JPH01171771A - 研磨シートおよびその製造方法 - Google Patents
研磨シートおよびその製造方法Info
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- JPH01171771A JPH01171771A JP62330404A JP33040487A JPH01171771A JP H01171771 A JPH01171771 A JP H01171771A JP 62330404 A JP62330404 A JP 62330404A JP 33040487 A JP33040487 A JP 33040487A JP H01171771 A JPH01171771 A JP H01171771A
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Classifications
-
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- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/20—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
- B24D3/28—Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
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- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
- B24D11/001—Manufacture of flexible abrasive materials
- B24D11/005—Making abrasive webs
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ｌｆｉ械・装置・部品、その他一般の物体の
表面の精密仕上げ研磨に有用な、研磨層表面に凸凹のあ
る研磨シートとその製造方法に関する。
表面の精密仕上げ研磨に有用な、研磨層表面に凸凹のあ
る研磨シートとその製造方法に関する。
溝のない平らな研磨層をもった研磨シートで被研磨物を
研磨すると、被研磨物のクズが研磨シートと被研磨面と
の間にはさまって、研磨を妨げる。また、研磨材粒子が
研磨シートの研磨層から脱落するとそれが被研磨面に引
っ掻き傷を生じさせることがある。これを防止するため
、従来、研磨層に溝を設けて、被研磨物のクズや脱落し
た研磨材粒子を溝の中に集めて除く技術がある。研磨層
に溝を設ける方法として、研磨層を櫛ですく方法（米国
特許筒２，７５５，６０７号）がある、しかし、この方
法は、櫛ですかれた溝の縁に凸凹ができたり、櫛で研磨
層をある距離だけすいたとき、櫛の歯に接着剤が塊を作
って付着し、この塊が歯から脱落して、研磨シート表面
のあちこちに付着して突起を作るという欠点があった。
研磨すると、被研磨物のクズが研磨シートと被研磨面と
の間にはさまって、研磨を妨げる。また、研磨材粒子が
研磨シートの研磨層から脱落するとそれが被研磨面に引
っ掻き傷を生じさせることがある。これを防止するため
、従来、研磨層に溝を設けて、被研磨物のクズや脱落し
た研磨材粒子を溝の中に集めて除く技術がある。研磨層
に溝を設ける方法として、研磨層を櫛ですく方法（米国
特許筒２，７５５，６０７号）がある、しかし、この方
法は、櫛ですかれた溝の縁に凸凹ができたり、櫛で研磨
層をある距離だけすいたとき、櫛の歯に接着剤が塊を作
って付着し、この塊が歯から脱落して、研磨シート表面
のあちこちに付着して突起を作るという欠点があった。
他の方法としては、基板に種々のパターンの研ｍ層をプ
リントすることによって形成させる方法（米国特許筒４
，１４２，３３４号）がある。この研磨シートは、研磨
層を形成したパターンの部分が基板上に突出しており、
その池の部分が溝として作用している。しかしながら、
この方法は、清を設ける方法としては良いが、プリント
により製造された研磨層の平面精度が良くないので、被
研磨物の表面を精密な平面に研磨したり、仕上げるには
不適当である。しかも、このプリントで製造された研ｍ
層は、基板から剥離しやすい欠点がある。
リントすることによって形成させる方法（米国特許筒４
，１４２，３３４号）がある。この研磨シートは、研磨
層を形成したパターンの部分が基板上に突出しており、
その池の部分が溝として作用している。しかしながら、
この方法は、清を設ける方法としては良いが、プリント
により製造された研磨層の平面精度が良くないので、被
研磨物の表面を精密な平面に研磨したり、仕上げるには
不適当である。しかも、このプリントで製造された研ｍ
層は、基板から剥離しやすい欠点がある。
また、他の方法として、あらかじめ溝を形成した発泡プ
ラスチックを基板とし、その突起の頭部のみに研磨層を
付着させる方法（米国特許筒４．１１１．６６６号）が
ある、しがし、この方法も、溝を設ける方法としては良
いが、突起の縁に研磨層が平らに付着しないので、被研
磨物の表面を精密な表面に仕上げるには不適当である。
ラスチックを基板とし、その突起の頭部のみに研磨層を
付着させる方法（米国特許筒４．１１１．６６６号）が
ある、しがし、この方法も、溝を設ける方法としては良
いが、突起の縁に研磨層が平らに付着しないので、被研
磨物の表面を精密な表面に仕上げるには不適当である。
また、上記の清を設ける方法の全てにおいて、製造方法
がやや複雑となる欠点がある。
がやや複雑となる欠点がある。
本発明は、製造方法が比較的簡単で、研磨層が基板シー
トから剥離しに＜＜、研磨層の平面精度の非常に良い凸
凹付き研磨シートを提供することを目的とする。
トから剥離しに＜＜、研磨層の平面精度の非常に良い凸
凹付き研磨シートを提供することを目的とする。
本発明は、あらかじめエンボス加工して凸凹パターンの
ついたプラスチックシート基板の表面に、研磨材粒子と
、そのバインダーとしての接着剤を混合したスラリーを
均一に塗布して、研磨層を形成する。塗布したスラリー
の層の厚さは、エンボス加工した基板シートの凸部分よ
りもさらに厚くなるように塗布する。その塗布されたス
ラリーの表面は、非常に精密に仕上げられた表面を持つ
ローラーで整形される。このため、シートの表面上には
平面精度の良いスラリー層が形成される。
ついたプラスチックシート基板の表面に、研磨材粒子と
、そのバインダーとしての接着剤を混合したスラリーを
均一に塗布して、研磨層を形成する。塗布したスラリー
の層の厚さは、エンボス加工した基板シートの凸部分よ
りもさらに厚くなるように塗布する。その塗布されたス
ラリーの表面は、非常に精密に仕上げられた表面を持つ
ローラーで整形される。このため、シートの表面上には
平面精度の良いスラリー層が形成される。
このスラリー層は適当な温度で乾燥硬化されて、研磨層
を形成する。この乾燥硬化過程において、エンボス加工
した基板シートの曲部分上に塗布されたスラリーは、凹
部骨上に塗布されたスラリーより速やかに乾燥するため
、表面張力が強くなり、周辺の凹部分のスラリーを引き
つけて、盛り上る。基板の凹部骨上に塗布されたスラリ
ーは、盛り上りを形成した体積分だけ凹むので、溝が形
成される。こうして、基板シートの凸凹に対応して凸凹
を有する研磨層が形成される。
を形成する。この乾燥硬化過程において、エンボス加工
した基板シートの曲部分上に塗布されたスラリーは、凹
部骨上に塗布されたスラリーより速やかに乾燥するため
、表面張力が強くなり、周辺の凹部分のスラリーを引き
つけて、盛り上る。基板の凹部骨上に塗布されたスラリ
ーは、盛り上りを形成した体積分だけ凹むので、溝が形
成される。こうして、基板シートの凸凹に対応して凸凹
を有する研磨層が形成される。
本発明によれば、塗布されたスラリーはローラーで整形
されているので、結果として形成される研磨層は、凸部
分や溝の凹部分においても、広い範囲において、良い平
面精度を保持している。また、他のプリント法によって
製造された研磨シートは研磨層の部分が溝によって途切
れているので基板から剥離しやすいが、本発明による研
磨シートでは、研磨層が白部分も溝である開部分も連な
っているので、被研磨物を研磨している時に研磨層が基
板から剥離しにくい。
されているので、結果として形成される研磨層は、凸部
分や溝の凹部分においても、広い範囲において、良い平
面精度を保持している。また、他のプリント法によって
製造された研磨シートは研磨層の部分が溝によって途切
れているので基板から剥離しやすいが、本発明による研
磨シートでは、研磨層が白部分も溝である開部分も連な
っているので、被研磨物を研磨している時に研磨層が基
板から剥離しにくい。
以上のように、本発明による研磨シートは、研磨層の平
面精度がよく、しかも剥離しにくく、清の形成が表面張
力を利用して行なわれるので製造方法が比較的簡単であ
るという特徴を持っている。
面精度がよく、しかも剥離しにくく、清の形成が表面張
力を利用して行なわれるので製造方法が比較的簡単であ
るという特徴を持っている。
図面を惨照して本発明の好適実施例について説明する。
第１図、ａは、エンボス加工した基板シートの平面図の
一例である。第１図、ｂは、第１図、ａの正面端面図で
ある１本発明の研磨シートで使用する基板シート１１は
、好適には厚さ１６〜１００μｍのポリエステルシート
を凸凹６ある金型で加熱圧縮し、いわゆるエンボス加工
して製造され、その表面には白部分１２および開部分１
３から成る凸凹パターンが形成されている。一般にこの
凸凹パターンは基板シート１１の片面に形成されるが、
基板シート１１の両面に研磨層を設ける場合には両面に
形成されるようにしてもよい、基板シート１１に用いら
れるポリエステルシート笠のプラスチックフィルムのエ
ンボス加工は、電熱又は高周波電波による誘電加熱とプ
レスによる圧力によって、研磨に有効なパターンを形成
したものである。隣り合う白部分１２の頂部１２′間の
間隔（幅）χは好適には１＋ｕ＋＋であり、頂部１２′
と低部１３′の間の間隔（深さ）ｙは好適には０．３ｍ
ｍである。
一例である。第１図、ｂは、第１図、ａの正面端面図で
ある１本発明の研磨シートで使用する基板シート１１は
、好適には厚さ１６〜１００μｍのポリエステルシート
を凸凹６ある金型で加熱圧縮し、いわゆるエンボス加工
して製造され、その表面には白部分１２および開部分１
３から成る凸凹パターンが形成されている。一般にこの
凸凹パターンは基板シート１１の片面に形成されるが、
基板シート１１の両面に研磨層を設ける場合には両面に
形成されるようにしてもよい、基板シート１１に用いら
れるポリエステルシート笠のプラスチックフィルムのエ
ンボス加工は、電熱又は高周波電波による誘電加熱とプ
レスによる圧力によって、研磨に有効なパターンを形成
したものである。隣り合う白部分１２の頂部１２′間の
間隔（幅）χは好適には１＋ｕ＋＋であり、頂部１２′
と低部１３′の間の間隔（深さ）ｙは好適には０．３ｍ
ｍである。
第２図は、本発明の研磨シートの製造装置の概略図を示
す、基板シート１１は、白部分１２および開部分１３を
外側に向けてドラム１０に巻かれている。基板シート１
１は、このドラム１０から案内ローラー２２および２３
を介して塗布ローラー２４．２５の間に導かれ、塗布ロ
ーラー２４によってスラリー３６を塗布される。このた
め、塗布ローラー２４は、その円筒面の下部がバット２
７に貯められたスラリー３６に常に接触するようにされ
ている。スラリー３６は、研磨剤粒子とそのバインダー
としての接着剤を混合したものである。
す、基板シート１１は、白部分１２および開部分１３を
外側に向けてドラム１０に巻かれている。基板シート１
１は、このドラム１０から案内ローラー２２および２３
を介して塗布ローラー２４．２５の間に導かれ、塗布ロ
ーラー２４によってスラリー３６を塗布される。このた
め、塗布ローラー２４は、その円筒面の下部がバット２
７に貯められたスラリー３６に常に接触するようにされ
ている。スラリー３６は、研磨剤粒子とそのバインダー
としての接着剤を混合したものである。
研磨粒子としては、好適には平均粒径が１〜３０μｍの
酸化アルミニウム（八１２０．）、酸化クロム（Ｃｒ２
０＝）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、酸化鉄（Ｆｅ
ｚＯｉ）などが使用される。
酸化アルミニウム（八１２０．）、酸化クロム（Ｃｒ２
０＝）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、酸化鉄（Ｆｅ
ｚＯｉ）などが使用される。
バインダーとしての樹脂接着剤は、好適には飽和ポリエ
ステル樹脂をトルエン、キシレン、酢酸エチル、メチル
エチルケトンの混合溶媒に溶かし、さらにイソシアネー
ト化合物硬化剤を加えたものである。
ステル樹脂をトルエン、キシレン、酢酸エチル、メチル
エチルケトンの混合溶媒に溶かし、さらにイソシアネー
ト化合物硬化剤を加えたものである。
研磨剤粒子とバインダー接着剤との混合物であるスラリ
ーの塗布時の粘度は、４００〜６００ｃｐである。基板
シート１１に対しスラリー３６を均一に塗布するため、
調整ローラー２６が塗布ローラー２４との間に塗布され
るスラリーの厚さ分だけ間隔を置いて設けられ、基板シ
ート１１に塗布されるスラリー３６の厚さを調整すると
ともに、スラリー３６の表面を精密に整形してスラリー
３６を均一に塗布する。調整ローラー２６の下方にはド
クターブレード３５が１１整ローラー２６の円筒面に刃
部分が接触するように設けられており、調整ローラー２
６に付着したスラリー３６をバット２７内に掻き落とす
ようになっている。
ーの塗布時の粘度は、４００〜６００ｃｐである。基板
シート１１に対しスラリー３６を均一に塗布するため、
調整ローラー２６が塗布ローラー２４との間に塗布され
るスラリーの厚さ分だけ間隔を置いて設けられ、基板シ
ート１１に塗布されるスラリー３６の厚さを調整すると
ともに、スラリー３６の表面を精密に整形してスラリー
３６を均一に塗布する。調整ローラー２６の下方にはド
クターブレード３５が１１整ローラー２６の円筒面に刃
部分が接触するように設けられており、調整ローラー２
６に付着したスラリー３６をバット２７内に掻き落とす
ようになっている。
スラリー３６が均一に塗布された基板シート１１は、ま
ず低温乾燥機２８内に通され、次に高温乾燥機２９内に
通され、スラリー３６が乾燥される。乾燥機２８．２９
内に通される時間は好適にはそれぞれ２分間ずつである
が、シート１１の送り速度を変えることによりそれぞれ
１分〜４分程度の範囲で変化させてもよい。低温乾燥機
２８の温度は好適には９０〜１００°Ｃであり、高温乾
燥機２９の温度は好適には１０５〜１２５°Ｃである。
ず低温乾燥機２８内に通され、次に高温乾燥機２９内に
通され、スラリー３６が乾燥される。乾燥機２８．２９
内に通される時間は好適にはそれぞれ２分間ずつである
が、シート１１の送り速度を変えることによりそれぞれ
１分〜４分程度の範囲で変化させてもよい。低温乾燥機
２８の温度は好適には９０〜１００°Ｃであり、高温乾
燥機２９の温度は好適には１０５〜１２５°Ｃである。
基板シート１１を高温乾燥ｆｉ２９内に通ず前に低温乾
燥機２８内へ通すのは、最初から高温乾燥を行うとスラ
リーの表面のみが乾燥し内部の溶媒分子が蒸発できなく
なる、いわゆるうわ乾きの現象を起こすのを防止するた
めである。
燥機２８内へ通すのは、最初から高温乾燥を行うとスラ
リーの表面のみが乾燥し内部の溶媒分子が蒸発できなく
なる、いわゆるうわ乾きの現象を起こすのを防止するた
めである。
高温乾燥機２９を出た基板シート１１のスラリー３６は
乾燥し、基板シート１１の上面には溝の生じた研磨層１
５が形成される。このシートは、その後案内ローラー３
０．３１．３２を経てボビン３３または３４に巻き取ら
れる。
乾燥し、基板シート１１の上面には溝の生じた研磨層１
５が形成される。このシートは、その後案内ローラー３
０．３１．３２を経てボビン３３または３４に巻き取ら
れる。
第３図、ａはスラリーが均一に塗布された基板シートの
低温乾燥状態の端面図であり、第３図、ｂは高温乾燥状
態の端面図である。
低温乾燥状態の端面図であり、第３図、ｂは高温乾燥状
態の端面図である。
第４図、ａは基板シート上に講を形成した本発明の研磨
シートの平面図であり、第４図、ｂは第４図、ａの■−
■線における正面端面図である。第３図、ａおよび第３
図、ｂは、図面の複雑化をさけるために、スラリーやそ
の硬化した研磨層の中に研磨粒子が描き入れてないが、
第４図、ａ、ｂには？ｉＪ１廟粒子全粒子入れた。本発
明による溝を形成した研磨シートが示されている。
シートの平面図であり、第４図、ｂは第４図、ａの■−
■線における正面端面図である。第３図、ａおよび第３
図、ｂは、図面の複雑化をさけるために、スラリーやそ
の硬化した研磨層の中に研磨粒子が描き入れてないが、
第４図、ａ、ｂには？ｉＪ１廟粒子全粒子入れた。本発
明による溝を形成した研磨シートが示されている。
第３図、ａ、第３図、ｂおよび第４図を参照して、研磨
表面に溝が生ずる過程について説明する６均一にスラリ
ーを塗布されたシートは、低温乾燥機２８に入ると、第
３図、ａに示すように、スラリー３６中の接着剤が含む
有機溶媒の分子１４（図中、分子１４を点で示す）が蒸
発して、研磨層１５の表面と基板シート１１面に近い、
深い部分とで、溶媒分子１４の濃度の差を生じる。さら
に、エンボス加工された基板シート１１の白部分１２上
および凹部分１３上に塗られた研磨層１５中の溶媒分子
１４の濃度にも差を生じる。即ち、白部分１２の上の研
磨Ｆｆ１１５は、表面からの深さが浅いので、溶媒分子
１４が蒸発して少なくなっているのに対して、凹部分１
３上の研磨層１５″は、表面からの深さが深いので、底
の方には、未だ蒸発しない溶媒分子１４が多く残ってい
る０次に、基板シート１１が高温乾燥機２９に入ると、
研ｌＮ１３からの溶媒分子１４の蒸発はさらに増し、第
３図、ｂに示すように溶媒分子１４が蒸発して少なくな
った白部分１２上のスラリーは粘度が増し、接着剤の表
面張力が強くなってくる。−方、凹部分１３上のスラリ
ーは溶媒分子１４が未だ残っているので、粘度は低く、
表面張力は弱い。従って、第３図、ｂに矢印で示した方
向に力が働らき、基板の白部分１２上のスラリーは盛り
上がり、基板の凹部分１３にあるスラリーは白部分１２
上に移動した容積分だけ凹む、また、溶媒分子１４も、
そのａＫが高い凹部分１３から溶媒濃度の低い白部分１
２の方向に、移動するが、これも矢印と同じ方向に移動
するので、白部分１２上にスラリーが盛り上るのを助け
る。結果として、第４図、ａ−ｂに示すように基板シー
ト１１の凹凸に対応して基板凸部分１２上に研＠層１５
の凸研磨部または盛り上り１７を形成し、凹部分１３上
に凹研磨部または溝１６が形成される０本発明の？ｉＪ
Ｉ磨シート１が製造される。第５図、ａ、ｂ、ｃは、そ
れぞれ研磨テープを製造するための、基板シートの各種
パターンを示し、第５図、ｄ、ｅは、それぞれ円形研磨
シートを製造するための基板シートのパターンを示す。
表面に溝が生ずる過程について説明する６均一にスラリ
ーを塗布されたシートは、低温乾燥機２８に入ると、第
３図、ａに示すように、スラリー３６中の接着剤が含む
有機溶媒の分子１４（図中、分子１４を点で示す）が蒸
発して、研磨層１５の表面と基板シート１１面に近い、
深い部分とで、溶媒分子１４の濃度の差を生じる。さら
に、エンボス加工された基板シート１１の白部分１２上
および凹部分１３上に塗られた研磨層１５中の溶媒分子
１４の濃度にも差を生じる。即ち、白部分１２の上の研
磨Ｆｆ１１５は、表面からの深さが浅いので、溶媒分子
１４が蒸発して少なくなっているのに対して、凹部分１
３上の研磨層１５″は、表面からの深さが深いので、底
の方には、未だ蒸発しない溶媒分子１４が多く残ってい
る０次に、基板シート１１が高温乾燥機２９に入ると、
研ｌＮ１３からの溶媒分子１４の蒸発はさらに増し、第
３図、ｂに示すように溶媒分子１４が蒸発して少なくな
った白部分１２上のスラリーは粘度が増し、接着剤の表
面張力が強くなってくる。−方、凹部分１３上のスラリ
ーは溶媒分子１４が未だ残っているので、粘度は低く、
表面張力は弱い。従って、第３図、ｂに矢印で示した方
向に力が働らき、基板の白部分１２上のスラリーは盛り
上がり、基板の凹部分１３にあるスラリーは白部分１２
上に移動した容積分だけ凹む、また、溶媒分子１４も、
そのａＫが高い凹部分１３から溶媒濃度の低い白部分１
２の方向に、移動するが、これも矢印と同じ方向に移動
するので、白部分１２上にスラリーが盛り上るのを助け
る。結果として、第４図、ａ−ｂに示すように基板シー
ト１１の凹凸に対応して基板凸部分１２上に研＠層１５
の凸研磨部または盛り上り１７を形成し、凹部分１３上
に凹研磨部または溝１６が形成される０本発明の？ｉＪ
Ｉ磨シート１が製造される。第５図、ａ、ｂ、ｃは、そ
れぞれ研磨テープを製造するための、基板シートの各種
パターンを示し、第５図、ｄ、ｅは、それぞれ円形研磨
シートを製造するための基板シートのパターンを示す。
特に、第５図、ｄ、ｅは、研磨シートを回転させて彼？
１ＪＩｌ物を研磨するときに使用するものである。
１ＪＩｌ物を研磨するときに使用するものである。
第５図、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅの図中の線は、基板シート
１１の白部分１２を示している。
１１の白部分１２を示している。
第５図、ａ′、ｂ′、ａ′は、それぞれ第５図、ａ、ｂ
、ｃの正面端面図を示す。
、ｃの正面端面図を示す。
第５図、ｄ′は第５図、ｄの１−１線における端面図、
第５図、ｅ′は第５図、ｅの■−■線における端面図、
第５図、ｅ ”は第５図、ｅの■−■線における端面図
を示す。
第５図、ｅ′は第５図、ｅの■−■線における端面図、
第５図、ｅ ”は第５図、ｅの■−■線における端面図
を示す。
以上に述べたように、本発明による研磨シートは、研ｍ
層の平面精度が良いので、磁気ディスクや磁気ヘッドな
どの精密電子部品の仕上げ研磨に有効に利用できる。ま
た、研磨層が基板から剥離しにくいので、従来のｉｓレ
シートり高い研磨圧力で研磨でき、研磨効率が向上され
る。さらに、本発明の研磨シートは、製造方法が簡単で
、しかも、基板シートのエンボス加工による突起部分の
容積だけ、研磨材粒子とそのバインダーである樹脂接着
剤の分量を減らすことができる。
層の平面精度が良いので、磁気ディスクや磁気ヘッドな
どの精密電子部品の仕上げ研磨に有効に利用できる。ま
た、研磨層が基板から剥離しにくいので、従来のｉｓレ
シートり高い研磨圧力で研磨でき、研磨効率が向上され
る。さらに、本発明の研磨シートは、製造方法が簡単で
、しかも、基板シートのエンボス加工による突起部分の
容積だけ、研磨材粒子とそのバインダーである樹脂接着
剤の分量を減らすことができる。
第１図、ａは、エンボス加工した基板シートの平面図の
一例である。 第１図、ｂは、第１図、ａの正面端面図である。 第２
図は、本発明の研磨シートの製造装置の概略図を示す。 第３図、ａは、スラリーが均一に塗布された基板シート
の低温乾燥状態の端面図を示す。 第３図、ｂは、高温乾燥の状態の端面図を示ず。 第４図、ａは、基板シート上に溝を形成した本発明の研
磨シートの平面図を示す。 第４図、ｂは、第４図、ａの正面端面図である。 第５図、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ研磨テープを製造する
ための、基板シートの各種パターンを示ず。 第５図、ｄ、ｅは、それぞれ円形研磨シートを製造する
ための基板シートのパターンを示す。 第５図、ａ’ｂ’ｃ’は、それぞれ第５図、ａ、ｂ、ｃ
の正面端面図を示ず。 第５図、ｄ′は、第５図、ｄの１−１線における端面図
、第５図、ｅ′は、第５図、ｅの■−■線における端面
図、第５図、ｅ”は、第５図、ｅのＩｌ［−ＩＩＩ線に
おける端面図を示す。 〔主要符号の説明〕 １・・・研磨シート １０・・・ドラム １１・・・基
板シート １２・・・白部分 １３・・・凹部骨１４・
・・溶媒分子 １５・・・研磨層 １６・・・溝１７・
・・盛り上り ２２．２３・・・案内ローラー２４．２
５・・・塗布ローラー ２６・・・調整ローラー ２７
・・・バット ２８・・・低温乾燥機２９・・・高温乾
燥機３０．３１．３２・・・巻取り用の案内ローラー
３３．３４・・・研磨シートの巻取りボビン ３５・・
・ドクターブレード３６・・・スラリー 特許出願人 ハイコントロール・リミテッド化 理 人
弁理士 竹 内 澄 夫（外３名） 奉７図 本２ズ ／ｌ 泉３図 ／／ 犀、ｄ 凹 氷５図 手続補正書動式） 昭和６３年３月３１日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、 事件の表示 昭和６２年特許願第３３０４０
４号２、 発明の名称 研磨シートおよびその製造
方法３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ハイ・コントロール・リミテッド４、代
理人 住 所 東京都港区西新橋１丁目６番２１号大和
銀行虎ノ門ビルディング （発送臼：昭和６３年３月２９日） ６、 補正の対象 （１）明細書の発明の詳細な説
明の欄（２）明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 （１）明細書第１４頁第１４行にｒ ａ ’、ｂ ’、
Ｃ’Ｊとあるのを、ｒｆ、ｇ、ｈＪに訂正する。 （２）明細書第１４頁第１６行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｉｌに訂正する。 ０）明細書第１４頁第１７行に「ｅ′」とあるのを、ｆ
ｊｌに訂正する。 （イ）明細書第１４頁第１８行に「ｅ“」とあるのを、
ｒｋｌに訂正する。 （へ）明細書第１６頁第１１行にｒａ’ｂ’ｃ’」とあ
るのを、ｒｆ、ｇ、ｈＪに訂正する。 （６）明細書第１６頁第１３行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｉ、に訂正する。 （７）明細書第１６頁第１４行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｊ」に訂正する。 ■ 明細書第１６頁第１５行に「ｅ“」とあるのを、ｒ
ｋ３に訂正する。 （９）図面第５図を別紙のとおり補正する。
一例である。 第１図、ｂは、第１図、ａの正面端面図である。 第２
図は、本発明の研磨シートの製造装置の概略図を示す。 第３図、ａは、スラリーが均一に塗布された基板シート
の低温乾燥状態の端面図を示す。 第３図、ｂは、高温乾燥の状態の端面図を示ず。 第４図、ａは、基板シート上に溝を形成した本発明の研
磨シートの平面図を示す。 第４図、ｂは、第４図、ａの正面端面図である。 第５図、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ研磨テープを製造する
ための、基板シートの各種パターンを示ず。 第５図、ｄ、ｅは、それぞれ円形研磨シートを製造する
ための基板シートのパターンを示す。 第５図、ａ’ｂ’ｃ’は、それぞれ第５図、ａ、ｂ、ｃ
の正面端面図を示ず。 第５図、ｄ′は、第５図、ｄの１−１線における端面図
、第５図、ｅ′は、第５図、ｅの■−■線における端面
図、第５図、ｅ”は、第５図、ｅのＩｌ［−ＩＩＩ線に
おける端面図を示す。 〔主要符号の説明〕 １・・・研磨シート １０・・・ドラム １１・・・基
板シート １２・・・白部分 １３・・・凹部骨１４・
・・溶媒分子 １５・・・研磨層 １６・・・溝１７・
・・盛り上り ２２．２３・・・案内ローラー２４．２
５・・・塗布ローラー ２６・・・調整ローラー ２７
・・・バット ２８・・・低温乾燥機２９・・・高温乾
燥機３０．３１．３２・・・巻取り用の案内ローラー
３３．３４・・・研磨シートの巻取りボビン ３５・・
・ドクターブレード３６・・・スラリー 特許出願人 ハイコントロール・リミテッド化 理 人
弁理士 竹 内 澄 夫（外３名） 奉７図 本２ズ ／ｌ 泉３図 ／／ 犀、ｄ 凹 氷５図 手続補正書動式） 昭和６３年３月３１日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、 事件の表示 昭和６２年特許願第３３０４０
４号２、 発明の名称 研磨シートおよびその製造
方法３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ハイ・コントロール・リミテッド４、代
理人 住 所 東京都港区西新橋１丁目６番２１号大和
銀行虎ノ門ビルディング （発送臼：昭和６３年３月２９日） ６、 補正の対象 （１）明細書の発明の詳細な説
明の欄（２）明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 （１）明細書第１４頁第１４行にｒ ａ ’、ｂ ’、
Ｃ’Ｊとあるのを、ｒｆ、ｇ、ｈＪに訂正する。 （２）明細書第１４頁第１６行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｉｌに訂正する。 ０）明細書第１４頁第１７行に「ｅ′」とあるのを、ｆ
ｊｌに訂正する。 （イ）明細書第１４頁第１８行に「ｅ“」とあるのを、
ｒｋｌに訂正する。 （へ）明細書第１６頁第１１行にｒａ’ｂ’ｃ’」とあ
るのを、ｒｆ、ｇ、ｈＪに訂正する。 （６）明細書第１６頁第１３行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｉ、に訂正する。 （７）明細書第１６頁第１４行に「ｅ′」とあるのを、
ｒｊ」に訂正する。 ■ 明細書第１６頁第１５行に「ｅ“」とあるのを、ｒ
ｋ３に訂正する。 （９）図面第５図を別紙のとおり補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、片面または両面に凸凹部を有する基板シート、並び
に 研磨材粒子と樹脂接着剤とを混合したスラリーから成り
、前記片面または両面上に層をなして接着し、前記凸凹
部に対応して凸凹研磨部を形成した研磨層、 から成るシート。 ２、前記基板シートはプラスチックフィルムから成る特
許請求の範囲第１項に記載の研磨シート。 ３、前記凸凹部及び前記凸凹研磨部が連続した盛り上り
および溝から成る特許請求の範囲第１または２項に記載
の研磨シート。 ４、基板シートの片面または両面をエンボス加工して凹
凸部を形成する工程、 研磨材粒子と樹脂接着剤とを混合して成るスラリーを前
記基板シートの前記エンボス加工した面にほぼ均一に塗
布して研磨層を形成する工程、並びに 前記研磨層を乾燥硬化し、前記スラリーの表面張力によ
り前記凸凹部に対応して前記研磨層に凸凹研磨部を形成
する工程、 から成る研磨シートの製造方法。 ５、前記基板シートはプラスチックフィルムから成る特
許請求の範囲第４項に記載の研磨シートの製造方法。 ６、前記凸凹研磨部が連続した盛り上りおよび溝から成
る特許請求の範囲第４または５項に記載の研磨シートの
製造方法。 ７、前記エンボス加工して凸凹部を形成する工程が電熱
または高周波電波による誘電加熱とプレスによる圧力に
よって前記基板シートに凸凹パターンを形成する工程か
ら成る特許請求の範囲第５または６項に記載の研磨シー
トの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62330404A JP2707264B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 研磨シートおよびその製造方法 |
| US07/255,113 US5015266A (en) | 1987-12-28 | 1988-10-07 | Abrasive sheet and method for manufacturing the abrasive sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62330404A JP2707264B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 研磨シートおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01171771A true JPH01171771A (ja) | 1989-07-06 |
| JP2707264B2 JP2707264B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=18232222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62330404A Expired - Fee Related JP2707264B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 研磨シートおよびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5015266A (ja) |
| JP (1) | JP2707264B2 (ja) |
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