JP2900948B2 - 液晶表示パネル及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示パネル及びその製造方法

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【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 OA機器等の表示装置に用いられる液晶表示パネルに関
し、 低価格化を目的とし、 それぞれストライプ状の透明電極と、隣接するストラ
イプ状電極の間にブラックストライプが設けられ、さら
にその上に配向膜が設けられた2枚の透明絶縁基板を液
晶を挾み所定間隔で対向させて成る液晶表示パネルにお
いて、上記一方の透明絶縁基板のブラックストライプ中
に遮光性を有するスペーサを混入して成るように構成す
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明はOA機器等の表示装置に用いられる液晶表示パ
ネルに関する。
〔従来の技術〕
従来の液晶表示パネルにおいて、表示画像のコントラ
ストを向上するため、非画素部からの光を遮断できるよ
うにストライプ電極間にブラックストライプを設けたも
のがある。
第3図にこのブラックストライプを有する液晶表示パ
ネルの製造方法を示す。これは先ず(a)図に示すよう
にガラス基板1上に透明なITO(酸化インジウム・錫)
膜2を成膜する。次に(b)図に示すようにITO膜2の
上にスピンナーによりポジ型レジストに塗布しレジスト
膜3を形成し、次いでフォトマスク4を用いて、露光す
る。これを(c)図の如く現像しレジストパターン5を
形成したのち、(d)図の如くITO膜をエッチングして
ストライプ状透明電極6を形成する。次いで(e)図の
如くレジストパターン5を除去した後、感光性のブラッ
クレジスト7を塗布する。次に(f)図の如くフォトマ
スク8を用いてブラックレジスト7を露光した後、現像
して(g)図の如くブラックストライプ9を形成する。
次いで(h)の如く配向膜10の塗布を行なった2枚の基
板1,1′の一方にスペーサ11を散布し、該スペーサ11を
挾んで両基板1,1′を対向させ、周囲をシール剤で接着
した後、内部に液晶12を封入して完成する。
なお透明電極を形成するときのフォトマスク4とブラ
ックストライプを形成するときのフォトマスク8は同一
のマスクを使用してもよいが目合わせ精度が非常に厳し
くなるため、従来は別のものを用い、第4図の如く
(a)図に示す透明電極を形成するフォトマスク4のギ
ャップは30μm、(b)図に示すブラックストライプ形
成用フォトマスク8はギャップを60μmとすることで目
合わせを容易にしていた。但しこの場合は開口率が低下
する。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来の液晶表示パネルの製造方法では、透明電極
6とブラックストライプ9の形成を別々に行うため、使
用するホトマスクの量が増え、またプロセスが複雑化す
ることからコストが高くなり、単純マトリクスの様な低
価格の液晶パネルには適用が困難になるという問題があ
った。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、低価格で作成でき
る液晶表示パネルを提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために本発明の液晶表示パネルで
は、それぞれストライプ状の透明電極と、隣接するスト
ライプ状透明電極の間にブラックストライプが設けら
れ、さらにその上に配向膜が設けられた2枚の透明絶縁
基板を液晶を挾み所定間隔で対向させて成る液晶表示パ
ネルにおいて、上記一方の透明絶縁基板20のブラックス
トライプ24中に遮光性を有するブラックスペーサ23を混
入して成ることを特徴とする。
また本発明の液晶表示パネルの製造方法では、透明電
極21,21′はブラックストライプ24をマスクにしてセル
フアライメントによりパターン形成を行なうことを特徴
とする。
〔作 用〕
本発明は、スペーサを混入したブラックストライプ24
を形成し、その上にITO膜28及びフォトレジスト膜29を
形成するため、フォトレジスト膜29をブラックストライ
プ24をマスクにして、基板背後よた露光し、セルフアラ
イメントでストライプ状透明電極21を形成することがで
きる。このためフォトマスクが従来に比して少なくな
り、プロセスが簡単化する。
〔実施例〕
第1図は本発明の実施例を示す図であり、(a)は断
面図、(b)はa図のB部拡大図である。
同図において、20,20′はガラス基板(透明絶縁基
板)、21,21′はストライプ状透明電極、22,22′は配向
膜、23はブラックスペーサ、24はブラックストライプ、
25は液晶を示す。
本実施例は同図に示すように、上側のガラス基板20′
には透明電極21′と配向膜22′のみを設け、下側のガラ
ス基板20には透明電極21と配向膜22と、遮光性のあるブ
ラックスペーサ23を混入したブラックストライプ24をそ
れぞれ設け、該2枚のガラス基板20,20′を対向させ、
周囲をシール材で密封して内部に液晶25を満たしたもの
である。
このように構成される本実施例の製造方法を第2図に
より説明する。
先ず第2図(a)に示すようにガラス基板20上に、直
径6μmのブラックスペーサ23を混入したブラックレジ
スト26(FUJI HUNT製カラーモザイクCK)をスピンナー
(500rpmで60秒間)を用いて1.0μm厚に塗布する。そ
して通常の透明電極用のフォトマスク27を用いて露光す
る。このブラックレジスト26はネガタイプであるため
(b)図の如く光が当った部分が基板20に残りブラック
ストライプ24が形成される。図ではスペーサ23を混入し
たときの図を示しているが上側ガラス基板20′のように
スペーサを混入しない場合も同様にしてブラックストラ
イプを形成することができる。なおブラックスペーサ23
は直径6μmの球状ブラックスペーサを使用し、ブラッ
クレジストに対してスペーサは10%混入し、混入後はビ
ーカー内に入れ、超音波槽に10分間浸漬して均一に分散
させた。
次に(c)図に示すように蒸着法(スパッタ法でも
可)によりITO膜28を成膜する。次いで(d)図の如くI
TO膜28の上にネガタイプのフォトレジストを塗布し、フ
ォトレジスト膜29を形成した後、背面露光し、現像して
(e)図の如くレジストパターン30を形成する。
次いで(f)図の如くITO膜28を塩酸などのエッチャ
ントによりエッチングしてストライプ状透明電極21を形
成した後、(g)図の如くレジストパターン30を除去す
る。
最後に(h)図の如く、下側ガラス基板20と、該基板
と同様にして透明電極21′及びブラックストライプを形
成した上側ガラス基板20′とのそれぞれに配向膜22,2
2′を形成した後重ね合わせ、周囲をシール材にて密封
し、内部に液晶25を封入して完成する。
本製造方法によればフォトマスクは1枚ですみ、また
(d)図の露光はブラックストライプ24をマスクにして
セルフアライメントで行なわれるためマスクの位置合わ
せが不要となり従来に比して製造が簡単になりコスト低
下が得られる。またスペーサを一方の基板にのみ使用す
るためスペーサの重なりによるセル厚(基板間の間隔)
の増加を防止することができる。
〔発明の効果〕
以上説明した様に、本発明によれば、ブラックストラ
イプにスペーサを混入し、またセルフアライメントで電
極形成を行うため工程が簡単となり、安価となる。また
均一なセル厚制御が可能とある効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す図、 第2図は実施例の製造方法を示す図、 第3図は従来のブラックストライプを有する液晶表示パ
ネルの製造方法を示す図、 第4図は従来の透明電極とブラックストライプを形成す
るためのフォトマスクを示す図である。 図において、 20,20′はガラス基板、 21,21′はストライプ状透明電極、 22,22′は配向膜、 23はブラックスペーサ、 24はブラックストライプ、 25は液晶、 26はブラックレジスト、 27はフォトマスク、 28はITO膜、 29はフォトレジスト膜、 30はレジストパターン、 を示す。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】それぞれストライプ状の透明電極と、隣接
    するストライプ状透明電極の間にブラックストライプが
    設けられ、さらにその上に配向膜が設けられた2枚の透
    明絶縁基板を液晶を挾み所定間隔で対向させて成る液晶
    表示パネルにおいて、 上記一方の透明絶縁基板(20)のブラックストライプ
    (24)中に遮光性を有するブラックスペーサ(23)を混
    入して成ることを特徴とする液晶表示パネル。
  2. 【請求項2】請求項1記載の液晶表示パネルにおいて、
    透明電極(21,21′)はブラックストライプ(24)をマ
    スクにしてセルフアライメントによりパターン形成を行
    なうことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
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