JPH01308423A - 潜触媒および該触媒を含むエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、潜触媒およびエポキシ含有化合物、芳香族ヒ
ドロキシ含有化合物並びに潜触媒を含むエポキシ樹脂組
成物に関する。

エポキシ樹脂は、米国特許筒３．９４８，８５５号並び
にカナダ特許筒８９３．１９１号のＰａｒｒｙ　；米国
特許筒３．４７７．９９０号のＤａｎｔｅら；米国特許
筒３，５４７，８８１号のＭｕｅｌｌｅｒら；米国特許
筒４．３ｓｓ、２ｓｓ号のＴｙｌｅｒＪｒ、　ら；およ
びカナダ特許筒８５８　、６４８号のＣｒａｇａｒによ
り開示されたように、芳香族ヒドロキシ含有化合物と混
合した場合、改良された（アドバンスト）、高分子量エ
ポキシ樹脂を形成する潜組成物を与えるためホスホニウ
ムおよび他の化合物であらかしめ触媒される。

これらの触媒およびエポキシ樹脂を含む組成物は幾分安
定であるが、芳香族ヒドロキシ含有化合物を含む組成物
は安定性が欠ける。

エポキシ樹脂並びに芳香族ヒドロキシ含、有化合物を含
む硬化性組成物およびそのための触媒は、貯蔵安定塗料
、貯蔵安定電気封入剤、機械並びに電気用積層板および
複合材料の製造用の貯蔵安定配合物、貯蔵安定包装成形
組成物、樹脂トランスファー成形（ＲＴＭ）および反応
射出成形（ＲＩＭ）等に用いるための貯蔵安定硬化性組
成物の製造においてかなり望ましい。

本発明は、（Ａ）分子あたり平均１個以上のエポキシド
基を含む少なくとも１種の化合物；　（Ｂ）アルケニル
フェノールポリマー以外の分子あたり平均１個以上の芳
香族ヒドロキシ基を含む少なくとも１種の化合物；およ
び（Ｃ） （１）（ａ）元素窒素、燐、硫黄または砒素のオニウム
化合物、 （ｂ）非複素環式アミン化合物またはその酸付加物およ
び （Ｃ）複素環式室、素含有化合物またはその酸付加物、
より選ばれる少なくとも１種の化合物を（２）（ａ　）
硼素またはその金属塩を有しない無機酸（この無機酸は
弱い求核陰イオンを有する）、（ｂ）硼素またはその金
属、塩を含む無機酸〔この無機酸は式ＢＲ，Ｒ’　　（
式中各Ｒは独立に水素または１〜１２個の炭素原子を有
する脂肪族、環式脂肪族あるいは芳香族炭化水素基また
はハロゲンであり、Ｒ′は炭化水素基以外の基である）
で表わされる〕および （Ｃ）成分（ａ）または（ｂ）のあらゆる組み合せ、よ
り選ばれる少なくとも１種の化合物、と接触させること
より得られる触媒量の生成物、を含んでなる組成物に関
し、ここで （ｉ）成分（Ｃ−１）および（Ｃ−２）を、５０℃で１
４日間貯蔵後組成物の必要な粘度を満足するようにする
量で接触させ； （ｉｉ）成分（Ａ）および（Ｂ）は、０．０５：１〜２
０：１のエポキシド基に対する芳香族ヒドロキシ基の比
を与える量で存在し； （ｉｉｉ　）適当な溶媒あるいは溶媒混合物の２０〜４
０重量パーセントで溶解した場合、成分（Ａ）、　（Ｂ
）、および（Ｃ）の混合物は、２５℃で測定した場合、
成分（Ｃ−１）のみからなる触媒を除く同様の組成物の
粘度より７５パーセント以下の粘度を有する（前記粘度
は５０℃で１４日間貯蔵後測定した）。

また、本発明は（１）ピリジンあるいはその酸付加物以
外の少なくとも１種の複素環式窒素含有化合物と（２）
（ａ）硼素あるいはその金属塩を有しない無機酸（この
無機酸は弱求核陰イオンを有する）、（ｂ）硼素あるい
はその金属塩を含む無機酸〔この無機酸は弐ＢＲ，Ｒ’
　　（式中各Ｒは独立に水素または１〜１２個の炭素原
子を有する脂肪族、環式脂肪族あるいは芳香族炭化水素
基またはハロゲンであり、Ｒ′は炭化水素基以外の基で
ある）で表わされる〕、および（Ｃ）成分（ａ）または
（ｂ）のあらゆる組み合せ、より選ばれる少なくとも１
種の化合物を接触させることにより得られる触媒に関す
る。

本発明に用いられる酸付加物は、好ましくは比較的強い
求核陰イオンを有する。この酸付加物を無機酸の金属塩
と反応させる。ここで用いた弱い求核とは、Ｃ，Ｇ、Ｓ
ｗａｉｎおよびＣ，Ｂ、５ｃｏｔｔのＪ、Ａ＋ｎ。

Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　、　Ｖｏｌ　、７５．　ｐ、　
１４１　（１９５３）に記載されているように、物質が
２．５あるいはそれ以上の求核性値「ｎ」を有すること
を意味する。

般娠旦盟遣 本発明で用いられる触媒は、単に望む比で混合し、オニ
ウム、アミンまたは窒素含有化合物を弱求核陰イオンを
有する酸または酸の塩（この酸または酸塩は有機置換基
を全く有しない）と確実に接触させるため撹拌すること
により製造される。

この接触はＯ′Ｃ〜１００″Ｃ１好ましくは２０℃〜６
０℃の温度で、生ずるあらゆる反応が完了するに十分な
時間待なわれる。この時間は温度により異なるが、通常
１〜１２０、好ましくは５〜６０分が十分である。

触媒が製造される成分を、オニウム、アミンまたは複素
環式窒素含有化合物のモルあたり０．６〜１．４、適当
には０．７５〜１．１２、より適当には０．８５〜１．
３５、最も適当には０．９３〜１．１モルの酸を提供す
る比で混合する。好ましい比は、酸または酸塩と混合し
たオニウム、アミンまたは複素環式アミン化合物により
異なる０例えば、イミダゾ−、ル化合物のモルあたりの
酸または酸塩のモルの好ましい比は、０．８５：１〜１
．１２：１であり、最も好ましい比は０．９３：１〜１
．１：１である。ホスホニウム化合物に対しては、好ま
しい比はホスホニウム化合物のモルあたり０．９５：１
〜１．３５：ｌ、より好ましくは１．　ｌ　：　１〜１
．２５〜１モルの酸である。他の触媒に対し、種々の比
で成分を混合し、例えば例１〜９．１８〜２６および３
９〜４５に記載したような簡単な、決まりきった実験を
行なうことにより、オニウム、アミンまたは複素環式ア
ミン化合物に対する酸または酸塩の最適な比を決定する
ことは容易である。酸または酸塩の量がイミダゾールの
モルあたり０．６モル未満である場合、触媒はあまり潜
在性でなく、酸または酸塩との反応の前に本来のイミダ
ゾールの反応性が現われはじめる。酸または酸塩の量が
ホスホニウムのモルあたり１．４モル以上である場合、
触媒はｔ、Ｓ：ｔめ比まであまり潜在性ではなく、この
触媒は酸との反応前の本来のオニウム含有化合物と比較
して促進剤となる。

酸または酸塩の量がイミダゾールのモルあ、たり１．１
４モル以上である場合、触媒は１．１７：１の比まであ
まり潜在性ではなくなり、この触媒は酸または酸塩との
反応前の本来のイミダゾール化合物と比較して促進剤と
なる。

触媒は、少なくとも７５℃の温度に加熱した場合成分（
Ａ）と（Ｂ）の間の反応を触媒するに十分な量で用いら
れる。多くの場合、触媒の量はエポキシド当量あたり０
．０５〜１００、適当には０．１〜５０、より適当には
０．１〜３０．さらに適当には０．５〜２０、最も適当
には１〜１０ミリモルの触媒である。

放娠底公 ここで用いてよい適当なオニウム化合物は、アンモニウ
ム、ホスホニウム、スルホニウムおよびアルソニウム化
合物を含む、特に適当なそのような化合物は、下式ＩＡ
またはＩＢ ＩＡ　　　　　　　　　　　ＩＢ （上式中、各Ｒ，Ｒ１，Ｒ”およびＲ３は独立に１〜１
８、好ましくは１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
、または１〜１８、好ましくは１〜９個の炭素原子を有
し、さらに１個以上の酸素、硫黄、ハロゲン、あるいは
窒素原子を含む炭化水素基であり、またはＲ，ＲＩ、Ｒ
”およびＲ３基のうち２個が結合し、炭素以外の原子を
１種以上含む複素環を形成してもよく、各Ｘは比較的強
い求核酸の酸の陰イオン部であり、Ｚは燐、窒素、硫黄
または砒素であり、ｍは陰イオンＸの原子価に等しい値
を有し、２はＺの原子価によって０または１の値を有す
る） で表わされるものを含む０本発明の触媒を形成するため
弱求核陰イオンを有する無機酸と反応または錯化してよ
い特に適当なオニウムまたはアミン化合物は、例えばエ
チルトリフェニルホスホニウムアセテート、エチルトリ
フェニルホスホニウムアセテート・酢酸錯体、テトラブ
チルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウ
ムアセテート・酢酸錯体、エチルトリフェニルホスホニ
ウムクロリド、エチルトリフェニルホスホニウムヨーシ
ト、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、水酸化テトラブチルホスホニウ
ム水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラブチ
ルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水
酸化テトラメチルアンモニウム、Ｎ−メチルモルホリン
、２−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ
。

Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、エチルト
リ（２−ヒドロキシエチル）−水酸化アンモニウム、エ
チルトリ（２−エトキシエチル）水酸化アンモニウム、
トリエチル（２−チオエチルエチル）水酸化アンモニウ
ム、トリエチル（２−チオエチルエチル）水酸化アンモ
ニウム、Ｎ−メチル−Ｎ−メチレンメタナミニウムアセ
テート、Ｎ−メチル−Ｎ−メチレンメタナミニウムアセ
テート・酢酸錯体、Ｎ−メチル−Ｎ−メチレンメタナミ
ニウムクロリド、Ｎ−メチル−Ｎ−メ、チレンメタナミ
ニウムヨージド、Ｎ−メチルピリジニウムアセテート、
Ｎ−メチルピリジニウムアセテート・酢酸錯体、Ｎ−メ
チルピリジニウムクロリド、Ｎ−メチルピリジニウムヨ
ーシト、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム
アセテート、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリ
ウムアセテート・酢酸錯体、１−エチル−２，３−ジメ
チルイミダゾリウムヨーシト、Ｎ−メチルキノリニウム
アセテート、Ｎ−メチルキノリニウムアセテート・酢酸
錯体、Ｎ−メチルキノリニウムクロリド、Ｎ−メチルキ
ノリニウムヨーシト、Ｎ−メチル−１，３，５−トリア
ジニウムアセテート、Ｎ−メチル−１，３，５−トリア
ジニウムアセテート・酢酸錯体、Ｎ−メチル−１，３，
５−）リアジニウムクロリド、Ｎ−メチル−１，３，５
−トリアジニウムヨーシト、およびそれらの組み合せを
含む。

適当な比較的強い求核峻険イオンは、例えばカルボキシ
レート、ハリド、ホスフェート、ホスフィツト、カーボ
ネート、バイカーボネート、ヒドロキシド、シアニド、
チオール、スルフェート、およびチオスルフェートを含
む。特に適当なそのような求核峻険イオンは、例えばア
セテート、アセテート・酢酸錯体、プロピオネート、ク
ロリド、およびヨーシトを含む。

本発明で用いられる触媒を形成するため弱い求核陰イオ
ンを有する無機酸の塩と反応させる特に適当なオニウム
またはアミン酸錯体は、例えばテトラブチルホスホニウ
ムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テト
ラエチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニ
ウムクロリド、トリエチルアミンヒドロクロリド、２−
メチルイミダゾールヒドロクロリド、Ｎ−メチルモルホ
リンヒドロクロリド、エチルトリ（２−ヒドロキシエチ
ル）アンモニウムクロリド、トリエチル（２−チオエチ
ルエチル）アンモニウムクロリド、およびそれらの混合
物を含む。

適当に用いられる非複素環式アミン化合物は、例えば一
級、二級、三級、脂肪族、環式脂肪族または芳香族アミ
ンを含む。

用いてよい適当な非複素環式アミンは、適当には１〜６
０、より適当には２〜２７、最も適当には２〜１８個の
炭素原子を含むものを含む。特に適当なそのようなアミ
ンは、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミ
ン、）　’Ｊ　−ｎ　−プロピルアミン、イソプロピル
アミン、レイソブロビルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン
、メチルジブチルアミン、およびそれらの組み合せを含
む。

用いてよい適当な複素環式窒素含有化合物は、例えばイ
ミダゾール、イミダゾリジン、イミダゾリン、オキサゾ
ール、ピロール、チアゾール、ピリジン、ピラジン、モ
ルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピロリジン、ピラ
ゾール、キノキサリン、キナソ゛リン、フ多ロジン、キ
ノリン、プリン、インダゾール、インドール、インドラ
ジン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、
ピロリン、インドリン、ピペリジン、ピペラジン、およ
びそれらの組み合せを含む。゛ 用いてよい適当なイミダゾール化合物は、例えば下式（
１，） し ａ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒｈ　、ＲＣおよびＲｄは独立
に水素、ハロゲン、シアノまたは適当に番よｌ〜１８、
より適当には２〜９個の炭素原子を有する炭化水素基あ
るいは酸素、硫黄、またはノーロゲンあるいは同様の置
換基を含む炭化水素基であり、またはＲ’およびＲ’は
結合しそれが結合しているイミダゾール環から炭素並び
に窒素原子を有する５あるいは６員環を形成してよ（、
またはＲ’およびＲ４は結合し、それが結合しているイ
ミダゾール環より２個の炭素原子を有する５あるいは６
員環を形成してよい） で表わされるものを含む。特に適当なイミダゾール化合
物は、例えば２−メチルイミダゾール、２−エチルイミ
ダゾール、２−プロピルイミダゾール、２−ブチルイミ
ダゾール、２−ペンチルイミダゾール、２−ヘキシルイ
ミダゾール、２−シクロヘキシルイミダゾール、２−フ
ェニルイミダゾール、２−ノニルイミダゾール、２−ウ
ンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール
、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル
−４−メチルイミダゾール、１−ベンジルイミダゾール
、１−エチル−２−メチルベンズイミダゾール、２−メ
チル−５，６−ベンズイミダゾール、１−ビニルイミタ
ソール、１−アリル−２−メチルイミダゾール、２−シ
アノイミダゾール、２−クロロイミダゾール、２−ブロ
モイミダゾール、およびそれらの組み合せを含む。１種
以上のＲ”　　、Ｒ’　　、ＲＣｌまたはＲ−基が酸素
、硫黄、またはハロゲンあるいは同様の置換基を含む適
当なイミダゾールは、例えば１−（２−ヒドロキシプロ
ピル）−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４，
５−ジメチロールイミダゾール、２−フェニル−４−メ
チル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−クロロ
メチルベンズイミダゾール、２−ヒドロキシベンズイミ
ダゾール、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。最
も適当なものは、２−メチルイミダゾール、２−エチル
−４−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾ
ールおよび２−フェニルイミダゾールである。

用いてよい適当なピラゾール化合物は、下式％式％ （上式中、各Ｒ’、Ｒ’″　ＲＣおよびＲ４は独立に水
素、ハロゲン、シアノまたは適当には１〜１８、より適
当には２〜９個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは
酸素、硫黄、またはハロゲンあるいは同様の置換基を含
む炭化水素基であり、またはＲ′″およびＲ’は結合し
それが結合しているピラゾール環から炭素並びに窒素原
子を有する５あるいは６員環を形成してよく、またはＲ
ｃおよびＲ４は結合し、それが結合しているピラゾール
環より２個の炭素原子を有する５あるいは６員環を形成
してよい） で表わされるものを含む、特に適当なピラゾール化合物
は、例えばピラゾール、ｌ−メチルピラゾ　−−ル、３
−メチルピラゾール、４−ブチルピラゾール、１−メチ
ル−３−プロピルピラゾール、３−エチル−５−メチル
ピラゾール、１−（３−ヒドロキシプロピル）ピラゾー
ル、５−フェニルピラゾール、５−ベンジルピラゾール
、■−フェニルー３−メチルピラゾール、１−シアノピ
ラゾール、３−クロロピラゾール、４−ブロモ−１−メ
チルピラゾール、およびそれらのあらゆる組み合せを含
む。

用いてよい適当なオキサゾール化合物は、例えば下式（
ＩＩＩ）、 Ｎ　　　　　　Ｃ−Ｒｅ （上式中、各Ｒ１″　、、Ｒ’　％およびＲＣは独立に
水素、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８、よ
り適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基また
は酸素、硫黄、シアノあるいはＡロゲンまたは同様の置
換基を含む炭化水素基である）で表わされるものを含む
、特に適当なオキサゾール化合物は、例えばオキサゾー
ル、４−メチルオキサソール、２−メチルオキサゾール
、４−ブチルオキサゾール、２−メチル−５−プロピル
オキサゾール、２−エチル−４−メチルオキサゾール、
２−（３−ヒ）’ロキシプロピル）オキ、サゾール、４
−フェニルオキサゾール、５−ベンジルオキサゾール、
２−フェニル−５−メチルオキサソール、２−シアンオ
キサゾール、４−クロロオキサゾール、４−ブロモ−２
−メチルオキサゾール、およびそれらのあらゆる組み合
せを含む。

用いてよい適当なイミダゾリジンは、例えば下式（ＩＶ
）、 Ｒｈ　−Ｎ　−Ｃ−Ｒｆ ｉｃ （上式中、各Ｒｍ　　、　Ｒｈ　　、　Ｒｅ　　、　Ｒ
ａ　　、　Ｒ１１。

Ｒ’、Ｒ’およびＲｈは独立に水素、ハロゲン、シアノ
、または適当には１〜１日、より適当には１〜９個の炭
素原子を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあ
るいはハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基で
ある） で表わされるものを含む、特に適当なイミダゾリジン化
合物は、例えばイミダゾリジン、１−メチルイミダゾリ
ジン、２−メチルイミダゾリジン、４−ブチルイミダゾ
リジン、１−メチル−３−プロピルイミダゾリジン、ｌ
−エチル−４−メチル−イミダゾリジン、１−（３−ヒ
ドロキシプロピル）イミダゾリジン、２−フェニルイミ
ダゾリジン、１−ベンジルイミダゾリジン、２−フェニ
ル−１−メチルイミダゾリジン、４−シアノイミダゾリ
ジン、４−クロロイミダゾリジン、４−ブロモー１−メ
チルイミダゾリジン、およびそ゛れらのあらゆる組み合
せを含む。

用いてよい適当なイミダゾリンは、例えば下式トニー　
　　Ｃ−Ｒａ ｂ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
・およびＲｆは独立に水素、ハロゲン、シアノ、または
適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を
有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハ
ロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。特に適当なイミダゾリン化合
物は、例えばイミダゾリン、１−メチルイミダゾリン、
２−メチルイミダゾリン、４−ブチルイミダゾリン、１
−メチル−２−プロピルイミダゾリン、１−エチル−４
−メチル−イミダゾリン、１−（３−ヒドロキシプロピ
ル）イミダゾリン、２−フェニルイミダゾリン、１−ベ
ンジルイミダゾリン、２−フェニル−１−メチルイミダ
ゾリン、４−シアノイミダゾリン、５−クロロイミダゾ
リン、５−ブロモー１−メチルイミダゾリン、およびそ
れらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なチアゾール化合物は、例えば下式（Ｖ
ｌ） Ｎ　−Ｃ−Ｒ１： （上式中、各Ｒ１１，Ｒ１、およびＲ’は独立に水素、
ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８、より適当
には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基または酸素
、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様の置換基を
含む炭化水素基である）で表わされるものを含む、特に
適当なチアゾール化合物は、例えばチアゾール、２−メ
チルチアゾール、５−メチルチアゾール、４−ブチルチ
アゾール、２−メチル−４−プロピルチアゾール、４−
エチル−５−メチルチアゾール、２−（３−ヒドロキシ
プロピル）チアゾール、２−フェニルチアゾール、２−
ベンジルチアゾール、４−フェニル−５−メチルチアゾ
ール、２−シアノチアゾール、５−クロロチアゾール、
５−ブロモ−２−メチルチアゾール、およびそれらのあ
らゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピロール化合物は、例えば下式（■）
、 Ｒ＠ｌ　−Ｃ−（−Ｒｄ ｈ （上式中、各Ｒ”、Ｒゝ　、ＲＣ、Ｒ’およびＲ”は独
立に水素、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様
の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。特に適当なピロール化金物は
、例えばピロール、ｌ−メチルピロール、２−メチルピ
ロール、３−ブチルピロール、１−メチル−２−プロピ
ルピロール、２−エチル−３−メチルピロール、１−（
３−ヒドロキシプロピル）ピロール、２−フェニルピロ
ール、１−ベンジルピロール、２−フェニル−１−メチ
ルピロール、３−シアノピロール、３−クロロピロール
、２−ブロモー１−メチルピロール、およびそれらのあ
らゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピリジン化合物は、例えば下式（■） ｄ ／４※ 八 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’およびＲ
・は独立に水素、ハロゲン、シアノ、または適当には１
〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化
水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまた
は同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。特に適当なピリジン化合物は
、例えばピリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピ
リジン、４−ブチルピリジン、２−メチル−３−プロピ
ルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（
３−ヒドロキシプロピル）ピリジン、２−フェニルピリ
ジン、３−ベンジルピリジン、４−フェニル−２−メチ
ルピリジン、３−シアノピリジン、２−クロロピリジン
、３−ブロモ−５−メチルピリジン、およびそれらのあ
らゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピラジン化合物は、例えば下式（ＩＸ
） Ｉｆ　　　ｌ　　　　　　（ＩＸ） Ｒａ−Ｃ５３Ｃ−Ｒｂ ＼４Ｚ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲ−は独
立に水素、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様
の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。特に適当なピラジン化合物は
、例えば、ピラジン、２−メチルピラジン、３−メチル
ピラジン、２−ブチルピラジン、２−メチル−５−プロ
ピルピラジン、２−エチル−６−メチルピラジン、２−
（３−ヒドロキシプロピル）ピラジン、２−フェニルピ
ラジン、２−ベンジルピラジン、２−フェニル−３−メ
チルピラジン、２−シアノピラジン、２−クロロピラジ
ン、２−ブロモ−５−メチルピラジン、およびそれらの
あらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピリダジン化合物は、例えば下式（Ｘ
） ＲｄＣ４６（−Ｒｈ １１　　　　ｌ　　　　　　　（Ｘ） （上式中、各Ｒ”、Ｒゝ　ＲＣおよびＲ−は独立に水素
、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜゛１８、より
適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基または
酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様の置換
基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、特に適当なピリダジン化合物
は、例えばピリダジン、３−メチルピリダジン、４−メ
チルピリダジン、３−ブチルピリダジン、３−メチル−
４−プロピルピリダジン、３−エチル−６−メチルピリ
ダジン、４−（３−ヒドロキシプロピル）−ピリダジン
、３−フェニルピリダジン、４−ベンジルピリダジン、
４−フェニル−５−メチルピリダジン、４−シアノピリ
ダジン、４−クロロピリダジン、３−ブロモ−５＝メチ
ルピリダジン、およびそれらの組み合せを含む。

用いてよい適当なピロリジン化合物は、例えば下式（Ｘ
Ｉ） Ｒｈ　　　　　　Ｒｇ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
”　　。

Ｒｆ　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲ１は独立に水素、ノ
１０ゲン、シア八または適当には１〜１８個の炭素原子
を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいは
ハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、特に適当な化合物番よ、例え
ばピロリジン、１−メチル−ピロリジン、４−フェニル
ピロリジン、２−メチルピロリジン、３−メチルピロリ
ジン、１−ブチルピロリジン、１−メチル−２−プロピ
ルピロリジン、３−エチル−４−メチル−ピロリジン、
２−　（３−ヒドロキシプロピル）−ピロリジン、１−
フェニル−２−メチル−ピロリジン、２−シアノピロリ
ジン、２−クロロピロリジン、２−ブロモ−１−メチル
ピロリジン、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なモルホリン化合物は、例え＆ｆ下式（
Ｘ　ＩＩ　） ａ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’、、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ’
　　。

Ｒｆ　　、　Ｒ９、Ｒ１″およびＲ’は独立に水素、ハ
ロゲン、シアノ、または適当には１〜１８、より適当に
は２〜９個の炭素原子を有する炭化水素基または酸素、
硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様の置換基を含
む炭化水素基である）で表わされるものを含む。特に適
当なモルホリン化合物は、例えばモルホリン、４−メチ
ルモルホリン、３−メチルモルホリン、４−ブチルモル
ホリン、４−メチル−３−プロピルモルホリン、２−エ
チル−３−メチルモルホリン、４−（３−ヒドロキシプ
ロピル）−モルホリン、２−フェニルモルホリン、４−
ベンジルモルホリン、３−フェニル−１−メチルモルホ
リン、３−シアノモルホリン、３−クロロモルホリン、
３−ブロモー４−メチルモルホリン、およびそれらのあ
らゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピリミジン化合物は、例えば下式（Ｘ
ＩＩ［）、 ３５ＣＲＣ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣおよびＲ″は独
立に水素、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいは）＼ロゲンまたは同
様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。用いてよい特に適当なピリミ
ジン化合物は、例えばピリミジン、２−メチルピリミジ
ン、４−メチルピリミジン、２−ブチルピリミジン、２
−メチル−４−プロピルピリミジン、４−エチル−５−
メチルピリミジン、２−（３−ヒドロキシプロピル）ピ
リミジン、２−フェニルピリミジン、２−ベンジルピリ
ミジン、４−フェニル−２−メチルピリミジン、４−シ
アノピリミジン、２−クロロピリミジン、４−ブロモー
２−メチルピリミジン、およびそれらのあらゆる組み合
せを含む。

用いてよい適当なキノキサリン化合物は、例えば下式（
ＸＩＶ）、 ｄ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒｈ　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ’
およびＲｒは独立に水素、ハロゲン、シアノ、または適
当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を有
する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハロ
ゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、特に適当なキノキサリン化合
物は、例えばキノキサリン、２−メチルキノキサリン、
５−メチルキノキサリン、２−ブチルキノキサリン、２
−メチル−３−プロピルキノキサリン、５−エチル−６
−メチルキノキサリン、２−（３−ヒドロキシプロピル
）キノキサリン、２−フェニルキノキサリン、５−ベン
ジルキノキサリン、２−フェニル−５−メチルキノキサ
リン、２−シアノキノキサリン、２−クロロキノキサリ
ン、２−ブロモ−５−メチルキノキサリン、およびそれ
らのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なキナゾリン化合物は、例えば下式（Ｘ
Ｖ）、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
・およびＲｆは独立に水素、ハロゲン、シアノ、または
適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を
有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハ
ロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、適当なキナゾリン化合物は、
例えばキナゾリン、２−メチルキナゾリン、４−メチル
キナゾリン、２−ブチルキナゾリン、２−メチル−４−
プロピルキナゾリン、５−エチル−６−メチルキナゾリ
ン、２−（３−ヒドロキシプロピル）キナゾリン、２−
フェニルキナゾリン、２−ベンジルキナゾリン、２−フ
ェニル−４−メチルキナゾリン、４−シアノキナゾリン
、４−クロロキナゾリン、２−ブロモ−４−メチルキナ
ゾリン、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なフタラジン化合物は、例えば下式（Ｘ
ＶＩ）、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
”およびＲ′は独立に水素、ハロゲン、シアノ、または
適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を
有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハ
ロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、適当なフタラジン化合物は、
例えばフタラジン、１−メチルフタラジン、６−メチル
フタラジン、１−ブチルフタラジン、１−メチル−４−
プロピルフタラジン、１．−エチル−６−メチルフタラ
ジン、１−（３−ヒドロキシプロピル）−フタラジン、
５−フェニルフタラジン、１−ベンジルフタラジン、１
−フェニル−４−メチルフタラジン、１−シアノフタラ
ジン、１−クロロフタラジン、１−ブロモ−４−メチル
フタラジン、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なキノリン化合物は、例えば下式（Ｘ■
）、 Ｒａ　　　　　Ｈｂ （上式中、各Ｒ”、Ｒゝ　ＲＣおよびＲ４は独立に水素
、ハロゲン、シアノ、または適当には１〜１８、より適
当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基または酸
素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様の置換基
を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。用いてよい適当なキノリン化
合物は、例えばキノリン、２−メチルキノリン、３−メ
チルキノリン、４−ブチルキノリン、５−メチル−２−
プロピルキノリン、２−エチル−３−メチルキノリン、
３−（３−ヒドロキシプロピル）キノリン、３−フェニ
ルキノリン、４−ベンジルキノリン、３−フェニル−２
−メチルキノリン、３−シアノキノリン、４−クロロキ
ノリン、２−ブロモ−３−メチルキノリン、およびそれ
らのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なプリン化合物は、例えば下式％式％ （上式中、各Ｒ′″　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ’　　。

ＲｒおよびＲ９は独立に水素、ハロゲン、シアノ、また
は適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子
を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいは
ハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、適当なプリン化合物は、例え
ばプリン、２−メチルプリン、８−メチルプリン、６−
プチルプ；Ｊン、２−メチル−８−プロピルプリン、６
−エチル−８−メチルプリン、８−（３−ヒドロキシプ
ロピル）プリン、２−フェニルプリン、２−ベンジルプ
リン、６−フェニル−２−メチルプリン、８−シアノプ
リン、２−クロロプリン、８−ブロモー２−メチルプリ
ン、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なインダゾール化合物は、例えば下式（
ＸＩＸ）、 Ｒ「 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ−およびＲｆは独立に水素、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様
の置換基を含む炭化水素基である）で表わされるものを
含む、適当なインダゾール化合物は、例えばインダゾー
ル、１−メチルインダゾール、３−メチルインダゾール
、ｌ−ブチルインダゾール、１−メチル−３−プロピル
インダゾール、１−エチル−５−メチルインダゾール、
３−（３−ヒドロキシプロピル）インダゾール、３−７
エニルインタソール、６−ベンジルインダゾール、６−
フェニル−１−メチルインタソール、３−シアノインダ
ゾール、５−クロロインダゾール、３−ブロモ−１−メ
チルインダゾール、およびそれらのあらゆる組み合せを
含む。

用いてよい適当なインドール化合物は、例えば下式（Ｘ
χ） ｄＲｅ ｉ ｇ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ”　　。

ＲｆおよびＲ’は独立に水素、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様
の置換基を含（炭化水素基である） で表わされるものを含む。用いてよい適当なインドール
化合物は、例えばインドール、■−メチルインドール、
２−メチルインドール、３−７’チルインドール、１−
メチル−２−プロピルインドール、２−エチル−３−メ
チルインドール、１−（３−ヒドロキシプロピル）イン
ドール、２−フェニルインドール、１−ベンジルインド
ール、２−フエニル−１−メチルインドール インドール、５−クロロインドール、３−ブロモ−１−
メチルインドール、およびそれらのあらゆる組み合せを
含む。

用いてよい適当なインドリジン化合物は、例えば下式（
ＸＸＩ）、 ｇ （上式中、各Ｒ′″　Ｒ　ｈ　　、　ＲＣ　　、　Ｒ４
　　、　Ｒ＠　　。

Ｒ′およびＲ９は独立に水素、または適当には１〜１Ｂ
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるｌ／１はハロゲンまたは
同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む．適当なインド１ノジンイヒ台
物は、例えばインドリジン、ｌ−メチルインドリジン、
２−メチルインドリジン、３−フェニルインドリジン、
５−メチル−１−プロピルインドジン、２−エチル−１
−メチルインド１Ｊジン、６−（３−ヒドロキシプロピ
ル）インド１ノジン、３−フェニルインドリジン、７−
ベンジルインド１）ジン、２−フェニル−３−メチルイ
ンド１Ｊジン、５−シアノインドリジン、７−クロロイ
ンドリジン、３−ブロモ−５−メチルインド１Ｊジン、
およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なフェナジン化合物番よ、例え番ｆ下式
（ＸＸ　ｎ　）、 ｅＲｄ （上式中、各Ｒ”、Ｒゝ　＋　Ｒｃ　＋　Ｒ’　　＊　
Ｒ”　　ＩＲ’．Ｒ’およびＲ１′は独立に水素、また
は適当には１〜１Ｂ、より適当には１〜９個の炭素原子
を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるいは
ハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む。用いてよい適当なフェナジン
化合物は、例えばフェナジン、ｌ−メチルフェナジン、
２−メチルフェナジン、２−ブチルフェナジン、ｌ−メ
チル−７−プロピルフェナジン、ｌ−エチル−４−メチ
ルフェナジン、２−（３−ヒドロキシプロピル）フェナ
ジン、ｌ−フェニルフエナジン、１−ベンジルフェナジ
ン、１−フェニル−７−メチルフェナジン、２−シアノ
フェナジン、ｌ−クロロフェナジン、１−ブロモ−２−
メチル−フェナジン、およびそれらのあらゆる組み合せ
を含む。

用いてよい適当なフェナルサジン化合物は、例えば下式
（ｘｘｍ＞、 （上式中、各Ｒ畠　Ｒｂ　　、　ＲＣ、Ｒ１１、Ｒ１１
。

Ｒｒ、ＲｅおよびＲｈは独立に水素、または適当には１
〜１８、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化
水素基または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまた
は同様の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、用いてよい適当なフェナルサ
ジン化合物は、例えばフェナルサジン、１−メチルフェ
ナルサジン、２−メチルフェナルサジン、４−ブチルフ
ェナルサジン、ｌ−メチル−６−プロピルフェナルサジ
ン、２−エチル−３−メチルフェナルサジン、１−（３
−ヒドロキシプロピル）フェナルサジン、４−フェニル
フェナルサジン、３−ベンジルフェナルサジン、２−フ
ェニル−７−メチルフェナルサジン、３−シアノフェナ
ルサジン、１−クロロフェナルサジン、１−ブロモ−８
−メチルフェナルサジン、およびそれらのあらゆる組み
合せを含む。

用いてよい適当なフェノチアジン化合物は、例えば下式
（ＸＸＩＶ）、 Ｒｒ　　　　　Ｒｅ　　　　　Ｒｄ （上式中、各Ｒ’、Ｒゝ　Ｒｅ、Ｒ４，Ｒ１１。

Ｒｆ　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲＬは独立に水素、ま
たは適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素原
子を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノあるい
はハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基である
） で表わされるものを含む、適当なフェノチアジン化合物
は、例えばフェノチアジン、１０−メチルフェノチアジ
ン、１−メチルフェノチアジン、２−ブチルフェノチア
ジン、１０−メチル−４−プロピルフェノチアジン、２
−エチル−３−メチルフェノチアジン、４−（３−ヒド
ロキシプロピル）フェノチアジン、１０−フェニルフェ
ノチアジン、１−ベンジルフェノチアジン、１０−フェ
ニル−４−メチルフェノチアジン、７−シアノフエノチ
アジン、４−クロロフェノチアジン、４−ブロモー１０
−メチルフェノチアジン、およびそれらのあらゆる組み
合せを含む。

用いてよい適当なピロリン化合物は、例えば下式（ＸＸ
Ｖ）、 ＲＣ （上式中、各Ｒ畠　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、
Ｒ・　。

ＲｆおよびＲ９は独立に水素、または適当には１〜１８
、より適当には１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基
または酸素、硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様
の置換基を含む炭化水素基である） で表わされるものを含む、適当なピロリン化合物は、例
えばピロリン、２−メチルビロリン、４−メチルビロリ
ン、５−ブチルピロリン、５−メチル−１−プロピルピ
ロリン、１−エチル−３−メチルビロリン、１−（３−
ヒドロキシプロピル）ピロリン、５−フェニルピロリン
、１−ベンジルピロリン、ｌ−フェニル−４−メチルビ
ロリン、３−シアノピロリン、５−クロロピロリン、２
−プロモー１−メチルビロリン、およびそれらのあらゆ
る組み合せを含む。

用いてよい適当なインドリン化合物は、例えば下式（Ｘ
ＸＶｒ）、 Ｈｒ　　　　　　１４ｅ （Ｎ ｌ　　　　　　Ｒａ （上式中、各Ｒ’　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
”　　。

Ｒ’　　、Ｒ’　、Ｒ’、＃よびＲｉ　ハ独立二水素、
または適当には１〜１８、より適当には１〜９個の炭素
原子を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シアノある
いはハ゛ロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素基で
ある） で表わされるものを含む、特に適当なインドリン化合物
は、例えばインドリン、１−メチルインドリン、２−メ
チルインドリン、３−ブチルインドリン、１−メチル−
２−プロピルインドリン、２−エチル−２−メチルイン
ドリン、１−（３−ヒドロキシプロピル）インドリン、
１−フェニルインドリン、１−ベンジルインドリン、ｌ
−フェニル−２−メチルインドリン、５−シアノインド
リン、７−クロロインドリン、５−プロモーｌ−メチル
インドリン、およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

用いてよい適当なピペリジン化合物は、例えば下式（Ｘ
Ｘ■）、 Ｒａ　　　Ｒｂ （上式中、各Ｒａ　Ｒｈ　　、　Ｒｃ　　、　Ｒｄ　　
、　Ｒ１１。

Ｒ’　　、ＲＩ　　、Ｒ’　、Ｒ’　　、ＲＪおよびＲ
ｋは独立に水素、または適当には１〜１８、より適当に
は１〜９個の炭素原子を有する炭化水素基または酸素、
硫黄、シアノあるいはハロゲンまたは同様の置換基を含
む炭化水素基である） で表わされるものを含む、用いてよい適当なピペリジン
化合物は、例えばピペリジン、１−メチルピペリジン、
２−メチルピペリジン、３−ブチルピペリジン、ｌ−メ
チル−２−プロピルピペリジン、２−エチル−４−メチ
ルピペリジン、１−（３−ヒドロキシプロピル）ピペリ
ジン、１−フェニルピペリジン、１−ベンジルピペリジ
ン、ｌ−フェニル−２−メチルピペリジン、４−シアノ
ピペリジン、３−クロロピペリジン、４−フ０．−１−
−１−メチルピペリジン、およびそれらの組み合せを含
む。

用いてよい適当なピペラジン化合物は、例えば下式（Ｘ
Ｘ■）、 （−上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ，、Ｒ’　　
、Ｒ”　　。

Ｒ’　　、Ｒｅ　　、Ｒｈ　、Ｒ五およびＲＪは独立に
水素、または適当には１−１８、より適当には１〜９個
の炭素原子を有する炭化水素基または酸素、硫黄、シア
ノあるいはハロゲンまたは同様の置換基を含む炭化水素
基である） で表わされるものを含む、用いてよい特に適当なピペラ
ジン化合物は、例えばピペラジン、１−メチルピペラジ
ン、２−メチルピペラジン、３−ブチルピペラジン、１
−メチル−４−プロピルピペラジン、１−エチル−３−
メチルピペラジン、１−（３−ヒドロキシプロピル）ピ
ペラジン、２−フェニルピペラジン、１−ベンジルピペ
ラジン、ｌ−メチル−３−フェニルピペラジン、２−シ
アノピペラジン、２−クロロピペラジン、１．４−ジメ
チル−２−ブロモピペラジン、およびそれらの組み合せ
を含む。

適当な硼素含有酸は、例えば式ＢＲ２Ｒ’　　（式中、
各Ｒは独立に水素または適当には１〜１２、より適当に
は１〜６、最も適当には１〜４個の炭素原子を有する脂
肪族、環式脂肪族あるいは芳香族炭化水素または置換炭
化水素基であり；Ｒ′は炭化水素基以外の基、例えばヒ
ドロカルボッキシ、ヒドロカルボンアミノ、ヒドロカル
ボンホスフィノ、あるいはハロゲン原子、特に弗素、塩
素あるいは臭素である）で表わされるものを含む、炭化
水素とは、あらゆる脂肪族、環式脂肪族、芳香族、アリ
ール置換脂肪族、アルキル置換芳香族基を意味する。

フルオ硼酸は時にはフルオロ硼酸または水素テトラフル
オロボレートと呼ばれる。これら表現すべて、弐ＨＢＦ
４で表わされる化学種のことをいう。

適当なそのような酸含有硼素は、例えば水素フルオロト
リフェニルボレート、水素クロロトリフェニルボレート
、水素フルオロトリブチルボレート、水素フェニルトリ
フルオロボレートを含む。

最も適当な酸はフルオ硼酸である。

ヒドロカルボッキシとは、それと硼素原子との間に水素
原子を有する、従来規定された炭化水素基を意味する。

同様に、ヒドロカルボンアミノおよびヒドロカルボンホ
スフィノとは、炭化水素基と硼素原子の間にアミンまた
はホスフィン基が存在することを意味する。

硼素を含まない特に適当な無機酸（この酸は、弱い求核
陰イオンを有する）は、例えばフルオ砒酸、フルオアン
チモン酸、フルオ燐酸、クロロ硼酸、クロロアンチモン
酸、クロロ燐酸、過塩素酸、塩素酸、臭素酸、沃素酸、
およびそれらのあらゆる組み合せを含む。

有機置換基を全く含まずおよび弱い求核陰イオンを有す
る無機酸の適当な金属塩は、例えばＳａｒｇｅｎｔ−Ｗ
ｅｌｃｈ　５ｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　Ｃｏｍｐａｎｙより
カタログＮαＳ−１８８０６として出版された元素の周
期表のＩ族および■族の金属の塩を含む、特にそのよう
な塩は、例えばそのような無機酸のナトリウム、カリウ
ム、リチウム、カルシウム、バリウム、マグネシウムお
よび銀塩を含む。

放蝶皮■ 以下の化合物は本発明の触媒の例である。下式〔上式中
、Ｒ”　、Ｒｈ　、ＲＣおよびＲ４は式！で規定された
ものであり、Ｘは（ａ）弱い求核陰イオンを存する硼素
を含まない無機酸または（ｂ）弐ＨＢＲＪ’　　（式中
、各Ｒは独立に水素、または１〜１２個の炭素原子を有
する脂肪族、環式脂肪族、あるいは芳香族炭化水素基、
またはハロゲンであり、Ｒ′はハロゲンである）で表わ
される硼素含有無機酸の陰イオン部である〕 で表わされるイミダゾロニウム化合物。

下式■′ Ｒａ　−Ｃ−Ｃ−Ｒｄ ■ ｂ （上式中、各Ｒ”、Ｒ′　、ＲＣおよびＲ’は式■で規
定したものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の
陰イオン部である） で表わされるピラゾリノニウム化合物。

下式■′、 １１ＥＩ　　Ｎ　−Ｃ−Ｒｅ υ （上式中、各Ｒ’、Ｒｂ、およびＲｃは式■で規定した
ものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオ
ン部である） で表わされるオキサゾリノニウム化合物。

下式■′、 ■ Ｒｈ　−Ｎ　−Ｃ−Ｒｒ Ｒｅ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｅ　、Ｒ’　　、
Ｒ’　　。

Ｒ’、Ｒ’およびＲｋは弐■で規定したものであり、Ｘ
は弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるイミダゾリジノニウム化合物。

下式Ｖ′、 Ｒｔ’ 星 ｂ （上式中、各Ｒ”　、Ｒ’　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ・お
よびＲｆは式Ｖで規定されたものを表わし、Ｘは弱い求
核陰イオンを有する酸の陰イオン部である）で表わされ
るイミダゾリノニウム化合物。

下式■′、 ８　　Ｎ　−Ｃ−ＲＣ δ （上式中、各Ｒ”、ＲｈおよびＲ’は式■で規定された
ものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオ
ン部である） で表わされるチアゾロニウム化合物。

下式■′、 Ｒｅ　−Ｃ−Ｃ−Ｒｄ ｆｌ−Ｎ　　ｅ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒｂ　、ＲＣ、Ｒ’およびＲ”
は式■で規定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオン
を有する酸の陰イオン部である）で表わされるピロロニ
ウム化合物。

下式■′、 ｄ ／４へ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、ＲｄおよびＲ
′！は式■に規定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イ
オンを有する酸の陰イオン部である）で表わされるピリ
ジノニウム化合物。

下式■′、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　、ＲｃおよびＲ″ハ式■
規定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する
酸の陰イオン部である） で表わされるピラジノニウム化合物。

下式Ｘ′、 ａＣ３ｔＮ ＼２／ Ｈ−Ｎ＄ （上式中、各Ｒ’　　、Ｒｈ　、ＲＣｌおよびＲ−は式
Ｘに規定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有
する酸の陰イオン部である） で表わされるピリダジノニウム化合物。

下式ＸＩ’、 Ｒｈ　　　’　　　　　　Ｒｇ （上式中、各Ｒ畠　Ｒｂ　　、　ＲＣ、Ｒａ　　、　Ｒ
Ｃ。

Ｒｆ　　、Ｒ９、Ｒ’およびＲ１は式ｘＩに規定された
ものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオ
ンである） で表わされるピロリジノニウム化合物。

下式ＸＵ’、 ／　＼ Ｒａ　　　　　Ｈ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ”　　。

Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ”およびＲｉは式ＸＩＩで規定
のものであり、Ｘは弱い陰イオンを有する酸またはその
ような酸のくみ合せの陰イオン部である）で表わされる
モルホリノニウム化合物。

下式Ｘｍ’、 ＼１／ −Ｎ　　ｅ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲ″は式
ｘ■で規定されたものであり、又は弱い求核陰イオンを
有する酸の陰イオン部である） で表わされるピリミジノニウム化合物。

下式ＸＩＶ’、 Ｒｄ ａ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ＠、およびＲｆは式ＸＩＶに規定されたものであり、
Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である）
で表わされるキノキサリノニウム化合吻。

下式ＸＶ’、 Ｒｄ 賦 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
・およびＲｆは式ｘ■に規定されたものであり、Ｘは弱
い求核陰イオンを有する酸の陰イオンである）で表わさ
れるキノリノニウム化合物。

下式χ■′、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　
、Ｒ”およびＲｆは式ＸＶＩに規定されたものであり、
Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である）
で表わされるフタラジノニウム化合物。

下式Ｘ■′、 ｌ Ｒ１１Ｒｂ （上式中、各Ｒｍ　　、　Ｒｈ　　、　Ｒｔ　　、　Ｒ
ｄ　　、　Ｒ１１。

ＲｔおよびＲ９は式Ｘ■に規定されたものであり、Ｘは
弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるキノリノニウム化合物。

下式Ｘ■′、 Ｈｂ　　　　　　Ｈｄ （上式中、各Ｒａ　Ｒｂ、ＲｃおよびＲ４は式Ｘ■に規
定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸
の陰イオン部である） で表わされるプリノニウム化合物。

下式ＸＩＸ’、 Ｒｃ　　　　Ｈｂ 〇Ｈ−Ｎ　　ｅ ｌ　　　　　　Ｒａ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　
、Ｒ−およびＲｆは式）ＬＸに規定されたものであり、
Ｘ＆よ弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である
）で表わされるインドロニウム化合物。

下式ｘｘ’、 Ｒｄ　　　　　Ｒ１： ｇ （上式中、各Ｒ婁　Ｂｂ　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、Ｒ”
　　。

Ｒｆ、およびＲ９は式ＸＸに規定されたものであり、Ｘ
は弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるインドロニウム化合物。

下式ＸＸ　Ｉ　’、 Ｈｄ　　　　　　Ｒｅ （Ｃ ｇ （上式中、各Ｒ”、Ｒゝ　Ｒ（、Ｒｄ、Ｒａ　　。

ＲｆおよびＲ９は式ＸＸＩに規定されたものであり、Ｘ
は弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるインドリジノニウム化合物。

下式ｘｘｎ’、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ”、。

Ｒｆ、Ｒ−およびＲｈは弐ＸＸ用に規定されたものであ
り、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部であ
る） で表わされるツェナジノニウム化合物。

下式ｘｘｍ’、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
”　　。

Ｒｆ、Ｒ９およびＲ’″は式ＸＸＩＩＩで規定されたも
のであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン
部である） で表わされろフヱナルサジノニウム化合物。

下式ＸＸＩＶ’、 （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ１′　、ＲＣ、Ｒ’　　、Ｒ
”　　。

Ｒｔ　　、Ｒ９、ＲｈおよびＲ’　Ｄよ式ＸＸＩＶテ規
定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸
の陰イオン部である） で表わされるフェッチアジ７ノ；−ウムｆヒ合＋ｈ　。

下式ＸＸＶ’、 ｅ −Ｎ　　ｅ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒｃ　、Ｒ’　　、
Ｒ＠　。

ＲｆおよびＲ９は式χＸＶで規定されたものであり、Ｘ
は弱い求核陰イオンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるビロリノニウム化合物。

下式ＸＸＶＩ’、 Ｒｆ　　　　　Ｒ１１ ｉ （上式中、各Ｒ”　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　
、Ｒ＠　。

Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲ＝は弐ＸＸ■に規定
されたものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有する酸の
陰イオン部である） で表わされるインドリノニウム化合物。

下式ＸＸ■′、 ｅ （上式中、各Ｒａ　　、　Ｒｈ　　、　ＲＣ、Ｒａ　　
、　Ｒ１１。

Ｒｆ　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒゑ　、ＲｊおよびＲｋ
は式ＸＸ■に規定されたものであり、Ｘは弱い求核陰イ
オンを有する酸の陰イオン部である） で表わされるピペリジノニウム化合物。

下式ＸＸ■′、 （上式中、各Ｒａ　、Ｒゝ　、ＲＣ、Ｒｄ　　、Ｒ”　
　。

Ｒｆ　　、Ｒ’　　、Ｒ’　　、Ｒ’およびＲｊは式Ｘ
Ｘ■に規定のものであり、Ｘは弱い求核陰イオンを有す
る酸の陰イオン部である） で表わされるピペラジノニウム化合物。

エポキシ人　　人 用いてよい、分子あたり平均１個以上のエポキシド基を
有する適当な化合物は、エポキシ樹脂、例えばジヒドロ
キシフェノール、ビフェノール、ビスフェノール、ハロ
ゲン化ビスフェノール、アルキル化ビスフェノール、ト
リスフェノール、フェノールアルデヒドノボラック樹脂
、置換フェノールアルデヒドノボラック樹脂、フェノー
ル−炭化水素樹脂、置換フェノール−炭化水素樹脂、お
よびそれらのあらゆる組み合せのような多価フェノール
のグリシジルエーテルを含む・、適当なそのようなエポ
キシ樹脂は、例えば下式Ａ−Ｅで表わされるものを含む
。

式Ａ 式Ｂ 式Ｃ 式り 式Ｅ （上式中、各Ａは独立に１〜９、好ましく１よ１〜４個
の炭素原子を有する二価炭化水素基、−〇−１−ｓ−、
−５−ｓ−、−５ｏ−、−ｓｏ、−１または−ＣＯ−で
あり；各Ａ′は独立に１〜９、好ましくは１〜４個の炭
素原子を有する二価炭化水素基であり；Ｑは１〜１０個
の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｑ′は水素、ハ
ロゲン、シアノ、または１〜４個の炭素原子を有するア
ルキル基であり；各Ｒは独立に水素、ハロゲン、シアノ
、または１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり
；各Ｘは独立に水素、臭素、塩素、または１〜９、好ま
しくは１〜４個の炭素原子を有する炭化水素あるいはヒ
ドロ、カルビロキシ基であり；ｍは０〜１２、好ましく
はＯ〜９、最も好ましくは０．０３〜３の平均値を有し
；ｍ′は０．０１〜８、好ましくは０．２〜６、より好
ましくは０．５〜４の平均値を有し；ｎは０〜１の値を
有し；ｎ′はＯ〜１２、好ましくは０〜９、最も好まし
くは０．０３〜３の平均値を有し；各ｐは適当にはＯ〜
１０、より適当には０〜６、最も適当には１〜３の値を
有し；および各ｐ′は適当にはＯ〜８、より適当には１
〜６、最も適当には２〜４の値を有する）また弐Ｅで表
わされるエポキシ樹脂のオリゴマーも適当である。

炭化水素とは、あらゆる脂肪族、環式脂肪族、芳香族、
アリール置換脂肪族あるいは環式脂肪族、または脂肪族
あるいは環式脂肪族置換芳香族基を意味する。脂肪族基
は、飽和であっても不飽和であってもよい、同様に、ヒ
ドロカルビロキシとは、炭化水素基とそれが結合してい
る炭素原子の間に酸素結合を有する炭化水素基を意味す
る。

特に適当なそのようなエポキシ樹脂は、例えばレソルシ
ノール、カテコール、ヒドロキノン、ビフェノール、ビ
スフェノールＡ、ビスフェノールＦ１ビスフエノールに
１テトラブロモビスフエノールＡ１フエノール−ホルム
アルデヒドノボラック樹脂、アルキル置換フェノール−
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ヒドロキシベンズ
アルデヒド樹脂、フレソール−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド樹脂、ジシクロペンタジェン−フェノール樹脂、ジ
シクロペンタジェン−置換フェノール樹脂、テトラメチ
ルビフェノール、テトラメチル−テトラブロモビフェノ
ール、テトラメチルトリブロモビフェノール、テトラク
ロロビスフェノールＡ１およびそれらのあらゆる組み合
せのジグリシジルエーテルを含む。

また分子あたり平均１個以上の脂肪族ヒドロキシ基を有
する化合物、例えば脂肪族ジオール、ポリエーテルジオ
ール、ポリエーテルトリオール、ポリエーテルテトロー
ル、およびそれらのあらゆる組み合せのグリシジルエー
テルもエポキシド化合物として適当である。また、分子
あたり平均“１個以上の芳香族ヒドロキシ基を含む化合
物の酸化アルキレン付加物、例えば酸化エチレン、酸化
プロピレン、または多価フェノール、ビフェノール、ビ
スフェノール、ハロゲン化ビスフェノール、アルキル化
ビスフェノール、トリスフェノール、フェノール−アル
デヒドノボラック樹脂、ハロゲン化フェノール−アルデ
ヒドノボラック樹脂、アルキル化フェノール−アルデヒ
ドノボラック樹脂、炭化水素−フェノール樹脂、炭化水
素−ハロゲン化フェノール樹脂、あるいは炭化水素−ア
ルキル化フェノール樹脂の酸化ブチレン付加物、または
それらのあらゆる組み合せも適当である。

−ヒ゛ロ　シ　　　ム 用いてよい適当な芳香族ヒドロキシ含有化合物は、例え
ば分子あたり平均１個以上のフェノールヒドロキシ基を
有する化合物を含む、適当なそのような化合物は、例え
ばジヒドロキシフェノール、ビフェノール、ビスフェノ
ール、ハロゲン化ヒスフェノール、アルキル化ビスフェ
ノール、トリスフェノール、フェノールアルデヒド樹脂
、ハロゲン化フェノール−アルデヒドノボラック樹脂、
アルキル化フェノール−アルデヒドノボラック樹脂、フ
ェノール−ヒドロキシベンズアルデヒド樹脂、アルキル
化フェノールヒドロキシベンズアルデヒド樹脂、炭化水
素−フェノール樹脂、炭化水素−ハロゲン化フェノール
樹脂、炭化水素−アルキル化フェノール樹脂、およびそ
れらのあらゆる組み合せを含む、特に適当な芳香族ヒド
ロキシ含有化合物は、例えば下式Ｆ〜■で表わされるも
のを含む。

弐Ｆ Ｈ 弐Ｇ 式Ｈ 式■ （上式中、Ａ、Ａ’　　、Ｑ、Ｑ’　　、Ｘ、ｎおよび
ｍハ式Ａ　−Ｅで規定したものである） 特に適当な芳香族ヒドロキシ含有物質は、例えばビフェ
ノール、ビスフェノールＡ１ビスフエノールに、テトラ
ブロモビスフェノールＡ１テトラブロモビスフエノール
にルソルシノール、フェノール−アルデヒドノボラック
樹脂、フレソール−アルデヒドノボラック樹脂、フェノ
ールーヒドロキシヘンスアルデヒド樹脂、クレソールー
ヒＦＯキシベンズアルデヒド樹脂、テトラメチルビフェ
ノール、テトラメチルトリブロモビフェノール、テトラ
メチルテトラブロモビフェノール、テトラクロロビスフ
ェノールＡ１およびそれらのあらゆる組み合せを含む、
また、式Ｉで表わされる多官能価フェノール化合物のオ
リゴマーも適当である。

これらのおよび他の適当な芳香族ヒドロキシ含有化合物
は、Ｂｅｒｔｒａｓｅらの１９８６年６月１０日発行の
米国特許第４．５９４．２９１号に開示されている。

芳香族ヒドロキシ含有化合物は、適当には０．０５：１
〜２０：１、より適当には０．１　：　１〜１０：】、
最も適当には０．２：１〜５：ｌのエポキシ基に対する
芳香族ヒドロキシ基の比を与える量で用いられる。

本発明の前触媒化組成物は、所望により顔色、充填剤、
染料、希釈剤、溶媒、安定剤、エポキシ樹脂硬化剤、お
よびこれらのあらゆる組み合せを含んでよい。

用いてよい適当な安定剤物質および硬化剤は、例えばＨ
ｅｒ　ｔｒａ−らの前記米国特許第４．５９４．２９１
号に開示されているものを含む。

本発明の組成物は電気並びに構造用積層品および複合材
料、塗料、注型品、成型品、封入剤等の製造において使
用するための配合物の製造に有効である。これらを従来
の方法またはより新しい反応トランスファー成形（ＲＴ
Ｍ）および反応射出成形（ＲＩＭ）法に用いてよい。

撹拌器、温度計、および還流冷却器を取り付けたガラス
フラスコにフルオ硼酸の５５．９重量パーセント水溶液
１５．３７　ｇ　（０，０９８モル）を加えた。この撹
拌溶液に２−メチルイミダゾール８．２　ｇ　（０，１
００モル）を約５分かけてゆっくり加えた。２−メチル
イミダゾールが溶解すると、反応からの熱はこの溶液を
約５０℃にあたためた。周囲温度付近に冷却したら、こ
の溶液をさらに３０分間撹拌した。

メタノールを１９．９８　ｇ加え、この溶液を２−メチ
ルイミダゾールおよびフルオ硼酸の重量に対し３８．６
パ一セント固体に希釈した。

フルオ硼素水溶液の濃度はメタノール中の０．１００Ｎ
水酸化カリウムによる最初の変曲点までの電位差滴定に
より測定した。滴定の間のｐＨ変化を測定するため、Ｍ
ＣＩ　ＧＴ−０５自動滴定機および銀／塩化銀電極の組
み合せ（Ｃｕｒｔａｉｎ　Ｍａｔｈｅｓｏｎ　５ｃｉｅ
ｎｔｉｆｉｃＮα２０１−９４７）を用いた。

同じ方法および同じ量の２−メチルイミダゾール（２−
Ｍｌ）を用いて例１に記載の方法を繰り返したが、フル
オ硼酸（５５，９パーセント水溶液）の量を表■に示し
たように変えた。すべての実験は２ＭＩとフルオ硼酸の
あわせた重量に対し３８．５パ一セント固体にメタノー
ルで希釈した。結果を表１に示す。

表■ ｕ２−　エニルイミ　゛ソ゛奪つムフルオポレー撹拌器
、温度計、および還流冷却器を取り付けたガラスフラス
コにフルオ硼酸の５５．９重量パーセント水溶液１５．
３７　ｇ　（０，０９８モル）およびメタノール２９．
３ｇを加えた。この撹拌溶液に、２−フェニルイミダゾ
ール（２−Ｐ　Ｉ　）　１４．４　ｇ　（０，１００モ
ル）を約５分間でゆっくり加えた。２−フェニルイミダ
ゾールが溶解すると反応からの熱はこの溶液を約５０℃
にあたためた。周囲温度付近に冷却したらこの溶液をさ
らに３０分間撹拌した。生成物は　・２−フェニルイミ
ダゾリウムフルオロポレート付加物／錯体を３８．９重
量パーセント含む透明な溶液であった。

以下の試剤を用いて例１３の方法を行った。

４−メチルイミダゾール（４−Ｍ　Ｉ　）　４．００ｇ
　　（０，０４８７モル） フルオ硼酸（５５，９パーセント水溶液）　７．８４ｇ
　　（０，０５００モル） メタノール９．９２ｇ 得られる生成物は４−メチルイミダゾリウムフルオロボ
レート付加物／錯体を３８．５重量パーセント含む透明
な溶液であった。

以下の試剤を用いて例１３の方法を行った。

１．２−ジメチルイミダゾール（１，２−Ｄ　ｌ　）　
４．６８ｇ　　（０，０４８７モル）フルオ硼酸（５５
，９パーセント水溶液）　７．８４ｇ　　（０，０５０
０モル） メタノール１０．９５ｇ 得られる生成物は１．２−ジメチルイミダゾリウムフル
オロボレート付加物／錯体を３８．６重量パーセント含
む透明な溶液であった。

以下の試剤を用いて例１３の方法を行った。

２−エチル−４−メチルイミダゾール（２−Ｅ　−４−
Ｍ　！　）　５．３６ｇ　　（０，０４８７モル）フル
オ硼酸（５５，９パーセント水溶液）　７．８４ｇ　（
０，０５００モル） メタノール１１．９８ｇ 得られる生成物は２−エチル−４−メチルイミダゾリウ
ムフルオロボレート付加物／錯体を３８．７重量パーセ
ント含む透明な溶液であった。

以下の試剤を用いて例１３の方法を行った。

４．５−ジフェニルイミダゾール（４，５−Ｄ　Ｉ　）
　４．００ｇ　（０，０１８２モル）フルオ硼酸（５５
，９パーセント水溶ｔ＆）　２．９２ｇ　　（０，０１
６６モル） メタノール７．４７　ｇ 上記反応体を加えた後、この混合物は均質ではなく、従
ってさらにプロピレングリコールモノアセテートのモノ
メチルエーテルを３５．４ｇ加え、４゜５−ジフェニル
イミダゾリウムフルオロボレート付加物／錯体を比３重
量パーセント含む透明な溶液を得た。

例１〜１７に記載された触媒を、プロピレングリコール
モノアセテート（ＰＭＡ）のモノメチルエーテルに溶解
した１：１モル比の１８１．５のエポキシ当量を有する
ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルとビスフェノ
ールＡ　Ｃ２、２−ビス（４，４’−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン）と混合した。エポキシ樹脂（１８１，
５ｇ、１当量）、ビスフェノールＡ　（ｉｉ４ｇ、１当
ｆｆ１）およびＰＭＡ７３．８８　ｇを窒素下均質にな
るまで８０℃−１００℃に加熱し、周囲温度に冷却し、
表■に記載したように適切な量の触媒を加えた。これら
の溶液の一部を５０℃および２５℃で貯蔵し、表■に示
したように粘度を監視した。

表■ 表　■（続き） １本発明の例ではない ”　Ｃ，Ｅ、は比較例である ゝ触媒としてメチルイミダゾールのみ（メタノール９４
０重量％溶液） （触媒として２−フェニルイミダゾールのみ（メタノー
ル９４０重量％溶液） ４触媒として１，２−ジメチルイミダゾールのみ（メタ
ノール９４０重量％溶液） 表」四ｌ乳注 “本発明の例ではない １例は番号で示し、比較例は文字で示すゝこのテスト法
の限度以上の組成物の粘度（＞２００．０００ｃｐｓ） ６触媒として２−メチルイミダゾール、２−フェニルイ
ミダゾールおよび１，２−ジメチルイミダゾールのみ用
いた −この値は適当な例で得られる粘度を、ＩＩＢＦ、と反
応しないことを除いて同じ窒素あるいは燐化合物を触媒
として用いる比較配合物の粘度で割ることより求められ
た。

０この粘度は測定の間増加した。

例１８および比較例Ｂに記載の塗料をＰａｒｋｅｒＣｈ
ｅｎ＋１ｃａｌ　Ｃｏ、より入手可能な２４ゲージＢｏ
ｎｄｅｒｉ　ｔｅ”Ｒ９０処理スチールパネルに塗布し
た。この塗料を約５分間風乾し、次いで２００″Ｃにセ
ットした強制空気オーブンに１０分間入れた。パネルを
オーブンから取り出し、周囲温度に冷却し、表■に示し
たようにしてテストした。

メチルエチルケトンに対する抵抗性は以下の方法で調べ
た。約１．５１ｂｓ（０，６８０４ｋｇ）のボールハン
マーのボール端を８枚のガーゼでおおい、メチルエチル
ケトン（ＭＥＫ）で湿らせる。この゛ハンマーのボール
端を塗布した表面にのせ、塗料がはがれるまでこする。

１往復の摩擦がハンマーの１往復に相当する。塗料をは
ぎとるに必要なｌ往復の摩擦の回数を記録した。

０〜１／８インチ（０−！−３．１７５ｍｍ）のくさび
曲げ試験用に製造されたＧａｒｄｎｅｒ　Ｆａｌｌｉｎ
ｇ　ＤａｒｔＩｍｐａｃｔ　Ｔｅ５ｔｅｒ（ガードナー
落槍衝撃試験機）を用いて１／８インチ（３，１７５ｍ
ｍ）のくさびテストにより柔軟性を測定した。パネルの
底３／４イ°ンチ（１９，０５ｍ＋ａ）をその上に１８
０°曲げ、塗料を外側に向け、次いで０〜１７８インチ
（０〜３．１７５喘）の間隔を形成するようＴ番付けし
た２枚の平行でないスチール板の間にはさんだ。パネル
が０から１／８インチのくさびに曲がるまで落槍の鈍い
末端で上の枚に衝撃を加えた。塗布部を約１分間１０パ
ーセントＣｕＳＯ４／　Ｉ　Ｎ　Ｈｃｘ溶液でふくと、
赤銅色にかわり、塗料がはがれスチール金属がさらされ
た。表■に示したパーセント合格値は全体の長さ４イン
チ（１０１，６ｍｍ）で割った、赤銅色より明らかな退
色時点までの１／８インチからのインチを１００倍して
計算した。

゛本発明の例ではない ”　Ｃ，Ｅ、は比較例である テトラフ′ロモビスフェノールＡ　１３６ｇ　（０，５
当量）、１８１．５のエポキシ当量を有するビスフェノ
ールＡのジグリシジルエーテル１８１．５ｇ　（１，０
当量）、スルファニルアミド４．３ｇ（０，１当量）、
を均質になるまで１００〜】３０℃で撹拌し、次いで例
１記載の触媒０．８７１　ｇ　°（２，０ミリモル）を
加えた。この混合物を均質になるまで撹拌し、約１分間
排気して脱ガスし、１／８インチ（３，１７５ｍｍ）は
なれたあらかじめ加熱したアルミニウム金型に注いだ。

この注型物を１５０℃で１６時間、続いて２００℃で３
時間で硬化させた。この注型物を冷却し、アルミニウム
金型からとり出し、表Ｖに示したようにテストした。

例５２に記載された触媒を１．８４ｇ　（２，０ミリモ
ル）用いて例３６を繰り返した。

この実験において、靭性は応力増強因子ｋｇとして記録
された。ｋｇの測定方法は、金属による本来の用法から
のプラスチック材料へのＡＳＴＭ　Ｅ　３９９−８３の
改変であった。密引張テストは今や広く用いられ、Ｊ、
Ｍａｔｅｒ、Ｓｃｉ、Ｖｏｌ、１６．２６５７．１９８
１に記載された。

１／８インチ（３，１７５ｍｍ）の厚さの平坦な注型品
から約１インチ（２５，４ｍｍ）の正方形として個々の
テスト片を切った。次に、かみそりの刃をノツチに入れ
、軽く打ち予備亀裂を入れた。ＡＳＴＭ　Ｅ　３９９−
８３に示されたように、２個の穴をばち形に隣接してあ
け、テスト片をインストロンテスト機内の位置に留めた
。サンプルの伸長は、０．０２インチ／分（Ｑ、ＱＯ８
５＋ｎｍ、／秒）のテスト速度を用いて予備亀裂を開く
に必要な力の測定を可能にする。この力は「応力増強因
子ＪＫＱを計算するため、必要なサンプルの寸法および
実際の予備亀裂の長さと共にＡＳＴＨＥ−３９９に示さ
れた式で用いられた。この方法はＬｅｅ、Ｌ、Ｈ，のＰ
ｈ　ｓｉｃｏｃｈｅｍｉｃａｌ　Ａｓ　ｅｃｔｓ　ｏｆ
　Ｐｏｔ　ｍｅｒＳｕｒｆａｃｅｓ＋に、Ｌ、Ｍｉｔｔ
ａｌ、’ｅｄ、、Ｐｌｅｎｕｍ　Ｐｒｅｓｓ、Ｎｅｗ　
Ｙｏｒｋ。

１９８３に記載された。

この実験において、調整したＤｕＰｏｎｔ　Ｉｎｓｔｒ
ｕｍｅｎｔ（Ｍｏｄｅｌ　Ｎｏ、　９１２．１０９０コ
ントローラー）を用いる示差走査熱量計（ＤＳＣ）でガ
ラス転移温度（Ｔｇ　）を測定した。サンプルは窒素大
気下、１分あたり１０℃（０，１６６７℃／秒）の温度
ランプで送った。

を 撹拌器、温度計、および還流冷却器を取り付けたガラス
フラスコにエチルトリフェニルホスホニウムアセテート
・酢酸（ＥＴＰＰＡ　−）ＩＡｃ）錯体の７１．９重量
パーセントメタノール溶液１１．４　ｇ　　（０，０２
００モル）を加えた。この撹拌溶液にフルオ硼酸の５３
．４重量パーセント水溶液３．６８２　ｇ　　（０，０
２２４モル）　（ＥＴＰＰ八・ＨＡｃのモルあたり１．
１２モル）を約５分かけゆっくり加えた０反応からの熱
はこの溶液を約５０℃にあたためた０周囲温度付近に冷
却したら、この溶液をさらに３０分間撹拌した。次いで
メタノールを１０．２２ｇ加え、エチルトリフェニルホ
スホニウムフルオボレート錯体のｉ量に対しこの溶液を
４０パ一セント固体に希釈した。

メタノール中のＥＴＴＰＡ　−ＨＡｃの重量パーセント
は酢酸中の０．１００６Ｎ過塩素酸（ＨＣｊ！　０４）
に・よる結晶紫色終点（青から緑終点）へのアセテート
基の滴定により測定された。ジクロロメタン１５ｄ中に
溶解した０、７２９５　ｇのＥＴＰＰＡ　−ＨＡＣ／メ
タノール溶液を滴定するに過塩素酸溶液１２．８０ｍ　
（０，００１２８０モル）が必要であり、これはメタノ
ール中子１．９重量パーセントのＥＴＰＰＡ−ＨＡｃと
計算された。

同じ方法および同量のＥＴＰＰＡ−ＨＡｃを用いるが、
フルオ硼酸（５３，４パーセント水溶液）の重量を表■
に示したように変えて、例３８に記載の方法を繰り返し
た。すべての実験はＥＴＰＰＡ−ＨＡｃおよびフルオ硼
酸の合わせた重量に対し４０パ一セント固体にメタノー
ルで希釈した。

、表−ｊ− フルオ硼酸の比が異なるエチルトリフェニルホスホニウ
ムフルオロボレート錯体 “本発明の例ではない ’　Ｃ，Ｅ、は比較例である ゝ触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムアセテー
ト・酢酸錯体のみ ■並　−−プチルホスホニウムフルオボレー撹拌器、温
度計、および還流冷却器を取り付けたガラスフラスコに
テトラブチルホスホニウムアセテート・酢酸錯体（ＴＢ
ＰＡ−ＨＡｃ）の６０．９重量パーセントメタノール溶
液６．２０　ｇ　　（０，０１モル）を加えた。この撹
拌溶液に、フルオ硼酸の５３．４重量パーセント水溶液
２，００ｇ　（０，０１２２モル）　（ＴＢＰＡ−ＨＡ
ｃのモルあたり１．２２モル）を約５分かけゆっくり加
えた０反応からの熱はこの溶液を約５０゛Ｃにあたため
た０周囲塩度付近に冷却したらさらにこの溶液を３０分
間撹拌した。次いでメタノールを３．９１６ｇ加え、テ
トラプチルホスホニウムフルオポレート錯体の重量に対
し４０パ一セント固体にこの溶液を希釈した。

メタノール中のＴＢＰＡ・ＨＡｃの重量パーセントは酢
酸中の０．１００６Ｎ過塩素酸（＋１１０．）による結
晶紫色終点（青から緑終点）へのアセテート基の滴定に
より測定された。ジクロロメタン１５ｍ１中に溶解した
０、６３０１　ｇのＴＢＰＡ−ＨＡｃ　／メタノールを
滴定するに過塩素酸溶液１０．１５ｄ　（０，００１０
１５モル）が必要であり、これはメタノール９６０，９
重量パーセントのＥＢＰＡ−ＨＡｃと計算された。　　
　　・同じ方法および同量のテトラブチルホスホニウム
、アセテート・酢酸錯体（ＴＢＰＡ・１１＾Ｃ）を用い
るが、フルオ硼酸（５３，４パーセント水溶液）の重量
を表■に示したように変えて、例４６に記載の方法を繰
り返した。すべての実験はＴＢＰＡ−ＨＡｃおよびフル
オ硼酸の合わせた重量に対し４０パ一セント固体にメタ
ノールで希釈した。

ｌ二二■ フルオ硼酸の比が異なるテト、ラブチルホスホニウムフ
ルオボレート錯体 ８本発明の例ではない ”　ＣＪ、は比較例である ゝ触媒としてテトラブチルホスホニウムアセテート・酢
酸錯体のみ 五匝二競　　の　ルオボレ−４の１′告表■に記載のよ
うに窒素含有化合物の当量あたりフルオ硼酸１．０２モ
ルの比を用いて、例３８の方法を行った。アミン化合物
・フルオボレート錯体に対する固体パーセントを４０重
量パーセントにするためメタノールを加えた。

ｌ−■ フルオ硼酸の比が異なるテトラブチル ホスホニウムフルオボレート錯体 １躬　　フルオロボレー　によるフルオロボレー真空乾
燥したテトラブチルホスホニウムクロリド１．８２　ｇ
　　（０，００６２モル）をメタノール５．８４ｇに溶
解し、メタノール３．４６　ｇに溶解した銀フルオロボ
レート１．２０ｇ　（０，００６２モル）に滴下添加し
た。この懸濁液を２５℃で３０分間撹拌し、濾過によっ
て塩化銀を除去した。テトラブチルホスホニウムフルオ
ボレート溶液を過剰のメタノールの真空除去によって４
０重量パーセント固体に−ａ縮した。

例３８〜６４に記載された触媒を、プロピレングリコー
ルモノアセテート（ＰＭＡ）のモノメチルエーテルに溶
解Ｌ７た１：１モル比の１８１．５のエポキ・　シ当量
を有するビスフェノールＡのジグリシジルエーテルおよ
びビスフェノールＡ　（２、２−ビス（４，４’−ヒド
ロキシフェニル）プロパン）と混合した。エポキシ樹脂
（１８１，５ｇ　）　、ビスフェノールＡ（ｉｉ４ｇ）
、およびＰＭＡ　７３．８８ｇを窒素上均質になるまで
８０〜１００℃に加熱し、周囲温度に冷却し、例１８〜
３４に記載した方法で１当量のエポキシドに９．０ミリ
モルの触媒を加えた０次いでこの溶液の一部を５０℃お
よび２５℃に保存し、表■に示したように粘度を監視し
た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（Ａ）分子あたり平均１個以上のエポキシド基を含
   む少なくとも１種の化合物； （Ｂ）アルケニルフェノールポリマー以外の分子あたり
   平均１個以上の芳香族ヒドロキシ基を含む少なくとも１
   種の化合物； および（Ｃ） （１）（ａ）元素窒素、燐、硫黄または砒素のオニウム
   化合物、 （ｂ）非複素環式アミン化合物またはその酸付加物およ
   び （ｃ）複素環式窒素含有化合物またはその酸付加物、よ
   り選ばれる少なくとも１種の化合物を （２）（ａ）硼素またはその金属塩を有しない無機酸（
   この無機酸は弱い求核陰イオンを有する）、 （ｂ）硼素またはその金属塩を含む無機酸〔この無機酸
   は式ＢＲ＿３Ｒ′（式中各Ｒは独立に水素または１〜１
   ２個の炭素原子を有する脂肪族、環式脂肪族あるいは芳
   香族炭化水素基またはハロゲンであり、Ｒ′は炭化水素
   基以外の基である）で表わされる〕および （ｃ）成分（ａ）または（ｂ）のあらゆる組み合せ、よ
   り選ばれる少なくとも１種の化合物、と接触させること
   より得られる触媒量の生成物、を含んでなる組成物に関
   し、ここで（ｉ）成分（Ｃ−１）および（Ｃ−２）を、
   ５０℃で１４日間貯蔵後組成物の必要な粘度を満足する
   ようにする量で接触させ； （ｉｉ）成分（Ａ）および（Ｂ）は、０．０５：１〜２
   ０：１のエポキシド基に対する芳香族ヒドロキシ基の比
   を与える量で存在し； （ｉｉｉ）適当な溶媒あるいは溶媒混合物の２０〜４０
   重量パーセントで溶解した場合、成分（Ａ）、（Ｂ）、
   および（Ｃ）の混合物は、２５℃で測定した場合、成分
   （Ｃ−１）のみからなる触媒を除く同様の組成物の粘度
   より７５パーセント以下の粘度を有する（前記粘度は５
   ０℃で１４日間貯蔵後測定した）組成物。 ２、成分（Ａ）がジヒドロキシフェノール、ビフェノー
   ル、ビスフェノール、ハロゲン化ビスフェノール、アル
   キル化ビスフェノール、トリスフェノール、フェノール
   −アルデヒドノボラック樹脂、ハロゲン化フェノール−
   アルデヒドノボラック樹脂、アルキル化フェノール−ア
   ルデヒドノボラック樹脂、フェノール−ヒドロキシベン
   ズアルデヒド樹脂、アルキル化フェノール−ヒドロキシ
   ベンズアルデヒド樹脂、炭化水素−フェノール樹脂、炭
   化水素−ハロゲン化フェノール樹脂、炭化水素−アルキ
   ル化フェノール樹脂、脂肪族ジオール、脂肪族トリオー
   ル、ポリエーテルジオール、ポリエーテルトリオールの
   グリシジルエーテル、分子あたり平均１個以上の芳香族
   ヒドロキシ基を含む化合物の酸化アルキレン付加物、ま
   たはそれらのあらゆる組み合せである、請求項１記載の
   組成物。 ３、成分（Ｂ）がジヒドロキシフェノール、ビフェノー
   ル、ビスフェノール、ハロゲン化ビスフェノール、アル
   キル化ビスフェノール、トリスフェノール、フェノール
   −アルデヒドノボラック樹脂、ハロゲン化フェノール−
   アルデヒドノボラック樹脂、アルキル化フェノール−ア
   ルデヒドノボラック樹脂、フェノール−ヒドロキシベン
   ズアルデヒド樹脂、アルキル化フェノール−ヒドロキシ
   ベンズアルデヒド樹脂、炭化水素−フェノール樹脂、炭
   化水素−ハロゲン化フェノール樹脂、炭化水素−アルキ
   ル化フェノール樹脂、またはそれらのあらゆる組み合せ
   である、請求項１記載の組成物。 ４、成分（Ｃ−１−ａ）が下式 I Ａまたは I Ｂ、 ▲数式、化学式、表等があります▼ I Ａ ▲数式、化学式、表等があります▼ I Ｂ （上式中、各Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は独立に
   １〜１８、好ましくは１〜９個の炭素原子を有する炭化
   水素基、または１〜１８、好ましくは１〜９個の炭素原
   子を有し、さらに１個以上の酸素、硫黄、ハロゲン、あ
   るいは窒素原子を含む炭化水素基であり、またはＲ、Ｒ
   ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３基のうち２個が結合し、炭素
   以外の原子を１種以上含む複素環を形成してもよく、各
   Ｘは比較的強い求核酸の酸の陰イオン部であり、Ｚは燐
   、窒素、硫黄または砒素であり、ｍは陰イオンＸの原子
   価に等しい値を有し、ｚはＺの原子価によって０または
   １の値を有する） で表わされる、請求項１記載の組成物。 ５、成分（Ｃ−１−ｂ）が一級、二級あるいは三級脂肪
   族、環式脂肪族、または芳香族非複素環式アミンである
   、請求項１記載の組成物。 ６、成分（Ｃ−１−ｂ）がイミダゾール、イミダゾリジ
   ン、イミダゾリン、オキサゾール、ピロール、チアゾー
   ル、ピリジン、ピラジン、モルホリン、ピリダジン、ピ
   リミジン、ピラゾール、キノキサリン、ギアゾリン、フ
   タロジン、キノリン、プリン、インダゾール、インドー
   ル、インドラジン、フェナジン、フェナルシン、フェノ
   チアジン、ピロリン、インドリン、ピペリジン、ピペラ
   ジン、ピロリジン、およびそれらの組み合せより選ばれ
   る、請求項１記載の組成物。 ７、成分（Ｃ−２）がフルオ硼酸、フルオ砒酸、フルオ
   アンチモン酸、フルオ燐酸、クロロ硼酸、クロロ砒酸、
   クロロアンチモン酸、クロロ燐酸、過塩素酸、塩素酸、
   臭素酸、沃素酸、そのような酸の I 族あるいはII族金
   属塩、およびそれらのあらゆる組み合せからなる群より
   選ばれる、請求項１記載の組成物。 ８、（１）ピリジンまたはその酸付加物以外の少なくと
   も１種の複素環式窒素含有化合物を（２）（ａ）硼素ま
   たはその金属塩を有しない無機酸（この無機酸は弱い求
   核陰イオンを有する）、 （ｂ）硼素またはその金属塩を含む無機酸〔この無機酸
   は式ＢＲ＿３Ｒ′（式中各Ｒは独立に水素または１〜１
   ２個の炭素原子を有する脂肪族、環式脂肪族あるいは芳
   香族炭化水素基またはハロゲンであり、Ｒ′は炭化水素
   基以外の基である）で表わされる〕および （ｃ）成分（ａ）または（ｂ）のあらゆる組み合せ、よ
   り選ばれる少なくとも１種の化合物、を接触させること
   より得られる触媒。 ９、成分（１）および（２）を、複素環式窒素含有化合
   物あるいは複素環式窒素含有化合物の酸付加物のモルあ
   たり０．６〜１．４モルの酸あるいは金属酸塩を提供す
   る量で接触させる、請求項８記載の触媒。 １０、（ａ）成分（１）が、イミダゾール、イミダゾリ
   ジン、イミダゾリン、オキサゾール、ピロール、チアゾ
   ール、ピリジン、ピラジン、モルホリン、ピリダジン、
   ピリミジン、ピラゾール、キノキサリン、キナゾリン、
   フタロジン、キノリン、プリン、インダゾール、インド
   ール、インドラジン、フェナジン、フェナルシン、フェ
   ノチアジン、ピロリン、インドリン、ピペリジン、ピペ
   ラジン、ピロリジン、およびそれらの組み合せより選ば
   れ、および （ｂ）成分（２）が、フルオ硼酸、フルオ砒酸、フルオ
   アンチモン酸、フルオ燐酸、クロロ硼酸、クロロ砒酸、
   クロロアンチモン酸、クロロ燐酸、過塩素酸、塩素酸、
   臭素酸、沃素酸、そのような酸の I 族あるいはII族金
   属塩、またはそれらのあらゆる組み合せより選ばれる、
   請求項８記載の触媒。 １１、成分（１）が下式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （上式中、Ｒ＾ａは水素、ハロゲン、シアノまたは２〜
   １８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫
   黄またはハロゲン置換基を含む炭化水素基であり；各Ｒ
   ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独立に水素、ハロゲン、シ
   アノまたは１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あ
   るいは酸素、硫黄またはハロゲン置換基を含む炭化水素
   基であり、またはＲ＾ｂおよびＲ＾ｃは結合しそれが結
   合しているイミダゾール環からの炭素および窒素原子と
   ５あるいは６員環を形成してよく、またはＲ＾ｃおよび
   Ｒ＾ｄは結合し、それが結合しているイミダゾール環か
   らの２個の炭素原子と５あるいは６員環を形成してよい
   ） で表わされるイミダゾールである、請求項１０記載の触
   媒。 １２、前記イミダゾール化合物が２−エチル−４−メチ
   ルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、１，２−ジ
   メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４，
   ５−ジフェニルイミダゾール、またはそれらのあらゆる
   組み合せである、請求項１１記載の触媒。 １３、下式 I ′ ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） 〔上式中、Ｒ＾ａは水素、または２〜１８個の炭素原子
   を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄またはハロゲン
   置換基を含む炭化水素基であり；各Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよ
   びＲ＾ｄは独立に水素、または１〜１８個の炭素原子を
   有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄またはハロゲン置
   換基を含む炭化水素基であり、またはＲ＾ｂおよびＲ＾
   ｃは結合しそれが結合しているイミダゾール環からの炭
   素および窒素原子と５あるいは６員環を形成してよく、
   またはＲ＾ｃおよびＲ＾ｄは結合し、それが結合してい
   るイミダゾール環からの２個の炭素原子と５あるいは６
   員環を形成してよく； Ｘは（ａ）弱い求核陰イオンを有し硼素を舎まない無機
   酸または （ｂ）式ＨＢＲ＿３Ｒ′ （式中各Ｒは独立に水素または１〜１２個の炭素原子を
   有する脂肪族、環式脂肪族、あるいは芳香族炭化水素基
   、またはハロゲンであり、Ｒ′はハロゲンである）で表
   わされる硼素含有無機酸、の陰イオン部である〕 で表わされる請求項１１記載の触媒。 １４、前記複素環式窒素含有化合物が下式II、▲数式、
   化学式、表等があります▼（II）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独立に水素、ハロゲン、
   シアノまたは１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基
   あるいは酸素、硫黄またはハロゲン置換基を含む炭化水
   素基であり、またはＲ＾ｂおよびＲ＾ｃは結合しそれが
   結合しているピラゾール環からの炭素および窒素原子と
   ５あるいは６員環を形成してよく、またはＲ＾ｃおよび
   Ｒ＾ｄは結合し、それが結合しているピラゾール環から
   の２個の炭素原子と５あるいは６員環を形成してよい） で表わされるピラゾール化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 １５、前記複素環式窒素含有化合物が下式III、▲数式
   、化学式、表等があります▼（III） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独
   立に水素、ハロゲン、シアノ、または１〜１８個の炭素
   原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノま
   たはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるオキサゾールである、請求項１０記載の触
   媒。 １６、前記複素環式窒素含有化合物が下式IV、▲数式、
   化学式、表等があります▼（IV）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇおよ
   びＲ＾ｈは独立に水素、または１〜１８個の炭素原子を
   有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、またはハロゲン
   置換基を含む炭化水素基である） で表わされるイミダゾリジン化合物である、請求項１０
   記載の触媒。 １７、前記複素環式窒素含有化合物が下式Ｖ、▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｖ）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅおよびＲ＾ｆは独立に
   水素、または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基
   あるいは酸素、硫黄、またはハロゲン置換基を含む炭化
   水素基である）で表わされるイミダゾリン化合物である
   、請求項１０記載の触媒。 １８、前記複素環式窒素含有化合物が下式VI、▲数式、
   化学式、表等があります▼（VI）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独立に水素、ハロゲン、
   シアノ、または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素
   基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を
   含む炭化水素基である） で表わされるチアゾール化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 １９、前記複素環式窒素含有化合物が下式VII、▲数式
   、化学式、表等があります▼（VII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄおよびＲ
   ＾ｅは独立に水素、または１〜１８個の炭素原子を有す
   る炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲ
   ン置換基を含む炭化水素基である）で表わされるピロー
   ル化合物である、請求項１０記載の触媒。 ２０、前記複素環式窒素含有化合物が下式VIII、▲数式
   、化学式、表等があります▼（VIII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄおよびＲ
   ＾ｅは独立に水素、ハロゲン、シアノ、または１〜１８
   個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、
   シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基であり、
   Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄまたはＲ＾ｅのうち少
   なくとも１個は水素以外である）で表わされるピリジン
   化合物である、請求項１０記載の触媒。 ２１、前記複素環式窒素含有化合物が下式IX、▲数式、
   化学式、表等があります▼（IX）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独立に水素、または１〜
   １８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫
   黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基であ
   る） で表わされるピラジン化合物である、請求項１０記載の
   触媒。 ２２、前記複素環式窒素含有化合物が下式Ｘ、▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｘ）（上式中、各Ｒ＾ａ、
   Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独立に水素、または１〜
   １８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫
   黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基であ
   る） で表わされるピリダジン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ２３、前記複素環式窒素含有化合物が下式Ｘ I 、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾ｈおよびＲ＾ｉは独立に水素、
   ハロゲン、シアノ、または１〜１８個の炭素原子を有す
   る炭化水素基あるいは酸素、硫黄、またはハロゲン置換
   基を含む炭化水素基である） で表わされるピロリジン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ２４、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） （上式中、Ｒ＾ａは水素、ハロゲン、シアノまたは２〜
   １８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫
   黄またはハロゲン置換基を含む炭化水素基であり；各Ｒ
   ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾
   ｈおよびＲ＾ｉは独立に水素、ハロゲン、シアノまたは
   １〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素
   、硫黄またはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるモルホリン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ２５、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸIII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄおよびＲ
   ＾ｅは独立に水素、または１〜１８個の炭素原子を有す
   る炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲ
   ン置換基を含む炭化水素基である）で表わされるピリミ
   ジン化合物である、請求項１０記載の触媒。２６、前記
   複素環式窒素含有化合物が下式ＸIV、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIV） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、およびＲ＾ｆは独立に水素、または１〜１８個の炭素
   原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノま
   たはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるキノキサリン化合物である、請求項１０記
   載の触媒。 ２７、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＶ、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＶ） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   およびＲ＾ｆは独立に水素、または１〜１８個の炭素原
   子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまた
   はハロゲン置換基を含む炭化水素基である）で表わされ
   るキナゾリン化合物である、請求項１０記載の触媒。 ２８、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸVI、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVI） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   およびＲ＾ｆは独立に水素、または１〜１８個の炭素原
   子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまた
   はハロゲン置換基を含む炭化水素基である）で表わされ
   るフタロジン化合物である、請求項１０記載の触媒。 ２９、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸVII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆおよびＲ＾ｇは独立に水素、または１〜１８個
   の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シ
   アノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるキノリン化合物である、請求項１０記載の
   触媒。 ３０、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸVIII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸVIII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃおよびＲ＾ｄは独
   立に水素、または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水
   素基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基
   を含む炭化水素基である） で表わされるプリン化合物である、請求項１０記載の触
   媒。 ３１、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸIX、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIX） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   およびＲ＾ｆは独立に水素、または１〜１８個の炭素原
   子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまた
   はハロゲン置換基を含む炭化水素基である）で表わされ
   るインダゾール化合物である、請求項１０記載の触媒。 ３２、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸ、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸ） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、およびＲ＾ｇは独立に水素、シアノ、または
   １〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素
   、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基
   である） で表わされるインドール化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ３３、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸ I 、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸ I ） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆおよびＲ＾ｇは独立に水素、または１〜１８個
   の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シ
   アノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるインドラジン化合物である、請求項１０記
   載の触媒。 ３４、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇおよびＲ＾ｈは独立に水素、または１
   〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、
   硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基で
   ある） で表わされるフェナジン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ３５、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸIII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸIII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇおよびＲ＾ｈは独立に水素、または１
   〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、
   硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基で
   ある） で表わされるフェナルサジン化合物である、請求項１０
   記載の触媒。 ３６、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸIV、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸIV） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾ｈおよびＲ＾ｉは独立に水素、
   または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるい
   は酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化
   水素基である） で表わされるフェノチアジン化合物である、請求項１０
   記載の触媒。 ３７、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸＶ、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸＶ） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆおよびＲ＾ｇは独立に水素、または１〜１８個
   の炭素原子を有する炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シ
   アノまたはハロゲン置換基を含む炭化水素基である） で表わされるピロリン化合物である、請求項１０記載の
   触媒。 ３８、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸVI、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸVI） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾ｈおよびＲ＾ｉは独立に水素、
   または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基あるい
   は酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を含む炭化
   水素基である） で表わされるインドリン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ３９、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸVII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸVII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾ｈ、Ｒ＾ｉ、Ｒ＾ｊおよびＲ＾
   ｋは独立に水素、または１〜１８個の炭素原子を有する
   炭化水素基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン
   置換基を含む炭化水素基である） で表わされるピペリジン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。 ４０、前記複素環式窒素含有化合物が下式ＸＸVIII、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＸVIII） （上式中、各Ｒ＾ａ、Ｒ＾ｂ、Ｒ＾ｃ、Ｒ＾ｄ、Ｒ＾ｅ
   、Ｒ＾ｆ、Ｒ＾ｇ、Ｒ＾ｈ、Ｒ＾ｉおよびＲ＾ｊは独立
   に水素、または１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素
   基あるいは酸素、硫黄、シアノまたはハロゲン置換基を
   含む炭化水素基である） で表わされるピペラジン化合物である、請求項１０記載
   の触媒。