゼラチン、
ノボラック、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリ
マー、アクリレート、アクリルアミド。
4181上あるいは、必要に応じ形成された絶縁膜α3
上の一方又は1両方にカゼイン、グリュー、ゼラチン、
ノボラック、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリ
マー、アクリレート、アクリルアミド。
ビスフェノール、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレ
タン、ナイロン系の樹脂または上記樹脂を感光性樹脂化
したもの等の選択される少なくとも一種頑?スピンナー
で塗布後乾燥し、感光性?有する場合はそのままで、ま
た感光性が無い場合はその上にフォトレジストvスピン
ナーで塗布後乾燥してから任意形状のパターン4光後、
常法であるフォトエツチング法に従って現像する。また
必要に応じてウェットまたはドライエツチングtしてパ
ターン化する。また不要なレジスト?除去。
タン、ナイロン系の樹脂または上記樹脂を感光性樹脂化
したもの等の選択される少なくとも一種頑?スピンナー
で塗布後乾燥し、感光性?有する場合はそのままで、ま
た感光性が無い場合はその上にフォトレジストvスピン
ナーで塗布後乾燥してから任意形状のパターン4光後、
常法であるフォトエツチング法に従って現像する。また
必要に応じてウェットまたはドライエツチングtしてパ
ターン化する。また不要なレジスト?除去。
洗浄する。次に第一パネル1励と第二パネル1i?対峙
させ、パネル全面に均一に加圧または、第一パネル帖と
第二パネルIB)に挾まれた空間を減圧にしながらカゼ
イン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼラチン、ノボラ
ック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリマ
ー、アクリレートmH’&、ポリアクリルアミド、ビス
フェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレ
タン、ポリアミド系の樹脂または上記樹脂?感光性樹脂
化したものの軟化温度に加熱して、一定時間保持した後
冷却してから加圧状d’を解除する。以上の工程で第一
パネル(に)と第二パネル(Bりの同位置に接着層■?
影形成、位置合わせ後接合することにより接着強度はよ
り強化される。第1図し→に示すように接着1個■の近
傍に膜厚が等しい補助スペーサー(14’) ?形成
することにより、第一パネル(Nうと第二パネル(Bり
加熱加圧時に接着層■が広がることケ防ぐことができる
。とくに透明基板13)及び透明基板(9)の平面性が
劣る状態にあると均一に加圧した場合でもパネル全面内
で局部的に圧力差が生じ、圧力の集中した部分で接着層
1141が広がり易く。
させ、パネル全面に均一に加圧または、第一パネル帖と
第二パネルIB)に挾まれた空間を減圧にしながらカゼ
イン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼラチン、ノボラ
ック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリマ
ー、アクリレートmH’&、ポリアクリルアミド、ビス
フェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレ
タン、ポリアミド系の樹脂または上記樹脂?感光性樹脂
化したものの軟化温度に加熱して、一定時間保持した後
冷却してから加圧状d’を解除する。以上の工程で第一
パネル(に)と第二パネル(Bりの同位置に接着層■?
影形成、位置合わせ後接合することにより接着強度はよ
り強化される。第1図し→に示すように接着1個■の近
傍に膜厚が等しい補助スペーサー(14’) ?形成
することにより、第一パネル(Nうと第二パネル(Bり
加熱加圧時に接着層■が広がることケ防ぐことができる
。とくに透明基板13)及び透明基板(9)の平面性が
劣る状態にあると均一に加圧した場合でもパネル全面内
で局部的に圧力差が生じ、圧力の集中した部分で接着層
1141が広がり易く。
かかる場合に極め℃有効である。
また第1図(肩示すように接着層f!:2層以上の多1
−構造にすることによりガラスとの接着性、パターニン
グ性5パネル間接着時の接層性の良い物乞種々組み合わ
せて作る事が出来る。これによりパネル作製時の制約が
緩和されろ。例えば、ノボラック系ホトンジストのAZ
1350(米国シノブンイファーイースト社製製品)は
パネル間接着時の接着性は良いが接着時の加熱で極1度
に柔らかくなり、セルギャップの精度維持が難しくなる
。そこで、ポリイミドまたはアクリルm m Oft
*塗布パターニングしてその上にAZ1350の接着層
?作る事によりセルギヤノブの精度がよく、再現性の高
い横置となる。このようにパネル作製時の制約項和に極
めて有効であり、またこのような処理により実用的なパ
ネル作製が初めて可能となった。
−構造にすることによりガラスとの接着性、パターニン
グ性5パネル間接着時の接層性の良い物乞種々組み合わ
せて作る事が出来る。これによりパネル作製時の制約が
緩和されろ。例えば、ノボラック系ホトンジストのAZ
1350(米国シノブンイファーイースト社製製品)は
パネル間接着時の接着性は良いが接着時の加熱で極1度
に柔らかくなり、セルギャップの精度維持が難しくなる
。そこで、ポリイミドまたはアクリルm m Oft
*塗布パターニングしてその上にAZ1350の接着層
?作る事によりセルギヤノブの精度がよく、再現性の高
い横置となる。このようにパネル作製時の制約項和に極
めて有効であり、またこのような処理により実用的なパ
ネル作製が初めて可能となった。
本発明の従来技術との際立った相違点J・ま接着層(1
4)にある。従来技術ではスペーサー旧)は、第一バネ
ルIA)と第二パネル作製時と乞接着する役割は無かっ
たのに対して、本発明になる接着4114]はスペーサ
ーUの役割と同時に第一パネル(N′)と第二パネル(
Bつと?強固に接着している点にある。更に接着181
41は任意の場所に任意の大きさで意図的に設けること
かできるので表示効果を損なうことがない。
4)にある。従来技術ではスペーサー旧)は、第一バネ
ルIA)と第二パネル作製時と乞接着する役割は無かっ
たのに対して、本発明になる接着4114]はスペーサ
ーUの役割と同時に第一パネル(N′)と第二パネル(
Bつと?強固に接着している点にある。更に接着181
41は任意の場所に任意の大きさで意図的に設けること
かできるので表示効果を損なうことがない。
接着層141にカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
肴ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコ
ール、ビニルポリマー、アクIJ L/ −ト樹脂、ポ
リアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。
肴ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコ
ール、ビニルポリマー、アクIJ L/ −ト樹脂、ポ
リアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。
ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド
系の樹脂またはこれらのホトレジスト等?1吏用するこ
とにより、加熱溶融して接着させることにより強固な接
着層(141’a’得る。また絶縁膜2介在すれば上下
電極間のべ気絶練性の向上により実用的駆動が可能とな
ったところにある。
系の樹脂またはこれらのホトレジスト等?1吏用するこ
とにより、加熱溶融して接着させることにより強固な接
着層(141’a’得る。また絶縁膜2介在すれば上下
電極間のべ気絶練性の向上により実用的駆動が可能とな
ったところにある。
(本発明の効果)
本発明による液晶封入用セルにより従来困難であった強
誘電曲液晶?用いた孜晶表示伎Itを構成することが可
能となった。また、接着!−(141がスペーサーの役
割のみでなくパネルどうしの接合に用いることが可能と
なった。またスペーサーの間隔を自由にかつ細かく調整
でき、その形状についても自由度が高い。さらに絶砿模
?設ければ、上下電極間の絶縁性の向上によって実用的
1IAaが可能となった。さらに、この耐重方法につい
て多くの設υtff ’a’必要とせず、その原料の+
11脂またはそれら?感光性樹脂化したものも安価であ
り、液晶層の間隙として0.6〜2,0μ程度の封止が
容易に行なうことが0T昨となった。
誘電曲液晶?用いた孜晶表示伎Itを構成することが可
能となった。また、接着!−(141がスペーサーの役
割のみでなくパネルどうしの接合に用いることが可能と
なった。またスペーサーの間隔を自由にかつ細かく調整
でき、その形状についても自由度が高い。さらに絶砿模
?設ければ、上下電極間の絶縁性の向上によって実用的
1IAaが可能となった。さらに、この耐重方法につい
て多くの設υtff ’a’必要とせず、その原料の+
11脂またはそれら?感光性樹脂化したものも安価であ
り、液晶層の間隙として0.6〜2,0μ程度の封止が
容易に行なうことが0T昨となった。
〈実施例1〉
3インチ角厚み1.6.0ガラス基板Yf学研磨し平面
の平坦性228m以内に7JO工して透明基板13)を
得た。該透明基板13)上に400人のi夜1ヒインジ
ウム〜酸化スズの透明4成模(以下ITO模という)を
スパッタリング法で製膜し、常法のフォトエツチング法
に従って線巾280μm1ピツチ300μm−1長さ6
0、謂の万緑パターンの画素電極(4)?形成した。次
に該画素電極(4)上にポリイミド樹脂PIX−1ao
o(日立化成工業沫式会社製)乞3000 r pm
で2分間スピンナーコート後80°C15分、200
℃30分、500℃50分加、鴨した。次にラビング装
置γもちいて配向処理?行って配向膜(5)を設計第一
パネル(Nつ?製面した。他方光学研磨した厚み0.5
+ll11 、3インチ角のガラス基板の表面にIT
O模?スパッタリング法で製模し前記同様に線巾280
μm、ピッチ500μmb長さ6011111の万線か
らなる対向電極(8)?形成し、更に絶縁:a t13
17設けて第二パネル(8′)’a’得た。更に該gニ
パネル(Bつ上にゴム系レジストOMrt−85(東京
応化工業法式会社・嘘)の粘度30cpm溶IVi、3
000rpmで15秒間回転値布し、常法のフォトエツ
チング法に従って、サイズ50μm角、ピッチ150μ
mのパターン露光し現象し、接着1i04娶設けた。こ
のときの現像t&模膜厚0.6μmであった。次に第一
パネル(Aりと第二パネルCB’) ’kITO嘆の万
線パターンが直交するように封密着させ、1kg/cr
/lの圧力でn口圧し常温より5℃/1分間の昇温速度
で180℃まで昇温し1時間保持し引き続いて冷却し圧
力?はずして液晶封入用セルラ夷欲した。これにより接
着層α滲で両パネルがなお、このときのI TO模パタ
ーン加工法は以下の通りである。
の平坦性228m以内に7JO工して透明基板13)を
得た。該透明基板13)上に400人のi夜1ヒインジ
ウム〜酸化スズの透明4成模(以下ITO模という)を
スパッタリング法で製膜し、常法のフォトエツチング法
に従って線巾280μm1ピツチ300μm−1長さ6
0、謂の万緑パターンの画素電極(4)?形成した。次
に該画素電極(4)上にポリイミド樹脂PIX−1ao
o(日立化成工業沫式会社製)乞3000 r pm
で2分間スピンナーコート後80°C15分、200
℃30分、500℃50分加、鴨した。次にラビング装
置γもちいて配向処理?行って配向膜(5)を設計第一
パネル(Nつ?製面した。他方光学研磨した厚み0.5
+ll11 、3インチ角のガラス基板の表面にIT
O模?スパッタリング法で製模し前記同様に線巾280
μm、ピッチ500μmb長さ6011111の万線か
らなる対向電極(8)?形成し、更に絶縁:a t13
17設けて第二パネル(8′)’a’得た。更に該gニ
パネル(Bつ上にゴム系レジストOMrt−85(東京
応化工業法式会社・嘘)の粘度30cpm溶IVi、3
000rpmで15秒間回転値布し、常法のフォトエツ
チング法に従って、サイズ50μm角、ピッチ150μ
mのパターン露光し現象し、接着1i04娶設けた。こ
のときの現像t&模膜厚0.6μmであった。次に第一
パネル(Aりと第二パネルCB’) ’kITO嘆の万
線パターンが直交するように封密着させ、1kg/cr
/lの圧力でn口圧し常温より5℃/1分間の昇温速度
で180℃まで昇温し1時間保持し引き続いて冷却し圧
力?はずして液晶封入用セルラ夷欲した。これにより接
着層α滲で両パネルがなお、このときのI TO模パタ
ーン加工法は以下の通りである。
Ill I T 011a上にポジ型ホトレジストf
f:塗布し90℃30分の乾燥後マスク露光し専用現像
剤で現+ti&130℃60分間ポストベークした。
f:塗布し90℃30分の乾燥後マスク露光し専用現像
剤で現+ti&130℃60分間ポストベークした。
(2)次に塩化第2鉄液及び塩酸の混合液?60℃に加
熱して前記ITO模?浸漬してエツチングした。
熱して前記ITO模?浸漬してエツチングした。
13)専用リムーバーで0FPR[lを製模し純水で洗
浄した。
浄した。
また、液晶を封入するときは、液晶封入用セルケnロ熱
オープン中で7エロ液晶t151としてC5−1011
(チッン沫式会社1りY12o℃に加熱し、封入口11
blより該7エロ液晶霞?封入して、良好な液晶表示パ
ネル?製造した。
オープン中で7エロ液晶t151としてC5−1011
(チッン沫式会社1りY12o℃に加熱し、封入口11
blより該7エロ液晶霞?封入して、良好な液晶表示パ
ネル?製造した。
く実施上lす2 〉
実施例1と同様に嬉−パネル(N)に画素電極(4)な
らびに配向膜151’に形成し、ゴム系レジストJSR
−CBR−M901 (日本合成ゴム昧弐会社製)の粘
度25cp f!:2000rpmで回転a布L 、
常法(1’) 7 オドエツチング法に従って線巾20
μm、ピッチ300μmのパターン?該画素It極(4
)の余白部に接着層ti41v形成した。次に3インチ
角、厚み2.6目のガラス基板を研磨して透明基板(9
)?得た。該透明基板19)上に実施例1と同様にして
対向電極(8)?形成後、酸化硅素をスパッタリングで
膜厚50ONに製・漠して絶鎌模1131χ形成した。
らびに配向膜151’に形成し、ゴム系レジストJSR
−CBR−M901 (日本合成ゴム昧弐会社製)の粘
度25cp f!:2000rpmで回転a布L 、
常法(1’) 7 オドエツチング法に従って線巾20
μm、ピッチ300μmのパターン?該画素It極(4
)の余白部に接着層ti41v形成した。次に3インチ
角、厚み2.6目のガラス基板を研磨して透明基板(9
)?得た。該透明基板19)上に実施例1と同様にして
対向電極(8)?形成後、酸化硅素をスパッタリングで
膜厚50ONに製・漠して絶鎌模1131χ形成した。
次にポリイミド−1旨であるセミコファイン5p−91
0(東し法式会社−1)15’に対しエチルセロノルプ
0.51の割合で稀釈攪拌しs o o o rpmで
2分間回転塗布flk135℃で60分間乾燥した。そ
の後全面に7オトレジス) 0FPRII (東京応化
工業昧式会社製)?回転塗布し、第一パネル(Mの接着
1141に近接して10μm径の丸パターンをマスク露
光して、ノンメタル専用現像剤で0FPRII *現像
すると同時に、レジストで保護されない下1−の前記セ
ミコファイン5p−910を6解エツチングし、引きつ
づいて酢酸ノルマルブチルとインプロピルアルコールの
1対1容涜比の混合溶剤で0FPRIIのみ?溶解した
。
0(東し法式会社−1)15’に対しエチルセロノルプ
0.51の割合で稀釈攪拌しs o o o rpmで
2分間回転塗布flk135℃で60分間乾燥した。そ
の後全面に7オトレジス) 0FPRII (東京応化
工業昧式会社製)?回転塗布し、第一パネル(Mの接着
1141に近接して10μm径の丸パターンをマスク露
光して、ノンメタル専用現像剤で0FPRII *現像
すると同時に、レジストで保護されない下1−の前記セ
ミコファイン5p−910を6解エツチングし、引きつ
づいて酢酸ノルマルブチルとインプロピルアルコールの
1対1容涜比の混合溶剤で0FPRIIのみ?溶解した
。
その鏝第−パネル(A/〕¥200”Q30分、300
℃50分加熱暁成してポリイミド側脂の補助スペーサー
(14’) 乞形成した。以降実施例1と同様ににd
i−パネルと4ニパネル?密着して加圧しながら150
℃50分、200℃30分に加熱して。
℃50分加熱暁成してポリイミド側脂の補助スペーサー
(14’) 乞形成した。以降実施例1と同様ににd
i−パネルと4ニパネル?密着して加圧しながら150
℃50分、200℃30分に加熱して。
補助スペーサー(14’) ′It有する液晶封入用
セル?4造した。なお、このときのITO膜パターy加
工法と液晶封入方法も実施例1と同様である。
セル?4造した。なお、このときのITO膜パターy加
工法と液晶封入方法も実施例1と同様である。
〈実施例3〉
実施例1同様な透明基板、3)上にポリイミド樹脂のセ
ミコファイン5p−910.青色有機顔料及び分散助剤
から成る青色ワニスtスピンナー塗布し。
ミコファイン5p−910.青色有機顔料及び分散助剤
から成る青色ワニスtスピンナー塗布し。
125℃で50分間の乾燥後、 0FPRII *スピ
ンナー塗布し80℃30分間乾燥した6線巾150μm
、ピッチ450μmの万線パターンで上記0FPItl
l ’に露光し、アルカリ現像液により150μm幅の
未−元部を残して上記青色フェスとエツチングした。
ンナー塗布し80℃30分間乾燥した6線巾150μm
、ピッチ450μmの万線パターンで上記0FPItl
l ’に露光し、アルカリ現像液により150μm幅の
未−元部を残して上記青色フェスとエツチングした。
その後実施例2と同様にして0FPR[l Y溶解し2
00℃30分、250°030分、500℃30分と順
次昇温し青色フィルターIBI w形成した。
00℃30分、250°030分、500℃30分と順
次昇温し青色フィルターIBI w形成した。
以下%第2図に示す様に順次緑フイルタ−IG。
赤フイルタ−IRI ’a’形成した。尚、各色ワニス
の組成は以下の通りであった。
の組成は以下の通りであった。
赤色フェス
緑色フェス
青色フェス
次に該色フィルター上にITOf!:全面スパッタl!
q!し色フィルターと位1tY合せながら常法のフォ
トエツチング法に従ってパターン加工し線巾130μm
1ピツチ150μmの画素電極(4)及び配向膜151
(第2図参照)?形成した。以下実施例1と同様にし
て接着層?形成し第二パネル(的?形成し、第一パネル
(N′)と第二パネル(B’) k接合して液晶封入用
セルを製置した。
q!し色フィルターと位1tY合せながら常法のフォ
トエツチング法に従ってパターン加工し線巾130μm
1ピツチ150μmの画素電極(4)及び配向膜151
(第2図参照)?形成した。以下実施例1と同様にし
て接着層?形成し第二パネル(的?形成し、第一パネル
(N′)と第二パネル(B’) k接合して液晶封入用
セルを製置した。
さらにまた、この場合のITO映パターン力ロ工法と液
晶封入方法につい℃、実施例1.実施例2で示されたも
のと同一である。
晶封入方法につい℃、実施例1.実施例2で示されたも
のと同一である。
〈実施例4〉
実施例1と同様に渠−パネル(Aりに画素電極(4)な
らびに配向膜(5)?形成し、ポリビニルアルコール系
感光性園脂“アゾベースN感光液°′(開本化学工業■
4! ) Y 4000rpmで回転塗布し、常法に従
って幅巾20μ、ピッチ300μの万線パターンを画素
電極(4)の余白に接着層u41乞形成した。つぎに3
インチ角厚み2,6憫のガラス基板?光学研磨し平面の
平坦性228以内に加工して透明基板(9)を得た。該
透明基板(9)上に400λのITO模?スパッタリン
グ法で成模し、常法に従っ″′C線巾280μ、ピッチ
600μ長さ60間の万線パターンノ対向成礪・8)?
形成したd、 5102¥スパツタリングで幅厚50O
Nに成膜して絶縁膜1131を形成した。つぎに1セミ
コファイン5p−910”(■東し/[)1.9−にた
いしてエチルセロンルブ0.51の割合で稀釈攪拌し3
000rpm で2分間回転塗布f&135°Cで3
0分間乾燥した。その後全面に0FPRII”(東京応
化工業(掬4り?回転塗布し。
らびに配向膜(5)?形成し、ポリビニルアルコール系
感光性園脂“アゾベースN感光液°′(開本化学工業■
4! ) Y 4000rpmで回転塗布し、常法に従
って幅巾20μ、ピッチ300μの万線パターンを画素
電極(4)の余白に接着層u41乞形成した。つぎに3
インチ角厚み2,6憫のガラス基板?光学研磨し平面の
平坦性228以内に加工して透明基板(9)を得た。該
透明基板(9)上に400λのITO模?スパッタリン
グ法で成模し、常法に従っ″′C線巾280μ、ピッチ
600μ長さ60間の万線パターンノ対向成礪・8)?
形成したd、 5102¥スパツタリングで幅厚50O
Nに成膜して絶縁膜1131を形成した。つぎに1セミ
コファイン5p−910”(■東し/[)1.9−にた
いしてエチルセロンルブ0.51の割合で稀釈攪拌し3
000rpm で2分間回転塗布f&135°Cで3
0分間乾燥した。その後全面に0FPRII”(東京応
化工業(掬4り?回転塗布し。
第一パネル(A’)の接着1! 1141に近傍して1
0μ幅のパターン?マスク露光して、ノンメタル専用現
象剤で0FFR1’g現像すると同時に前記セミコファ
イン5p−910fig(エツチングする。引続き酢酸
ノルマルブチルとインプロピルアルコールの1対1容遺
比の混合溶剤で0FPRII ’i[解した。その後第
一パネル(〜’) Y s o℃60分、200’(:
、30分、600℃30分加熱焼成して補助スペーサー
(14′)fjI:IN成した。他方光学研磨した厚み
1.6m、3インチ角のガラス基板の表面に400人の
ITO模rスパッタリング法で成膜し、常法であるフォ
トエツチング法に従っ℃線巾280μ、ピッチ300μ
長さ60aIの万一パターンからなる対向画素電画・8
)?形成し第二パネル(B’)v得た。以後実施例1と
同様に第一パネルと第二パネルを密着させ、1 ky
/ crdの圧力で加圧し常温より5 ’(:、 /
mi口の昇温速度で180’Cまで昇温し、1時間保持
し引き続いて冷却し圧力を外して夜晶封入用セル?製造
した。この時のセル間隔は0.5μで表示面の全面にわ
たり均一であった。
0μ幅のパターン?マスク露光して、ノンメタル専用現
象剤で0FFR1’g現像すると同時に前記セミコファ
イン5p−910fig(エツチングする。引続き酢酸
ノルマルブチルとインプロピルアルコールの1対1容遺
比の混合溶剤で0FPRII ’i[解した。その後第
一パネル(〜’) Y s o℃60分、200’(:
、30分、600℃30分加熱焼成して補助スペーサー
(14′)fjI:IN成した。他方光学研磨した厚み
1.6m、3インチ角のガラス基板の表面に400人の
ITO模rスパッタリング法で成膜し、常法であるフォ
トエツチング法に従っ℃線巾280μ、ピッチ300μ
長さ60aIの万一パターンからなる対向画素電画・8
)?形成し第二パネル(B’)v得た。以後実施例1と
同様に第一パネルと第二パネルを密着させ、1 ky
/ crdの圧力で加圧し常温より5 ’(:、 /
mi口の昇温速度で180’Cまで昇温し、1時間保持
し引き続いて冷却し圧力を外して夜晶封入用セル?製造
した。この時のセル間隔は0.5μで表示面の全面にわ
たり均一であった。
〈実施例5〉
実施例1と同様に第一パネルおよび第二パネル2作成し
、第二パネル側にカゼイン系フォトレジスト「フジンジ
スト第15J(富士薬品■農)溶dy5000rpmで
15秒間回転塗布し、常法であるマスク露光法に従って
サイズ50μ角、ピッチ500μ間隔のパターン4光し
現1象した。このときの現隊後漠厚は0.6μであった
。次に第一パネルと第二パネル馨密着させ、1kg1c
tAの圧力で加圧し常温より5℃/minの昇温速度で
180℃まで昇温し、1時間保持し引き続いて冷却し圧
力?外し”CI!晶封入用セルr製装置た。この時のセ
ル間隔は0.5μで表示面の全面にわたり均一であった
0 く実癩タリ6〉 実施例1と同様に第一パネル(に)に画素電極(4)な
らびに配向11i t5)’に形成した。つぎに3イン
チ角厚み1.611mのガラス基板馨光学研磨し平面の
平坦性?2μ2μに刀ロエして透明基板(9)?得た。
、第二パネル側にカゼイン系フォトレジスト「フジンジ
スト第15J(富士薬品■農)溶dy5000rpmで
15秒間回転塗布し、常法であるマスク露光法に従って
サイズ50μ角、ピッチ500μ間隔のパターン4光し
現1象した。このときの現隊後漠厚は0.6μであった
。次に第一パネルと第二パネル馨密着させ、1kg1c
tAの圧力で加圧し常温より5℃/minの昇温速度で
180℃まで昇温し、1時間保持し引き続いて冷却し圧
力?外し”CI!晶封入用セルr製装置た。この時のセ
ル間隔は0.5μで表示面の全面にわたり均一であった
0 く実癩タリ6〉 実施例1と同様に第一パネル(に)に画素電極(4)な
らびに配向11i t5)’に形成した。つぎに3イン
チ角厚み1.611mのガラス基板馨光学研磨し平面の
平坦性?2μ2μに刀ロエして透明基板(9)?得た。
該透明基板(9)上に400λのITOIiYスパッタ
リング法で成膜し、常法に従って線巾280μ、ピッチ
300μ長さ60.の万線パターンの対向電極(8)?
形成した後、 SiO□?スパッタリングで膜厚500
kに成膜して絶@1141131を形成した。つぎにポ
リイミド樹脂の1セミコファイン5p−910”((掬
東し4)11にたいしてエチルセロンルブ0.51の刑
合で稀釈攪拌し3000rpmで2分間回1伝塗布後1
35℃で30分間乾燥した。その後全面に“0FFR[
l”(東京応化工業■JJIiJ)?400Orpmで
口伝塗布し、接着@ (141gマスク露光して。
リング法で成膜し、常法に従って線巾280μ、ピッチ
300μ長さ60.の万線パターンの対向電極(8)?
形成した後、 SiO□?スパッタリングで膜厚500
kに成膜して絶@1141131を形成した。つぎにポ
リイミド樹脂の1セミコファイン5p−910”((掬
東し4)11にたいしてエチルセロンルブ0.51の刑
合で稀釈攪拌し3000rpmで2分間回1伝塗布後1
35℃で30分間乾燥した。その後全面に“0FFR[
l”(東京応化工業■JJIiJ)?400Orpmで
口伝塗布し、接着@ (141gマスク露光して。
ノンメタル専用現像剤で0FPRu ’に現像すると同
時に前記セミコファイン5p−910fエツチングする
。このようにしてポリイミドと0FPRIIの2層構造
の接着層1141 ’に形成し第二パネル(B’) f
t得た。
時に前記セミコファイン5p−910fエツチングする
。このようにしてポリイミドと0FPRIIの2層構造
の接着層1141 ’に形成し第二パネル(B’) f
t得た。
以後実施例1と同轡に第一パネルと第二パネル?密着さ
せ、1kg/ct/Iの圧力で加圧し常温より5℃/
l1ljnの昇温速σで180℃まで昇温し、1時間保
持し引き続いて冷却し圧力を外して液晶封入用セルラ型
債した。この時のセル間隔は0.5μで表示部の全面に
わたり均一であった。
せ、1kg/ct/Iの圧力で加圧し常温より5℃/
l1ljnの昇温速σで180℃まで昇温し、1時間保
持し引き続いて冷却し圧力を外して液晶封入用セルラ型
債した。この時のセル間隔は0.5μで表示部の全面に
わたり均一であった。
第1図は本発明の液晶封入用セルの一実施例を示すもの
であって、第1図1イ)は断面図、第1図10)は平面
図、43図(ハ)は要部拡大平面図、第1図I肩は池の
実施例r示す要部断面図であり、第2図は。 カラーフィルター付きの液晶封入セル用パネルの一実施
例を示す断面図であり、第3図は、従来のツイストネマ
チック型液晶封入用セルの一例?示す断面図である。 Ill・・・光源 ・101・・・検光子 ue
・・・液晶封入口(2)・・・偏光子 uト・・ス
ペーサーi31 +91・・・透明基板 +121・・
・封止材(4)・・・画素゛電極 1131・・・絶
縁膜+51 +71・・・配向模 I・・・接着層1
6)・・・液晶 (14つ・・二′m助スペーサ
ー(8)・・・対向1を極 (151・・・フェロ、
確晶第1図(イ) 第1図(ロ) 14′ 第1図(ハ) 第1図(ニ) 第3図 手続主市正書(方式) 1、事件の表示 昭和61年特許願第243764号 2、発明の名称 液晶封入用セル 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都台東区台東1丁目5番1号4、補正命令の
日付
であって、第1図1イ)は断面図、第1図10)は平面
図、43図(ハ)は要部拡大平面図、第1図I肩は池の
実施例r示す要部断面図であり、第2図は。 カラーフィルター付きの液晶封入セル用パネルの一実施
例を示す断面図であり、第3図は、従来のツイストネマ
チック型液晶封入用セルの一例?示す断面図である。 Ill・・・光源 ・101・・・検光子 ue
・・・液晶封入口(2)・・・偏光子 uト・・ス
ペーサーi31 +91・・・透明基板 +121・・
・封止材(4)・・・画素゛電極 1131・・・絶
縁膜+51 +71・・・配向模 I・・・接着層1
6)・・・液晶 (14つ・・二′m助スペーサ
ー(8)・・・対向1を極 (151・・・フェロ、
確晶第1図(イ) 第1図(ロ) 14′ 第1図(ハ) 第1図(ニ) 第3図 手続主市正書(方式) 1、事件の表示 昭和61年特許願第243764号 2、発明の名称 液晶封入用セル 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都台東区台東1丁目5番1号4、補正命令の
日付
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)透明基板上に少なくとも透明な画素電極および該画
素電極上に配向膜を設けた第1パネルと、透明基板上に
少なくとも透明な対向電極を設けた第2パネルよりなる
液晶セルに於いて、液晶セル表示面に略均等かつ微細パ
ターン状にスペーサーを兼ねる接着層を第1パネルと第
2パネルの間に設けたことを特徴とする液晶封入用セル
。 2)接着層の厚みとして2μm以下であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。 3)接着層の近傍に、該接着層と同一膜厚である剛性の
補助スペーサーを設けたことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の液晶封入用セル。 4)接着層が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
量ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコ
ール、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリ
ルアミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエス
テル、ポリウレタン、またはポリアミドから選択される
少なくとも一種の樹脂からなることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。 5)接着層が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
量ゼラチン、ノボラック樹脂、環化ゴム、ポリビニルア
ルコール、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリア
クリルアミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリ
エステル、ポリウレタンまたはポリアミドから選択され
る少なくとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液晶封
入用セル。 6)電極を有するパネルと接着層の間に絶縁層を介在し
た特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。 7)第一パネル又は第二パネルの透明基板上にカラーフ
ィルターを介して画素電極または対向電極を設け、必要
に応じてその上に配向膜を配したことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。 8)第一パネル又は第二パネルの画素電極上または対向
電極にカラーフィルターを設け、必要に応じてその上に
配向膜を配したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の液晶封入用セル。 9)接着層が、樹脂と感光性樹脂の二層構造である特許
請求の範囲第1項記載の液晶封入用セル。 10)接着層が、画素電極および対向電極の両方と電気
的に接しないか、または一方のみと電気的に接する位置
に設けられる特許請求の範囲第1項記載の液晶封入用セ
ル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61243764A JPH0680452B2 (ja) | 1985-10-24 | 1986-10-14 | 液晶封入用セル |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23789885 | 1985-10-24 | ||
JP60-237898 | 1985-10-24 | ||
JP25250985 | 1985-11-11 | ||
JP60-252509 | 1985-11-11 | ||
JP17487186 | 1986-07-25 | ||
JP61-174871 | 1986-07-25 | ||
JP61243764A JPH0680452B2 (ja) | 1985-10-24 | 1986-10-14 | 液晶封入用セル |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS64517A JPS64517A (en) | 1989-01-05 |
JPH01517A true JPH01517A (ja) | 1989-01-05 |
JPH0680452B2 JPH0680452B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=27474599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61243764A Expired - Lifetime JPH0680452B2 (ja) | 1985-10-24 | 1986-10-14 | 液晶封入用セル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680452B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0750735Y2 (ja) * | 1989-06-15 | 1995-11-15 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示器 |
JP3210126B2 (ja) * | 1993-03-15 | 2001-09-17 | 株式会社東芝 | 液晶表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4871596A (ja) * | 1971-12-25 | 1973-09-27 | ||
JPS54651A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-06 | Sumitomo Bakelite Co | Liquid crystal indicator |
JPS5886518A (ja) * | 1981-11-18 | 1983-05-24 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置 |
JPS5897023A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-09 | Sharp Corp | 液晶表示セル及びその製造方法 |
JPS6021028A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Canon Inc | 光学変調素子およびその製法 |
-
1986
- 1986-10-14 JP JP61243764A patent/JPH0680452B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI341937B (en) | Upper substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method of fabricating the same | |
JP2001033790A (ja) | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
JPH01517A (ja) | 液晶封入用セル | |
JPS63116126A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2900948B2 (ja) | 液晶表示パネル及びその製造方法 | |
JPH04151122A (ja) | 液晶表示器 | |
JPH0680452B2 (ja) | 液晶封入用セル | |
KR100685943B1 (ko) | 스메틱 액정표시소자의 제조방법 | |
JPS63137212A (ja) | 液晶表示素子 | |
JPH10325965A (ja) | 液晶表示素子 | |
JPS6296925A (ja) | 液晶封入用セルの製造方法 | |
JP2002131759A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPS6115179A (ja) | 液晶素子用基板の製造方法 | |
JPH0943612A (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法及びそれを用いた液晶表示装置 | |
JP3205536B2 (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
JPH10333132A (ja) | 基板平坦化方法、液晶表示パネル、液晶プロジェクタ | |
JP3613807B2 (ja) | カラー偏光フィルタ及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP2721279B2 (ja) | カラー液晶表示素子の製造方法 | |
JP3141318B2 (ja) | 液晶素子の電極構造及び該構造を有する液晶素子 | |
JP2001356352A (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
JPH06230211A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ及びその駆動方法 | |
JPH05164915A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法 | |
KR101033460B1 (ko) | 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 | |
JPH09197391A (ja) | カラー液晶表示装置 | |
TW200528804A (en) | Liquid crystal display device |