JPH01299444A - 壜胴部の欠陥検出装置 - Google Patents
壜胴部の欠陥検出装置Info
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- JPH01299444A JPH01299444A JP63128247A JP12824788A JPH01299444A JP H01299444 A JPH01299444 A JP H01299444A JP 63128247 A JP63128247 A JP 63128247A JP 12824788 A JP12824788 A JP 12824788A JP H01299444 A JPH01299444 A JP H01299444A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/90—Investigating the presence of flaws or contamination in a container or its contents
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
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- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は場の胴部の欠陥を検出する壜胴部の欠陥検出装
置に関する。
置に関する。
[従来の技術]
酒類、清涼飲vI、食品等を充填するガラス場は、装填
装置により作られた新しいt3でら回収して再1!!用
する回収場でも、欠陥が存在するか否かを検査する必要
がある。場の検査は場の各部、壜胴、増成、口部、ねじ
口部を検査することになる。このうち壜の胴部の欠陥に
は異物よごれなど食品衛生上の問題となるものと、クラ
ック泡など破損事故につながるおそれのある欠陥がある
ため、これら欠陥場を正確に検出して排除する必要があ
る。
装置により作られた新しいt3でら回収して再1!!用
する回収場でも、欠陥が存在するか否かを検査する必要
がある。場の検査は場の各部、壜胴、増成、口部、ねじ
口部を検査することになる。このうち壜の胴部の欠陥に
は異物よごれなど食品衛生上の問題となるものと、クラ
ック泡など破損事故につながるおそれのある欠陥がある
ため、これら欠陥場を正確に検出して排除する必要があ
る。
壜胴部の欠陥検出装置では欠陥のある部分が他の部分よ
り暗くなることを利用してその欠陥を検査するのが一般
的である。この方法によれば、不透明の異物等の遮光性
の強い欠陥の検出は容易であるが、うす汚れ、しわ、泡
等の半透明の欠陥を正しく検出することが難しい。すな
わち、これら半透明の欠陥を検出するために、光電変換
の感度を上げると、色むら、肉厚むら等に起因するノイ
ズら欠陥として検出してしまうという問題があった。
り暗くなることを利用してその欠陥を検査するのが一般
的である。この方法によれば、不透明の異物等の遮光性
の強い欠陥の検出は容易であるが、うす汚れ、しわ、泡
等の半透明の欠陥を正しく検出することが難しい。すな
わち、これら半透明の欠陥を検出するために、光電変換
の感度を上げると、色むら、肉厚むら等に起因するノイ
ズら欠陥として検出してしまうという問題があった。
[発明が解決しようとする課題]
このように従来は、うず汚れ、しわ、泡等の半透明の欠
陥を検出すべく感度をあげるとノイズも多くなり、ノイ
ズを誤って欠陥と判定してしまうという問題があった。
陥を検出すべく感度をあげるとノイズも多くなり、ノイ
ズを誤って欠陥と判定してしまうという問題があった。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、場の胴部
の特に半透明な欠陥を精度よく検出することができる壜
胴部の欠陥検出装置を提供するととを目的とする。
の特に半透明な欠陥を精度よく検出することができる壜
胴部の欠陥検出装置を提供するととを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記目的は、場の胴部を照明する照明手段と、前記照明
手段により照明された前記場の胴部の透過映像を光電変
換する光電変換手段と、前記光電変換手段により光電変
換された透過映像画面を少なくとも2点の明るさに基づ
いて欠陥点を検出する欠陥検出手段と、前記透過映像画
面内の各画素に対応した処理領域を定め、処理領域内に
ある前記欠陥点の状態に基づいて各処理領域が欠陥集合
領域であるか否か判定し、集合処理信号を出力する集合
処理手段と、前記集合処理手段からの集合処理信号に基
づいて前記壜の胴部の欠陥の有無を判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする壜胴部の欠陥検出装置によっ
て達成される。
手段により照明された前記場の胴部の透過映像を光電変
換する光電変換手段と、前記光電変換手段により光電変
換された透過映像画面を少なくとも2点の明るさに基づ
いて欠陥点を検出する欠陥検出手段と、前記透過映像画
面内の各画素に対応した処理領域を定め、処理領域内に
ある前記欠陥点の状態に基づいて各処理領域が欠陥集合
領域であるか否か判定し、集合処理信号を出力する集合
処理手段と、前記集合処理手段からの集合処理信号に基
づいて前記壜の胴部の欠陥の有無を判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする壜胴部の欠陥検出装置によっ
て達成される。
[作 用]
本発明による壜胴部の欠陥検出装置は処理領域中の欠陥
点の状態に基づいて欠陥集合領域かどうか判定して集合
処理信号を出力し、この集合処理信号に基づいて場の胴
部の欠陥の有無を判定するようにしているので、うず汚
れのように遮光性は強くないが広範囲に広がる欠陥を正
しく検出できる。
点の状態に基づいて欠陥集合領域かどうか判定して集合
処理信号を出力し、この集合処理信号に基づいて場の胴
部の欠陥の有無を判定するようにしているので、うず汚
れのように遮光性は強くないが広範囲に広がる欠陥を正
しく検出できる。
[実施例〕
本発明の一実施例による壜胴部の欠陥検出装置を第1図
に示す0本実施例では検査される壜12は回転しながら
連続して流れていく。この場12は均一な拡散光を放つ
面を有する拡散光源10により照明される。この場12
の胴部の透過映像は光軸変更部14を介して二次元光電
変換装置16に入射される。二次元光電変換装置16は
エリアCCDのように透過映像を電気的アナログ信号に
変換する受光部と、壜の胴部の透過映像を結像するため
の光学系とで構成されている。
に示す0本実施例では検査される壜12は回転しながら
連続して流れていく。この場12は均一な拡散光を放つ
面を有する拡散光源10により照明される。この場12
の胴部の透過映像は光軸変更部14を介して二次元光電
変換装置16に入射される。二次元光電変換装置16は
エリアCCDのように透過映像を電気的アナログ信号に
変換する受光部と、壜の胴部の透過映像を結像するため
の光学系とで構成されている。
光軸変更部14は二次元光電変換装置16の光学系の壜
12側に設けられ、二次元光電変換装置16の受光部に
対して光学系の光軸を相対的に変更させるものである。
12側に設けられ、二次元光電変換装置16の受光部に
対して光学系の光軸を相対的に変更させるものである。
この光軸変更部14は、二次元光電変換装置16の受光
部に透過映像が結像するように場12の動きに同期して
光軸を変更する。すなわち、レンズ駆動回路21により
駆動モータ15が二次元光電変換装置16の前面に設け
られたレンズ14aを動かすことにより、光軸が変更さ
れる。
部に透過映像が結像するように場12の動きに同期して
光軸を変更する。すなわち、レンズ駆動回路21により
駆動モータ15が二次元光電変換装置16の前面に設け
られたレンズ14aを動かすことにより、光軸が変更さ
れる。
光軸変更部14の詳細については、本出願人により本出
願と同日に提出された特許出願「光軸変更式場検査装置
」を参照されたい。
願と同日に提出された特許出願「光軸変更式場検査装置
」を参照されたい。
A/D変換器18は二次元光電変換装置16からのアナ
ログ映像信号を所定ビット数のディジタル映(?、倍信
号変換する。このディジタル映像信号は検査領域検査ゲ
ート設定回路20とモニタ表示用RA M回路22と欠
陥検出回路24に出力される。
ログ映像信号を所定ビット数のディジタル映(?、倍信
号変換する。このディジタル映像信号は検査領域検査ゲ
ート設定回路20とモニタ表示用RA M回路22と欠
陥検出回路24に出力される。
検査領域検査ゲート設定回路20は、第2図に示すよう
な透過映像から後述する欠陥検出回路24で欠陥を検出
する検査領域を定めるための回路である。検査領域は、
場12の透過映像のエツジから定めてもよいし、予め固
定的に定めておいてもよい。第4図では場12の全体を
検査領域とし、この検査領域を壜12の形状に応じて5
つの検査ゲート1.2.3.4.5に分けている。検査
領域検査ゲート設定回路20からは検査ゲート信号がモ
ニタ表示用RAM回路22、欠陥検出回#I24、連続
マスク処理回路25、集合マスク処理回路26、判定回
路28に出力される。
な透過映像から後述する欠陥検出回路24で欠陥を検出
する検査領域を定めるための回路である。検査領域は、
場12の透過映像のエツジから定めてもよいし、予め固
定的に定めておいてもよい。第4図では場12の全体を
検査領域とし、この検査領域を壜12の形状に応じて5
つの検査ゲート1.2.3.4.5に分けている。検査
領域検査ゲート設定回路20からは検査ゲート信号がモ
ニタ表示用RAM回路22、欠陥検出回#I24、連続
マスク処理回路25、集合マスク処理回路26、判定回
路28に出力される。
欠陥検出回路24は、A/D変換回路18からのディジ
タル映@信号に基づいて、垂直方向及び水平方向にある
一定距離離れた複数点の明るさを比較することにより欠
陥の検出を行なう。例えば、欠陥があれば「1」なる欠
陥検出信号を出力し、欠陥がなければ「0」なる欠陥検
出信号を出力する。
タル映@信号に基づいて、垂直方向及び水平方向にある
一定距離離れた複数点の明るさを比較することにより欠
陥の検出を行なう。例えば、欠陥があれば「1」なる欠
陥検出信号を出力し、欠陥がなければ「0」なる欠陥検
出信号を出力する。
複数点の明るさを比較する欠陥検出方式には、2点の明
るさを比較して欠陥を検出する2点欠陥検出方式と3点
の明るさを比較して欠陥を検出する3点欠陥検出方式と
がある。2点欠陥検出方式では、比較演算する2点A、
Bの明るさをQA、QBとして、次式が成立すれば欠陥
ありとする。
るさを比較して欠陥を検出する2点欠陥検出方式と3点
の明るさを比較して欠陥を検出する3点欠陥検出方式と
がある。2点欠陥検出方式では、比較演算する2点A、
Bの明るさをQA、QBとして、次式が成立すれば欠陥
ありとする。
IQA−QBI≧(定数A)
なお、定数Aは場の種類等に基づいて予め決めておく。
この2点欠陥検出方式は、透過映像の明るさが均一であ
れば有効であるが、透過映像の明るさが不均一であると
、欠陥を検出できないおそれがある。
れば有効であるが、透過映像の明るさが不均一であると
、欠陥を検出できないおそれがある。
3点欠陥検出方式はこのような場合でも確実に検出でき
る。3点欠陥検出方式は、比較演算する3点A、B、C
の明るさをQA、QB 、QCとして、次式により比較
演算して欠陥を検出する。
る。3点欠陥検出方式は、比較演算する3点A、B、C
の明るさをQA、QB 、QCとして、次式により比較
演算して欠陥を検出する。
l QB −(fQA +QC)/2 + 1≧(定数
B)なお、定数Bは場の種類等に基づいて予め決めてお
く、中間の点Bl、B2の明るさと比較する明るさが両
側の点A1とC1、A2とC2の明るさの算術平均であ
るので、明るさが均一である場合も、明るさが不均一で
ある場合も正確に欠陥点B1が検出できる。
B)なお、定数Bは場の種類等に基づいて予め決めてお
く、中間の点Bl、B2の明るさと比較する明るさが両
側の点A1とC1、A2とC2の明るさの算術平均であ
るので、明るさが均一である場合も、明るさが不均一で
ある場合も正確に欠陥点B1が検出できる。
欠陥検出回路24から出力される欠陥検出信号は先ず連
続マスク処理回路25により連続マスク処理される。欠
陥検出回路24で欠陥の検出ミスを防止するため感度を
上げると、欠陥でない部分をも欠陥点であると誤って検
出してしまうことがある。連続マスク処理はかがる欠陥
点を除くために行なう処理である。実際の欠陥箇所では
その大きさに応じた欠陥点が連続して現れるのに対し、
その池の欠陥でない部分では欠陥点が離散的に現れる。
続マスク処理回路25により連続マスク処理される。欠
陥検出回路24で欠陥の検出ミスを防止するため感度を
上げると、欠陥でない部分をも欠陥点であると誤って検
出してしまうことがある。連続マスク処理はかがる欠陥
点を除くために行なう処理である。実際の欠陥箇所では
その大きさに応じた欠陥点が連続して現れるのに対し、
その池の欠陥でない部分では欠陥点が離散的に現れる。
そこでこの連続マスク処理では孤立した欠陥点やある設
定値以下しか連続しない欠陥点は、実際には欠陥ではな
いとして削除して、画素毎に新たな連続マスク処理信号
を出力する。例えば、欠陥であれば「1」なる連続マス
ク処理信号を出力し、欠陥でなければ「0」なる連続マ
スク処理信号を出力する。
定値以下しか連続しない欠陥点は、実際には欠陥ではな
いとして削除して、画素毎に新たな連続マスク処理信号
を出力する。例えば、欠陥であれば「1」なる連続マス
ク処理信号を出力し、欠陥でなければ「0」なる連続マ
スク処理信号を出力する。
連続マスク処理回路25から出力された連続マスク処理
信号は、集合マスク処理回路26により集合マスク処理
される。集合マスク処理は、第3図に示すように各画素
Pを例えば中心として例えば矩形の5行5列の処理領域
Qを設定し、各処理領域Q中の連続マスク処理信号が欠
陥である画素の数を加算し、欠陥画素総数が所定の設定
値を越えたか否かにより集合マスク処理信号を出力する
。
信号は、集合マスク処理回路26により集合マスク処理
される。集合マスク処理は、第3図に示すように各画素
Pを例えば中心として例えば矩形の5行5列の処理領域
Qを設定し、各処理領域Q中の連続マスク処理信号が欠
陥である画素の数を加算し、欠陥画素総数が所定の設定
値を越えたか否かにより集合マスク処理信号を出力する
。
すなわち、連続マスク処理信号が集中している所だけに
集合マスク信号が生成され、M数的に現われるノイズは
除去されることになる。
集合マスク信号が生成され、M数的に現われるノイズは
除去されることになる。
連続マスク処理回路25の具体例を第4図に示す2
各画像毎の連続マスク処理信号は5桁のシフトレジスタ
50にタロツク信号φに同期して順次入力され、シフト
されて出力されていく。5桁は処理領域Qの行数に対応
している。第5図に示すように、画面か500画素×5
00画素の場合、例えば画面の左上端から垂直方向に順
次入力していく。シフトレジスタ50には、加算器51
が設けられており、シフトレジスタ50に格納されてい
る5つの連続マスク処理信号の値を加算する。すなわち
、加算器51の加算結果は、処理領域Qの各行く垂直方
向)の連続マスク処理信号を加算したものとなる。
50にタロツク信号φに同期して順次入力され、シフト
されて出力されていく。5桁は処理領域Qの行数に対応
している。第5図に示すように、画面か500画素×5
00画素の場合、例えば画面の左上端から垂直方向に順
次入力していく。シフトレジスタ50には、加算器51
が設けられており、シフトレジスタ50に格納されてい
る5つの連続マスク処理信号の値を加算する。すなわち
、加算器51の加算結果は、処理領域Qの各行く垂直方
向)の連続マスク処理信号を加算したものとなる。
一方、画面の垂直方向の長さに対応する500ビツトの
容量の5つのRAM61.62.63.64.65が設
けられている。R,AM61〜65の数は処理領域Qの
列数に対応している。RAM61〜65へのアドレスは
共通のアドレスカウンタ52で生成される。RAM61
〜65へのデータ書込はそれぞれ書込ゲート61w〜6
5wを介してなされる。これら書込ゲート61w〜65
wは5進のリングカウンタ53の出力によりどれを開く
かを指定される。リングカウンタ53はアドレスカウン
タ52がO〜499までのアドレスを出力した時に1ず
つ進めちれる。
容量の5つのRAM61.62.63.64.65が設
けられている。R,AM61〜65の数は処理領域Qの
列数に対応している。RAM61〜65へのアドレスは
共通のアドレスカウンタ52で生成される。RAM61
〜65へのデータ書込はそれぞれ書込ゲート61w〜6
5wを介してなされる。これら書込ゲート61w〜65
wは5進のリングカウンタ53の出力によりどれを開く
かを指定される。リングカウンタ53はアドレスカウン
タ52がO〜499までのアドレスを出力した時に1ず
つ進めちれる。
加算器51の加算結果は、リングカウンタ53により指
定されたRAM61〜65の、アドレスカウンタ52で
生成されたアドレスのビットに書込まれる。したがって
、RAM61〜65には連続マスク処理信号の垂直方向
の5つずつの加算結果が画面中の隣接する5行について
格納されていることになる。
定されたRAM61〜65の、アドレスカウンタ52で
生成されたアドレスのビットに書込まれる。したがって
、RAM61〜65には連続マスク処理信号の垂直方向
の5つずつの加算結果が画面中の隣接する5行について
格納されていることになる。
また、RAM61〜65からのデータ続出はそれぞれ読
出ゲート61r〜65rを介してなされる。読出ゲート
51r〜65rはデータ読出し時には常に開けられてお
り、現在書込中のデータも含めて全てのRAM61〜6
5のデータが同時に読出されて、加算器54に出力され
る。
出ゲート61r〜65rを介してなされる。読出ゲート
51r〜65rはデータ読出し時には常に開けられてお
り、現在書込中のデータも含めて全てのRAM61〜6
5のデータが同時に読出されて、加算器54に出力され
る。
加算器54はRAM61〜65から読出したデータを加
算し、加算結果を比較器55に出力する。
算し、加算結果を比較器55に出力する。
RAM61〜65は処理領域Qの列(水平方向)に対応
するから、加算器55の加算結果は、結局、処理頒域Q
内の全ての連続マスク処理信号を加算したものとなる。
するから、加算器55の加算結果は、結局、処理頒域Q
内の全ての連続マスク処理信号を加算したものとなる。
この加算結果は比較器55により所定の設定値と比較さ
れ、その比較結果が集合マスク処理信号として出力され
る。例えば、設定値が18であれば、5×5の処理領域
Qで18以上の画素の連続マスク処理信号が「1」であ
る場合のみ、集合マスク処理信号が「1」となり、18
以下の場合は「0」となる。
れ、その比較結果が集合マスク処理信号として出力され
る。例えば、設定値が18であれば、5×5の処理領域
Qで18以上の画素の連続マスク処理信号が「1」であ
る場合のみ、集合マスク処理信号が「1」となり、18
以下の場合は「0」となる。
このように第71図に示す集合マスク処理回路によれば
、シフトレジスタ50に連続マスク処理信号を順次入力
しておくだけで、5X5の処理領域Qを集合マスク処理
した集合マスク処理信号をリアルタイムで得ることがで
きる。
、シフトレジスタ50に連続マスク処理信号を順次入力
しておくだけで、5X5の処理領域Qを集合マスク処理
した集合マスク処理信号をリアルタイムで得ることがで
きる。
判定回路28は、集合マスク処理回路26から出力され
る集合マスク処理に基づいて欠陥の有無を判定する。例
えば、「1」である集合マスク処理信号を計数し、その
計数値が所定の設定値を越えた場合に欠陥種であると判
定する。この判定信号は場12の搬送系(図示せず)に
送出され、搬送系はその判定結果に応じて、例えば欠陥
種を排除するようにする。
る集合マスク処理に基づいて欠陥の有無を判定する。例
えば、「1」である集合マスク処理信号を計数し、その
計数値が所定の設定値を越えた場合に欠陥種であると判
定する。この判定信号は場12の搬送系(図示せず)に
送出され、搬送系はその判定結果に応じて、例えば欠陥
種を排除するようにする。
基準信号発生回路30は壜位置検出器32からの壜位置
信号に基づいて、レンズ振角信号、検査期間信号を生成
して出力する。レンズ振角信号は、壜12の透過映像を
常に二次元光電変換装置16で得るように凹レンズ14
aを振動させるための信号で、レンズ駆動回路21に出
力される。レンズ駆動回路21はこのレンズ振角信号に
基づいて凹レンズ14aを振動させる。検査期間信号は
、凹レンズ14aが場12の動きに応じて動いている間
である検査期間を指示するための信号で、判定回路28
に出力される。
信号に基づいて、レンズ振角信号、検査期間信号を生成
して出力する。レンズ振角信号は、壜12の透過映像を
常に二次元光電変換装置16で得るように凹レンズ14
aを振動させるための信号で、レンズ駆動回路21に出
力される。レンズ駆動回路21はこのレンズ振角信号に
基づいて凹レンズ14aを振動させる。検査期間信号は
、凹レンズ14aが場12の動きに応じて動いている間
である検査期間を指示するための信号で、判定回路28
に出力される。
基準信号発生回路30からのレンズ振角信号に基づいて
レンズ駆動回路21は凹レンズ14aを駆動する。この
レンズ駆動回!21は凹レンズ14a側から捩角位置信
号をフィードバック信号としてフィードバック制御する
。なお、凹レンズ14a側から捩角位置信号が出力され
ない場合にはオーグンルーグで制御する6 基準信号発生回路30からの検査期間信号は例えば判定
回路28に出力される。判定回路28は検査期間信号が
ハイレベルの期間中に入力する欠陥検出信号だけを有効
として、場12が欠陥であるか否かを判断する。なお、
この検査期間信号を、検査領域検査ゲート設定回路20
、欠陥検出回路24、連続マスク処理回路25又は集合
マスク処理回路26に出力し、検査期間信号がハイレベ
ルの期間中に入力する信号だけを有効とするようにして
もよい。
レンズ駆動回路21は凹レンズ14aを駆動する。この
レンズ駆動回!21は凹レンズ14a側から捩角位置信
号をフィードバック信号としてフィードバック制御する
。なお、凹レンズ14a側から捩角位置信号が出力され
ない場合にはオーグンルーグで制御する6 基準信号発生回路30からの検査期間信号は例えば判定
回路28に出力される。判定回路28は検査期間信号が
ハイレベルの期間中に入力する欠陥検出信号だけを有効
として、場12が欠陥であるか否かを判断する。なお、
この検査期間信号を、検査領域検査ゲート設定回路20
、欠陥検出回路24、連続マスク処理回路25又は集合
マスク処理回路26に出力し、検査期間信号がハイレベ
ルの期間中に入力する信号だけを有効とするようにして
もよい。
モニタ表示用RA M回路22は内蔵するフレームメモ
リに増12のディジタル映像信号を記・憶してモニタ3
6に表示する。モニタ表示用RA M回路22には集合
マスク処理回路26から欠陥検出信号と判定回路28か
らの判定結果信号と検査領域検査ゲート設定回路20か
らの検査ゲート信号が入力されている。欠陥検出信号に
基づいて欠陥点やエラースキャンをモニタ表示用RAM
回路22に書込む。また検査ゲート信号に基づいてモニ
タ36上に検査ゲートを表示する。
リに増12のディジタル映像信号を記・憶してモニタ3
6に表示する。モニタ表示用RA M回路22には集合
マスク処理回路26から欠陥検出信号と判定回路28か
らの判定結果信号と検査領域検査ゲート設定回路20か
らの検査ゲート信号が入力されている。欠陥検出信号に
基づいて欠陥点やエラースキャンをモニタ表示用RAM
回路22に書込む。また検査ゲート信号に基づいてモニ
タ36上に検査ゲートを表示する。
このように本実施例によれば連続マスク処理の後、更に
集合マスク処理を行っているので、感度をあげてノイズ
が発生しても、ノイズによる連続マスク処理信号は第6
図fa)に示すように孤立して生ずるのに対し、うす汚
れ、しわ、泡等の半透明の欠陥は連続マスク処理信号が
第6図(b)に示すように欠陥領域中で散在しているの
で、これら欠陥とノイズを区別することができる。
集合マスク処理を行っているので、感度をあげてノイズ
が発生しても、ノイズによる連続マスク処理信号は第6
図fa)に示すように孤立して生ずるのに対し、うす汚
れ、しわ、泡等の半透明の欠陥は連続マスク処理信号が
第6図(b)に示すように欠陥領域中で散在しているの
で、これら欠陥とノイズを区別することができる。
本発明は上記実施例に限らず以下に示すように種々の変
形が可能である。
形が可能である。
上記実施例では連続マスク処理した後の信号を集合マス
ク処理したが、連続マスク処理回路を設けず、欠陥検出
回路からの欠陥信号に対して集合マスク処理してもよい
。
ク処理したが、連続マスク処理回路を設けず、欠陥検出
回路からの欠陥信号に対して集合マスク処理してもよい
。
また、上記実施例では集合マスク処理を連続マスク処理
信号の「1」の合計値が設定値に達しなか否かに基づい
て行ったが、合計値に限らず処理領域内の連続マスク処
理信号の分布状態により集合マスク処理信号を「1」に
するようにしてもよい。
信号の「1」の合計値が設定値に達しなか否かに基づい
て行ったが、合計値に限らず処理領域内の連続マスク処
理信号の分布状態により集合マスク処理信号を「1」に
するようにしてもよい。
さらに、集合マスク処理する領域Qは5×5の領域に限
らない0例えば、第7図に示すように壜12に対して横
長の領域Qにすると、壜12に垂直方向に入っている壜
12製造時の合わせ目Rを欠陥と誤って検出することが
ない。すなわち、壜12の合わせ目Rのように欠陥と検
出したくないものの方向が予め分かる場合には、その方
向に対して横長に処理領域Qを定めればよい。
らない0例えば、第7図に示すように壜12に対して横
長の領域Qにすると、壜12に垂直方向に入っている壜
12製造時の合わせ目Rを欠陥と誤って検出することが
ない。すなわち、壜12の合わせ目Rのように欠陥と検
出したくないものの方向が予め分かる場合には、その方
向に対して横長に処理領域Qを定めればよい。
また、上記実施例では連続して流れる場12を追いかけ
るのに二次元光電変換装置16の光軸を変更するように
したが、ミラーを用いて場12を追いかけるようにして
もよい。
るのに二次元光電変換装置16の光軸を変更するように
したが、ミラーを用いて場12を追いかけるようにして
もよい。
さらに、上記実施例では壜12の透過映像を検出するの
に二次元光電変換¥2置を用いたが、リニアCODのよ
うな一次元光電変換装置を用いてもよい。
に二次元光電変換¥2置を用いたが、リニアCODのよ
うな一次元光電変換装置を用いてもよい。
また、欠陥検出方式も上記実施例に示したものに限らず
種々の変形が可能である。例えば、比較演算する2点の
明るさをQA 、QBとして、次式のいずれかが成立す
れば欠陥ありとしてもよい。
種々の変形が可能である。例えば、比較演算する2点の
明るさをQA 、QBとして、次式のいずれかが成立す
れば欠陥ありとしてもよい。
QA /QB ≧ (定委kc)
Qへ/QB≦1/<定数C)
また比較する3点の明るさを、QA 、 QB 、 Q
Cとして、次式のいずれがか成立すれば欠陥ありとして
もよい。
Cとして、次式のいずれがか成立すれば欠陥ありとして
もよい。
QB/((Qへ十QC)/2 i≧(定数D)QB /
HQA+QC)/2 +≦1/(定数D)なお定数C1
定数りは1以上の数である。
HQA+QC)/2 +≦1/(定数D)なお定数C1
定数りは1以上の数である。
なお、場景外の、例えば金属部品のようなものの検査に
も本発明の原理を適用できることはいうまでもない。
も本発明の原理を適用できることはいうまでもない。
[発明の効果]
以上の通り本発明によれば、場の胴部の特に半透明な欠
陥を精度よく検出することができる。
陥を精度よく検出することができる。
第1図は本発明の一実施例による壜胴部の欠陥検出装置
のブロック図、第2図は同壜胴部の欠陥検出装置におけ
る検査領域と検査ゲートを示す図、第3図は同壜胴部の
欠陥検出装置の連続マスク処理の処理領域を示す図、第
4図は同壜胴部の欠陥検出装置の集合マスク処理回路の
具体例を示す回路図、第5図は同集合マスク処理回路の
動作を説明するための図、第6図は壜の透過映1@にお
けるノイズと半透明欠陥の集合マスク処理結果を示す図
、第7図は壜の処理領域の収り方の具体例を示す図であ
る。 10・・・拡散光源、12・・・壜、14・・・光軸変
更部、15・・・駆動モータ、16・・・二次元光電変
換装置、18・・・A / D変換回路、20・・・検
査領域検査ゲート設定回路、22・・・モニタ表示用R
AM回路、24・・・欠陥検出回路、25・・・連続マ
スク処理回路、26・・・集合マスク!迅理回路、28
・・・判定回路、30・・・基準信号発生回路、32・
・・場位置検出器、36・・・モニタ。 第5図 第7図
のブロック図、第2図は同壜胴部の欠陥検出装置におけ
る検査領域と検査ゲートを示す図、第3図は同壜胴部の
欠陥検出装置の連続マスク処理の処理領域を示す図、第
4図は同壜胴部の欠陥検出装置の集合マスク処理回路の
具体例を示す回路図、第5図は同集合マスク処理回路の
動作を説明するための図、第6図は壜の透過映1@にお
けるノイズと半透明欠陥の集合マスク処理結果を示す図
、第7図は壜の処理領域の収り方の具体例を示す図であ
る。 10・・・拡散光源、12・・・壜、14・・・光軸変
更部、15・・・駆動モータ、16・・・二次元光電変
換装置、18・・・A / D変換回路、20・・・検
査領域検査ゲート設定回路、22・・・モニタ表示用R
AM回路、24・・・欠陥検出回路、25・・・連続マ
スク処理回路、26・・・集合マスク!迅理回路、28
・・・判定回路、30・・・基準信号発生回路、32・
・・場位置検出器、36・・・モニタ。 第5図 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、壜の胴部を照明する照明手段と、 前記照明手段により照明された前記壜の胴部の透過映像
を光電変換する光電変換手段と、 前記光電変換手段により光電変換された透過映像画面を
少なくとも2点の明るさに基づいて欠陥点を検出する欠
陥検出手段と、 前記透過映像画面内の各画素に対応した処理領域を定め
、処理領域内にある前記欠陥点の状態に基づいて各処理
領域が欠陥集合領域であるか否か判定し、集合処理信号
を出力する集合処理手段と、前記集合処理手段からの集
合処理信号に基づいて前記壜の胴部の欠陥の有無を判定
する判定手段と を備えたことを特徴とする壜胴部の欠陥検出装置。 2、請求項1記載の壜胴部の欠陥検出装置において、 前記集合処理手段の前記処理領域は前記画素を中心とし
たm行n列の矩形領域であり、 前記集合処理手段は、 各画素の信号を連続的に順次シフトしていく少なくとも
m桁のシフトレジスタと、 前記シフトレジスタに格納されている画素の欠陥点を加
算する第1の加算回路と、 前記第1の加算回路の加算結果を順次格納する少なくと
もn個のメモリと、 前記n個のメモリに格納された各加算結果を更に加算す
る第2の加算回路と、 前記第2の加算回路の加算結果に基づいて前記集合処理
信号を生成する集合処理信号生成手段とを有することを
特徴とする壜胴部の欠陥検出装置。 3、請求項1又は2記載の壜胴部の欠陥検出装置におい
て、 前記欠陥点の連続状態に基づいて欠陥か否か判定し、各
画素に対応した連続処理信号を出力する連続処理手段を
更に備え、 前記集合処理手段は、前記連続処理手段から出力される
連続処理信号の状態に基づいて各処理領域が欠陥である
か否かを判定することを特徴とする壜胴部の欠陥検出装
置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63128247A JPH0641924B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 壜胴部の欠陥検出装置 |
DE68926362T DE68926362T2 (de) | 1988-05-27 | 1989-05-25 | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung der Seitenwände von Flaschen |
EP89109450A EP0343664B1 (en) | 1988-05-27 | 1989-05-25 | Apparatus for detecting defects on bottle sidewalls |
US07/357,288 US4948956A (en) | 1988-05-27 | 1989-05-26 | Apparatus with area-masking for detecting defects on bottle sidewalls |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63128247A JPH0641924B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 壜胴部の欠陥検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01299444A true JPH01299444A (ja) | 1989-12-04 |
JPH0641924B2 JPH0641924B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=14980133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63128247A Expired - Lifetime JPH0641924B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 壜胴部の欠陥検出装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4948956A (ja) |
EP (1) | EP0343664B1 (ja) |
JP (1) | JPH0641924B2 (ja) |
DE (1) | DE68926362T2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05180777A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Japan Tobacco Inc | 円筒形物体の外観検査装置 |
JPH08210990A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-08-20 | Elpatronic Ag | 対象物の検査方法および装置 |
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JPH0739999B2 (ja) * | 1991-01-24 | 1995-05-01 | 肇産業株式会社 | 欠陥検出方法 |
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DE102009020919A1 (de) | 2009-05-12 | 2010-11-18 | Krones Ag | Vorrichtung zum Erkennen von Erhebungen und/oder Vertiefungen auf Flaschen, insbesondere in einer Etikettiermaschine |
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-
1989
- 1989-05-25 DE DE68926362T patent/DE68926362T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-25 EP EP89109450A patent/EP0343664B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-26 US US07/357,288 patent/US4948956A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0343664A3 (en) | 1990-08-29 |
DE68926362D1 (de) | 1996-06-05 |
JPH0641924B2 (ja) | 1994-06-01 |
EP0343664B1 (en) | 1996-05-01 |
US4948956A (en) | 1990-08-14 |
DE68926362T2 (de) | 1996-12-12 |
EP0343664A2 (en) | 1989-11-29 |
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