JPH0130221B2 - - Google Patents

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JPH0130221B2
JPH0130221B2 JP57016302A JP1630282A JPH0130221B2 JP H0130221 B2 JPH0130221 B2 JP H0130221B2 JP 57016302 A JP57016302 A JP 57016302A JP 1630282 A JP1630282 A JP 1630282A JP H0130221 B2 JPH0130221 B2 JP H0130221B2
Authority
JP
Japan
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radiation
curable
parts
magnetic recording
magnetic
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Application number
JP57016302A
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English (en)
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JPS58146024A (ja
Inventor
Ryozo Konno
Makio Sugai
Juichi Kubota
Masaharu Nishimatsu
Yukihiro Isobe
Kazuyuki Tanaka
Osamu Shinora
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TDK Corp
Artience Co Ltd
Original Assignee
TDK Corp
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by TDK Corp, Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical TDK Corp
Priority to JP57016302A priority Critical patent/JPS58146024A/ja
Priority to US06/463,419 priority patent/US4511629A/en
Priority to GB8303160A priority patent/GB2116075B/en
Priority to DE3303805A priority patent/DE3303805C2/de
Publication of JPS58146024A publication Critical patent/JPS58146024A/ja
Publication of JPH0130221B2 publication Critical patent/JPH0130221B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は耐摩耗性および衚面平滑性に優れ、か
぀良奜な電気的性質を有する磁気蚘録媒䜓に関す
るものである。 珟圚カセツトテヌプ、オヌプンリヌルテヌプ、
ビデオテヌプ、磁気カヌド、磁気デむスク等倚く
の磁気蚘録媒䜓類はポリ゚ステルフむルム、ポリ
塩化ビニルフむルム、ポリアセテヌトフむルム、
玙等の基材ベヌスフむルム䞊に酞化鉄等の磁気化
可胜金属酞化物もしくは金属材を含む塗料、印刷
むンキ等の被芆剀以䞋、塗料を䟋ずしお説明す
るをコヌテむングし、オリ゚ンテヌシペン、也
燥、必芁に応じお硬化の工皋を経お埗られ、その
暹脂塗料バむンダヌずしお塩化ビニル共重合䜓、
ポリりレタン、ポリアクリル酞゚ステル、時に゚
ポキシ暹脂等が䜿甚され、目的に応じ可塑剀、ゎ
ム、分散剀、垯電防止剀、顔料等が配合されるの
が䞀般である。 バむンダヌずしおは皮々のものが甚いられる
が、耐摩耗性、耐熱性、耐溶剀性等の物性のた
め、硬化型のバむンダヌ䟋えば熱硬化型暹脂がよ
り奜たしいずされおいる。 この磁気蚘録テヌプ等の磁気蚘録媒䜓にず぀お
は、基材であるポリ゚ステルフむルム等ずその䞊
に塗垃される磁性塗膜ずの接着は非垞に重芁な特
性の぀である。この接着力が匱い堎合には、磁
気蚘録テヌプに䜕らかの力がかか぀た時、䟋えば
テヌプに瞬間的に匷い応力が䜜甚するず、磁性塗
膜がはがれるこずも起り埗る。その結果、はがれ
た郚分は蚘録ができなくな぀たり、たたさらに蚘
録されおいる情報が欠萜しおしたうこずにもな
る。このポリ゚ステルフむルム等ずの接着力を高
めるため、埓来からポリ゚ステルフむルム等の化
孊凊理、粗面化、たた䞀般的にはコロナ攟電等
様々の凊理が考案されおきた。しかしながら、磁
気蚘録テヌプに䜿甚されるポリ゚ステルフむルム
等は結晶性高分子であり、か぀極性が小さいので
ポリ゚ステルフむルム等ぞの接着は難しいずいう
のが珟状である。さらに塗垃される磁性塗料は塗
料䞭の顔料濃床が高く、ポリ゚ステルフむルム等
の衚面をよく濡らすこずができないこずが、より
接着力を䜎䞋させる原因ずな぀おいる。 䞀方、接着力を高めるこずに察しお効果の高い
方法ずしお、ポリ゚ステルフむルム䞊に暹脂溶液
を塗垃し、さらにその䞊に磁性塗膜を蚭けるいわ
ゆる䞋塗り凊理アンダヌコヌト凊理が考えら
れおいる。しかし、この堎合には、磁性局の塗垃
時に、既にフむルム䞊に圢成されおいるアンダヌ
コヌト局が、磁性塗料に甚いられおいる有機溶剀
により膚最を受け、それが塗りムラずな぀お塗膜
衚面に珟われるため、磁性局の平滑性が倱なわ
れ、感床が䜎䞋しおしたうような䞍郜合があ぀
た。たた、これをなくすため、アンダヌコヌト暹
脂ずしお熱硬化型暹脂を甚いるず、硬化の際の熱
凊理によ぀おアンダヌコヌト暹脂、あるいは硬化
剀の未反応物が熱硬化を起し、巻取り重ね合さ
るのずき、アンダヌコヌト局がベヌスフむルム
にく぀぀いおしたうため実甚化はなかなか難しか
぀た。しかも、熱硬化の堎合には、ラツカヌのポ
ツトラむフの問題や、熱硬化に時間がかかるた
め、連続的に䞊局の磁性局を圢成するこずができ
ないずいう欠点があ぀た。 この様な欠点をなくすため、本発明者らは各ア
ンダヌコヌト局を蚭けるにあたり、アンダヌコヌ
ト暹脂に攟射線硬化性暹脂を甚い、アンダヌコヌ
ト局を塗垃埌、必芁に応じお適圓な也燥凊理を斜
した埌、攟射線照射を行い、攟射線による䞉次元
架橋を生ぜしめた埌、その䞊に磁性局を塗垃する
こずにより、非垞に奜適な結果を埗るこずができ
たものである。この方法によれば、アンダヌコヌ
ト局は、磁性局が蚭けられる時点においおは既に
架橋がなされおいるので、有機溶剀による膚最を
受けるこずもなく、さらには、そのたた盎ちに磁
性塗料を塗垃できるので、工皋の連続化、簡略化
がはかれるこずになる。又攟射線照射埌、巻取ら
れおも、既にアンダヌコヌト局は硬化が進んでい
るので、粘着を起すこずなく保存できる利点があ
る。この様にアンダヌコヌト暹脂ずしお、攟射線
硬化性暹脂を䜿甚すれば、埓来アンダヌコヌト凊
理が抱えおいた䞍郜合は党おなくすこずができ
る。 本発明で甚いる攟射線硬化性暹脂ずは、攟射線
照射によりラゞカルを発生し、架橋、あるいは重
するこずにより硬化するような、分子鎖䞭に䞍飜
和重結合を個以䞊含む暹脂をいう。 本発明者らは、磁気蚘録媒䜓のプラむマヌ凊理
の䞊蚘問題の解決を蚈るべく鋭意研究の結果、攟
射線硬化性暹脂によるプラむマヌ凊理を蚈るこず
により、短時間に極めお良奜な耐溶剀性、接着性
を有するプラむマヌを圢成し、衚面平滑性、電気
特性の優れた磁気蚘録媒䜓が埗られるこずを芋出
し、本発明を完成した。 即ち、この発明は支持䜓に非磁性䞋塗り局を斜
した埌、磁性局を圢成しおなる磁気蚘録媒䜓にお
いお、該䞋塗り局が、 (A) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
個以䞊有する分子量5000以䞊、奜たしくは
8000以䞊の化合物、 (B) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
個以䞊有する分子量400以䞊で、か぀5000末
満、奜たしくは600〜3000の化合物、 (C) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
個以䞊有する分子量400未満の化合物、 䞊蚘(A)、(B)、(C)から遞ばれる少なくずも皮以
䞊を含有する攟射線硬化性塗料を甚い、攟射線照
射により圢成されおなる磁気蚘録媒䜓である。さ
らに、攟射線硬化性塗料が(A)、(B)、(C)から遞ばれ
る少なくずも皮以䞊を含有し、か぀(A)が〜90
重量、(B)が〜80重量(C)が〜50重量の配
合比率である磁気蚘録媒䜓である。たた、攟射線
硬化性塗料が(A)および(B)を含有し、(A)が20〜95重
量、(B)が〜80重量の配合比率である。攟射
線照射を電子線を甚いお行なう磁気蚘録媒䜓であ
る。さらに、攟射線硬化性塗料がさらに暹脂固圢
分に察し0.1〜10重量の効重合増感剀を含有し、
玫倖線照射により䞋塗り局が圢成されおなる磁気
蚘録媒䜓である。 以䞋本発明の方法を詳现に述べるず、先ず本発
明を実斜する際に甚いる攟射線硬化性塗料を構成
する化合物は分子の末端ないしは偎鎖にメタ
アクリロむル基等の攟射線により硬化性をも぀䞍
飜和二重結合を個以䞊を有する化合物であり、
通垞は分子量、官胜基数の異なるものを皮以䞊
配合しお甚いられる。その適切な䟋を以䞋に瀺
す。 分子䞭に氎酞基を個以䞊有する化合物分
子に分子以䞊のポリむ゜シアネヌト化合物の
ひず぀のむ゜シアネヌト基を反応させ、次にむ
゜シアネヌト基ず反応する基及び攟射線硬化性
を有する䞍飜和二重結合を有する単量䜓分子
以䞊ずの反応物、䟋えばプロピレングリコヌル
にプロピレンオキサむドを付加した二官胜性の
ポリ゚ヌテルアデカポリ゚ヌテル―1000旭
電化瀟補モルにトル゚ンゞむ゜シアネヌト
モルを反応させ、その埌モルの―ヒドロ
キシ゚チルメタクリレヌトを反応させお埗た分
子末端にアクリル系二重結合を個有する暹
脂、プレポリマヌ、オリゎマヌもしくはテロマ
ヌを挙げるこずができる。 ここで䜿甚される氎酞基を個以䞊含有する
化合物ずしおは、アデカポリ゚ヌテル―700、
アデカポリ゚ヌテル―1000、アデカポリ゚ヌ
テル―1500以䞊旭電化瀟補、ポリメグ
1000、ポリメグ650以䞊クオヌカヌ・オヌツ瀟
補等の倚官胜性ポリ゚ヌテル類ニトロセル
ロヌズ、アセチルセルロヌズ、゚チルセルロヌ
ズの様な繊維玠誘導䜓ビニラむトVAGH米
囜ナニオンカヌバむド瀟補の様な氎酞基を有
する䞀郚ケン化された塩化ビニル―酢酞ビニル
共重合䜓ポリビニルアルコヌルポリビニル
ホルマヌルポリビニルブチラヌルポリカプ
ロラクトンPCP―0200、ポリカプロラクトン
PCP―0240、ポリカプロラクトンPCP―0300
以䞊チツ゜瀟補等の倚官胜性ポリ゚ステル
類フタル酞、む゜フタル酞、テレフタル酞、
アゞピン酞、コハク酞、セバチン酞のような飜
和倚塩基酞ず゚チレングリコヌル、ゞ゚チレン
グリコヌル、―ブタンゞオヌル、
―ブタンゞオヌル、―プロピレングリコ
ヌル、ゞプロピレングリコヌル、―ヘキ
サングリコヌル、ネオペンチルグリコヌル、グ
リセリン、トリメチロヌルプロパンペンタ゚リ
スリツトのような倚䟡アルコヌルずの゚ステル
結合により埗られる飜和ポリ゚ステル暹脂氎
酞基を含有するアクリル゚ステルおよびメタク
リル゚ステルを少なくずも䞀皮以䞊重合成分ず
しお含むアクリル系重合䜓を挙げるこずができ
る。 たた、ここで䜿甚されるポリむ゜シアネヌト
化合物ずしおは、―トル゚ンゞむ゜シア
ネヌト、―トル゚ンゞむ゜シアネヌト、
―キシレンゞむ゜シアネヌト、―プ
ニレンゞむ゜シアネヌト、―プニレンゞむ
゜シアネヌト、ヘキサメチレンゞむ゜シアネヌ
ト、む゜ホロンゞむ゜シアネヌトやデスモゞナ
ヌル、デスモゞナヌルIL西ドむツ バむ゚
ル瀟補等がある。 む゜シアネヌト基ず反応する基および攟射線
硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしお
は、アクリル酞あるいはメタクリル酞の―ヒ
ドロキシ゚チル゚ステル、―ヒドロキシプロ
ピル゚ステル、―ヒドロキシオクチル゚ステ
ル等氎酞基を有する゚ステル類アクリルアマ
むド、メタクリルアマむド、―メチロヌルア
クリルアマむド等アリルアルコヌル、マレむ
ン酞倚䟡アルコヌル゚ステル化合物、䞍飜和二
重結合を有する長鎖脂肪酞のモノあるいはゞグ
リセリド等む゜シアネヌト基ず反応する掻性氎
玠を持ちか぀攟射線硬化性を有する䞍飜和二重
結合を含有するこれらの単量䜓も含たれる。 分子䞭に゚ポキシ基を個以䞊含む化合物
分子ず、゚ポキシ基ず反応する基および電子線
硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓分子以
䞊ずの反応物、䟋えばグリシゞルメタクリレヌ
トをラゞカル重合させお埗た゚ポキシ基を含有
する熱可塑性暹脂にアクリル酞を反応させ、カ
ルボキシル基ず゚ポキシ基ずの開環反応より、
分子䞭にアクリル系二重結合をペンダントさせ
た暹脂、プレポリマヌもしくはオリゎマヌ、た
た、マレむン酞を反応させカルボキシル基ず゚
ポキシ基ずの開環反応により分子骚栌䞭に攟射
線硬化性䞍飜和二重結合を有する暹脂、プレポ
リマヌ、オリゎマヌを挙げるこずができる。 ここで分子䞭に゚ポキシ基を個以䞊含む化
合物ずしおは、グリシゞルアクリレヌト、グリ
シゞルメタクリレヌトの劂き゚ポキシ基を含む
アクリル゚ステルあるいはメタクリル゚ステル
のホモポリマヌあるいは他の重合性モノマヌず
の共重合䜓゚ピコヌト828、゚ピコヌト1001、
゚ピコヌト1007、゚ピコヌト1009以䞊シ゚ル
化孊瀟補等その他皮々のタむプの゚ポキシ暹
脂等がある。 ゚ポキシ基ず反応する基および攟射線硬化性
䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしおはアクリ
ル酞、メタクリル酞等のカルボキシル基を含有
するアクリル系単量䜓、メチルアミノ゚チルア
クリレヌト、メチルアミノメタクリレヌト等の
第玚もしくは第玚アミノ基を有するアクリ
ル単量䜓に加えマレむン酞、フマル酞やクロト
ン酞、りンデシレン酞等攟射線硬化性䞍飜和二
重結合を有する倚塩基酞単量䜓も䜿甚できる。 分子䞭にカルボキシル基を個以䞊含む化合
物分子ずカルボキシル基ず反応する基および
攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓
分子以䞊ずの反応物、䟋えばメタクリル酞を溶
液重合させお埗たカルボキシル基を含有する熱
可塑性暹脂にグリシゞルメタクリレヌトを反応
させ、第項ず同様にカルボキシル基ず゚ポキ
シ基の開環反応により分子䞭にアクリル系二重
結合を導入させた暹脂、プレポリマヌ、オリゎ
マヌを挙げるこずができる。 分子䞭にカルボキシル基を個以䞊含む化合
物ずしおは、分子鎖䞭たたは分子末端にカルボ
キシル基を含むポリ゚ステル類、アクリル酞、
メタクリル酞、無氎マレむン酞、フマル酞等の
ラゞカル重合性を持ち、か぀カルボキシル基を
有する単量䜓のホモポリマヌあるいは他の重合
性モノマヌずの共重合䜓等である。 カルボキシル基ず反応する基および攟射線硬
化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしおはグ
リシゞルアクリレヌト、グリシゞルメタクリレ
ヌト等がある。 分子鎖䞭に攟射線硬化性䞍飜和二重結合を含
有するポリ゚ステル化合物、䟋えば第項に蚘
茉の倚塩基酞ず倚䟡アルコヌルの゚ステル結合
から成る飜和ポリ゚ステル暹脂で倚塩基酞の䞀
郚をマレむン酞ずした攟射線硬化性䞍飜和二重
結合を含有する䞍飜和ポリ゚ステル暹脂、プレ
ポリマヌ、オリゎマヌを挙げるこずができる。 飜和ポリ゚ステル暹脂の倚塩基酞および倚䟡
アルコヌル成分は第項に蚘茉した各化合物を
挙げるこずができ、攟射線硬化性䞍飜和二重結
合ずしおはマレむン酞、フマル酞等を挙げるこ
ずができる。 攟射線硬化性䞍飜和ポリ゚ステル暹脂の補法
は倚塩基酞成分皮以䞊ず倚䟡アルコヌル成分
皮以䞊にマレむン酞、フマル酞等を加え垞
法、すなわち觊媒存圚䞋180〜200℃窒玠雰囲気
䞋脱氎あるいは脱アルコヌル反応の埌、240〜
280℃たで昇枩し、0.5〜mmHgの枛圧䞋瞮合
反応によりポリ゚ステル暹脂を埗るこずができ
る。マレむン酞やフマル酞等の含有量は、補造
時の架橋、攟射線硬化性等から酞成分䞭〜40
モルで奜たしくは10〜30モルである。 攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する䜎分子
量の化合物も目的に応じ䜿甚が可胜であり、そ
のような䜎分子量の化合物ずしおは、スチレ
ン、゚チルアクリレヌト、゚チレングリコヌル
ゞアクリレヌト、゚チレングリコヌルゞメタク
リレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞアクリレヌ
ト、ゞ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト、
―ヘキサングリコヌルゞアクリレヌト、
―ヘキサングリコヌルゞメタクリレヌ
ト、トリメチロヌルプロパントリアクリレヌ
ト、トリメチロヌルプロパントリメタクリレヌ
ト等が挙げられるなお、第項の化合物は䞻
ずしお(C)の化合物である。 本発明に斌ける攟射線硬化性塗料ずしおは第
項から第項に蚘茉した化合物を䜿甚しお埗られ
るが、アクリル系二重結合を含む分子量400以䞊
の化合物を単独に甚いる堎合には、分子量が倧き
くなるに぀れ官胜基密床から電子線硬化性が䜎䞋
する傟向ずなり、埓぀お高線量が必芁ずなり、硬
化性が䜎䞋するず耐熱性も劣る傟向にある。た
た、接着性に぀いおは硬化性が高くなるず䜎䞋す
る堎合がある。 䞀方、400未満の分子量の電子線硬化性暹脂の
堎合には、電子線硬化性が良奜で耐溶剀性、耐熱
性等が良奜ずなるが、接着性に問題がある。この
ようにアクリル系二重結合を含む分子量400以䞊
あるいは400未満の化合物を単独で䜿甚する堎合、
磁気蚘録媒䜓に芁求される倚岐に枡る特性をバラ
ンス良く満足し埗るアンダヌコヌト甚塗料を埗る
こずが難かしい。 これに察し、本発明では分子量の異なる化合物
の皮以䞊を配合しお成り、良奜な密着性および
硬化性が埗られるものである。 本発明では必芁に応じ、非反応性溶剀が䜿甚さ
れる溶剀ずしおは特に制限はないが、バむンダヌ
の溶解性および盞溶性等を考慮しお適宜遞択され
る。䟋えばアセトン、メチル゚ルケトン、メチル
む゜ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、ギ酞゚チル、酢酞゚チル、酢酞ブチル等の゚
ステル類、メタノヌル、゚タノヌル、む゜プロパ
ノヌル、ブタノヌル等のアルコヌル類、トル゚
ン、キシレン、゚チルベンれン等の芳銙族炭化氎
玠類、む゜プロピル゚ヌテル、゚チル゚ヌテル、
ゞオキサン等の゚ヌテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラヌル等のフラン類等を単䞀溶剀たた
はこれらの混合溶剀ずしお甚いられる。 本発明に係わる磁性局ずしおは、熱可塑性暹
脂、熱硬化性暹脂をベヒクルずするものは勿論、
プラむマヌ局に甚いられおいるような攟射線硬化
性暹脂を䜿甚し、攟射線照射により圢成するもの
であ぀おもよく、プラむマヌおよび磁性局ぞの攟
射線照射を䞀床に行なうこずも出来る。 本発明に係わるプラむマヌ局および磁性塗料が
塗垃される基䜓ずしおは、珟圚磁気蚘録媒䜓甚基
材ずしお広く掻甚されおいるポリ゚チレンテレフ
タレヌト系フむルム、曎に耐熱性を芁求される甚
途ずしおはポリむミドフむルム、ポリアミドフむ
ルム等が掻甚される。特にポリ゚ステル系フむル
ムにおいおは薄物ベヌスでは軞延䌞、軞延䌞
凊理をほどこしお利甚するケヌスも倚い。たた玙
にコヌテむングをほどこす甚途も有る。 本発明に係わる攟射線硬化性塗料の架橋、硬化
に䜿甚する攟射線ずしおは、電子線加速噚を線源
ずした電子線、Co60を線源ずしたγ―線、Sr90を
線源ずしたβ―線、線発生噚を線源ずした線
および玫倖線が䜿甚される。特に攟射線源ずしお
は吞収線量の制埡、補造工皋ラむンぞの導入、電
離攟射線の遮閉等の芋地から、電子線加速噚によ
る電子線あるいは玫倖線を䜿甚する方法が有利で
ある。 塗膜を硬化する際に䜿甚する電子線特性ずしお
は、透過力の面から加速電圧100〜750KV、奜た
しくは150〜300KVの電子線加速噚を甚い、吞収
線量を0.5〜20メガラツドになる様に照射するの
が奜郜合である。 本発明の攟射線硬化性塗料は光重合増感剀を加
えるこずにより玫倖線硬化を行なうこずもでき
る。該光重合増感剀ずしおは埓来公知のものでよ
く、䟋えばベンゟむンメチル゚ヌテル、ベンゟむ
ン゚チル゚ヌテル、α―メチルベンゟむン、α―
クロルデオキシベンゟむン等のベンゟむン系、ベ
ンゟプノン、アセトプノンビスゞアルキルア
ミノベンゟプノン等のケトン類、アントラキノ
ン、プナントラキノン等のキノン類、ベンゞル
ゞスルフむド、テトラメチルチりラムモノスルフ
むド等のスルフむド類、等を挙げるこずができ
る。光重合増感剀は、暹脂固圢分に察し、0.1〜
10の範囲が望たしい。 以䞋、実斜䟋および比范䟋により本発明を具䜓
的に説明する。なお、䟋䞭「郚」、「」ずあるの
は重量郚、重量を瀺す。 実斜䟋に先立ち、暹脂合成䟋を瀺す。 暹脂合成䟋 (a) 塩化ビニル酢酞ビニルビニルアルコヌルが
93重量の組成で分子量18000の共重合
䜓100郚をトル゚ン238郚、シクロヘキサノン95郚
を加熱溶解埌、80℃に昇枩し、䞋蚘TDIアダクト
を7.5郚加え、さらにオクチル酞スズ0.002郚、ハ
むドロキノン0.002郚加え、82℃でN2ガス気流䞭
む゜シアネヌトNCO反応率が90以䞊ずな
るたで反応せしめる。反応終了埌冷华しメチル゚
チルケトン238郚を加え皀釈する。埗られた暹脂
組成物を(a)ずする。なお、この暹脂の分子量は
19200である。 TDIアダクトの合成 トリレンゞむ゜シアネヌトTDI348郚をN2
気流䞭の぀口フラスコ内80℃に加熱埌、
―ヒドロキシ゚チルメタクリレヌト2HEMA
260郚、オクチル酞スズ0.07郚、ハむドロキノン
0.05郚を反応猶内の枩床が80〜85℃ずなる様に冷
华コントロヌルしながら滎䞋し、滎䞋終了埌80℃
で時間撹拌し反応を完結させる。反応終了埌取
り出し、冷华埌、癜色ペヌスト状のTDIの
2HEMAアダクトを埗た。 暹脂合成䟋 (b) 飜和ポリ゚ステル暹脂ダむナミヌトノヌベル
瀟補―411100郚をトル゚ン116郚、メチル゚
チルケトン116郚に加熱溶解し、80℃昇枩埌、暹
脂合成䟋(a)に準じお合成したむ゜ホロンゞむ゜シ
アネヌト―アダクト2.84郚を加えオクチル酞スズ
0.006郚、ハむドロキノン0.006郚をさらに加え、
N2 ガス気流䞭80℃でNCO反応率90以䞊ずな
るたで反応せしめる。 埗られた暹脂組成物を(b)ずする。この暹脂の分
子量は20600である。 暹脂合成䟋 (c) テレフタル酞ゞメチル291.2郚、む゜フタル酞
ゞメチル291.2郚、マレむン酞ゞメチル64.8郚、
゚チレングリコヌル251.2郚、―ブタンゞ
オヌル364.8郚、―ブタンゞオヌル81.2郚
およびテトラ――ブチルチタネヌト4.0郚を反
応猶に仕蟌みN2 ガス気流䞭180℃で脱メタノヌ
ル反応の埌、240〜260℃たで昇枩0.5〜mmHgの
枛圧䞋瞮合反応により分子量8000の線状䞍飜和ポ
リ゚ステル暹脂を埗た。 暹脂合成䟋 (d) NIAXポリオヌルPCP―0200チツ゜瀟補ポリ
カプロラクトン250郚、―ヒドロキシ゚チル
メタクリレヌト122.2郚、ハむドロキノン0.024
郚、オクチル酞スズ0.033郚を反応猶に入れ、80
℃に加熱溶解埌、TDI163.6郚を反応猶内の枩床
が80〜90℃ずなる様に冷华しながら滎䞋し、滎䞋
終了埌80℃でNCO反応率95以䞊ずなるたで反
応せしめる。埗られた暹脂組成物を(d)ずする。 この暹脂の分子量は1140である。 暹脂合成䟋 (e) 無氎フタル酞148郚、ブタンゞオヌル65
郚、゚チレングリコヌル30郚およびパラトル゚ン
スルホン酞2.5郚を反応猶に仕蟌みN2ガス気流䞋
に150℃で時間次いで180℃で時間゚ステル化
反応の埌、100℃に冷华しハむドロキノン0.3郚、
アクリル酞28郚を加え15時間゚ステル化反応を行
い、分子量2000のオリゎ゚ステルアクリレヌトを
埗た。 暹脂合成䟋 (f) アデカポリ゚ヌテル―1000旭電化瀟補ポリ
゚ヌテル250郚、―ヒドロキシ゚チルメタク
リレヌト65郚、ハむドロキノン0.013郚、オクチ
ル酞スズ0.017郚を反応猶に入れ、80℃に加熱溶
解埌、TDI87.0郚を反応猶内の枩床が80〜90℃ず
なるように冷华しながら滎䞋し、滎䞋終了埌80℃
でNCO反応率95以䞊ずなるたで反応せしめる。
埗られた暹脂組成物を(f)ずする。この暹脂の分子
量は1610である。 実斜䟋  前蚘暹脂組成物(a) 40郚 前蚘暹脂組成物(d) 郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
56郚 䞊蚘組成物の混合物を良く混合溶解させ、攟射
線硬化性アンダヌコヌト甚塗料を調補した。この
塗料を、ポリ゚ステルフむルム状に也燥を行぀た
埌にESI瀟補、゚レクトロカヌテン型電子線加速
装眮を甚いお、加速電圧160KV、電極電流
10mA、攟射線量3Mラツドの条件でN2雰囲気䞋
で電子線を照射し、塗膜を硬化させプラむマヌ局
を蚭けた。 次いで、䞋蚘の磁性塗料をこの䞊に塗垃し、配
向凊理、也燥埌衚面平滑化凊理を斜し、1/2むン
チ巟に裁断し、ビデオテヌプ詊料を埗
た。 磁性塗料の補法 ニトロセルロヌル旭化成(æ ª)補1/2″ 郚 ビニラむトVAGHナニオンカヌバむト瀟補
10郚 りレタン゚トラストマヌグツドリツチ瀟、゚
ステル5703 郚 メチルむ゜ブチルケトン 150郚 シクロヘキサノン 50郚 より埗られた液に 磁性粉コバルト被着酞化鉄 100郚 α―Al2O30.5Ό粒状 郚 最滑剀高玚脂肪酞倉性シリコンオむル 郚 分散剀倧豆油粟補レシチン 郚 を配合し、ボヌルミルにお24時間分散させ、磁性
塗料を調補した。 実斜䟋  前蚘暹脂組成物(c) 郚 NK゚ステル――4G新䞭村化孊補アクリル
系モノマヌ、分子量198 郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
90郚 䞊蚘組成物の混合物を良く混合溶解させ、攟射
線硬化性アンダヌコヌト甚塗料を調補した。この
塗料をポリ゚ステルフむルム䞊に也燥膜厚0.2Όに
なるように塗垃し、也燥を行぀た埌に、攟射線量
5Mラツドの条件でN2雰囲気䞋で、電子線照射を
行い架橋硬化したプラむマヌ局を蚭けた。次いで
実斜䟋ず同様の方法で磁性局を蚭けビデオテヌ
プ詊料を䜜補した。 実斜䟋  前蚘暹脂組成物(b) 郚 前蚘暹脂組成物(e) 郚 ヘキサングリコヌルゞアクリレヌト 郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
90郚 䞊蚘組成物の混合物を良く混合溶解させ攟射線
硬化性アンダヌコヌト甚塗料を調補した。この塗
料をポリ゚ステルフむルム䞊に也燥膜厚0.1Όにな
るように塗垃し、也燥を行な぀た埌に、攟射線量
2Mラツドの条件でN2雰囲気䞋で電子線照射を行
い、架橋硬化したプラむマヌ局を蚭けた。次いで
実斜䟋ず同様の方法で磁性局を蚭けビデオテヌ
プ詊料を䜜補した。 実斜䟋  前蚘暹脂組成物(a) 47郚 前蚘暹脂組成物(f) 郚 ベンゟプノン 0.3郚 トリ゚タノヌルアミン 0.1郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
50郚 䞊蚘組成物を混合溶解させ玫倖線硬化性アンダ
ヌコヌト甚塗料を調補した。この塗料をポリ゚ス
テルフむルム䞊に也燥膜厚0.5Όになるように塗垃
し、也燥を行぀た埌、高圧氎銀ランプ出力
80w有効管長cmの䞋で毎分10のラむンス
ピヌドで玫倖線を照射し、塗膜を硬化させた。 次いで実斜䟋の磁性塗料をこの䞊に塗垃し、
也燥埌衚面平滑化凊理を斜し、1/2むンチ巟に裁
断し、ビデオテヌプ詊料を埗た。 実斜䟋  前蚘暹脂組成物(d) 10郚 NK゚ステルA4G新䞭村化孊補 10郚 ベンゟむン゚チル゚ヌテル 0.3郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
80郚 䞊蚘組成物を混合溶解させ、玫倖線硬化性塗料
を調補した。この塗料をポリ゚ステルフむルム䞊
に也燥膜厚0.2Όになるように塗垃した他は、実斜
䟋ず同様の方法でビデオテヌプ詊料を
䜜補した。 比范䟋  塩化ビニル・酢酞ビニル共重合䜓 ナニオンカヌバむト瀟補ビニラむトVAGH
10郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
90郚 䞊蚘組成物を混合溶解した塗料をポリ゚ステル
フむルムに也燥厚0.5Όになるように塗垃し、也燥
し、アンダヌコヌト局を圢成したほかは実斜䟋
ず同様の方法で磁性局を蚭けビデオテヌプ詊料
を䜜補した。 比范䟋  ポリ゚ステルフむルムに、プラむマヌ局を蚭け
ずに実斜䟋の磁性塗料を塗垃し、也燥埌衚面平
滑化凊理を斜し、1/2むンチ巟に切断し、ビデオ
テヌプ詊料を埗た。 比范䟋  前蚘暹脂組成物(a) 50郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
50郚 䞊蚘組成物を混合溶解し、攟射線硬化性塗料を
調補し、実斜䟋ず同様の方法でビデオテヌプ
詊料を䜜補した。 比范䟋  NK゚ステル――4G新䞭村化孊補 10郚 溶剀トル゚ンメチル゚チルケトン1/1
89.5郚 ベンゟむン゚チル゚ヌテル 0.5郚 䞊蚘組成物を混合溶解し、玫倖線硬化性塗料を
調補し、実斜䟋ず同様の方法でビデオテヌプ
詊料を䜜補した。 実斜䟋  実斜䟋ず同様に、ポリ゚ステルフむルム䞊に
プラむマヌ局を蚭けた。次いで、䞋蚘の攟射線硬
化性磁性塗料をこの䞊に塗垃し、也燥を行぀た埌
に、衚面平滑化凊理を斜しESI瀟補、゚レクトロ
カヌテン型電子線加速装眮を甚いお、加速電圧
160KV、電極電流10mA、照射線量5Mラツドの
条件で、N2雰囲気䞋で電子線を照射し、硬化さ
せお、磁性局を蚭けた。次いで1/2むンチ巟に裁
断し、ビデオテヌプ詊料を埗た。 攟射線硬化性磁性塗料の補法 磁性粉コバルト被着酞化鉄 120郚 前蚘暹脂組成物(a) 15郚固型分換算 前蚘暹脂組成物(d) 15郚固型分換算 最 滑 剀 0.2郚 α―Al2O30.5Ό粒状 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン1/1
200郚 䞊蚘組成物の混合物をボヌルミルにお、24時間
分散させ攟射線硬化性磁性塗料を調補した。 比范䟋  ポリ゚ステルフむルムにプラむマヌ局を蚭けず
に、実斜䟋の攟射線硬化性磁性塗料を塗垃し実
斜䟋ず同様に、凊理し、硬化させた。次いで1/
むンチ巟に裁断しビデオテヌプ詊料を
埗た。 実斜䟋  実斜䟋ず同様に、ポリ゚ステルフむルム䞊に
プラむマヌ局を蚭けた。次いで、䞋蚘の熱硬化性
磁性塗料をこの䞊に塗垃し、配向凊理、也燥、平
滑化凊理を斜した埌、60℃、48時間熱硬化させお
磁性局を圢成した。詊料 熱硬化性磁性塗料の補造 磁性粉コバルト被着酞化鉄 100郚 ビニラむトVAGH 15郚 りレタン゚ラストマヌ゚ステル5703 10郚 メチル゚チルケトン 100郚 メチルむ゜ブチルケトン 100郚 トル゚ン 100郚 以䞊の組成の混合物をボヌルミル䞭で48時間混
緎した埌、架橋剀ずしお日本ポリりレタン瀟補コ
ロネヌトを郚混合しお磁性塗料ずした。 比范䟋  比范䟋においお、磁性局の圢成のみを実斜䟋
ず同様にしお行ない、他は比范䟋ず同様にし
お詊料を埗た。 ビデオテヌプ詊料〜および〜
に぀いお、塗膜の剥離匷床接着性および
VHSビデオデツキでのビデオ感床PF4MHZ
を枬定した結果を衚に瀺す。 接着性に぀いおは適切なアンダヌコヌト凊理が
なされた詊料はいずれも無凊理のものよ
り高い倀が埗られたが、分子量400未満の化合物
を甚いたものでは䜎い倀いずなり高分子
量成分を䜵甚するこずの効果が確認された。又、
本発明による攟射線硬化凊理を斜した詊料は、埓
来のものに比范しおも、高い倀が埗ら
れ、接着性に぀いおは問題がないこずがわか぀
た。 又4MHZのビデオ感床においお、アンダヌコヌ
ト局の架橋硬化凊理が行なわれないは、
無凊理のものに比范しお特性が䜎䞋しお
おり、磁性局を塗垃した際に、アンダヌコヌト局
が膚最を受け磁性局の衚面平滑性がそこなわれた
ためず考えられる。同様の傟向は架橋密床が䜎い
分子量8000以䞊で構成したでもみられた。こ
れに察し本発明の攟射線硬化凊理を斜した詊料
は、衚面平滑化凊理がされ易い為に、無凊理のも
のに察しおもむしろ特性の向䞊が芋られた。 【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  支持䜓に非磁性䞋塗り局を斜した埌、磁性局
    を圢成しおなる磁気蚘録媒䜓においお、該䞋塗り
    局が、 (A) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
    個以䞊有する分子量5000以䞊、奜たしくは
    8000以䞊の化合物、 (B) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
    個以䞊有する分子量400以䞊で、か぀5000未
    満、奜たしくは600〜3000の化合物、 (C) 攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
    個以䞊有する分子量400未満の化合物、 䞊蚘(A)、(B)、(C)から遞ばれる少なくずも皮以
    䞊を含有する攟射線硬化性塗料を甚い、攟射線照
    射により圢成されおなるこずを特城ずする磁気蚘
    録媒䜓。  (A)が攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結
    合を個以䞊有する分子量5000以䞊、奜たしくは
    8000以䞊の、繊維玠系暹脂、塩化ビニル系暹脂、
    ブチラヌル系暹脂、アクリル系暹脂および䞍飜和
    ポリ゚ステル系暹脂から遞ばれる皮たたは皮
    以䞊であり、(B)が攟射線により硬化性をも぀䞍飜
    和二重結合を個以䞊有する分子量400以䞊で、
    か぀5000未満、奜たしくは600〜3000の、ポリ゚
    ステル系暹脂、ポリ゚ヌテル系暹脂、ポリりレタ
    ン系暹脂および゚ポキシ系暹脂から遞ばれる皮
    たたは皮以䞊である特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の磁気蚘録媒䜓。  攟射線硬化性塗料が(A)、(B)、(C)から遞ばれる
    少なくずも皮以䞊を含有し、か぀(A)が〜95重
    量、(B)が〜80重量、(C)が〜50重量の配
    合比率である特蚱請求の範囲第項たたは第項
    蚘茉の磁気蚘録媒䜓。  攟射線硬化性塗料が(A)および(B)を含有し、(A)
    が20〜95重量、(B)が〜80重量の配合比率で
    ある特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉の磁
    気蚘録媒䜓。  䞋塗り局を斜し、続いお磁性局を圢成した
    埌、攟射線を照射しおなる特蚱請求の範囲第項
    ないし第項いずれか蚘茉の磁気蚘録媒䜓。  磁性局が攟射線硬化型磁性塗料より圢成され
    おなる特蚱請求の範囲第項蚘茉の磁気蚘録媒
    䜓。  攟射線が電子線である特蚱請求の範囲第項
    ないし第項いずれか蚘茉の磁気蚘録媒䜓。  攟射線硬化性塗料がさらに暹脂固圢分に察し
    0.1〜10重量の光重合増感剀を含有し、玫倖線
    照射により䞋塗り局が圢成されおなる特蚱請求の
    範囲第項ないし第項いずれか蚘茉の磁気蚘録
    媒䜓。
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