JPH01517A - 液晶封入用セル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は液晶表示装装置に係わり、更に詳細には、強ｄ
　’ｌ’を性液晶？封入すると好適な液晶封入用セルに
関する。

（従来技術） 第３図にツイストネマチック液晶（以下ＴＮ型液晶と略
す）？もちいた透過型液晶表示装装置の一例をしめす。

光源１１）は三波長型螢光灯・自然光等であり、光源；
１）？出た光は偏光子（２）、透明基板１３）。

画素電極（４）、配向膜（５）、液晶（６）５配向１漢
（７）、対向電極；８）５透明基板（９）、検光子１０
）乞通過する。液晶（６）はスペーサー旧）で一定間隔
に保たれ、又封止材ｔｔａで外気から保護される。画素
電極（４）と対向１・、８）間に電圧と印加すると表示
装置として動〜作する。

液晶（６）の厚みは、従来のＴＮ型液晶・ゲストホスト
型液晶（以下ＧｒＩ型威晶と略す。）では５μないし１
０μであって、液晶１Ｇ）の厚み、即ちｊＭ、４間隔は
スペーサー［１１１で規制していた。スペーサー旧）は
従来ガラスファイバー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等を
適宜、散布するだけで第一パネル（んと第二パネル（ａ
とを接合していなかった。第一パネル１んと第二パネル
１ａの接合はもっばら封止材１ｚが担い、該封止材１２
１は予め第一パネルＩＡＩまたは第二パネルＩＢ＋にシ
ルクスクリーン等で接着剤？印刷した後、二つのパネル
？密着して、刃口熱硬化させていた。

（発明が解決しようとする問題点） 最近１強誘電性液晶（以下単にフェロ液晶と称する）の
特性が明らかになり、応答性・コントラスト比・メモリ
ー効果・広視野角等の卓越性が注目され１表示装置への
展開が多方面で検討されている。フェロ液晶の特徴？発
現させるためには、液晶封入用セルの電極間隔である液
晶の厚みをセル全域にわたり十分狭く、即ち２μ以下、
望ましくは１μ以下に保持するのが好ましい。しかし、
従来スペーサーとして使われていた前記ガラスファイバ
ー、ガラスピーズ、樹脂ビーズ等の外径？２μ以下の高
精度に加工するのが困難であるばかりか１敗布作業時の
工種で塵埃等による汚染があって、電極間隔を２μ以下
に保つことが困難であった。更にまた封止剤１ｚと２μ
以下に均一に印刷することも極めて困難であった。従っ
て均一な電極間隔とすることが出来ず、実用的な強誘電
性液晶封入用セルの製作ができなかった。

また第一パネル（Ｎ′）と第二パネル（Ｂ′）の隙間が
極端に狭いため、シールおよびスペーサ一部分の電気的
絶縁性が不足する。そのために十分な印可電圧を液晶に
加えろことができず、液晶を、駆動するための障害とな
っていた。

（問題点を解決するための具体的手段）すなわち１本発
明は、透明基板上に少なくとも透明な画素電極および該
画素４ｔｆ上に配向膜？設けた第１パネルと、透明基板
上に少なくとも透明な対向型・蝋？設けた第２パネルよ
りなる液晶セルに於いて、液晶セル表示面に略均等かつ
微細パターン状にスペーサを兼ねろ妥着層石１パネルと
第２パネルの間に設けたこと？特徴とする液晶封入用セ
ルである。

本発明の具体的な実施例？示す図面に基いて詳細に説明
する。

第１図１イ）及び第１図１０）で本発明になる液晶封入
用セルの構成を示す。透明基板１３）上にセグメント表
示もしくはマトリクス表示のための透明な画素電極（４
）？設け、（に該画素電極（４）上に配向膜（５）？設
けた第１パネル（Ｎ′）と、透明基板（９）上にセグメ
ント表示あるいはマトリクス表示に対応して透明な対向
電＋ｌｉ、＋８）Ｙ設ける。該対向電極（８）上に、必
要に応じ、絶縁膜（１３１を形成した第２パネル（Ｂ′
）と？対峙させた状頓で、液晶セル表示面の全面に略平
均して微細パターン状に設けたスペーサーを兼ねる接着
Ｉ四囲で第１パネル（豹と第２パネル（Ｂりとを接合す
る。封止材１２１は接着層（ＩＩｌｌと同様にして形成
することができる。また、必要に応じ第１図（ハ）に示
すように接着１！　＋１４１の近傍に該接着１■と同一
膜厚である剛性の補助スペーサー（１４’）　　を設け
てもよい。透明基板１３１及び透明基板（９）は、厚み
０．５鴨ないし１．５．のガラス基板が適応でき、光学
研磨？した無アルカ、り金４ガラスが好ましいが、酸化
硅素？コートした青板ガラスでもよい。画素電極１４）
及び対向ｔ　極’ｓ）は酸化スズ、＃Ｉ化インジューム
又はその混合物（ＩＴＯ）をスパッタ蒸着法等で成模し
、常法に従って任意形状にパターン加工する。配向膜（
５）はポリビニルアルコール、ポリイミド等？オフセッ
ト印刷、スピンコータ等で塗布−乾燥後必要に応じ適宜
パターン化しラプングする。

また、配向膜１５）として５ｉ０２の斜方蒸着等も適応
できる。絶縁膜（１３１は必要に応じＳ　ｉ　Ｏ２又は
Ａ＃２０゜等なスパッター等により膜厚０，２μｍない
し０．５μｍに形成する。絶縁膜（１３１は耐圧性な向
上させる。

接着層１１４）はカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分
子昨ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアル
コール、ビニルポリマー、アクＩＪ　Ｌ／　−ト樹脂、
ポリアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。

ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、またはポリ
アミドから選択される少なくとも一種の樹１１ぽからな
るか、あるいは、これら上記の樹脂から選択される少な
くとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからなる。付
言すれば、ここで言うゴムとは、イソプレン系環化ゴム
、ブタジェン系環化ゴムが好ましい。第１図１０）に示
″″５″様に表示面の全面にわたり均等に分布形成する
。該接着層イ１４）の膜厚は２μｍ以下好ましくは１μ
ｍ以下である。また該接着層（１４１の形状としてはド
ツト又はライン状のいずれでもよく、大きさは表示効果
を損わない範囲で十分広いことが望ましい。該接着層１
１４）は必要に応じ黒色顔料等乞含有させて遮光層と兼
ねることができる。

さらに付言すると、近時の液晶表示装置はカラー表示な
するものが賞用されているが、この場合は、カラーフィ
ルター層を第一パネルまたは第二パネルのいずれか一方
に設けることになる。カラーフィルターは透明基板と透
明電衝（画素Ｉｌ！極または対向ｄ［）の間に介在させ
る構造と、透明電極の上方に設ける横置があり、いずれ
も本発明の実施？妨げない。必要に応じて液晶と接する
最上面に妃回模？設ける。

また、接着層が対向ｊる透明電極の間にあって心待のリ
ーク？生じる慣れがある場合には、を極ケ有するパネル
と接着層の間に絶＠ｒｍを介在させる手段がある。他の
手段として、透明電極がノくターン状（例えば万線パタ
ーン、セグメントノくターン）に形成されている時は、
接着層を設ける位置？、透明電極が存在しない部分に選
択設定して、丁なわち１画素電極および対向電極の両方
と電気的に接しないか、あるいは一方のみと４気的に接
する使者に接着層を設ければ良い。

接着ｒｓ　１１４１の形成方法について具体的に述べろ
と。

第一パネルの配向膜（５）又は、第二パネルの対向成ｔ
４１８１上あるいは、必要に応じ形成された絶縁膜α３
上の一方又は１両方にカゼイン、グリュー、ゼラチン、
ノボラック、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリ
マー、アクリレート、アクリルアミド。

ビスフェノール、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレ
タン、ナイロン系の樹脂または上記樹脂を感光性樹脂化
したもの等の選択される少なくとも一種頑？スピンナー
で塗布後乾燥し、感光性？有する場合はそのままで、ま
た感光性が無い場合はその上にフォトレジストｖスピン
ナーで塗布後乾燥してから任意形状のパターン４光後、
常法であるフォトエツチング法に従って現像する。また
必要に応じてウェットまたはドライエツチングｔしてパ
ターン化する。また不要なレジスト？除去。

洗浄する。次に第一パネル１励と第二パネル１ｉ？対峙
させ、パネル全面に均一に加圧または、第一パネル帖と
第二パネルＩＢ）に挾まれた空間を減圧にしながらカゼ
イン、グリュー、ゼラチン、低分子量ゼラチン、ノボラ
ック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコール、ビニルポリマ
ー、アクリレートｍＨ’＆、ポリアクリルアミド、ビス
フェノール樹脂、ポリイミド、ポリエステル、ポリウレ
タン、ポリアミド系の樹脂または上記樹脂？感光性樹脂
化したものの軟化温度に加熱して、一定時間保持した後
冷却してから加圧状ｄ’を解除する。以上の工程で第一
パネル（に）と第二パネル（Ｂりの同位置に接着層■？
影形成、位置合わせ後接合することにより接着強度はよ
り強化される。第１図し→に示すように接着１個■の近
傍に膜厚が等しい補助スペーサー（１４’）　　？形成
することにより、第一パネル（Ｎうと第二パネル（Ｂり
加熱加圧時に接着層■が広がることケ防ぐことができる
。とくに透明基板１３）及び透明基板（９）の平面性が
劣る状態にあると均一に加圧した場合でもパネル全面内
で局部的に圧力差が生じ、圧力の集中した部分で接着層
１１４１が広がり易く。

かかる場合に極め℃有効である。

また第１図（肩示すように接着層ｆ！：２層以上の多１
−構造にすることによりガラスとの接着性、パターニン
グ性５パネル間接着時の接層性の良い物乞種々組み合わ
せて作る事が出来る。これによりパネル作製時の制約が
緩和されろ。例えば、ノボラック系ホトンジストのＡＺ
１３５０（米国シノブンイファーイースト社製製品）は
パネル間接着時の接着性は良いが接着時の加熱で極１度
に柔らかくなり、セルギャップの精度維持が難しくなる
。そこで、ポリイミドまたはアクリルｍ　ｍ　Ｏｆｔ　
＊塗布パターニングしてその上にＡＺ１３５０の接着層
？作る事によりセルギヤノブの精度がよく、再現性の高
い横置となる。このようにパネル作製時の制約項和に極
めて有効であり、またこのような処理により実用的なパ
ネル作製が初めて可能となった。

本発明の従来技術との際立った相違点Ｊ・ま接着層（１
４）にある。従来技術ではスペーサー旧）は、第一バネ
ルＩＡ）と第二パネル作製時と乞接着する役割は無かっ
たのに対して、本発明になる接着４１１４］はスペーサ
ーＵの役割と同時に第一パネル（Ｎ′）と第二パネル（
Ｂつと？強固に接着している点にある。更に接着１８１
４１は任意の場所に任意の大きさで意図的に設けること
かできるので表示効果を損なうことがない。

接着層１４１にカゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
肴ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコ
ール、ビニルポリマー、アクＩＪ　Ｌ／　−ト樹脂、ポ
リアクリルアミド、ビスフェノール樹脂。

ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド
系の樹脂またはこれらのホトレジスト等？１吏用するこ
とにより、加熱溶融して接着させることにより強固な接
着層（１４１’ａ’得る。また絶縁膜２介在すれば上下
電極間のべ気絶練性の向上により実用的駆動が可能とな
ったところにある。

（本発明の効果） 本発明による液晶封入用セルにより従来困難であった強
誘電曲液晶？用いた孜晶表示伎Ｉｔを構成することが可
能となった。また、接着！−（１４１がスペーサーの役
割のみでなくパネルどうしの接合に用いることが可能と
なった。またスペーサーの間隔を自由にかつ細かく調整
でき、その形状についても自由度が高い。さらに絶砿模
？設ければ、上下電極間の絶縁性の向上によって実用的
１ＩＡａが可能となった。さらに、この耐重方法につい
て多くの設υｔｆｆ　’ａ’必要とせず、その原料の＋
１１脂またはそれら？感光性樹脂化したものも安価であ
り、液晶層の間隙として０．６〜２，０μ程度の封止が
容易に行なうことが０Ｔ昨となった。

〈実施例１〉 ３インチ角厚み１．６．０ガラス基板Ｙｆ学研磨し平面
の平坦性２２８ｍ以内に７ＪＯ工して透明基板１３）を
得た。該透明基板１３）上に４００人のｉ夜１ヒインジ
ウム〜酸化スズの透明４成模（以下ＩＴＯ模という）を
スパッタリング法で製膜し、常法のフォトエツチング法
に従って線巾２８０μｍ１ピツチ３００μｍ−１長さ６
０、謂の万緑パターンの画素電極（４）？形成した。次
に該画素電極（４）上にポリイミド樹脂ＰＩＸ−１ａｏ
ｏ（日立化成工業沫式会社製）乞３０００　ｒ　ｐｍ　
　で２分間スピンナーコート後８０°Ｃ１５分、２００
℃３０分、５００℃５０分加、鴨した。次にラビング装
置γもちいて配向処理？行って配向膜（５）を設計第一
パネル（Ｎつ？製面した。他方光学研磨した厚み０．５
　＋ｌｌ１１　、３インチ角のガラス基板の表面にＩＴ
Ｏ模？スパッタリング法で製模し前記同様に線巾２８０
μｍ、ピッチ５００μｍｂ長さ６０１１１１１の万線か
らなる対向電極（８）？形成し、更に絶縁：ａ　ｔ１３
１７設けて第二パネル（８′）’ａ’得た。更に該ｇニ
パネル（Ｂつ上にゴム系レジストＯＭｒｔ−８５（東京
応化工業法式会社・嘘）の粘度３０ｃｐｍ溶ＩＶｉ、３
０００ｒｐｍで１５秒間回転値布し、常法のフォトエツ
チング法に従って、サイズ５０μｍ角、ピッチ１５０μ
ｍのパターン露光し現象し、接着１ｉ０４娶設けた。こ
のときの現像ｔ＆模膜厚０．６μｍであった。次に第一
パネル（Ａりと第二パネルＣＢ’）　’ｋＩＴＯ嘆の万
線パターンが直交するように封密着させ、１ｋｇ／ｃｒ
／ｌの圧力でｎ口圧し常温より５℃／１分間の昇温速度
で１８０℃まで昇温し１時間保持し引き続いて冷却し圧
力？はずして液晶封入用セルラ夷欲した。これにより接
着層α滲で両パネルがなお、このときのＩ　ＴＯ模パタ
ーン加工法は以下の通りである。

Ｉｌｌ　　Ｉ　Ｔ　０１１ａ上にポジ型ホトレジストｆ
ｆ：塗布し９０℃３０分の乾燥後マスク露光し専用現像
剤で現＋ｔｉ＆１３０℃６０分間ポストベークした。

（２）次に塩化第２鉄液及び塩酸の混合液？６０℃に加
熱して前記ＩＴＯ模？浸漬してエツチングした。

１３）専用リムーバーで０ＦＰＲ［ｌを製模し純水で洗
浄した。

また、液晶を封入するときは、液晶封入用セルケｎロ熱
オープン中で７エロ液晶ｔ１５１としてＣ５−１０１１
（チッン沫式会社１りＹ１２ｏ℃に加熱し、封入口１１
ｂｌより該７エロ液晶霞？封入して、良好な液晶表示パ
ネル？製造した。

く実施上ｌす２　〉 実施例１と同様に嬉−パネル（Ｎ）に画素電極（４）な
らびに配向膜１５１’に形成し、ゴム系レジストＪＳＲ
−ＣＢＲ−Ｍ９０１　（日本合成ゴム昧弐会社製）の粘
度２５ｃｐ　ｆ！：２０００ｒｐｍで回転ａ布Ｌ　、　
常法（１’）　７　オドエツチング法に従って線巾２０
μｍ、ピッチ３００μｍのパターン？該画素Ｉｔ極（４
）の余白部に接着層ｔｉ４１ｖ形成した。次に３インチ
角、厚み２．６目のガラス基板を研磨して透明基板（９
）？得た。該透明基板１９）上に実施例１と同様にして
対向電極（８）？形成後、酸化硅素をスパッタリングで
膜厚５０ＯＮに製・漠して絶鎌模１１３１χ形成した。

次にポリイミド−１旨であるセミコファイン５ｐ−９１
０（東し法式会社−１）１５’に対しエチルセロノルプ
０．５１の割合で稀釈攪拌しｓ　ｏ　ｏ　ｏ　ｒｐｍで
２分間回転塗布ｆｌｋ１３５℃で６０分間乾燥した。そ
の後全面に７オトレジス）　０ＦＰＲＩＩ　（東京応化
工業昧式会社製）？回転塗布し、第一パネル（Ｍの接着
１１４１に近接して１０μｍ径の丸パターンをマスク露
光して、ノンメタル専用現像剤で０ＦＰＲＩＩ　＊現像
すると同時に、レジストで保護されない下１−の前記セ
ミコファイン５ｐ−９１０を６解エツチングし、引きつ
づいて酢酸ノルマルブチルとインプロピルアルコールの
１対１容涜比の混合溶剤で０ＦＰＲＩＩのみ？溶解した
。

その鏝第−パネル（Ａ／〕￥２００”Ｑ３０分、３００
℃５０分加熱暁成してポリイミド側脂の補助スペーサー
（１４’）　　乞形成した。以降実施例１と同様ににｄ
ｉ−パネルと４ニパネル？密着して加圧しながら１５０
℃５０分、２００℃３０分に加熱して。

補助スペーサー（１４’）　　′Ｉｔ有する液晶封入用
セル？４造した。なお、このときのＩＴＯ膜パターｙ加
工法と液晶封入方法も実施例１と同様である。

〈実施例３〉 実施例１同様な透明基板、３）上にポリイミド樹脂のセ
ミコファイン５ｐ−９１０．青色有機顔料及び分散助剤
から成る青色ワニスｔスピンナー塗布し。

１２５℃で５０分間の乾燥後、　０ＦＰＲＩＩ　＊スピ
ンナー塗布し８０℃３０分間乾燥した６線巾１５０μｍ
、ピッチ４５０μｍの万線パターンで上記０ＦＰＩｔｌ
ｌ　’に露光し、アルカリ現像液により１５０μｍ幅の
未−元部を残して上記青色フェスとエツチングした。

その後実施例２と同様にして０ＦＰＲ［ｌ　Ｙ溶解し２
００℃３０分、２５０°０３０分、５００℃３０分と順
次昇温し青色フィルターＩＢＩ　ｗ形成した。

以下％第２図に示す様に順次緑フイルタ−ＩＧ。

赤フイルタ−ＩＲＩ　’ａ’形成した。尚、各色ワニス
の組成は以下の通りであった。

赤色フェス 緑色フェス 青色フェス 次に該色フィルター上にＩＴＯｆ！：全面スパッタｌ！
　ｑ！し色フィルターと位１ｔＹ合せながら常法のフォ
トエツチング法に従ってパターン加工し線巾１３０μｍ
１ピツチ１５０μｍの画素電極（４）及び配向膜１５１
　（第２図参照）？形成した。以下実施例１と同様にし
て接着層？形成し第二パネル（的？形成し、第一パネル
（Ｎ′）と第二パネル（Ｂ’）　ｋ接合して液晶封入用
セルを製置した。

さらにまた、この場合のＩＴＯ映パターン力ロ工法と液
晶封入方法につい℃、実施例１．実施例２で示されたも
のと同一である。

〈実施例４〉 実施例１と同様に渠−パネル（Ａりに画素電極（４）な
らびに配向膜（５）？形成し、ポリビニルアルコール系
感光性園脂“アゾベースＮ感光液°′（開本化学工業■
４！　）　Ｙ　４０００ｒｐｍで回転塗布し、常法に従
って幅巾２０μ、ピッチ３００μの万線パターンを画素
電極（４）の余白に接着層ｕ４１乞形成した。つぎに３
インチ角厚み２，６憫のガラス基板？光学研磨し平面の
平坦性２２８以内に加工して透明基板（９）を得た。該
透明基板（９）上に４００λのＩＴＯ模？スパッタリン
グ法で成模し、常法に従っ″′Ｃ線巾２８０μ、ピッチ
６００μ長さ６０間の万線パターンノ対向成礪・８）？
形成したｄ、　５１０２￥スパツタリングで幅厚５０Ｏ
Ｎに成膜して絶縁膜１１３１を形成した。つぎに１セミ
コファイン５ｐ−９１０”（■東し／［）１．９−にた
いしてエチルセロンルブ０．５１の割合で稀釈攪拌し３
０００ｒｐｍ　　で２分間回転塗布ｆ＆１３５°Ｃで３
０分間乾燥した。その後全面に０ＦＰＲＩＩ”（東京応
化工業（掬４り？回転塗布し。

第一パネル（Ａ’）の接着１！　１１４１に近傍して１
０μ幅のパターン？マスク露光して、ノンメタル専用現
象剤で０ＦＦＲ１’ｇ現像すると同時に前記セミコファ
イン５ｐ−９１０ｆｉｇ（エツチングする。引続き酢酸
ノルマルブチルとインプロピルアルコールの１対１容遺
比の混合溶剤で０ＦＰＲＩＩ　’ｉ［解した。その後第
一パネル（〜’）　Ｙ　ｓ　ｏ℃６０分、２００’（：
、３０分、６００℃３０分加熱焼成して補助スペーサー
（１４′）ｆｊＩ：ＩＮ成した。他方光学研磨した厚み
１．６ｍ、３インチ角のガラス基板の表面に４００人の
ＩＴＯ模ｒスパッタリング法で成膜し、常法であるフォ
トエツチング法に従っ℃線巾２８０μ、ピッチ３００μ
長さ６０ａＩの万一パターンからなる対向画素電画・８
）？形成し第二パネル（Ｂ’）ｖ得た。以後実施例１と
同様に第一パネルと第二パネルを密着させ、１　ｋｙ　
／　ｃｒｄの圧力で加圧し常温より５　’（：、　／　
ｍｉ口の昇温速度で１８０’Ｃまで昇温し、１時間保持
し引き続いて冷却し圧力を外して夜晶封入用セル？製造
した。この時のセル間隔は０．５μで表示面の全面にわ
たり均一であった。

〈実施例５〉 実施例１と同様に第一パネルおよび第二パネル２作成し
、第二パネル側にカゼイン系フォトレジスト「フジンジ
スト第１５Ｊ（富士薬品■農）溶ｄｙ５０００ｒｐｍで
１５秒間回転塗布し、常法であるマスク露光法に従って
サイズ５０μ角、ピッチ５００μ間隔のパターン４光し
現１象した。このときの現隊後漠厚は０．６μであった
。次に第一パネルと第二パネル馨密着させ、１ｋｇ１ｃ
ｔＡの圧力で加圧し常温より５℃／ｍｉｎの昇温速度で
１８０℃まで昇温し、１時間保持し引き続いて冷却し圧
力？外し”ＣＩ！晶封入用セルｒ製装置た。この時のセ
ル間隔は０．５μで表示面の全面にわたり均一であった
０ く実癩タリ６〉 実施例１と同様に第一パネル（に）に画素電極（４）な
らびに配向１１ｉ　ｔ５）’に形成した。つぎに３イン
チ角厚み１．６１１ｍのガラス基板馨光学研磨し平面の
平坦性？２μ２μに刀ロエして透明基板（９）？得た。

該透明基板（９）上に４００λのＩＴＯＩｉＹスパッタ
リング法で成膜し、常法に従って線巾２８０μ、ピッチ
３００μ長さ６０．の万線パターンの対向電極（８）？
形成した後、　ＳｉＯ□？スパッタリングで膜厚５００
ｋに成膜して絶＠１１４１１３１を形成した。つぎにポ
リイミド樹脂の１セミコファイン５ｐ−９１０”（（掬
東し４）１１にたいしてエチルセロンルブ０．５１の刑
合で稀釈攪拌し３０００ｒｐｍで２分間回１伝塗布後１
３５℃で３０分間乾燥した。その後全面に“０ＦＦＲ［
ｌ”（東京応化工業■ＪＪＩｉＪ）？４００Ｏｒｐｍで
口伝塗布し、接着＠　（１４１ｇマスク露光して。

ノンメタル専用現像剤で０ＦＰＲｕ　’に現像すると同
時に前記セミコファイン５ｐ−９１０ｆエツチングする
。このようにしてポリイミドと０ＦＰＲＩＩの２層構造
の接着層１１４１　’に形成し第二パネル（Ｂ’）　ｆ
ｔ得た。

以後実施例１と同轡に第一パネルと第二パネル？密着さ
せ、１ｋｇ／ｃｔ／Ｉの圧力で加圧し常温より５℃／　
ｌ１ｌｊｎの昇温速σで１８０℃まで昇温し、１時間保
持し引き続いて冷却し圧力を外して液晶封入用セルラ型
債した。この時のセル間隔は０．５μで表示部の全面に
わたり均一であった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の液晶封入用セルの一実施例を示すもの
であって、第１図１イ）は断面図、第１図１０）は平面
図、４３図（ハ）は要部拡大平面図、第１図Ｉ肩は池の
実施例ｒ示す要部断面図であり、第２図は。 カラーフィルター付きの液晶封入セル用パネルの一実施
例を示す断面図であり、第３図は、従来のツイストネマ
チック型液晶封入用セルの一例？示す断面図である。 Ｉｌｌ・・・光源　　　　・１０１・・・検光子　ｕｅ
・・・液晶封入口（２）・・・偏光子　　　ｕト・・ス
ペーサーｉ３１　＋９１・・・透明基板　＋１２１・・
・封止材（４）・・・画素゛電極　　１１３１・・・絶
縁膜＋５１　＋７１・・・配向模　　Ｉ・・・接着層１
６）・・・液晶　　　　（１４つ・・二′ｍ助スペーサ
ー（８）・・・対向１を極　　（１５１・・・フェロ、
確晶第１図（イ） 第１図（ロ） １４′ 第１図（ハ） 第１図（ニ） 第３図 手続主市正書（方式） １、事件の表示 昭和６１年特許願第２４３７６４号 ２、発明の名称 液晶封入用セル ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都台東区台東１丁目５番１号４、補正命令の
日付

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）透明基板上に少なくとも透明な画素電極および該画
   素電極上に配向膜を設けた第１パネルと、透明基板上に
   少なくとも透明な対向電極を設けた第２パネルよりなる
   液晶セルに於いて、液晶セル表示面に略均等かつ微細パ
   ターン状にスペーサーを兼ねる接着層を第１パネルと第
   ２パネルの間に設けたことを特徴とする液晶封入用セル
   。 ２）接着層の厚みとして２μｍ以下であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の液晶封入用セル。 ３）接着層の近傍に、該接着層と同一膜厚である剛性の
   補助スペーサーを設けたことを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の液晶封入用セル。 ４）接着層が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
   量ゼラチン、ノボラック樹脂、ゴム、ポリビニルアルコ
   ール、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリアクリ
   ルアミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリエス
   テル、ポリウレタン、またはポリアミドから選択される
   少なくとも一種の樹脂からなることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の液晶封入用セル。 ５）接着層が、カゼイン、グリュー、ゼラチン、低分子
   量ゼラチン、ノボラック樹脂、環化ゴム、ポリビニルア
   ルコール、ビニルポリマー、アクリレート樹脂、ポリア
   クリルアミド、ビスフェノール樹脂、ポリイミド、ポリ
   エステル、ポリウレタンまたはポリアミドから選択され
   る少なくとも一種の樹脂を感光性樹脂化したものからな
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の液晶封
   入用セル。 ６）電極を有するパネルと接着層の間に絶縁層を介在し
   た特許請求の範囲第１項記載の液晶封入用セル。 ７）第一パネル又は第二パネルの透明基板上にカラーフ
   ィルターを介して画素電極または対向電極を設け、必要
   に応じてその上に配向膜を配したことを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の液晶封入用セル。 ８）第一パネル又は第二パネルの画素電極上または対向
   電極にカラーフィルターを設け、必要に応じてその上に
   配向膜を配したことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の液晶封入用セル。 ９）接着層が、樹脂と感光性樹脂の二層構造である特許
   請求の範囲第１項記載の液晶封入用セル。 １０）接着層が、画素電極および対向電極の両方と電気
   的に接しないか、または一方のみと電気的に接する位置
   に設けられる特許請求の範囲第１項記載の液晶封入用セ
   ル。