JP2001033790A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アレイ基板及び対向基板間の間隙を均一に保
持する柱状スペーサによる両基板間の耐圧性を強化し、
液晶セル作製時に加えられる圧力により液晶セルに局所
的にセル厚ムラが生じるのを防止して液晶表示装置の表
示品位を向上する。 【解決手段】 アレイ基板１１上に、ネガ型感光性レジ
スト２１を、７μｍ×１５μｍの露光部分２２ａ内部に
３μｍ×３μｍの未露光部分２２ｂを有するフォトマス
ク２２を介して露光後現像し、頂上に平板状の平坦部分
を有する柱状スペーサ２０を形成する。これにより柱状
スペーサ２０の対向基板１２との接触面積を拡大し、液
晶セル作製時の圧力に対するアレイ基板１１及び対向基
板１２間の耐圧性を高める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、対向配置される基
板間に液晶組成物を封入して成る液晶表示装置におい
て、感光性樹脂からなる柱状スペーサを用いて基板間の
間隙を一定に保持する液晶表示装置及び液晶表示装置の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピューター等情報機器分野あ
るいはテレビ等の映像機器分野等において、薄型軽量且
つ高精細な液晶表示装置が開発されている。現在、一般
に用いられている液晶表示装置の多くは、電極を有する
２枚のガラス基板と、その間隙に封入された液晶組成物
から構成されている。具体的には例えばカラー型アクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置においては、第１の基板
であるアレイ基板上にアモルフアスシリコン等を半導体
層とした薄膜トランジスタとそれに接続された画素電極
と信号線電極、ゲート電極、三原色の着色層からなるカ
ラーフィルタ等が形成されている。一方第２の基板であ
る対向基板上には対向電極が形成されている。そしてア
レイ基板と対向基板とを、スペーサにより一定の間隙を
保持して対向配置し、接着剤に囲繞される両基板の間隙
に液晶組成物を封入して成っている。

【０００３】この両基板の間隙を一定に保持するスペー
サとしては、基板に均一に散布して用いる粒径の均一な
プラスチックビーズに代わり、近年ではアレイ基板ある
いは対向基板のいずれかの非表示領域上に直接パターン
形成して成る柱状のスペーサが開発されている。

【０００４】このような柱状スペーサの材料として感光
性樹脂を用いる場合、例えばネガ型の感光性樹脂である
とすると、基板に塗布されたネガ型感光性樹脂をパター
ニングして柱状スペーサを形成する場合、従来は、柱状
スペーサの断面形状に対応する領域全面を露光領域とす
る紫外線露光用のフォトマスクを用いて露光した後現像
し、所定形状の柱状スペーサを得ていた。尚、ポジ型の
感光性樹脂をスペーサ材料とする場合には、柱状スペー
サの断面形成に対応する領域全面を非露光領域とする紫
外線露光用のフォトマスクを用いて露光した後現像して
いた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のよ
うにネガ型感光性樹脂の柱状スペーサの断面形状に対応
する領域全面を露光したり、あるはポジ型感光性樹脂の
柱状スペーサの断面形状に対応する領域全面を非露光し
て柱状スペーサを形成すると、図１６に示すようにネガ
型、ポジ型のいずれの感光性樹脂を使用しても、柱状ス
ペーサ４０の断面形状は、概略半球状とされ、その頂上
は点状に形成されていた。このため、柱状スペーサ４０
と対向する基板４１との接触面積が少なく、柱状スペー
サ４０は、もう一方の基板４１を頂上の点で支持する状
態になり、このような柱状スペーサ４０を介して２枚の
基板を対向配置し、液晶セルを作製した場合、液晶セル
作製時の各工程において両基板間に加えられる圧力に対
する耐圧性が弱く、液晶セルは局所的にセル厚ムラを生
じ、ひいては液晶表示装置の表示品位を低下するという
問題を有していた。

【０００６】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、感光性樹脂をパターン形成してなる柱状スペーサを
用いた液晶セルの耐圧性を強化し、液晶セル作製時にか
かる圧力にかかわらず、液晶セル全面にわたりその間隙
を均一に保持し、セル厚ムラを生じる事無く良好な表示
品位を得る事が出来る液晶表示装置及び液晶表示装置の
製造方法を提供する事を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、対向配置される２枚の基板の間
隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置において、
前記基板の少なくとも何れか一方に形成され、頂上に平
坦部分を有し、前記間隙を均一に保持する感光性樹脂か
らなる柱状スペーサを設けるものである。

【０００８】これにより本発明は、柱状スペーサが、頂
上においてもう一方の基板と面接触し、もう一方の基板
を広い接触面積で支持出来るので、液晶セル製造時の耐
圧性を強化出来、液晶セルのセル厚の均一化を図り、液
晶表示装置の表示品位向上を図るものである。

【０００９】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、対向配置される２枚の基板間の間隙をネガ型感
光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持し、前
記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置の製造
方法において、前記基板の少なくとも何れか一方に前記
ネガ型感光性樹脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサ
の形成領域に対応する露光部分の内部に未露光部分を設
けてなる露光マスクを介して前記ネガ型感光性樹脂を露
光する工程と、露光後の前記ネガ型感光性樹脂を現像す
る工程とを実施し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分
を形成するものである。

【００１０】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、対向配置される２枚の基板間の間隙をポジ型感
光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持し、前
記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置の製造
方法において、前記基板の少なくとも何れか一方に前記
ポジ型感光性樹脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサ
の形成領域に対応する未露光部分の内部に露光部分を設
けてなる露光マスクを介して前記ポジ型感光性樹脂を露
光する工程と、露光後の前記ポジ型感光性樹脂を現像す
る工程とを実施し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分
を形成するものである。

【００１１】これにより本発明は、柱状スペーサのパタ
ーン形成時にその頂上部分を除去して、頂上に平坦部分
を形成する事により、柱状スペーサの頂上におけるもう
一方の基板との接触面積を広く出来、液晶セル製造時の
耐圧性を強化して、液晶セルのセル厚の均一化を図り液
晶表示装置の表示品位向上を図るものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】先ず本発明の原理について述べ
る。液晶表示装置において、対向配置される２枚の基板
間の間隙を均一に保持するスペーサとして、感光性レジ
ストを材料とする柱状スペーサをパターン形成する場
合、柱状スペーサの形状は、基板上に塗布された感光性
レジストを露光するフォトマスクの形状に応じて異な
る。そこで、表１に示す様な露光部、未露光部を有する
夫々形状の異なるフォトマスクＡ〜Ｄを用いてネガ型の
感光性レジストをパターン形成し柱状スペーサを実際に
作成したところ、夫々以下に示すような断面形状をえら
れた。

【表１】 但し、柱状スペーサの作成は、図１に示すように基板１
に黒色のネガ型感光性レジスト２をスピンナーを用いて
約５．５μｍの厚さで塗布し、９０℃、１０分の乾燥
後、表１に示す各種フォトマスク３を介して露光量３０
０ｍＪ／ｃｍ^２で露光後、ｐＨ＝１１．５のアルカリ性
水溶液で現像し、２００℃、６０分焼成したものであ
る。

【００１３】（フォトマスクＡ）図２に示すように、内
部に未露光部分を全く有せず、１５μｍ×１５μｍの露
光部分４ａを有するフォトマスクＡを介して黒色のネガ
型感光性レジスト２を露光後現像した所、図３に示すよ
うに断面が概略半球状で頂上がほぼ点状の柱状スペーサ
４を得られた。

【００１４】（フォトマスクＢ）図４に示すように、１
５μｍ×１５μｍの露光部分６ａ内部に３μｍ×３μｍ
の未露光部分６ｂを有し、露光部分に対する未露光部分
の面積比が４％のフォトマスクＢを介して黒色のネガ型
感光性レジスト２を露光後現像した所、図５に示すよう
に断面が概略半球状の頂上付近が平面状の平坦部分を有
する柱状スペーサ６を得られた。

【００１５】（フォトマスクＣ）図６に示すように、１
５μｍ×１５μｍの露光部分７ａ内部に１０μｍ×１０
μｍの未露光部分７ｂを有し、露光部分に対する未露光
部分の面積比が４４．４％のフォトマスクＣを介して黒
色のネガ型感光性レジスト２を露光後現像した所、図７
に示すように断面が概略半球状の頂上付近に凹部が形成
され頂上にリング状の平坦部分を有する柱状スペーサ７
を得られた。

【００１６】（フォトマスクＤ）図８に示すように、１
５μｍ×１５μｍの露光部分８ａ内部に１４μｍ×１４
μｍの未露光部分８ｂを有し、露光部分に対する未露光
部分の面積比が８７．１％のフォトマスクＤを介して黒
色のネガ型感光性レジスト２を露光後現像した所、図９
に示すように中央部分が全く除去され、残った部分の高
さが約３μｍのリング状の柱状スペーサ８を得られたこ
れら柱状スペーサ４〜８を用いて液晶セルを形成し、セ
ル厚を調べたところ、フォトマスクＢ、Ｃを介して露光
してなる柱状スペーサ６、７を用いたものは、局所的な
セル厚ムラが見られず、全域にわたり均一な間隙を得ら
れることが判明した。これは、夫々露光部分６ａ、７ａ
内部に未露光部分６ｂ、７ｂを設けることにより、柱状
スペーサ６、７の頂上付近を除去して平坦部分を形成す
る事により、柱状スペーサ６、７が、対向する基板を夫
々点ではなく平面状あるいはリング状の面で支持する事
により、耐圧性が強化された事による。尚、フォトマス
クＤを用いてパターン形成した柱状スペーサ８は、頂上
がリング状の平坦部分を有するものの、未露光による除
去部分が大き過ぎて、所要の高さを確保できず不適当で
あった。さらにフォトマスクＡを用いてパターン形成し
た柱状スペーサ４は、頂上付近の断面形状が概略半球状
となり、その頂点にて対向する基板を点で支持する事か
ら耐圧性が低く不適当であった。

【００１７】そこで本発明は、上記原理に基づき成され
たものである。以下、本発明の第１の実施の形態を図１
０乃至図１２を参照して説明する。図１０は本発明によ
るカラー液晶表示装置１０の主要部を表す概略断面図で
ある。カラー液晶表示装置１０は、いわゆる透過型の液
晶表示装置であり、アレイ基板１１とそれに対向して配
置された対向基板１２とを黒色の柱状スペーサ２０を介
してその間隙を均一に保持するよう対向配置し、間隙に
液晶組成物１３を封入して成っている。

【００１８】アレイ基板１１の第１のガラス基板１４上
には、スパッタリングにより０．３μｍ厚のモリブデン
（Ｍｏ）を成膜後、フォトリソグラフィにより所定の形
状にパターン形成したゲート電極（図示せず）上に、酸
化シリコン（ＳｉＯｘ）あるいは窒化シリコン（ＳｉＮ
ｘ）からなるゲート絶縁膜（図示せず）を０．１５μｍ
成膜後、その上にa−Ｓｉからなる半導体層（図示せ
ず）を設けてなる薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略称
する。）１６が形成されている。

【００１９】さらにＴＦＴ１６上方には、図示しない層
間絶縁膜を介し、赤色の顔料を分散させたネガ型感光性
レジストをスピンナーにて全面塗布し、９０℃、１０分
の乾燥後、コンタクトホールエリア１７ａを除き赤色の
着色層を形成する部分のみに紫外線を照射するフォトマ
スクを介し、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２となるよう露
光後、水酸化カリウム（ＫＯＨ）ｌｗｔ％水溶液で２０
秒間現像を行い、２００℃で６０分焼成してなる赤色の
着色層１７が形成されている。

【００２０】同様にフォトリソグラフィ技術により緑色
（Ｇ）の顔料を分散させた感光性レジスト及び、青色
（Ｂ）の顔料を分散させた感光性レジストを層間絶縁膜
上に配列し、膜厚が１．５μｍの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）の各着色層が配列されてなるカラーフィルタ層
１８を形成する。

【００２１】次に、カラーフィルタ層１８上に形成され
る黒色の柱状スペーサ２０について詳述する。カラーフ
ィルタ層１８形成後、図１１（ａ）に示すように黒色の
ネガ型感光性レジスト２１をスピンナーを用いて約５．
５μｍの膜厚で塗布し、９０℃、１０分の乾燥する。次
に図１１（ｂ）に示すように７μｍ×１５μｍの露光部
分２２ａ内部に３μｍ×３μｍの未露光部分２２ｂを有
し露光部分に対する未露光部分の面積比が、８．４％の
フォトマスク２２を介して、露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２
でネガ型感光性レジスト２１を露光する。その後図１１
（ｃ）に示すようにネガ型感光性レジスト２１をｐＨ＝
１１．５のアルカリ性水溶液で現像し、２００℃、６０
分焼成して、頂上に平面状の平坦部分を有する高さ５．
２μｍの柱状スペーサ２０を形成する。

【００２２】その後スパッタリングによりインジウム錫
酸化物（ＩＴＯ）を膜厚約０．１μｍ成膜し、フォトリ
ソグラフィにより所定の形状にパターン形成して、コン
タクトホールエリア１７ａを介しＴＦＴ１６と接続する
画素電極２４を形成する。

【００２３】このようにしてなるアレイ基板１１と、第
２のガラス基板２５上に共通電極２６を有する対向基板
１２に、ポリイミド溶剤を均一に塗布し夫々に配向膜２
７ａ、２７ｂを形成後、ラビング処理する。この後アレ
イ基板１１及び対向基板１２を柱状スペーサ２０を介し
て対向配置し、エポキシ系の熱硬化樹脂から成る接着剤
を用いて貼合わせ、柱状スペーサ２０により均一に保持
される両基板１１、１２間の間隙に液晶組成物１３を注
入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。さらにアレ
イ基板１１及び対向基板１２の外側に偏光板２８ａ、２
８ｂを貼り付け、カラー液晶表示装置１０を完成する。

【００２４】このカラー液晶表示装置１０の表示を行っ
たところ、局所的なセル厚ムラによる表示不良を生じる
事が無く、高い表示品位を得られた。

【００２５】このように構成すれば、柱状スペーサ２０
のパターン形成時、その頂上付近を露光しないことによ
り、柱状スペーサは、頂上に平板状の平坦部分を形成さ
れる。これによりアレイ基板１１及び対向基板１２の対
向配置時、柱状スペーサ２０の対向基板１２との接触面
積が拡大され、液晶セル作製時にアレイ基板１１及び対
向基板１２間に加わる圧力に対する耐圧性が高められ
る。従って液晶セルは作製時の加圧にかかわらずアレイ
基板１１及び対向基板１２間の間隙を全面にわたり均一
に保持出来、液晶表示装置の局所的なセル厚ムラを原因
とする表示不良を防止して表示品位を向上出来る。

【００２６】次に本発明の第２の実施の形態を図１３乃
至図１５を参照して説明する。本実施の形態は、黒色の
柱状スペーサをポジ型感光性レジストを用いて形成する
事から、第１の実施の形態に用いたフォトマスクと露光
部分及び未露光部分の構成が逆のフォトマスクを用いて
柱状スペーサをパターン形成するものであり、他は第１
の実施の形態と同一である事から同一部分については同
一符号を付しその説明を省略する。

【００２７】即ち本実施の形態のカラー液晶表示装置３
０では、アレイ基板３１上に、第１の実施の形態と同じ
ＴＦＴ１６、カラーフィルタ層１８を形成後、図１３
（ａ）に示すように黒色のポジ型感光性レジスト３２を
スピンナーを用いて約５．５μｍの膜厚で塗布し、９０
℃、１０分の乾燥する。次に図１３（ｂ）に示すように
７μｍ×１５μｍの未露光部分３３ａ内部に３μｍ×３
μｍの露光部分３３ｂを有し未露光部分に対する露光部
分の面積比が、８．４％のフォトマスク３３を介して、
露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２でポジ型感光性レジスト３２
を露光する。その後図１３（ｃ）に示すようにポジ型感
光性レジスト３２をｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液
で現像し、２００℃、６０分焼成して、頂上に平面状の
平坦部分を有する高さ５．２μｍの柱状スペーサ３４を
形成する。

【００２８】この後、第１の実施の形態と同じ画素電極
２４を形成後配向膜２７ａを塗布してアレイ基板３１を
形成する。さらにアレイ基板３４及び対向基板１２を柱
状スペーサ３４を介して対向配置して液晶セル形成後、
両基板３１、１２間の間隙に液晶組成物を封入し更に偏
光板２８ａ、２８ｂを貼り付け、カラー液晶表示装置３
０を完成する。

【００２９】このように構成すれば、第１の実施の形態
と同様柱状スペーサ３４は、頂上に形成された平坦部分
により対向基板１２との接触面積が拡大され、液晶セル
形成時にアレイ基板３１及び対向基板１２間に加わる圧
力に対する耐圧性が高められ、液晶セル作製時の加圧に
かかわらず、両基板１１、１２間の間隙を全面にわたり
均一に保持出来、局所的なセル厚ムラを原因とする表示
不良を防止し、表示品位を向上出来る。

【００３０】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
ではなく、その主旨を変えない範囲での変更は可能であ
って、例えば柱状スペーサは、アレイ基板あるいは対向
基板のいずれに形成しても良い。また柱状スペーサを形
成する場合、フォトマスクの露光部分及び未露光部分の
大きさや形状は柱状スペーサのサイズや形状に応じて任
意であるが、例えば柱状スペーサをネガ型の感光性樹脂
で形成する場合、露光部分及びその内部の未露光部分の
サイズは、未露光部分の幅が２３μｍ以下であり、その
周囲の露光部分の幅が２μｍ以上である事が好ましく、
その露光部分に対する未露光部分の面積比も７５％以下
である事が好ましい。さらにフォトマスクを介し感光性
樹脂を露光する際の光量等も限定されないし、液晶表示
装置やＴＦＴの構造も任意である

【００３１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、感
光性樹脂からなる柱状スペーサをパターン形成する時
に、柱状スペーサの頂上付近を除去する様形成されるフ
ォトマスクを介して感光性樹脂を露光する事により、柱
状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事から、柱状ス
ペーサ頂上は、対向する基板との接触面積が拡大され
る。従って柱状スペーサを介して２枚の基板を貼り合わ
せて液晶セルを作製する時に、両基板間に加わる圧力に
対する両基板の耐圧性が高められ、液晶セルは局所的な
セル厚ムラを生じることなく均等な間隙を保持出来、ひ
いてはセル厚ムラを原因とする表示ムラのない、表示品
位の高い液晶表示装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理における柱状スペーサのパターン
形成を示す概略説明図である。

【図２】本発明の原理におけるフォトマスクＡを示す概
略平面図である。

【図３】本発明の原理におけるフォトマスクＡを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。

【図４】本発明の原理におけるフォトマスクＢを示す概
略平面図である。

【図５】本発明の原理におけるフォトマスクＢを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。

【図６】本発明の原理におけるフォトマスクＣを示す概
略平面図である。

【図７】本発明の原理におけるフォトマスクＣを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。

【図８】本発明の原理におけるフォトマスクＤを示す概
略平面図である。

【図９】本発明の原理におけるフォトマスクＤを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。

【図１０】本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置を
示す一部概略断面図である。

【図１１】本発明の第１の実施の形態の柱状スペーサの
製造工程を示し（ａ）はそのネガ型感光性レジスト塗布
時、（ｂ）はそのネガ型感光性レジスト露光時、（ｃ）
はそのネガ型感光性レジスト現像時を示す概略説明図で
ある。

【図１２】本発明の第１の実施の形態のフォトマスクを
示す概略平面図である。

【図１３】本発明の第２の実施の形態の液晶表示装置を
示す一部概略断面図である。

【図１４】本発明の第２の実施の形態の柱状スペーサの
製造工程を示し（ａ）はそのネガ型感光性レジスト塗布
時、（ｂ）はそのネガ型感光性レジスト露光時、（ｃ）
はそのネガ型感光性レジスト現像時を示す概略説明図で
ある。

【図１５】本発明の第２の実施の形態のフォトマスクを
示す概略平面図である。

【図１６】従来の柱状スペーサの断面形状を示す概略説
明図である。

【符号の説明】

１０…カラー液晶表示装置 １１…アレイ基板 １２…対向基板 １３…液晶組成物 １４…第１のガラス基板 １６…薄膜トランジスタ １８…カラーフィルタ層 ２０…柱状スペーサ ２１…ネガ型感光性レジスト ２２…フォトマスク ２４…画素電極 ２７ａ、２７ｂ…配向膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA10 LA04 LA09 MA04X NA05 NA14 PA06 QA04 QA14 TA09 TA12 TA13 5C094 AA03 AA36 AA43 AA47 AA48 AA55 BA43 DA12 DA13 EB03 EC03 FA01 FA02 FB01 FB15 GB01 GB10 JA01 JA08

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対向配置される２枚の基板の間隙に液晶
   組成物を封入してなる液晶表示装置において、 前記基板の少なくとも何れか一方に形成され、頂上に平
   坦部分を有し、前記間隙を均一に保持する感光性樹脂か
   らなる柱状スペーサを具備する事を特徴とする液晶表示
   装置。
2. 【請求項２】 柱状スペーサが、前記柱状スペーサの形
   成領域を露光する事によりパターン形成されてなるネガ
   型感光性樹脂からなり、 前記柱状スペーサの頂上付近を露光しない事により前記
   頂上に平坦部分を形成する事を特徴とする請求項１に記
   載の液晶表示装置。
3. 【請求項３】 柱状スペーサが、前記柱状スペーサの形
   成領域を露光しない事によりパターン形成されてなるポ
   ジ型感光性樹脂からなり、 前記柱状スペーサの頂上付近を露光する事により前記頂
   上に平坦部分を形成する事を特徴とする請求項１に記載
   の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 対向配置される２枚の基板間の間隙をネ
   ガ型感光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持
   し、前記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置
   の製造方法において、 前記基板の少なくとも何れか一方に前記ネガ型感光性樹
   脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサの形成領域に対
   応する露光部分の内部に未露光部分を設けてなる露光マ
   スクを介して前記ネガ型感光性樹脂を露光する工程と、
   露光後の前記ネガ型感光性樹脂を現像する工程とを具備
   し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事を
   特徴とする液晶表示装置の製造方法。
5. 【請求項５】 露光マスクの未露光部分の面積を露光部
   分の面積の７５％以下にすることを特徴とする請求項４
   に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 【請求項６】 露光マスクの未露光部分の幅を２３μｍ
   以下とし、前記未露光部分周囲の露光部分の幅を２μｍ
   以上とすることを特徴とする請求項４又は請求項５のい
   ずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 【請求項７】 対向配置される２枚の基板間の間隙をポ
   ジ型感光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持
   し、前記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置
   の製造方法において、 前記基板の少なくとも何れか一方に前記ポジ型感光性樹
   脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサの形成領域に対
   応する未露光部分の内部に露光部分を設けてなる露光マ
   スクを介して前記ポジ型感光性樹脂を露光する工程と、
   露光後の前記ポジ型感光性樹脂を現像する工程とを具備
   し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事を
   特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】 露光マスクの露光部分の面積を未露光部
   分の面積の７５％以下にすることを特徴とする請求項７
   に記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 露光マスクの露光部分の幅を２３μｍ以
   下とし、前記露光部分周囲の未露光部分の幅を２μｍ以
   上とすることを特徴とする請求項７又は請求項８のいず
   れかに記載の液晶表示装置の製造方法。