JPH01294120A - シール式標準機械インターフェイス装置のための直線駆動式マニピュレータ装置 - Google Patents
シール式標準機械インターフェイス装置のための直線駆動式マニピュレータ装置Info
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- JPH01294120A JPH01294120A JP63121647A JP12164788A JPH01294120A JP H01294120 A JPH01294120 A JP H01294120A JP 63121647 A JP63121647 A JP 63121647A JP 12164788 A JP12164788 A JP 12164788A JP H01294120 A JPH01294120 A JP H01294120A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ターフェイスシステムのためのマニピュレータ装置に係
り、より詳細には、処理されるべき物品を含むカセット
を、粒子汚染を防止するために半導体処理装置に用いる
のに適したシールされた容器へ搬送したり該容器から取
り出したりする装置に係る。
とによって粒子汚染を減少するために標準機械インター
フェイス(SMIF)が提案されている。これは、ウェ
ハの搬送中、保管中及び処理中に、ウェハを取り巻くガ
ス状の媒体(空気や窒素のような)がウェハに対して本
質的に静止するように機械的に確保し且つ当該環境の外
部の環境からの粒子がそのすぐ内部のウェハ環境内に入
り込まないように確保することによって達成されている
。
効率良く製造するためには、粒子汚染を制御することが
重要である。設計上、線やスペースを益々小さくするこ
とが必要になってきているために、粒子の数について益
々高度に制御し、そしてより小さな直径の粒子を除去す
ることが必要とされている。
が不完全になって不所望な電気的ブリッジを招くといっ
た処理欠陥を生じさせる。このような物理的な処理欠陥
に加えて、他の汚染粒子は、ゲート絶縁体又は接合部に
イオン化又は捕獲の中心を誘起することにより電気的な
欠陥を招く。
ミクロン以上という範囲の粒子サイズに関連したもので
なければならない。これらサイズの粒子は、半導体の処
理に著しいダメージを及ぼす、今日の典型的な半導体処
理には、1ミクロン以下の幾何学形状が使用されている
。0.1ミクロンより大きい幾何学形状を有する不所望
な汚染粒子は、1ミクロンという幾何学形状の半導体装
置に著しい障害を及ぼす。半導体処理の幾何学形状は、
もちろん、益々小さくなる傾向にある。
確立され、濾過又は他の技術により、0.03ミクロン
以上の幾何学寸法を有する粒子を除去するように試みら
れている。然し乍ら、処理環境を改善する要望がある。
に維持することができない。従来の清潔な部屋は、0.
01ミクロンサイズ以下の粒子がない状態に維持するこ
とは実質上不可能である。
ある。人間から落ちた粒子は、当該環境を通過してウェ
ハ表面に物理的に接触したり移動したりする。人間は、
例えば、皮膚の薄片を落すことにより、大きな粒子発生
源となり、これら粒子は容易にイオン化されて欠陥を生
じさせる。
、放出を完全に抑制するものではない。完全に衣類を着
用した操作者から1分当たり6000個の粒子が1立方
フイートの隣接空間に放出されることが分かった。
びULPA再循環空気系統を有する精巧で且つ高価な清
潔な部屋を建設する傾向にある。
効率が99.999%であって且つ1分当たり10回ま
で完全に空気を入れ変えることが必要である。
機械から発生した粒子がウェハに到達しないようにしな
ければならなずそしてガス及び化学液体の供給者は、よ
り清潔な製品を納入しなければならない、最も重要なこ
とは、保管中、運搬中及び処理装置への搬送中にウェハ
を粒子から効果的に分離するようなシステムを設計しな
ければならないことである。この目的を達成するために
、標準機械インターフェイス(SMIF)システムが提
案されている。このSMIFの考え方は。
ない空気がウェハにとって考えられる最も清潔な環境で
あるということを実現するものである。1つの提案され
たシステムのそれ以上の詳細は、1984年7月の[ソ
リッド・ステート・テクノロジーjの第111−115
頁に掲載されたマイバー・パリク及びウルリッチ・カエ
ンフ著のrSMI F : VLS I製造におけるウ
ェハカセット転送のための技術(SMIF : A T
ECHNOLOGY FORWAFERCASSETT
E TRANSFERIN VLSI MANUF
AC丁UR−ING) Jと題する論文、及び1984
年7月30日に出願されたジョージ・アーリン・マネー
、アンドリュー・ウィリアム・オスリビアン及びW、ジ
ョージ・ファラコ氏の「シール式標準インターフェイス
装置(SEALED 5TANDARD INTERF
ACE APPARA−TUS)Jと題する米国特許出
願第635,384号、並びに1984年12月24日
に出願されたジョージ・アーリン・マネー、アンドリュ
ー・ウィリアム・オスリビアン及びW、ジョージ・ファ
ラコ氏の「ボックスドア作動式の容器(BOX DOO
RACTUATED RETAINER)Jと題する米
国特許出願第686゜443号に開示されている。
を偉えており、即ち(1)ウェハカセットを保管し且つ
搬送するために最小容積の防塵容器が使用され、(2)
処理装置のカセットポートの上に蓋が配置されて容器及
び蓋の中の環境が小さな清潔なスペースになるようにし
そして(3)容器のドアが装置の蓋に設けられたインタ
ーフェイスポートのドアと嵌合するように設計されそし
て2つのドアが同時に開放されてドア外面にあった粒子
がドアとドアとの間に捕らえられる(サンドイッチされ
る)ようになっている。
ラッチが容器のドアと蓋ポートのドアとを同時に解除す
る1機械的なエレベータが2つのドアを、カセットをそ
の上にのせた状態で、蓋によってカバーされた空間へと
下げる。マニュピレータは、カセットを取り上げて、カ
セットボート/エレベータ又は装置の蓋内の他の位置へ
配置する。
部屋の内部と外部に用いた実験によって効果的であるこ
とが分かっている。このSMIF構成は、清潔な部屋の
内部でオープンカセットを取り扱う従来の構成に比して
10倍もの改善を与える。
るから、エレベータ及びマニピュレータのサイズ及び構
成が重要となる。更に、処理されるべき物品を保持して
いるカセットを標準機械インターフェイスの容器から取
り出す装置は、これを使用しないときに小さな空間に閉
じ込められる一方、隣接する装置へ長い距離にわたって
届くことが所望される。
を、処理ステーションに支持された容器との間で搬送す
る装置を提供する。処理ステーションはカセットポート
を含んでおり、このカセットポートは、処理ステーショ
ンの外部から該カセットポートを通して処理ステーショ
ンの内部へと延びている中心軸に沿ってカセットが移動
されるときにこれを受け入れる。更に、本発明の装置は
、垂直軸に沿って搬送可能なプラットホームを含むエレ
ベータを備えている。プラットホームは、上記軸に沿っ
て容器との間でカセットを搬送するのに適している。又
、本発明の装置は1機械的なマニュピレータも備えてお
り、そのアームはプラットホームに枢着されていてカセ
ットに係合すると共にその係合したカセットを垂直軸か
らずれた位置へ搬送する。更に、本発明の装置は、上記
プラットホーム及びアームを上記軸に対して実質的に垂
直な方向にまっすぐに並進移動する装置も備えている。
距離において垂直軸から変位した位置にカセットを効果
的に自動配置できることが明らかであろう。
以下の詳細な説明から明らかとなろう。
例として説明する。
このマニピュレータ1が使用される処理ステーション2
が簡単に示されている。処理ステーション2は、処理段
階が実行される本体3を備えている。例えば、処理され
るべき物品が半導体ウェハであるときには、処理ステー
ションがウェハの表面上にホトレジストの層を配置する
ように動作する。もちろん、他の多数の処理段階を実行
することもできる。
するための蓋4を備えている。蓋4は、処理ステーショ
ン2の内部が粒子で汚染されるのを防止する。マニピュ
レータ1は、処理されるべき物品6を保持しているカセ
ット5を容器7からカセットポート8を通して取り出し
そして処理ステーション2へ搬送するように動作する。
に取り上げる上記の[ボックスドア作動式の容器」と題
する特許出願に詳細に説明されている。
トプレート9と、縦穴1oとを備えており、この縦穴の
中心軸102はカセットポート8から処理ステーション
2へと延びている。或いは又、カセットポート8は、処
理ステーション2の蓋4に組み込まれてもよい、縦穴1
o及び中心軸102はカセットポート8がら垂直方向下
方に延びており、カセットポート8が開けられたときに
カセット5が容器7がら重力で下降するようになってい
るのが好ましい。
を縦穴1oの中心軸に沿ってカセットポート8と処理ス
テージ1ン2との間で搬送する第1手段11を備えてい
る。この第1手段11は、縦穴10に支持された第1の
プラットホーム12を備えている。カセット5は、第1
のプラットボーム12上に支持することができ、カセッ
トポート8が開いたときにカセット5がこの第1のプラ
ットホーム12上にのせられる。カセット5を支持する
ための整列ビン(図示せず)が第1のプラットホーム1
2上に取り付けられてもよいし、プラットホーム12に
カセット5を保持する他の手段を使用してもよい、第2
図ないし第6図を参照して詳細に述べるように、上記第
1の手段は、第1のプラットホーム12を、これに支持
できるカセットと共に、縦穴1oを通してポート8付近
の位置と縦穴1oの中心軸102に沿フた任意の位置と
の間で制御可能に移動するための手段を備えている。従
って、第1のプラットホーム12は縦穴を上方に移動し
てカセットポート8と嵌合し、カセットポート8をシー
ルすることができる。カセットポート8が開くと、カセ
ット5が第1のプラットホーム12上に支持される0次
いで、第1のプラットホーム12は、これにカセット5
をのせた状態で縦穴10に沿って処理ステーション2へ
と下降される。
る第2の手段13を備えており、この第2手段は、処理
ステーション2内の縦穴1oがら離れた少なくとも1つ
の位置14との間でカセット5を搬送すると共に、第1
の手段11がカセットポート8から離れたときにこの第
1手段11との間でカセット5を搬送する。
トホーム15を備えている。更に、機械的なアーム16
が第2のプラットホーム15に枢着されている。この機
械的なアーム16は、第1の端17と、第2の端18を
備えている。第1の端17は、第2のプラットホーム1
5に枢着され、アーム16が縦穴1oに直交する平面内
において第1の端17の周りで枢着回転できるようにな
っている。
るのは、処理されるべき物品6を保持するカセット5に
係合するための係合手段19であるにの係合手段19は
、機械的なアーム16の第2の端18に枢着されるのが
好ましく、カセット5を直立状態に維持する手段、例え
ば、係合手段19に係合されている間に重力によってカ
セット5を垂直に整列させることのできるベアリングを
備えている。
ットホーム15を制御可能に移動させる手段を備えてい
る。又、機械的なアーム16の第2の端18の位置を制
御する手段20、例えば、第2のプラットホーム15に
取り付けられたステップモータ又はベルト駆動式のギア
ボックスも備えている6機械的なアーム16の第2の端
18の位置を制御する手段20は、係合手段19に関連
して動作し、カセット5は縦穴10の中心軸102に直
交する平面に沿って処理ステーション2内の少なくとも
1つの位置14と第1の手段11との間で搬送されるよ
うに支持される。
2図ないし第6図を参照して詳細に説明する。これらの
図面は、マニピュレータ1がカセット5を容器7内から
第5図及び第6図に示した位置14まで搬送するときの
マニピュレータ1の種々の位置を示している。第2図な
いし第6図に示されたマニピュレータ1の部分は、第1
図に一致する参照番号で示されている。
てマニピュレータ1を示している。カセット5は、処理
ステーション2において容器7内に保持されている。第
1手段11の第1プラツトホーム12は、ポートプレー
ト9のカセットポート8の付近に配置されている。第2
の手段13は、縦穴10において下方に配置されており
、第1手段11が縦穴10内で大きな自由度で動けるよ
うになっている。
ラットホーム12は、第3図に示すように縦穴10内を
下降される。第2手段13の第2のプラットホーム15
は若干持ち上げられ、そして機械的なアーム16がステ
ップモータ20を用いて位置設定され、係合手段19は
、第1のプラットホーム12上に支持されたカセット5
の上に整列される。
に係合できるように下げられる。次いで、第4図に示す
ように持ち上げられて、カセット5を第1のプラットホ
ーム12から持ち上げ。
穴10の中心軸102に直交する平面に沿って縦穴10
から離れるように揺動させる。これにより、第1手段1
1は縦穴に沿って第2手段13の上に移動することがで
き、カセットボート8上の容器7が第1手段11の第1
プラツトホーム12によって閉じられる。
ットポート8の付近に配置され、容器7をシールする。
支持する第2のプラットホーム15は、機械的アーム1
6が縦穴10に直交する平面に沿って揺動するときに縦
穴10に沿って位置設定されて、処理ステージJン2の
内部の位I!!14にカセットを配置させる0位置14
は。
トホーム15を縦穴10において下降させるように作動
し、その間に、機械的アーム16は、第1のプラットホ
ーム12の下で縦穴10の中心軸102と整列するよう
に揺動する。このようにして1機械的なアーム16は縦
穴10において間隙距離Xでコンパクトに位置設定され
、これにより、カセット5を容器7に対して同軸的に装
填したり取り出したりすることができる(第3図も参照
されたい)、カセット5は、処理ステーション2におい
て生じる操作を妨げないように移動される。
1手段11の第1プラツトホーム12との間でやり取り
するように動作し、カセット5が第1プラツトホーム1
2上にある間に、マニピュレータ1は、カセット5をカ
セットポート8に取り付けられた容器7どの間でやり取
りするように動作することができる。これらの機能は、
処理ステーション2の内部の最小の空間において行なわ
れる。
0に沿って取り付けられていて、第1プラツトホーム1
2及び第2プラント示−ム15を縦穴に沿って搬送する
手段の機構を分離している。この分離シールド30は、
マイラー又は他の材料のようなアコーディオン状の折り
重ねプラスチックで製造され、第1の手段11及び第2
の手段13が縦穴10に沿って搬送されるときにも分離
シールド30はそのまシの状態に保たれる。もちろん、
第1プラツトホーム12及び第2プラツトホーム15を
移動させる手段の機構を分離するための他の手段を適宜
用途に合わせて使用することができる。
及びカセット5を第1プラツトホーム12に保持する手
段を動作させるための制御信号は、全て、第1手段11
の支持体31及び第2手段13の支持体32を通して又
はそれに沿って、コンピュータや他の信号処理装置(図
示せず)のような制御器へ送信される。
び第2手段13は、縦穴10に取り付けられたガイド手
段35に支持される。第7図は、第1手段11及び第2
手段13が取り付けられるガイド手段35の背面図であ
る。
ム15の位置を制御する手段36と、縦穴10における
第1プラツトホーム12の位置を制御する手段37とを
備えている0手段36は、ねじ切りされたバー40で形
成されたウオームギア装置51と、ねじ切りされたバー
40を制御可能に回転するモータ41とを備えている。
第1ガイド38及び第2ガイド39に支持するための手
段も含まれている。更に、第2の手段13は、ねじ切り
されたシャフト40に嵌合するギアベアリング45も含
んでおり、ねじ切りされたシャフト40がモータ41に
よって回転されるときには縦穴における第2手段13の
位置が制御される。
する手段37は1手段36と同様の構造のものである。
ガイド39と整列して支持するようにベアリング48及
びベアリング49が第1の手段11と共に取り付けられ
る。第1の手段11にはギアベアリング50が取り付け
られ、これはウオームギア装置52のねじ切りされたシ
ャフト51と嵌合され、このシャフトは縦穴10に沿っ
た第1の手段11の移動を制御するように動作する。ね
じ切りされたシャフト51は、第1の手段11を制御可
能に位!i!設定するためにモータ53によって制御可
能に回転される。
及び49と、第2の手段13の整列を維持するためのベ
アリング33及び34は、第1の手段11と第2の手段
13を安定に位置設定しなければならない。従って、こ
れらのベアリングは、3点支持系M(図示せず)を形成
するように変更してもよいが、その他の点では、ガイド
38及び39と、これらガイドに嵌合するベアリングと
が横方向の支持体を形成しなければならない。
の側面図である。特に、マニピュレータアーム16の第
2の端19の位置を制御するための手段20は、第2の
プラットホーム15上にキャリッジ/レール組立体90
を備えている。マニピュレータアーム16の第1の端の
ピボット点91は、前記したようにステップモータ又は
ギアボックスに取り付けられる。ステップモータ又はギ
アボックスは、次いで、第2プラツトホーム15上のキ
ャリッジ92に取り付けられる。第2プラツトホーム1
5は、縦穴1oに直交する方向93を定める軸に沿って
キャリッジ92を案内するレール93を備えている。キ
ャリッジ/レール組立体90は、処理ステーション2内
で係合手段19に取り付けられたカセットを位置設定す
る際に更に融通性を発揮するようにマニピュレータアー
ム16のピボット点91を位置設定する手段を構成する
。キャリッジの位置は、良く知られたモータ又はベルト
駆動装置(図示せず)によって制御される。
ステムにおいて処理されるべき半導体ウェハのような物
品を保持するカセットを容器から処理ステーションへ取
り出すためのマニピュレータが開示された。容器は、処
理ステーションのマニピュレータ上でカセットポートに
支持される。
沿って搬送可能であり、カセットポートに嵌合して容器
からカセットを受け入れるように動作する。第1のプラ
ットホームは、縦穴を下方に搬送され、容器からカセッ
トを取り出す。縦穴に取り付けられた第2のプラットホ
ームは、第1のプラットホーム上にあるカセットに係合
するように揺動して第1のプラットホームからカセット
を持ち上げるマニピュレータアームを備えている。
処理ステージ目ン内の位置へカセットを搬送するように
枢着回転する0次いで、第1のプラットホームは縦穴内
を上方にカセットポートまで搬送され、容器をシールし
て粒子による汚染を防止する。マニピュレータアーム及
び第2のプラットホームは、縦穴から離れた処理ステー
ション内の位置へカセットを配置した後に、縦穴内に完
全に位置設定され、マニピュレータが処理ステーション
において占有する空間を最小とすることができる。
レータ(以下、駆動機構を有するマニピュレータ200
という)の好ましい実施例が示されている。第1図ない
し第8図に示されたマニビュータ1の場合と同様に、駆
動機構を有するマニピュレータ200は、半導体ウェハ
206を支持するカセット204を操作することのでき
る清潔な領域202を備えている。更に、駆動機構を有
するマニピュレータ200は、各アーム210を回転さ
せるギア機構208を備えている。ギア機構208は直
線駆動機構212に取り付けられ、該機構212は、ギ
ア機構208及びアーム210を水平方向に並進移動す
るのに用いられる。カセットを把持するためのグリッパ
214は、ギア機構208から離れたアーム210の端
の付近に回転可能に取り付けられる。
線駆動機構212は、全て、清潔な領域202を画成す
るマニピュレータ216内に配置される。容器216は
、垂直支持構造体218−1及び218−2に取り付け
られ、これらの支持構造体は、直線駆動機構を有するマ
ニピュレータ200と共に使用される処理装置221(
ここではパリアン(Varian) 350− D )
に対する直線駆動機構212及びそれに関連したアーム
210、ギア機構208並びにグリッパ214の高さを
調整するのに用いられる。
構を有するマニピュレータ200のポートプレート22
0に連通ずるように配置される。
ータ容器216内の清潔な領域に導入され、エレベータ
222はカセット204をマニピュレータ容器216へ
下げる。ポートプレート220を開放しそしてエレベー
タ222を用いてカセット204を下降することについ
ての詳細は、第1図ないし第8図についての説明から明
らかであるので、ここでは省略する。然し乍ら、第1図
ないし第8図を参照して述べたマニピュレータ1とは異
なり、アーム210もギア機構208も駆動機構付きマ
ニピュレータ200の他の部品に対して垂直方向に移動
しないことに注意されたい。
に接触してカセットを把持できるようになる位置までカ
セットを下げる。カセット2゜4は、面把持又は上部把
持という2つのやり方の一方で把持される。
いてカセット204を把持する位置で示されている。基
本的に、面把持とは、カセットを横から把持することで
ある。
14の面の細部を示す前面図である。
セット204に接触させるように回転される。グリッパ
の面は、グリッパ214がカセット204を把持するに
充分なほど接近したときを感知するために2つのスイッ
チを備えている。第1のスイッチは、カセット側面の上
部を感知するための単一のアクチュエータ224を有し
ている。
8の2つのセグメントを備えている。この第2のスイッ
チは、アクチュエータバー226及び228の2つのセ
グメントが押されたときだけトリガされる。左側及び右
側のクランプ230及び232は、第1及び第2の両ス
イッチがトリガされたときに矢印の方向に内方に移動す
る。第2スイツチの2セグメントのアクチュエータバー
226及び228は、カセット204がグリッパ214
に対して適切に整列しない限り、側部クランプ230,
232が内方に移動してカセット204をクランプしよ
うとしないようにする。
方に移動し、そのときグリッパ214に支持されている
カセット204から離れる。アーム210及びグリッパ
214と、カセット204は、矢印234で示された時
計方向に回転される。同時に、グリッパ214はアーム
210に対して反時計方向に回転し、カセット204が
そのスタート位置に対して90°回転する。
置221の位置236に配置すべき場合には、アーム2
10が動かされてカセット204を位置236にゆっく
りと配置し、次いで、グリッパがカセット204を解除
する。然し乍ら、カセット204を位置238に配置す
べき場合には、直線駆動機構212が全ギア機構208
及びアーム210、グリッパ214及びカセット204
を右へまっすぐに並進移動させ、カセットを位置238
に整列させる。次いで、アーム210は。
リッパがカセットを解除する。アーム210は、障害物
を越える点まで反時計方向に回転する。直線駆動機構2
12は、ギア機構208、アーム210及びグリッパ2
14を左のスタート位置へ戻す。
機構208、アーム210、グリッパ214及びカセッ
ト204がスタート位置にまっすぐに並進移動して戻さ
れた後に、アーム210はそのスタート位置まで反時計
方向に回転しそしてグリッパはアーム210に対して時
計方向に回転してそのスタート位置に戻る。
グリッパ214を用いることもできる。
対して回転しない。グリッパ214はカセット204を
瞬間的に傾斜させてウェハをカセットとの適切な安住位
置にスライドさせることができるが、カセットは水平を
保つ、この形式のグリッパ214の使い方については第
1図ないし第8図に示されている。
きマニピュレータ200のすぐ右側又はすぐ左側の2つ
の位置のいずれか或いは該マニピュレータ200の左前
方又は右前方の2つの位置のいずれかにカセット204
を配置するように構成することができる。
の上面図である。矢印212−1は、ギア機構208.
アーム210、グリッパ214及びカセット204のま
っすぐな並進移動の方向を示している。これは、左後方
又は右後方のいずれかに移動することができる。左に動
くように構成されたときには、カセット204を位置2
36−L又は238−Lのいずれかに配置することがで
き、そして右へ移動するように構成されたときには、カ
セット204を位置236−R又は238Rのいずれか
に配置することができる。
上面図である。矢印212−2は、ギア機構208、ア
ーム210、グリッパ214及びカセット204のまっ
すぐな並進移動の方向を示している。この場合にも、矢
印212−2で示された経路に沿って左後方又は右後方
に移動することができる。然し乍ら、第12図において
は、ギア機構208、アーム210及びグリッパ214
は、第9図から明らかなように駆動機構212に対して
90°回転されている。従って、駆動機構212がホー
ム位置即ちスタート位置に留まるようにされたときには
、アーム210が回転するときにカセット204が位置
240に配置される。
セット204が右へまっすぐに並進移動される場合には
、カセット204を位[242−Rに配置することがで
きる。ギア機構208、アーム210.グリッパ214
及びカセット204が左にまっすぐに並進移動された場
合には、カセット204を位置242−Lに配置するこ
とができる。
明した。これは、本発明を前記の形態に限定するもので
はなく、上記の技術から多数の変更や修正が明らかとな
ろう、従って、上記の説明、添付図面及び特許請求の範
囲から、本発明の更に別の特徴が理解できよう0本発明
の範囲は、特許請求の範囲のみによって規定されるもの
とする。
発明の真の精神及び範囲から逸脱することなく種々の変
更がなされ得ることが当業者に明らかであろう。
と共に、処理ステーションを簡単に示した図、 第2図ないし第6図は、本発明によるマニピュレータの
側面図であって、処理されるべき物品を保持しているカ
セットをSMIF容器から処理ステーションへと操作す
るところを説明するための図、 第7図は1本発明によるマニピュレータの背面図で、縦
穴に沿ってプラットホームを搬送する手段を示す図。 第8図は、マニピュレータアームを有していて第2のプ
ラットホーム上のキャリッジに可動のピボット点がある
本発明のマニピュレータの1実施例の側面図。 第9図は1本発明の装置の側面図であって。 単一のアーム及びそれに関連したギアボックスを第1の
位置及び変位した第2の位置で示した図、第10図は、
第9図の装置のグリッパの図、第11図は、第9図の装
置の上面図で、この装置によってカセットを配置できる
種々の位置と方向を示す図、そして 第12図は、第9図の装置の上面図で、この装置によっ
てカセットを配置できる種々の別の位置及び種々の別の
方向を示す図である。 1・・・マニピュレータ 2・・・処理ステーション 3・・・本体 4・・・蓋 5・・・カセット 6・・・処理されるべき物品 7・・・容器 8・・・カセットポート 9・・・ポートプレート 10・・・縦穴 102・・・中心軸11・・・第
1の手段 12・・・第1のプラットホーム 13・・・第2の手段 14・・・処理位置15・・
・第2のプラットホーム 16・・・機械的なアーム 17.18・・・機械的なアームの端 19・・・係合手段 2o・・・位置制御手段 FIG、−6
Claims (4)
- (1)処理されるべき物品を保持するカセットを処理ス
テーションに支持された容器へそして該容器から搬送す
るための装置であって、上記処理ステーションはカセッ
トポートを有し、このカセットポートは、処理ステーシ
ョンの外部からこのカセットポートを通して処理ステー
ションへと延びる中心軸に沿ってカセットが移動された
ときにカセットを受け入れるようにされた装置において
、上記の垂直軸に沿って上記容器へそして該容器からカ
セットを搬送するように、上記垂直軸に沿って搬送可能
なカセットプラットホームを含むカセットプラットホー
ム手段と、 カセットに係合しそしてカセットを上記軸からずれた位
置へ搬送するようにプラットホームに枢着されたアーム
を含むマニピュレータ手段と、上記プラットホーム及び
アームを上記軸に実質的に垂直な方向に直線的に並進移
動するための手段とを具備することを特徴とする装置。 - (2)直線的に並進移動する上記手段は、上記軸に実質
的に垂直な2つの実質的に平行な互いに逆の方向のいず
れかに上記プラットホーム及びアームを移動するように
される請求項1に記載の装置。 - (3)上記マニピュレータ手段は、上記軸に実質的に平
行な平面内で上記アームを回転させるようにする請求項
1に記載の装置。 - (4)上記アームは、更に、カセットを把持する手段を
備え、この把持手段は、この把持手段によって把持され
るようにカセットが配置されたかどうかを検出する手段
を備えている請求項1に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US5153687A | 1987-05-18 | 1987-05-18 | |
US051536 | 1987-05-18 | ||
US51536 | 1987-05-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01294120A true JPH01294120A (ja) | 1989-11-28 |
JP2593185B2 JP2593185B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=21971914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12164788A Expired - Lifetime JP2593185B2 (ja) | 1987-05-18 | 1988-05-18 | シール式標準機械インターフェイス装置のための直線駆動式マニピュレータ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0292235A3 (ja) |
JP (1) | JP2593185B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03248418A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4210960C2 (de) * | 1992-04-02 | 1994-03-31 | Ibm | Reinrauminsel und Verfahren zur reinraumgerechten Handhabung von in Behältern gelagerten Gegenständen |
DE4430846C2 (de) * | 1994-08-31 | 1997-04-10 | Jenoptik Jena Gmbh | Einrichtung zur Umsetzung eines Transportobjektes zwischen zwei Endlagen |
US6530736B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-03-11 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF load port interface including smart port door |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS4829151A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-18 | ||
JPS61157527U (ja) * | 1985-03-22 | 1986-09-30 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1987001361A1 (en) * | 1985-08-26 | 1987-03-12 | Asyst Technologies | Manipulator for standard mechanical interface apparatus |
-
1988
- 1988-05-17 EP EP88304450A patent/EP0292235A3/en not_active Withdrawn
- 1988-05-18 JP JP12164788A patent/JP2593185B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS4829151A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-18 | ||
JPS61157527U (ja) * | 1985-03-22 | 1986-09-30 |
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JPH03248418A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2593185B2 (ja) | 1997-03-26 |
EP0292235A2 (en) | 1988-11-23 |
EP0292235A3 (en) | 1990-08-08 |
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