JPH01164047A - ウエハの位置決め装置 - Google Patents
ウエハの位置決め装置Info
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- JPH01164047A JPH01164047A JP62323388A JP32338887A JPH01164047A JP H01164047 A JPH01164047 A JP H01164047A JP 62323388 A JP62323388 A JP 62323388A JP 32338887 A JP32338887 A JP 32338887A JP H01164047 A JPH01164047 A JP H01164047A
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 14
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 88
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
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- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、ウェハの位置決め装置に関する。
(従来の技術)
一般に、ウェハの位置決め装置は、各種の半導体製造装
置、例えばエツチング装置、プローブ装置、アッシング
装置等に配置される。
置、例えばエツチング装置、プローブ装置、アッシング
装置等に配置される。
このようなウェハの位置決め装置は、必要とされる位置
決め精度等により各種あるが、例えばプローブ装置のプ
リアライメント用等として、ウェハのセンタリングに使
用されるウェハの位置決め装置の一例の要部を第5図に
示す。このウェハの位置決め装置では、ウェハ20をウ
ェハチャック21上に配置し、ウェハ2oの端部に、受
光素子22と光源23とを上下に対向配置した検出器を
設置して、ウェハ20を回転させ、受光素子22に入射
する光」の測定を行う。すなわち、ウェハ20がウェハ
チャック21に対して偏心して配置されていると、受光
素子22に入射する光量が変化する。そこで、受光素子
22で測定される光量の変化から偏心量および偏心方向
を求める。
決め精度等により各種あるが、例えばプローブ装置のプ
リアライメント用等として、ウェハのセンタリングに使
用されるウェハの位置決め装置の一例の要部を第5図に
示す。このウェハの位置決め装置では、ウェハ20をウ
ェハチャック21上に配置し、ウェハ2oの端部に、受
光素子22と光源23とを上下に対向配置した検出器を
設置して、ウェハ20を回転させ、受光素子22に入射
する光」の測定を行う。すなわち、ウェハ20がウェハ
チャック21に対して偏心して配置されていると、受光
素子22に入射する光量が変化する。そこで、受光素子
22で測定される光量の変化から偏心量および偏心方向
を求める。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、上記説明の従来のウェハの位置決め装置
では、測定有効長さが数センチ程度と長い特殊な受光素
子が必要であり、また、同じく光強度が均一な領域が数
センチ程度と長い特殊な光源が必要となる。また、受光
素子の感度の低下、光源の劣化等により、測定結果が変
動したり、信号をアナログ処理するためにノイズの影響
を受けやすいという問題もある。
では、測定有効長さが数センチ程度と長い特殊な受光素
子が必要であり、また、同じく光強度が均一な領域が数
センチ程度と長い特殊な光源が必要となる。また、受光
素子の感度の低下、光源の劣化等により、測定結果が変
動したり、信号をアナログ処理するためにノイズの影響
を受けやすいという問題もある。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、簡単な機構で正確にウェハの位置決めを行うことので
きるウェハの位置決め装置を提供しようとするものであ
る。
、簡単な機構で正確にウェハの位置決めを行うことので
きるウェハの位置決め装置を提供しようとするものであ
る。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
すなわち本発明のウェハの位置決め装置は、予め回転中
心位置が記憶された保持機構にウェハを保持し、このウ
ェハを所定角度回転させこのウェハの端部の位置を少な
くとも3点以上検出し、 ・これらの位置情報および
上記回転中心間の距離データから上記ウェハの偏心方向
および偏心量を求め、位置補正することを特徴とする。
心位置が記憶された保持機構にウェハを保持し、このウ
ェハを所定角度回転させこのウェハの端部の位置を少な
くとも3点以上検出し、 ・これらの位置情報および
上記回転中心間の距離データから上記ウェハの偏心方向
および偏心量を求め、位置補正することを特徴とする。
(作 用)
上記構成の本発明のウェハの位置決め装置では、測定有
効長さが数センチ程度と長い特殊な受光素子や、光強度
が均一な領域が数センチ程度と長い特殊な光源等を必要
としない。また、信号をアナログ処理する必要もない。
効長さが数センチ程度と長い特殊な受光素子や、光強度
が均一な領域が数センチ程度と長い特殊な光源等を必要
としない。また、信号をアナログ処理する必要もない。
したがって、従来に較べて装置構成を簡素化することが
でき、かつ、受光素子の感度の低下および光源の劣化の
影響やノイズの影響も少なく、正確にウェハの位置決め
を行うことができる。
でき、かつ、受光素子の感度の低下および光源の劣化の
影響やノイズの影響も少なく、正確にウェハの位置決め
を行うことができる。
(実施例)
以下本発明のウェハの位置決め装置の一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
ウェハ1を複数収容するウェハホルダ2は上下動する図
示しない駆動機構上に配置されており、ウェハホルダ2
の前方には、搬送機構3が配置されている。搬送機構3
は、開口4aを有し、この間口4a部分にウェハ1の中
心部が位置するよう吸着保持するバキュームプレート4
と、例えばステップモータ等によりバキュームプレート
4を図示矢印Y方向に移動させる駆動部5とから構成さ
れている。そして、駆動部5によってバキュームプレー
ト4の先端部をウェハホルダ2内に挿入し、この後ウェ
ハホルダ2をわずかに下降させることにより、バキュー
ムプレート4上にウェハ1を載せ、図示しない真空チャ
ックにより吸着保持した状態で、ウェハホルダ2内から
ウェハ1を引出すよう構成されている。
示しない駆動機構上に配置されており、ウェハホルダ2
の前方には、搬送機構3が配置されている。搬送機構3
は、開口4aを有し、この間口4a部分にウェハ1の中
心部が位置するよう吸着保持するバキュームプレート4
と、例えばステップモータ等によりバキュームプレート
4を図示矢印Y方向に移動させる駆動部5とから構成さ
れている。そして、駆動部5によってバキュームプレー
ト4の先端部をウェハホルダ2内に挿入し、この後ウェ
ハホルダ2をわずかに下降させることにより、バキュー
ムプレート4上にウェハ1を載せ、図示しない真空チャ
ックにより吸着保持した状態で、ウェハホルダ2内から
ウェハ1を引出すよう構成されている。
また、上記バキュームプレート4の移動経路には、ウェ
ハ保持機構6が配置されている。このウェハ保持機構6
は、円柱形状に形成され、上面に真空チャックによりウ
ェハ1を吸着保持するチャックベース7およびこのチャ
ックベース7の下側に配置され例えばステップモータ等
からなる回転駆動部8を備えており、第2“図にも示す
ように図示矢印θ方向に回転可能とされている。また、
ウェハ保持機構6は基体9上に配置されており、基体9
は図示しないステップモータ等により、図示矢印Z方向
(上下方向)に移動可能とされている。
ハ保持機構6が配置されている。このウェハ保持機構6
は、円柱形状に形成され、上面に真空チャックによりウ
ェハ1を吸着保持するチャックベース7およびこのチャ
ックベース7の下側に配置され例えばステップモータ等
からなる回転駆動部8を備えており、第2“図にも示す
ように図示矢印θ方向に回転可能とされている。また、
ウェハ保持機構6は基体9上に配置されており、基体9
は図示しないステップモータ等により、図示矢印Z方向
(上下方向)に移動可能とされている。
さらに、基体9上には、チャックベース7上に保持され
たウェハ1の端部の位置を検出するための検出機構10
が配置されている。検出機構10は、例えば上下に対向
する如く配置された発光素子と受光素子等からなり、ウ
ェハ1の端部を非接触で検出する検出部11を備えてお
り、この検出部11は、例えばステップモータ等により
この検出部11を図示矢印Y′方向に移動させる駆動部
12にアーム13を介して接続されている。
たウェハ1の端部の位置を検出するための検出機構10
が配置されている。検出機構10は、例えば上下に対向
する如く配置された発光素子と受光素子等からなり、ウ
ェハ1の端部を非接触で検出する検出部11を備えてお
り、この検出部11は、例えばステップモータ等により
この検出部11を図示矢印Y′方向に移動させる駆動部
12にアーム13を介して接続されている。
そして、上記搬送機構3、ウェハ保持機構6、検出機構
10およびその他の駆動機構は、例えばマイクロプロセ
ッサ等から構成される演算・制御部14に一接続されて
いる。
10およびその他の駆動機構は、例えばマイクロプロセ
ッサ等から構成される演算・制御部14に一接続されて
いる。
上記構成のこの実施例のウェハの位置決め装置は、演算
・制御部14によって次のように制御される。
・制御部14によって次のように制御される。
すなわち、まずチャックベース7の上端が第2図に二点
鎖線イで示すレベルとなるように基体9を予め下降させ
ておき、前述のようにして搬送機構3によりウェハホル
ダ2内からウェハ1を引出し、チャックベース7へ搬送
する。そして、バキュームプレート4の開口4aが、チ
ャックベース7上に位置した時点で、バキュームプレー
ト4を停止させる。この時、バキュームプレート4の高
さは、第2図に点線口で示すレベルとなるよう予め設定
されている。この後、基体9とともにチャックベース7
を一点鎖線へで示すレベルまで上昇させ、バキュームプ
レート4からチャックベース7ヘウエハ1を受は渡す。
鎖線イで示すレベルとなるように基体9を予め下降させ
ておき、前述のようにして搬送機構3によりウェハホル
ダ2内からウェハ1を引出し、チャックベース7へ搬送
する。そして、バキュームプレート4の開口4aが、チ
ャックベース7上に位置した時点で、バキュームプレー
ト4を停止させる。この時、バキュームプレート4の高
さは、第2図に点線口で示すレベルとなるよう予め設定
されている。この後、基体9とともにチャックベース7
を一点鎖線へで示すレベルまで上昇させ、バキュームプ
レート4からチャックベース7ヘウエハ1を受は渡す。
次に、検出機構10により、ウェハ1の端部の位置を検
出することにより、チャックベース7の中央とウェハ1
の端部との距離rの測定を行う。
出することにより、チャックベース7の中央とウェハ1
の端部との距離rの測定を行う。
すなわち、第2図にも示すように、検出機構10の駆動
部12により、検出部11を基準位置からチャックベー
ス7上に保持されたウェハ1の方向へ移動させ、検出a
B11がウェハを検出した時点で移動を停止させる。そ
して、検出部11が基準位置から移動した距離r′から
予め記憶されたチャックベース7の回転中心とウェハ1
の端部との距離rを算出する。この後、検出部11を基
準位置まで戻し、回転駆動部8によってウェハ1を所定
角度回転させ、再び上述のようにして前記チャックベー
ス7の回転中心とウェハ1の端部との距離rを求める。
部12により、検出部11を基準位置からチャックベー
ス7上に保持されたウェハ1の方向へ移動させ、検出a
B11がウェハを検出した時点で移動を停止させる。そ
して、検出部11が基準位置から移動した距離r′から
予め記憶されたチャックベース7の回転中心とウェハ1
の端部との距離rを算出する。この後、検出部11を基
準位置まで戻し、回転駆動部8によってウェハ1を所定
角度回転させ、再び上述のようにして前記チャックベー
ス7の回転中心とウェハ1の端部との距離rを求める。
このような距離rの測定は少なくとも3回行う。
この後、演算・制御部14は、上記距離rから後述する
ようにしてチャックベース7上のウェハ1の偏心方向(
β)および偏心m<i>を求める。
ようにしてチャックベース7上のウェハ1の偏心方向(
β)および偏心m<i>を求める。
そして、チャックベース7をβだけ回転させてウェハ1
の中心をバキュームプレート4中心の移動経路上に合わ
せ、この後チャックベース7を下降させて−Hバキュー
ムプレート4にウェハ1を受は渡す。しかる後、バキュ
ームプレート4をぶだけ移動させてウェハ1の中心とチ
ャックベース7の中心との位置を合せ、再びチャックベ
ース7を上昇させることにより、ウェハ1をチャックベ
ース7上に吸着保持する。この状態でウェハ1の中心と
チャックベース7の中心との位置合せ、すなわちウェハ
1のセンタリングが完了する。
の中心をバキュームプレート4中心の移動経路上に合わ
せ、この後チャックベース7を下降させて−Hバキュー
ムプレート4にウェハ1を受は渡す。しかる後、バキュ
ームプレート4をぶだけ移動させてウェハ1の中心とチ
ャックベース7の中心との位置を合せ、再びチャックベ
ース7を上昇させることにより、ウェハ1をチャックベ
ース7上に吸着保持する。この状態でウェハ1の中心と
チャックベース7の中心との位置合せ、すなわちウェハ
1のセンタリングが完了する。
ウェハ1のセンタリングが完了すると、例えばバキュー
ムプレート4とウェハ1との間に別の搬送装置のアーム
等が挿入され、ウェハ1は、センタリングされた状態で
他の所定部位へ搬送される。
ムプレート4とウェハ1との間に別の搬送装置のアーム
等が挿入され、ウェハ1は、センタリングされた状態で
他の所定部位へ搬送される。
なお、例えば演算・制御部14によって算出された上記
βおよび1が、所定の誤差範囲内の場合は、上記位置合
せを行わずに搬送する。
βおよび1が、所定の誤差範囲内の場合は、上記位置合
せを行わずに搬送する。
次に演算・制御部14によって算出される上記βおよび
βについて説明する。チャックベース7の回転中心とウ
ェハ1の端部との距離rからβおよびぶを求める場合、
ウェハ1にオリエンテーションフラット(オリフラ)が
ない場合は、距111jrの測定は少なくとも3回必要
となり、ウェハ1にオリフラがある場合は、距離rの測
定は少なくとも5回必要となる。以下、ウェハ1に、最
も一般的な形状のオリフラ、すなわちウェハ1の端部を
直線的に切り欠いた形状のオリフラが1つある場合につ
いて説明するが、例えばウェハ1にオリフラが複数ある
ような場合でも、距firの測定をさらに増やすことに
より、同様にして適用できる。
βについて説明する。チャックベース7の回転中心とウ
ェハ1の端部との距離rからβおよびぶを求める場合、
ウェハ1にオリエンテーションフラット(オリフラ)が
ない場合は、距111jrの測定は少なくとも3回必要
となり、ウェハ1にオリフラがある場合は、距離rの測
定は少なくとも5回必要となる。以下、ウェハ1に、最
も一般的な形状のオリフラ、すなわちウェハ1の端部を
直線的に切り欠いた形状のオリフラが1つある場合につ
いて説明するが、例えばウェハ1にオリフラが複数ある
ような場合でも、距firの測定をさらに増やすことに
より、同様にして適用できる。
第3図に示すように、この実施例では、上述のチャック
ベース7の中央とウェハ1の端部との距離rの測定を、
チャックベース7を72度ずつ回転させながら5回行い
、測定点PI−P5で、距離r1〜r5を求める。ここ
で、チャックベース7の中心を原点Oとし、バキューム
プレート4および検出部11の移動方向をX軸とする座
標を考え、ウェハ1の中心を点Cとすると、その座標は
C(a、b)となり、次の式が成り立つ。
ベース7の中央とウェハ1の端部との距離rの測定を、
チャックベース7を72度ずつ回転させながら5回行い
、測定点PI−P5で、距離r1〜r5を求める。ここ
で、チャックベース7の中心を原点Oとし、バキューム
プレート4および検出部11の移動方向をX軸とする座
標を考え、ウェハ1の中心を点Cとすると、その座標は
C(a、b)となり、次の式が成り立つ。
J22 = B t +i) 2 、
、、 ・、、■a −J2 CO8β
・・・・・・■b−1,sinβ
・・・・・・■また、ウェハのオリフラを無視して
ウェハの半径をRとすると、ウェハの外周の点は、(x
−a) t + (y−b) 2−R” ・
・−・・−■となる。保持部の中心Oと各測定点P1〜
P、のうち、任意の3点例えばR2,P!+ Plの各
点の座標は、 R2(C2CO3C2、C2Sin C2)Pg (r
tcos C13,rxsin αi )Pl (C
4CO8(24、C4Sin 014 )となり、これ
を0式に代入すると、 (C2cos C2−a) 2 + (rz Sin (22−t)) ”−R2・・・
■(r3cosα3−a) 2 + (C3sin β3−b) 2−R2−■(C4C
O3C4−a) ’ + (C4Sin (24−b) ’ =R2・・・■
■式−■式、■式−■式、■式−〇式、にそれぞれ0式
、■式を代入して変形すると、 一8/[2(r 2 CO8C2−r 3 CO3(Z
3)CO3β+ 2(C2sinC2−C3sinC
3)Sinβ]・・・・・・■ =C/[2(rtcos ax−C4cO8C4)c
os β+ 2(r i sin C3−r 4
Stn C4) S!n β]ぶ −A/[2(r 4 CO3(24−C2CO8(22
)CO3β+ 2(r 4 sin (24−C2
Sin C2)Sin β1・・・・・・[株] ただし、 A= (r+ ”−C22) B= (C22−rx 2) C−(rx2 C42) となり、(が求められる。また、■式=[株]式を、C
O3βで除し、tanβについて解くと、tanβ=
[A (C2CO3(22−C3CO3(23)−B
(r、 cos a、−C2cos a2月/ [8(
r、 sin a、−C2sin β2 )−A (r
z Sin (22−rx Sin (R3)]となり
、βを求めることができる。また、R= [(r 2
CO8C2−1cosβ)2+ (C2Sifl C2
−Jsinβ)2]8となり、ウェハ半径Rを求めるこ
とができる。
、、 ・、、■a −J2 CO8β
・・・・・・■b−1,sinβ
・・・・・・■また、ウェハのオリフラを無視して
ウェハの半径をRとすると、ウェハの外周の点は、(x
−a) t + (y−b) 2−R” ・
・−・・−■となる。保持部の中心Oと各測定点P1〜
P、のうち、任意の3点例えばR2,P!+ Plの各
点の座標は、 R2(C2CO3C2、C2Sin C2)Pg (r
tcos C13,rxsin αi )Pl (C
4CO8(24、C4Sin 014 )となり、これ
を0式に代入すると、 (C2cos C2−a) 2 + (rz Sin (22−t)) ”−R2・・・
■(r3cosα3−a) 2 + (C3sin β3−b) 2−R2−■(C4C
O3C4−a) ’ + (C4Sin (24−b) ’ =R2・・・■
■式−■式、■式−■式、■式−〇式、にそれぞれ0式
、■式を代入して変形すると、 一8/[2(r 2 CO8C2−r 3 CO3(Z
3)CO3β+ 2(C2sinC2−C3sinC
3)Sinβ]・・・・・・■ =C/[2(rtcos ax−C4cO8C4)c
os β+ 2(r i sin C3−r 4
Stn C4) S!n β]ぶ −A/[2(r 4 CO3(24−C2CO8(22
)CO3β+ 2(r 4 sin (24−C2
Sin C2)Sin β1・・・・・・[株] ただし、 A= (r+ ”−C22) B= (C22−rx 2) C−(rx2 C42) となり、(が求められる。また、■式=[株]式を、C
O3βで除し、tanβについて解くと、tanβ=
[A (C2CO3(22−C3CO3(23)−B
(r、 cos a、−C2cos a2月/ [8(
r、 sin a、−C2sin β2 )−A (r
z Sin (22−rx Sin (R3)]となり
、βを求めることができる。また、R= [(r 2
CO8C2−1cosβ)2+ (C2Sifl C2
−Jsinβ)2]8となり、ウェハ半径Rを求めるこ
とができる。
したがって、ウェハ1にオリフラが無い場合は、任意の
3点で測定したチャックベース7の中央とウェハ1の端
部との距離rから上記ぶおよびβを求めることができる
が、オリフラが有る場合は、距離rを測定する際に、オ
リフラ部分で測定を行う可能性が有る。そこで、演算・
制御部14は、次のようにして上記ぶおよびβを求める
。
3点で測定したチャックベース7の中央とウェハ1の端
部との距離rから上記ぶおよびβを求めることができる
が、オリフラが有る場合は、距離rを測定する際に、オ
リフラ部分で測定を行う可能性が有る。そこで、演算・
制御部14は、次のようにして上記ぶおよびβを求める
。
すなわち、第4図のフローチャートに示すように、まず
n= 1に設定する(a)。
n= 1に設定する(a)。
この後、p 、 、 pfl、、 、 pn、、の測定
結果すなわち(Xi 、’ao >、(X net +
αfi11 )、(X net + <Z art
)を用いてβ。を算出する(b)。なお、p fi、、
およびP netが、R6、R7の場合は、それぞれP
l、R2を用いる。ここで、上記x0は原点Oからウェ
ハ端面P、までの距離、上記α−7は(X)軸とP、と
の角度を表している。
結果すなわち(Xi 、’ao >、(X net +
αfi11 )、(X net + <Z art
)を用いてβ。を算出する(b)。なお、p fi、、
およびP netが、R6、R7の場合は、それぞれP
l、R2を用いる。ここで、上記x0は原点Oからウェ
ハ端面P、までの距離、上記α−7は(X)軸とP、と
の角度を表している。
次に、n= 1であるかを判定する(C)。
n −1でない場合は、前回算出したβ。−1とβ。
とを比較して(d)、これらの値が等しい場合は、p
Il、 p、、、 、 pIl、tの測定結果を用いて
、偏心量ぶ、半径Rを算出しくe)、補正を行い(f)
、終了するi)。
Il、 p、、、 、 pIl、tの測定結果を用いて
、偏心量ぶ、半径Rを算出しくe)、補正を行い(f)
、終了するi)。
一方、n= 1の場合およびステップ(d)において比
較した結果βfi−1とβ。とが等しくない場合は、n
=n+ 1とする(h)。
較した結果βfi−1とβ。とが等しくない場合は、n
=n+ 1とする(h)。
次に、n−n+ 1とした結果、n= 6となったか
否かを判定しくi)、n=6でない場合は、上記ステッ
プ(b)からの動作を繰返す。
否かを判定しくi)、n=6でない場合は、上記ステッ
プ(b)からの動作を繰返す。
一方、n=6の場合は、C5とβ1とを比較する(j)
。
。
そして、C5−β1の場合は、上記ステップ(e)以下
の動作を行う。
の動作を行う。
一方、C5−β1でない場合は、エラー表示を行い(k
)、動作を終了する(()。
)、動作を終了する(()。
すなわち、P1〜P5のうち、−点例えばPlがオリフ
ラの部分であった場合、P1〜P3を用いて算出したβ
1と、P2〜P4を用いて算出したC2とは、値が異な
る。しかしながら上記β2と、P3〜P5を用いて算出
したR3とは、値が等しくなる。そこで、これらのβの
値を比較することにより、オリフラの部分にかかった測
定点を除外し、他の測定点のデータを使用して、正確な
ぶ、β、Rを求める。したがって、オリフラを有するウ
ェハでも、正確にセンタリングを行うことができる。
ラの部分であった場合、P1〜P3を用いて算出したβ
1と、P2〜P4を用いて算出したC2とは、値が異な
る。しかしながら上記β2と、P3〜P5を用いて算出
したR3とは、値が等しくなる。そこで、これらのβの
値を比較することにより、オリフラの部分にかかった測
定点を除外し、他の測定点のデータを使用して、正確な
ぶ、β、Rを求める。したがって、オリフラを有するウ
ェハでも、正確にセンタリングを行うことができる。
上記説明のこの実施例のウェハの位置決め装置では、特
殊な受光素子や、光源等信号を必要とせず、従来に較べ
て装置の簡素化を図ることができる。また、信号をアナ
ログ処理する必要がないので、ノイズによる影響が少な
く、受光素子の感度の低下および光源の劣化等の影響も
少ないので、正確にウェハの位置決めを行うことができ
る。さらに、径の異なるウェハでも、調整等を必要とせ
ず、そのまま対応することができる。
殊な受光素子や、光源等信号を必要とせず、従来に較べ
て装置の簡素化を図ることができる。また、信号をアナ
ログ処理する必要がないので、ノイズによる影響が少な
く、受光素子の感度の低下および光源の劣化等の影響も
少ないので、正確にウェハの位置決めを行うことができ
る。さらに、径の異なるウェハでも、調整等を必要とせ
ず、そのまま対応することができる。
なお、この実施例のウェハの位置決め装置では、オリフ
ラの長さをF、ウェハ径をRとした場合、ウェハ1が、
偏心ff1fflが以下に示す式のしよりも小さい範囲
にセットされないとセンタリングが不可能となる。
ラの長さをF、ウェハ径をRとした場合、ウェハ1が、
偏心ff1fflが以下に示す式のしよりも小さい範囲
にセットされないとセンタリングが不可能となる。
L−[R2−(F/ 2) 2 ] 4− (
F/ 2)/lan (π/ 5) しかしながら、上記りの値は、4インチウェハの場合で
20.75mmとなり、実際には問題にならない。
F/ 2)/lan (π/ 5) しかしながら、上記りの値は、4インチウェハの場合で
20.75mmとなり、実際には問題にならない。
[発明の効果]
上述のように、本発明のウェハの位置決め装置では、従
来に比べて装置の構成を簡素化することができ、かつ、
正確にウェハの位置決めを行うことができる。
来に比べて装置の構成を簡素化することができ、かつ、
正確にウェハの位置決めを行うことができる。
第1図は本発明の一実施例のウェハの位置決め装置を示
す斜視図、第2図は第1図の要部を示す側面図、第3図
は第1図装置によりウェハの偏心量および偏心方向のn
出方法を説明するための図、第4図は第1図の演算・制
御部の動作を示すフローチャート、第5図は従来のウェ
ハの位置決め装置の要部を示す側面図である。 1・・・・・・ウェハ、2・・・・・・ウェハホルダ、
3・・・・・・搬送機構、4・・・・・・バキュームプ
レート、5・・・・・・駆動部、6・・・・・・ウェハ
保持機構、7・・・・・・チャックベース、8・・・・
・・回転駆動部、9・・・・・・基体、10・・・・・
・検出機構、11・・・・・・検出部、12・・・・・
・駆動部、13・・・・・・アーム、14・・・・・・
演算・制御部。 出願人 東京エレクトロン株式会社 代理人 弁理士 須 山 佐 − 第1図 しエヘ」 第2図 第3図 第4図
す斜視図、第2図は第1図の要部を示す側面図、第3図
は第1図装置によりウェハの偏心量および偏心方向のn
出方法を説明するための図、第4図は第1図の演算・制
御部の動作を示すフローチャート、第5図は従来のウェ
ハの位置決め装置の要部を示す側面図である。 1・・・・・・ウェハ、2・・・・・・ウェハホルダ、
3・・・・・・搬送機構、4・・・・・・バキュームプ
レート、5・・・・・・駆動部、6・・・・・・ウェハ
保持機構、7・・・・・・チャックベース、8・・・・
・・回転駆動部、9・・・・・・基体、10・・・・・
・検出機構、11・・・・・・検出部、12・・・・・
・駆動部、13・・・・・・アーム、14・・・・・・
演算・制御部。 出願人 東京エレクトロン株式会社 代理人 弁理士 須 山 佐 − 第1図 しエヘ」 第2図 第3図 第4図
Claims (2)
- (1)予め回転中心位置が記憶された保持機構にウェハ
を保持し、このウェハを所定角度回転させこのウェハの
端部の位置を少なくとも3点以上検出し、これらの位置
情報および上記回転中心間の距離データから上記ウェハ
の偏心方向および偏心量を求め、位置補正することを特
徴とするウェハの位置決め装置。 - (2)ウェハの偏心方向および偏心量は、回転中心およ
びウェハ端部との距離を5点以上測定し、この後、前記
距離のデータの中から3つのデータを使用して前記ウェ
ハの偏心方向および偏心量を算出するステップ、前記3
つのデータのうち少なくとも1つを他のデータに置換え
て前記ウェハの偏心方向および偏心量を算出するステッ
プ、これらの偏心方向および偏心量を比較するステップ
を、比較した偏心方向および偏心量がほぼ一致するまで
所定回数を限度として繰り返し、前記ウェハの偏心方向
および偏心量を求めることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のウェハの位置決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62323388A JP2558484B2 (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | ウエハの位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62323388A JP2558484B2 (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | ウエハの位置決め装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01164047A true JPH01164047A (ja) | 1989-06-28 |
JP2558484B2 JP2558484B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=18154183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62323388A Expired - Lifetime JP2558484B2 (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | ウエハの位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2558484B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999064207A1 (en) * | 1998-06-08 | 1999-12-16 | Genmark Automation, Inc. | Prealigner for substrates in a robotic system |
KR100494386B1 (ko) * | 2002-11-22 | 2005-06-13 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼의 감광막 결함검사 시스템 및 감광막 결함검사 방법 |
KR100506818B1 (ko) * | 2002-12-13 | 2005-08-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 기판의 이동위치 설정방법 및 반도체 기판의검사방법 |
JP2009253197A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Yamatake Corp | 中心位置検出方法および装置、並びに中心位置合わせ方法および装置 |
JP2013146833A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Nsk Ltd | ワーク処理装置、及びワーク処理方法 |
CN114322772A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 拓荆科技股份有限公司 | 调整基座装置及方法 |
CN117153755A (zh) * | 2023-10-26 | 2023-12-01 | 迈为技术(珠海)有限公司 | 一种晶圆对中方法、晶圆洗边方法以及晶圆对中机构 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5277828B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2013-08-28 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハ位置合わせ装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59147444A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-08-23 | Hitachi Ltd | 板状物体の位置合わせ方法およびその装置 |
JPS61278149A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-09 | Canon Inc | ウエハ位置決め装置 |
-
1987
- 1987-12-21 JP JP62323388A patent/JP2558484B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
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JP2009253197A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Yamatake Corp | 中心位置検出方法および装置、並びに中心位置合わせ方法および装置 |
JP2013146833A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Nsk Ltd | ワーク処理装置、及びワーク処理方法 |
CN114322772A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 拓荆科技股份有限公司 | 调整基座装置及方法 |
CN114322772B (zh) * | 2021-12-31 | 2024-05-10 | 拓荆科技股份有限公司 | 调整基座装置及方法 |
CN117153755A (zh) * | 2023-10-26 | 2023-12-01 | 迈为技术(珠海)有限公司 | 一种晶圆对中方法、晶圆洗边方法以及晶圆对中机构 |
CN117153755B (zh) * | 2023-10-26 | 2024-02-09 | 迈为技术(珠海)有限公司 | 一种晶圆对中方法、晶圆洗边方法以及晶圆对中机构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2558484B2 (ja) | 1996-11-27 |
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