JPH01287822A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
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- JPH01287822A JPH01287822A JP11729088A JP11729088A JPH01287822A JP H01287822 A JPH01287822 A JP H01287822A JP 11729088 A JP11729088 A JP 11729088A JP 11729088 A JP11729088 A JP 11729088A JP H01287822 A JPH01287822 A JP H01287822A
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- vapor deposition
- recording medium
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- perpendicularly magnetized
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Links
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度記録再生特性の優れた磁気記録媒体の製
造装置に関する。
造装置に関する。
従来の技術
短波長、狭トラツク記録特性の優れた磁気記録方式とし
て垂直磁気記録方式が知られている〔特公昭５８−９１
号公報〕。これは磁気記録媒体の膜面に垂直反平行磁界
としての残留磁化を利用するもので、ある条件を満足す
るＧｏ−Ｏｒ薄膜等のいわゆる垂直磁気記録層をもった
磁気記録媒体を必要とする〔日本金属学会会報、第２４
巻、第８号、６４６〜６５２頁（１９８５））。現状で
は、電磁変換特性の面でスパッタリング法で得られるＧ
ｏ−Ｏｒ膜、Ｇｏ−Ｏｒ−Ｎｂ膜等〔特開昭６１−７７
１２８号公報、特公昭６２−５６５７６号公報〕が優れ
ているものの、成膜速度が生産を前提とする水準にはな
く、研究解明目的の域を出ていないことから電子ビーム
蒸着法、イオンブレーティング法等の高速成膜の特性面
改善が待望されている〔外国論文誌アイイーイーイー
トランザクシジンズ オン マグネティクス： （Ｉ
ＥＩＥＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮ
ＥＴＩＣ３）ｖｏｌ。
て垂直磁気記録方式が知られている〔特公昭５８−９１
号公報〕。これは磁気記録媒体の膜面に垂直反平行磁界
としての残留磁化を利用するもので、ある条件を満足す
るＧｏ−Ｏｒ薄膜等のいわゆる垂直磁気記録層をもった
磁気記録媒体を必要とする〔日本金属学会会報、第２４
巻、第８号、６４６〜６５２頁（１９８５））。現状で
は、電磁変換特性の面でスパッタリング法で得られるＧ
ｏ−Ｏｒ膜、Ｇｏ−Ｏｒ−Ｎｂ膜等〔特開昭６１−７７
１２８号公報、特公昭６２−５６５７６号公報〕が優れ
ているものの、成膜速度が生産を前提とする水準にはな
く、研究解明目的の域を出ていないことから電子ビーム
蒸着法、イオンブレーティング法等の高速成膜の特性面
改善が待望されている〔外国論文誌アイイーイーイー
トランザクシジンズ オン マグネティクス： （Ｉ
ＥＩＥＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮ
ＥＴＩＣ３）ｖｏｌ。
ＭＡＧ−２３、黒−５、Ｐ、Ｐ、２４４９〜２４６４（
１９８７）、特開昭６２−２７５３２２号公報〕。
１９８７）、特開昭６２−２７５３２２号公報〕。
発明が解決しようとする課題
しかしながら電子ビーム蒸着法で比較的良好な電磁変換
特性を得るには、高分子フィルムとして □耐熱性の
高いポリアミドやポリイミド等のフィルムを用い、十分
なガス出し処理をして、かつ蒸着時に２００°Ｃ近い高
温にフィルムを保持するといった条件を必要とすること
から、長手に均一な性能を、とシわけ雑音レベルを管理
し、良好で均一なＧ／Ｎを得るのがむずかしいといった
課題があった。
特性を得るには、高分子フィルムとして □耐熱性の
高いポリアミドやポリイミド等のフィルムを用い、十分
なガス出し処理をして、かつ蒸着時に２００°Ｃ近い高
温にフィルムを保持するといった条件を必要とすること
から、長手に均一な性能を、とシわけ雑音レベルを管理
し、良好で均一なＧ／Ｎを得るのがむずかしいといった
課題があった。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、Ｃ／Ｎの
良好な垂直磁気記録媒体を高速で大面積に渡り製造でき
る装置を提供するものである。
良好な垂直磁気記録媒体を高速で大面積に渡り製造でき
る装置を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の
製造装置は、２０００（入／５ｅｃ）以上の高速電子ビ
ーム蒸着によシ垂直磁化膜を形成する装置であって、蒸
着材料の収納容器がＺｒＯ２又は５ｉｎ２ よ構成る
ようにしたものである。
製造装置は、２０００（入／５ｅｃ）以上の高速電子ビ
ーム蒸着によシ垂直磁化膜を形成する装置であって、蒸
着材料の収納容器がＺｒＯ２又は５ｉｎ２ よ構成る
ようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造装置は、上記した構成によ
り、Ｇｏ系合金の垂直磁化膜中に収納容器材よシの汚染
があってもＺｒ、Ｓｉは特に垂直磁化膜の特性を低下さ
せないので、大面積に渡って均一な性能、と９わけ均一
なＣ／Ｈの垂直磁気記録用の磁気記録媒体が得られるよ
うになる。
り、Ｇｏ系合金の垂直磁化膜中に収納容器材よシの汚染
があってもＺｒ、Ｓｉは特に垂直磁化膜の特性を低下さ
せないので、大面積に渡って均一な性能、と９わけ均一
なＣ／Ｈの垂直磁気記録用の磁気記録媒体が得られるよ
うになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の磁気記録媒体の製造
装置の一実施例について説明する。
装置の一実施例について説明する。
図は、本発明の一実施例の製造装置により磁気記録媒体
を製造するのに用いた蒸着装置の要部構成図である。
を製造するのに用いた蒸着装置の要部構成図である。
図で１はポリエチレンテレフグレート、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミ
ド等の高分子フィルムで、２は回転支持体で、３は巻出
し軸、４は巻取υ軸、５は蒸着材料で、Ｇｏ−Ｃｒ 、
Ｇｏ−Ｍｏ 、 Ｇｏ−Ｔｉ 、 Ｇｏ −Ｔａ、Ｃ
ｏ−０ｒ−Ｎｂ等が用いられる。６は収納容器で、Ｚｒ
Ｏ２，５ｉｎ２又はそれらの材料をライニングした水冷
銅容器が好ましい。７はマスクで入射角を垂直入射に近
い範囲に限定するためのもので、８は真空容器、９は真
空排気系である。蒸着材料の加熱は、加速した電子ビー
ムで行うのが好ましく、蒸着速度は２０００（八／５ｅ
ａ）以上の高速条件で行うことが好ましい。この速度は
高分子フィルムを用いて巻取りながら蒸着する際の真空
度は、５×１０〜１×１０ （Ｔｏｒｒ）程度が現実的
であることから、残留ガスの影響を無視できるようにす
る条件である。一方、入射角を制限することで性能向上
を図る時にも必要な生産性確保のだめにも必要な条件で
もある。
ーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミ
ド等の高分子フィルムで、２は回転支持体で、３は巻出
し軸、４は巻取υ軸、５は蒸着材料で、Ｇｏ−Ｃｒ 、
Ｇｏ−Ｍｏ 、 Ｇｏ−Ｔｉ 、 Ｇｏ −Ｔａ、Ｃ
ｏ−０ｒ−Ｎｂ等が用いられる。６は収納容器で、Ｚｒ
Ｏ２，５ｉｎ２又はそれらの材料をライニングした水冷
銅容器が好ましい。７はマスクで入射角を垂直入射に近
い範囲に限定するためのもので、８は真空容器、９は真
空排気系である。蒸着材料の加熱は、加速した電子ビー
ムで行うのが好ましく、蒸着速度は２０００（八／５ｅ
ａ）以上の高速条件で行うことが好ましい。この速度は
高分子フィルムを用いて巻取りながら蒸着する際の真空
度は、５×１０〜１×１０ （Ｔｏｒｒ）程度が現実的
であることから、残留ガスの影響を無視できるようにす
る条件である。一方、入射角を制限することで性能向上
を図る時にも必要な生産性確保のだめにも必要な条件で
もある。
以下、更に具体的に、本発明について比較例との対比で
説明する。厚み１２μｍのポリアミドフィルムを２５０
°Ｃの円筒キャンに沿わせて２ｍ／ｍ工ｎで巻き取りな
がら、脱ガス処理した後、キャン温度を１８０’Ｃに調
整してＣｏ−０ｒを収納容器をＺｒＯ□、５ｉ０２ ｆ
構成した中に入れ、３０ＫＶ 。
説明する。厚み１２μｍのポリアミドフィルムを２５０
°Ｃの円筒キャンに沿わせて２ｍ／ｍ工ｎで巻き取りな
がら、脱ガス処理した後、キャン温度を１８０’Ｃに調
整してＣｏ−０ｒを収納容器をＺｒＯ□、５ｉ０２ ｆ
構成した中に入れ、３０ＫＶ 。
７５ ＫＷの電子ビームで加熱し、入射角１０度以内で
、７Ｘ１０ ’（Ｔｏｒｒ） ２６００ （八／５ｅｃ
）、で垂直磁化膜を０．２μｍ形成した。ＺｒＯ２と５
ｉｎ２の容器を用い、幅２ｏａ長さ６００ｍの面積に夫
夫Ｇｏ−Ｏｒ膜を形成し、その上にパーフルオロステア
リン酸を真空蒸着法で約４０人配し、８ミリ幅の磁気テ
ープを試作した。一方比較例は、ＭｇＯ容器とした以外
は実施例と同じ条件でテープを試作した。夫々のテープ
を１２巻ずつ任意に抽出し、８ミリヒデオを改造しギャ
ップ長０．２μｍのセンダ７ト６．ドで、ビット長０．
２６７ｚｍ 、 ｌ−ラックピッチ５μｍのディジタ
ル記録を行い、帯域１２（ＭＨｚ） のＣ／Ｎを評価
した。
、７Ｘ１０ ’（Ｔｏｒｒ） ２６００ （八／５ｅｃ
）、で垂直磁化膜を０．２μｍ形成した。ＺｒＯ２と５
ｉｎ２の容器を用い、幅２ｏａ長さ６００ｍの面積に夫
夫Ｇｏ−Ｏｒ膜を形成し、その上にパーフルオロステア
リン酸を真空蒸着法で約４０人配し、８ミリ幅の磁気テ
ープを試作した。一方比較例は、ＭｇＯ容器とした以外
は実施例と同じ条件でテープを試作した。夫々のテープ
を１２巻ずつ任意に抽出し、８ミリヒデオを改造しギャ
ップ長０．２μｍのセンダ７ト６．ドで、ビット長０．
２６７ｚｍ 、 ｌ−ラックピッチ５μｍのディジタ
ル記録を行い、帯域１２（ＭＨｚ） のＣ／Ｎを評価
した。
ＺｒＯ２容２ｇとＳｉＯ２容器を用いて製造したテープ
のＣ／Ｎは、その中の１つのテープを基準〔○（ｄＢ）
）とおいた時、平均値がｏ、１ｓ （ｄＢ）で最大値
は０．５ （ｄＢ） 、最小値は−０，１（ｄＢ）で
あったのに対し、比較例は平均値が−１，１（ｄＢ）で
最大値が０．３ （ｄＢ） 、最小値が−２，９（ｄ
Ｂ）とバラツキが大きかった。この原因は、膜中にＭｇ
が混入することで磁気特性が低下することがランダムに
起ることからきていると推定される。
のＣ／Ｎは、その中の１つのテープを基準〔○（ｄＢ）
）とおいた時、平均値がｏ、１ｓ （ｄＢ）で最大値
は０．５ （ｄＢ） 、最小値は−０，１（ｄＢ）で
あったのに対し、比較例は平均値が−１，１（ｄＢ）で
最大値が０．３ （ｄＢ） 、最小値が−２，９（ｄ
Ｂ）とバラツキが大きかった。この原因は、膜中にＭｇ
が混入することで磁気特性が低下することがランダムに
起ることからきていると推定される。
発明の効果
以上のように本発明によれば、垂直磁気記録用の磁気記
録媒体を均一に大面積に渡り、高速で製造できるといっ
たすぐれた効果がある。
録媒体を均一に大面積に渡り、高速で製造できるといっ
たすぐれた効果がある。
図は本発明の一実施例に係る製造装置の要部構成図であ
る。 １・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・円筒ギャ
ン、６・・・・・・蒸着材料、６・・・・・・収納容器
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１−
隔分子フイ２レム ６− 収納容器
る。 １・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・円筒ギャ
ン、６・・・・・・蒸着材料、６・・・・・・収納容器
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１−
隔分子フイ２レム ６− 収納容器
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ２０００〔Å／ｓｅｃ〕以上の高速電子ビーム蒸着に
より垂直磁化膜を形成する磁気記録媒体の製造装置であ
って、蒸着材料の収納容器がＺｒＯ＿２又はＳｉＯ＿２
より成ることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11729088A JPH01287822A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11729088A JPH01287822A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287822A true JPH01287822A (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=14708090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11729088A Pending JPH01287822A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01287822A (ja) |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP11729088A patent/JPH01287822A/ja active Pending
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