JP7506774B2 - タッチセンサーを含む表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本明細書は、タッチセンサーを含む表示装置及びその製造方法に関する。
情報化社会が発展するに伴い、映像を表示するための表示装置への要求が様々な形態で増加している。表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）、電界発光表示装置（ＥＬＤ； Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）などのような種々の表示装置が用いられている。
そして、電界発光表示装置（ＥＬＤ）は、量子ドット（ＱＤ：Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ）を含む量子ドット発光表示装置（Ｑｕａｎｔｕｍ－ｄｏｔ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）、無機発光表示装置（Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）、及び有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）などを含むことができる。
上記の表示装置のうち、電界発光表示装置（ＥＬＤ）は、非常に優れた応答速度、視野角、色再現性などが実現され、また、薄い厚さが実現され得るという利点がある。
最近では、表示装置は、タッチを感知するタッチセンサーを備える。そして、ユーザが画面に表示された映像を見ながらタッチすれば、タッチセンサーは、そのタッチを認識し、タッチに対応して表示装置を動作させ、これにより、ユーザは、表示装置の採用された電子製品を直観的に操作可能になる。また、表示装置は、審美感又は使い勝手のよさの点から、その厚さが薄型化しつつある。
しかしながら、表示装置の厚さが薄いと、タッチセンサーと表示装置において映像を表示するために用いられる信号配線間の距離が近づいてしまう。タッチセンサーと信号配線との間の距離が近づくと、タッチセンサーは、信号配線に流れる信号及び／又は電圧をノイズとして認識することがあり、ノイズにより、タッチセンサーはタッチを不正確に検出することがある。
また、表示装置は複数の膜を積層してなるが、製造する過程で残存する水分によって発生するアウトガス（ｏｕｔｇａｓ）により、複数の膜において膜浮き現象が発生することがあり、このため、表示装置が不良になる問題が発生し得る。
したがって、本開示の実施形態は、上記の背景技術の制約および欠点に起因する問題の１つ以上を実質的に回避するような、タッチセンサーを含む表示装置、及びその製造方法に関連する。
本開示の１つの側面は、タッチセンサーと信号配線を遮蔽し、タッチセンサーが不正確にタッチを検出することを防止し、アウトガスによって表示装置の不良が発生することを防止できる、タッチセンサーを含む表示装置、及びその製造方法を提供することである。
追加の特徴および側面は、以下の説明において示され、また一部は同説明から自明であるか、本明細書で提示される本発明の概念の実践により理解され得る。本発明の概念の他の特徴および側面は、本明細書に書かれた内容で特に指摘される構造あるいはその派生構造、および特許請求の範囲もしくは図面により、理解され実現され得る。
本発明の概念の上記およびその他の側面を実現するため、ここに実施態様が示され広く記述されるように、表示装置は、表示領域と非表示領域とを含む基板、基板上に配置される平坦化膜、平坦化膜上に配置され、非表示領域内において複数の第１ホールを備えるアノード電極、アノード電極上に配置されるバンク、バンク上に配置されるカソード電極、カソード電極上に配置される封止膜、及び封止膜上に配置されるタッチセンサーであって、非表示領域内においてタッチ配線を含むタッチセンサーを含み、第１ホールは、タッチ配線と重ならないように配置されてよい。
他の側面によれば、表示装置の製造方法は、表示領域と非表示領域とを含む基板上に平坦化膜を配置すること、非表示領域内において、平坦化膜上に第１ホールを含むアノード電極を配置すること、アノード電極上にバンクを配置すること、バンク上にカソード電極を配置すること、カソード電極上に封止膜を配置すること、及び非表示領域内において封止膜上にタッチ配線を含むタッチセンサーを配置することを含み、第１ホールはタッチ配線と重ならないように配置されてよい。
本明細書の実施例によれば、ノイズによってタッチ信号が歪むことを防止することにより、より正確にタッチを検出できる、タッチセンサーを含む表示装置及びその製造方法を提供することができる。
また、本明細書の実施例によれば、水分によって表示装置に不良が発生することを防止できる、タッチセンサーを含む表示装置及びその製造方法を提供することができる。
上記の全般的な説明および以下の詳細な説明はいずれも、例示および説明のためのものであり、特許請求の範囲に記載される本発明の概念のさらなる説明を提供する意図のものであることを理解されたい。
本開示の理解をさらに深めるために提供され、本願に包含され本願の一部をなす添付の図面は、本開示の実施形態を図解し、本明細書の説明と共に、様々な原理を説明する役割を担う。
本明細書の実施例による表示装置を示す構造図である。 本明細書の実施例による表示装置において採用された画素の一実施例を示す回路図である。 本明細書の実施例による表示装置において表示パネル上にゲート信号発生回路が配置されていることを示す概念図である。 図３に示したＩ－Ｉ’断面の第１実施例を示す断面図である。 図３に示したＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。 図３に示したＩ－Ｉ’断面の第２実施例を示す断面図である。 図３に示したＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。 図３に示したＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。 図３に示したＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。 本明細書の実施例によるタッチセンサーを含む表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
本明細書の利点及び特徴、並びにそれらを達成する方法は、添付する図面と共に詳細に後述されている実施例から明確になるであろう。ただし、本明細書は、以下に開示される実施例に限定されず、様々な他の形態で具現されてよく、単に、本実施例は、本明細書の開示を完全にさせ、本明細書の属する技術の分野における通常の知識を有する者に、発明の範ちゅうを完全に知らせるために提供されるものであり、本明細書は請求項の範ちゅうによってのみ定義される。
本明細書の実施例を説明するための図面に開示された形状、サイズ、比率、角度、個数などは例示的なものであり、本明細書が図示の事項に限定されるものではない。明細書全般にわたって同一の参照符号は同一の構成要素を示す。また、本明細書を説明するとき、関連する公知技術に関する具体的な説明が本明細書の要旨を却って曖昧にし得ると判断される場合、その詳細な説明は省略する。本明細書において“含む”、“有する”、“からなる”などが使われる場合、“～だけ（のみ）”が使われない限り、他の部分が追加されてよい。構成要素を単数で表現したとき、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む場合を含む。
構成要素を解釈するとき、特に明示的な記載がなくても誤差範囲を含むものとして解釈する。
位置関係に関する説明において、例えば、“～上に”、“～上部に”、“～下部に”、“～側に”などにより２部分の位置関係が説明される場合、“直に”又は“直接”が使われない限り、２部分の間に１つ以上の他の部分が位置してもよい。
時間関係に関する説明において、例えば、“～後に”、“～に続いて”、“～次に”、“～前に”などにより時間的な先後関係が説明される場合、“直ちに”又は“直接”が使われない限り、連続しない場合も含むことができる。
信号のフロー関係に関する説明において、例えば、“ＡノードからＢノードに信号が伝達される”という場合にも、“直に”又は“直接”が使われない限り、Ａノードから他のノードを経由してＢノードに信号が伝達される場合を含むことができる。
第１、第２などが様々な構成要素を述べるために使われるが、それらの構成要素が前記用語によって制限されない。これらの用語は単に、一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下に言及される第１構成要素は、本明細書の技術的思想内で第２構成要素であってもよい。
本明細書の複数の実施例の各特徴が部分的に又は全体的に互いに結合又は組合せ可能であり、技術的に様々な連動及び駆動が可能であり、各実施例が相互独立して実施されてもよく、相互関連して共に実施されてもよい。
本明細書の実施例は、表示領域と非表示領域とを含む基板、基板上に配置される平坦化膜、平坦化膜上に配置され、非表示領域内において複数の第１ホールを含むアノード電極、アノード電極上に配置されるバンク、バンク上に配置されるカソード電極、カソード電極上に配置される封止膜、及び封止膜上に配置されるタッチセンサーであって、非表示領域内においてタッチ配線を含むタッチセンサーを含み、第１ホールはタッチ配線と重ならないように配置される、表示装置を提供することができる。
前記表示装置において、アノード電極は、非表示領域において第１ホールよりも小さいサイズを有する複数の第２ホールを備え、第２ホールは、タッチ配線と重なる第２領域に配置されてよい。第１ホールのサイズ又は第２ホールのサイズは、平面図においてそれぞれ第１ホール又は第２ホールの断面積を意味できる。
また、前記表示装置において、タッチ配線は、複数個のタッチ信号ラインを含み、第１ホールは、複数個のタッチ信号ラインの間に配置されてもよい。
また、前記表示装置において、基板の非表示領域内において、平坦化膜の下にゲート信号発生回路が配置され、カソード電極及びアノード電極はゲート信号発生回路と重なるように配置されてよい。
また、前記表示装置において、第１ホールは、ゲート信号発生回路と重なるように配置されてよい。
また、前記表示装置において、封止膜は、第１無機膜、第２無機膜、及び第１無機膜と第２無機膜との間に配置される有機膜を含むことができる。
また、前記表示装置において、第１ホールは、平坦化膜とバンクとが互いに接触する領域に配置されてよい。
本明細書の実施例は、表示領域と非表示領域とを含む基板上に平坦化膜を配置すること、非表示領域内において、平坦化膜上に複数の第１ホールを備えるアノード電極を配置すること、アノード電極上にバンクを配置すること、バンク上にカソード電極を配置すること、カソード電極上に封止膜を配置すること、及び封止膜上に非表示領域内においてタッチ配線を含むタッチセンサーを配置することを含む、表示装置の製造方法を提供することができる。
また、上記の表示装置の製造方法において、前記第１ホールは、前記タッチ配線と重ならないように配置できる。
上記の表示装置の製造方法において、アノード電極は、非表示領域で第１ホールよりもサイズの小さい複数の第２ホールを含んでもよく、第２ホールは、タッチ配線と重なるように配置されてよい。
また、上記の表示装置の製造方法において、タッチ配線は、複数個のタッチ信号ラインを含み、第１ホールは、複数個のタッチ信号ラインの間に配置されてもよい。
また、上記の表示装置の製造方法において、平坦化膜を配置する前に、基板の前記非表示領域内においてゲート信号発生回路が配置されてもよく、カソード電極及びアノード電極はゲート信号発生回路と重なるように配置されてよい。
また、上記の表示装置の製造方法において、第１ホールは、ゲート信号発生回路と重なるように配置されてよい。
また、上記の表示装置の製造方法において、封止膜は、第１無機膜、第２無機膜、及び第１無機膜と前記第２無機膜との間に配置される有機膜を含むことができる。
また、上記の表示装置の製造方法において、第１ホールは、平坦化膜と前記バンクとが互いに接触する領域に配置されてよい。
以下、添付の図面を参照して、本明細書の様々な実施例を詳細に説明する。
図１は、本明細書の実施例による表示装置を示す構造図である。
図１を参照すると、表示装置１００は、表示パネル１１０、データドライバー回路１２０、ゲートドライバー回路１３０、及びタイミングコントローラ１４０を含むことができる。また、表示装置１００は、表示パネル１１０と重なるようにタッチセンサー１５０が配置されてよい。
表示パネル１１０は、マトリクス状に配置される複数の画素１０１を含むことができる。複数の画素１０１はそれぞれ、赤色、緑色、青色の光を発光できる。但し、それぞれの画素から発する光の色はそれらに限定されない。また、表示パネル１１０は矩形の形状であってよい。
表示パネル１１０には、複数のゲートラインＧＬ１～ＧＬｎ及び複数のデータラインＤＬ１～ＤＬｍが配置され、ゲートラインＧＬ１～ＧＬｎ及びデータラインＤＬ１～ＤＬｍに複数の画素１０１が連結されてよい。各画素１０１は、ゲートラインＧＬ１～ＧＬｎを通じて伝達されるゲート信号に対応して、データラインＤＬ１～ＤＬｍを通じて伝達されるデータ信号を受信することができる。但し、表示パネル１１０に配置される配線がこれに限定されるものではない。
データドライバー回路１２０は、複数のデータラインＤＬ１～ＤＬｍに連結され、データラインＤＬ１～ＤＬｍを通じてデータ信号を画素１０１に伝達できる。ここで、データドライバー回路１２０を１個として図示しているが、これに限定されるものではない。
ゲートドライバー回路１３０は、ゲートラインＧＬ１～ＧＬｎに連結され、ゲートラインＧＬ１～ＧＬｎを通じてゲート信号を複数の画素１０１に供給できる。ここで、ゲートドライバー回路１３０は、表示パネル１１０の一側に配置されていることが示されているが、これに限定されず、表示パネル１１０の両側に配置されてもよい。そして、一つのゲートドライバー回路は奇数番目のゲートラインに連結され、他のゲートドライバー回路は偶数番目のゲートラインに連結されてよい。また、表示装置１００は別個のゲートドライバー回路を含まず、表示パネル１１０にゲート信号を発生するゲート発生回路が配置されてよい。
タイミングコントローラ１４０は、データドライバー回路１２０とゲートドライバー回路１３０を制御できる。タイミングコントローラ１４０は、映像信号ＲＧＢ及びデータ制御信号ＤＣＳをデータドライバー回路１２０に供給し、ゲート制御信号ＧＣＳをゲートドライバー回路１３０に供給できる。
タッチセンサー１５０は、表示パネル１１０に重なるように配置され、ユーザによる表示パネル１１０のタッチを感知することができる。タッチセンサー１５０は、複数のタッチ電極と、タッチ電極にタッチ信号を伝達するタッチ配線を含むことができる。
図２は、本明細書の実施例による表示装置において採用された画素の一実施例を示す回路図である。
図２を参照すると、画素１０１は、駆動電流を供給する画素回路と、駆動電流を受けて光を発する発光素子ＥＤを含むことができる。
画素回路は、第１トランジスターＭ１、第２トランジスターＭ２及びストレージキャパシターＣｓｔを含むことができる。
第１トランジスターＭ１は、第１電極が第１電源（ＥＶＤＤ）を供給する第１電源ラインＶＬ１に連結され、第２電極が第１ノードＮ１に連結されてよい。また、第１トランジスターＭ１は、ゲート電極が第２ノードＮ２に連結されてよい。第１トランジスターＭ１は、第２ノードＮ２に印加された電圧に対応して、第１ノードＮ１に駆動電流を流すことができる。
第２トランジスターＭ２は、第１電極がデータラインＤＬに連結され、第２電極が第２ノードＮ２に連結されてよい。また、第２トランジスターＭ２は、ゲート電極がゲートラインＧＬに連結されてよい。第２トランジスターＭ２は、ゲートラインＧＬを通じて伝達されるゲート信号ＧＡＴＥに対応して、データラインＤＬに流れるデータ信号Ｖｄａｔａを第２ノードＮ２に伝達することができる。
ストレージキャパシターＣｓｔは、第１電極が第１ノードＮ１に連結され、第２電極が第２ノードＮ２に連結されてよい。ストレージキャパシターＣｓｔは、第２ノードＮ２に印加された電圧を維持させることができる。
そして、発光素子ＥＤは、アノード電極、カソード電極、及びアノード電極とカソード電極との間に配置され、電流が流れると光を発する発光層を含むことができる。発光層は、有機物質、無機物質及び量子ドット（Ｑｕａｎｔａｕｍ Ｄｏｔ）物質の少なくとも一つを含むことができる。発光素子ＥＤは、第１ノードＮ１に流れる駆動電流を受けて光を発することができる。
上記のように構成された画素１０１において、第１トランジスターＭ１及び第２トランジスターＭ２は、ＮＭＯＳタイプのトランジスターであってよい。但し、これに限定されるものではない。また、第１トランジスターＭ１及び第２トランジスターＭ２の第１電極及び第２電極はそれぞれ、ドレイン電極及びソース電極であってよい。但し、これに限定されるものではない。
図３は、本明細書の実施例による表示装置において表示パネル上にゲート信号発生回路が配置されていることを示す概念図である。
図３を参照すると、表示パネル１１０は、基板１１１上に配置されるゲート信号発生回路１３０ａを含むことができる。基板１１１は、画素１０１が配置される表示領域１１０ａと、表示領域１１０ａに信号及び／又は電圧を供給する信号配線が配置される非表示領域１１０ｂとに区分できる。また、非表示領域１１０ｂにはゲート信号発生回路１３０ａが配置されてよい。ゲート信号発生回路１３０ａは、画素１０１が配置される過程で表示領域１１０ａと共に配置されてよい。
また、基板１１１にタッチセンサー１５０が配置されてよい。タッチセンサー１５０は、複数のタッチ電極と、タッチ電極にタッチ信号を供給するタッチ配線を含むことができる。タッチ電極は、表示領域１１０ａと重なるように配置され、タッチ配線は非表示領域１１０ｂと重なるように配置されてよい。また、タッチ配線及び信号配線は、非表示領域１１０ｂにおいて異なるレイヤに配置されてよい。
タッチ配線が信号配線上に配置されると、タッチ配線と信号配線との間にキャパシターが形成され、信号配線に流れる信号はキャパシターによってタッチ配線においてノイズになることがある。
ここで、ゲート信号発生回路１３０ａは基板１１１の一側に重なるように配置されていることを示しているが、これに限定されず、基板１１１の両側に重なるように配置されてもよい。
図４は、図３に示すＩ－Ｉ’断面の第１実施例を示す断面図である。
図４を参照すると、基板１１１上にゲート絶縁膜１１２が配置され、ゲート絶縁膜１１２上にゲート信号発生回路１３０ａが配置されてよい。ここで、ゲート信号発生回路１３０ａは、一つの金属層が配置されているとしているが、これは説明のためのものであり、ゲート信号発生回路１３０ａは、積層されている複数の絶縁膜と、複数の金属層を含むことができる。また、ゲート信号発生回路１３０ａは、複数のトランジスターを含むことができる。
ゲート信号発生回路１３０ａ上に平坦化膜１１３が配置されてよい。また、平坦化膜１１３上にアノード電極１１４が配置されてよい。
平坦化膜１１３は、フォトアクリル（ｐｈｏｔｏ ａｃｒｙｌ）又はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）を含むことができる。但し、平坦化膜１１３に含まれる物質はこれに限定されない。平坦化膜１１３は大気に晒されると、水分を吸収できる。
平坦化膜１１３上に配置されたアノード電極１１４は、第１ホールＨ１を含むことができる。第１ホールＨ１によって平坦化膜１１３の一部が露出されてよい。これによって、第１ホールＨ１は、平坦化膜１１３で水分によって発生するガスを排出できるアウトガス（ｏｕｔｇａｓ）のための経路になり得る。そして、アノード電極１１４上にバンク１１５が配置されてよい。また、第１ホール１Ｈは、平坦化膜１１３とバンク１１４とが重なる位置に配置されてよい。
バンク１１５上にカソード電極１１６が配置されてよい。カソード電極１１６上に第１無機膜１１７、有機膜１１８、第２無機膜１１９が順次に積層されてよい。第１無機膜１１７、有機膜１１８、第２無機膜１１９は封止膜であってよい。有機膜１１８の厚さは、第１無機膜１１７と第２無機膜１１９の厚さよりも厚くてよい。そして、第２無機膜１１９上にタッチ配線１５１が配置されてよい。第２無機膜１１９は、タッチ配線１５１が配置されるとき、有機膜１１８が損傷することを防止できる。
タッチ配線１５１は、下部に配置されるカソード電極１１６によってゲート信号発生回路１３０ａと遮蔽されてよい。但し、カソード電極１１６は工程偏差が大きいため、カソード電極１１６がゲート信号発生回路１３０ａを完全に覆わないことがある。このため、カソード電極１１６がゲート信号発生回路１３０ａを遮蔽できず、ゲート信号発生回路１３０ａによってタッチ配線１５１にノイズが伝達されることがある。
図５は、図３に示すＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。
図５を参照すると、基板１１１上に、ゲート信号発生回路１３０ａに含まれる複数の信号配線１３２が配置されてよい。また、複数の信号配線１３２は、ゲート信号発生回路１３０ａに供給されるクロックを供給するクロック信号配線であってよい。但し、これに限定されるものではない。複数の信号配線１３２上にアノード電極１１４が配置されてよい。そして、アノード電極１１４上にタッチ配線１５１が配置されてよい。
アノード電極１１４は複数の第１ホールＨ１を含むことができる。複数の第１ホールＨ１は、３本の列で配置されてよい。但し、これに限定されるものではない。
複数の第１ホール１Ｈは、タッチセンサー１５０と重ならなくてよい。また、複数の第１ホールＨ１の３列のうちの一列は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａに配置され、残り２列に含まれる第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂに配置されてよい。
アノード電極１１４に第１ホールＨ１が配置され、平坦化膜１１３で発生したガスを排出できるアウトガス（ｏｕｔｇａｓ）のための経路になるので、表示装置１００の不良が発生することを防止することができる。
図５にはカソード電極１１６が示されていないが、カソード電極１１６は、信号配線１３２の一部又は全部を覆うことができる。
複数の第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａ、及びタッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂに配置されてよい。タッチ配線１５１は、第２領域Ｂに配置された第１ホールＨ１により、アノード電極１１４が信号配線１３２とタッチ配線１５１を遮蔽できなくなることがある。
図６は、図３に示したＩ－Ｉ’断面の第２実施例を示す断面図である。
図６を参照すると、基板１１１上にゲート絶縁膜１１２が配置され、ゲート絶縁膜１１２上において非表示領域１１０ｂに対応する位置にゲート信号発生回路１３０ａが配置されてよい。ここで、ゲート信号発生回路１３０ａは、一つの金属層が配置されているとしているが、これは説明のためのものであり、ゲート信号発生回路１３０ａは複数の絶縁膜及び複数の金属層を含んでもよい。また、ゲート信号発生回路１３０ａは複数のトランジスターを含むことができる。
ゲート信号発生回路１３０ａ上に平坦化膜１１３が配置されてよい。また、平坦化膜１１３上にアノード電極１１４が配置され、アノード電極１１４上にカソード電極１１６が配置されてよい。平坦化膜１１３は、フォトアクリル（ｐｈｏｔｏ ａｃｒｙｌ）又はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）を含むことができる。平坦化膜１１３は大気に晒されると水分を吸収できる。そして、アノード電極１１４上にバンク１１５が配置されてよい。
バンク１１５上にカソード電極１１６が配置されてよい。カソード電極１１６上に第１無機膜１１７、有機膜１１８、第２無機膜１１９が順次に積層されてよい。第１無機膜１１７、有機膜１１８、第２無機膜１１９は封止膜であってよい。有機膜１１８の厚さは、第１無機膜１１７と第２無機膜１１９の厚さよりも厚くてよい。そして、第２無機膜１１９上にタッチ配線１５１が配置されてよい。第２無機膜１１９は、タッチ配線１５１が配置される時、有機膜１１８が損傷することを防止できる。
タッチ配線１５１は、下部に配置されるカソード電極１１６により、ゲート信号発生回路１３０ａを含む信号配線１３２と遮蔽されてよい。また、カソード電極１１６の下部に配置されているアノード電極１１４により、タッチ配線１５１は信号配線１３２と遮蔽されてよい。
カソード電極１１６の工程偏差が大きいため、カソード電極１１６がタッチ配線１５１を完全に遮蔽できなくなっても、アノード電極１１４によってもタッチ配線１５１を遮蔽でき、タッチ配線１５１へのノイズ伝達が抑制され得る。
図７Ａ～図７Ｃは、図３に示したＸ領域の実施例を示すレイアウト図である。
図７Ａ～図７Ｃを参照すると、基板１１１上に、ゲート信号発生回路１３０ａに含まれる複数の信号配線１３２が配置されてよい。また、信号配線１３２は、ゲート信号発生回路１３０ａに供給されるクロック信号を供給するクロック信号配線であってよい。但し、これに限定されるものではない。
信号配線１３２上にアノード電極１１４が配置されてよい。そして、アノード電極１１４上にタッチ配線１５１が配置されてよい。アノード電極１１４は複数の第１ホールＨ１を含むことができる。
図７Ａ～図７Ｃにはカソード電極１１６が示されていないが、カソード電極１１６は信号配線１３２の一部又は全部を覆うことができる。
図７Ａを参照すると、複数の第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａ、及びタッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂのうち、第１領域Ａに配置されてよい。また、第１ホールＨ１は、平坦化膜１１３とバンク１１５とが重なる位置に配置されてよい。
下記の表１は、図５に示したアノード電極を採用した表示装置（Ｓａｍｐｌｅ １）と図７Ａに示したアノード電極を採用した表示装置（Ｓａｍｐｌｅ ２）においてノイズを比較した結果である。
Figure 0007506774000001
上記の表１で、Ｇｃｌｋは、ゲート信号発生回路から出力されるクロック信号の電圧を表し、Ｃａｔｈｏｄｅは、カソード電極の電圧を表す。そして、Ｒｘは、タッチ配線から出力されるタッチ信号の電圧を表す。また、５個の表示装置を用いてクロック信号の電圧、カソード電極の電圧、タッチ信号の電圧を測定した。
上記の表１に示すように、図７Ａに示したアノード電極を採用した表示装置（Ｓａｍｐｌｅ ２）から測定されたカソード電極の電圧とタッチ信号の電圧の最小値、最大値、平均値はいずれも、図５に示したアノード電極を採用した表示装置（Ｓａｍｐｌｅ １）から測定されたカソード電極の電圧とタッチ信号の電圧の最小値、最大値、平均値よりも小さいことがわかる。
すなわち、ゲート信号発生回路１３０ａと重なっているアノード電極１１４から第１ホールＨ１が除去されることにより、タッチセンサー１５０のノイズ遮蔽が改善されたことが分かる。
図７Ｂを参照すると、複数の第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａ、及びタッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂのうち、第１領域Ａに配置されてよい。また、タッチ配線１５１は、複数のタッチ信号ラインを含み、第１領域Ａは複数個のタッチ信号ラインの間に配置される領域であってよい。そして、複数の第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂには配置されなくて済む。したがって、アノード電極１１４は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂを遮蔽することができる。
また、図７Ｃを参照すると、複数の第１ホールＨ１は、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａ、及びタッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂのうち、第１領域Ａに配置されてよい。また、第１ホールＨ１よりもサイズの小さい第２ホールＨ２が、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重なる第２領域Ｂに配置されてよい。第２領域Ｂでアノード電極１１４に形成されるホールのサイズが小さくても、タッチセンサー１５０のノイズ遮蔽は改善され得る。
また、第１ホールＨ１に対応する第２ホールＨ２の合計サイズが、第１ホールＨ１のサイズの半分よりも小さくなるように第２ホールＨ２のサイズが決定されてよい。すなわち、図７Ｃにおいて、４個の第２ホールＨ２の合計サイズは、１個の第１ホールＨ１のサイズの半分よりも小さくてよい。
そして、図７Ａ～図７Ｃに示しているように、平坦化膜１１３上に第１ホールＨ１及び第２ホールＨ２のうち、少なくとも第１ホールＨ１が配置されており、第１ホールＨ１及び第２ホールＨ２のうち少なくとも第１ホールＨ１が、平坦化膜１１３でアウトガス（ｏｕｔｇａｓ）の放出される経路となり、表示装置１００の不良が発生することを防止することができる。
図８は、本明細書の実施例によるタッチセンサーを含む表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
図８を参照すると、基板１１１上に平坦化膜１１３が配置されてよい（Ｓ８１０）。基板１１１は、ガラス（Ｇｌａｓｓ）又はポリアミド（Ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）を含むことができる。平坦化膜１１３は、フォトアクリル（ｐｈｏｔｏ ａｃｒｙｌ）又はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）を含むことができる。平坦化膜１１３は大気に晒されると水分を吸収できる。
基板１１１上に平坦化膜１１３が配置される前に、ゲート信号発生回路１３０ａが基板１１１上に配置されてよい（Ｓ８００）。ゲート信号発生回路１３０ａは基板１１１上の非表示領域１１０ｂに配置されてよい。ゲート信号発生回路１３０ａは基板１１１の一側に配置されてもよい。また、ゲート信号発生回路１３０ａは基板１１１の両側に配置されてもよい。
また、ゲート信号発生回路１３０ａは導電層がパターニングして形成されてよく、信号配線１３２を含むことができる。信号配線１３２は、ゲート信号発生回路１３０ａにクロック信号を供給するクロック信号配線を含むことができる。また、ゲート信号発生回路１３０ａは、複数のトランジスターを含むことができる。ゲート信号発生回路１３０ａは、基板１１１上の表示領域１１０ａに画素１０１が配置される際に共に配置されてよい。
平坦化膜１１３上にアノード電極１１４が配置されてよい（Ｓ８２０）。アノード電極１１４は第１ホール１Ｈを含むことができる。アノード電極１１４に形成された第１ホール１Ｈは、平坦化膜１１３で発生したガスが放出されるアウトガス（ｏｕｔｇａｓ）の経路となり、表示装置１００の不良が発生することを防止することができる。第１ホール１Ｈは、非表示領域１１０ｂにおいてゲート信号発生回路１３０ａと重なる位置に配置されてよい。
アノード電極１１４の上部にバンク１１５を配置するが、バンク１１５は第１ホール１Ｈと重なる位置に配置されてよい（Ｓ８３０）。
バンク１１５上にカソード電極１１６が配置されてよい（Ｓ８４０）。カソード電極１１６は基板１１１の上部を覆うことができる。カソード電極１１６はゲート信号発生回路１３０ａの上部を覆うことができる。カソード電極１１６はゲート信号発生回路１３０ａを遮蔽することができる。但し、製造過程においてカソード電極１１６は工程偏差が大きいため、カソード電極１１６がゲート信号発生回路１３０ａの上部の一部だけを覆うこともあり、カソード電極１１６によるゲート信号発生回路１３０ａの遮蔽効果が低下することがある。
カソード電極１１６上に封止膜を配置することができる（Ｓ８５０）。封止膜は、第１無機膜１１７、第２無機膜１１９、及び第１無機膜１１７と第２無機膜１９との間に配置される有機膜１１８を含むことができる。有機膜１１８の厚さは、第１無機膜１１７と第２無機膜１１９の厚さよりも厚くてよい。封止膜は、水分、空気を含む異物が透過することを防止することができる。
封止膜上にタッチセンサー１５０が配置されてよい。タッチセンサー１５０はタッチ電極及びタッチ配線１５１を含むことができる。また、第２無機膜１１９は、タッチセンサー１５０が配置される時に有機膜１１８が損傷することを防止できる。
また、第１ホール１Ｈは、タッチ配線１５１と重ならないように配置されてよい。第１ホール１Ｈは、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第１領域Ａ、及びタッチ配線と信号配線とが重なる第２領域Ｂのうち、第１領域Ａに配置されてよい。アノード電極１１４に含まれている第１ホール１Ｈがタッチ配線１５１と重ならないように配置されることにより、タッチ配線１５１と信号配線１３２はアノード電極１１４によって遮蔽され得る。したがって、カソード電極１１６及びアノード電極１１４によって二重で遮蔽され、ゲート信号発生回路１３０ａの遮蔽効果が向上し得る。
また、タッチ配線１５１は複数のタッチ信号ラインを含み、第１ホール１Ｈはタッチ信号ライン間に配置されてよい。また、タッチ配線１５１と信号配線１３２とが重ならない第２領域Ｂには、第１ホール１Ｈよりもサイズの小さい第２ホールＨ２が配置されてよい。
本開示の技術的思想および開示範囲から逸脱することなく、本開示に対し様々な変更形態およびバリエーションが可能であることは、当業者には明らかであろう。したがって、本開示のそれらの変更形態およびバリエーションは、特許請求の範囲の技術的範囲およびその均等範囲に含まれる限りにおいて、本開示によりカバーされると意図されている。
１００ 表示装置
１０１ 画素
１１０ 表示パネル
１２０ データドライバー回路
１３０ ゲートドライバー回路
１４０ タイミングコントローラ

Claims (12)

  1. 画素回路を含む画素が配置される表示領域と、非表示領域とを含む基板であって、前記画素回路が、少なくとも１つのトランジスターとストレージキャパシターとを含む、基板；
    前記基板上に配置される平坦化膜；
    前記平坦化膜上に配置されるアノード電極；
    前記アノード電極上に配置されるバンク；
    前記バンク上に配置されるカソード電極；
    前記カソード電極上に配置される封止膜；及び
    前記封止膜上に配置されるタッチセンサーであって、前記非表示領域内においてタッチ配線を含むタッチセンサー
    を含み、
    前記アノード電極は、前記非表示領域内において、前記タッチ配線と重ならないように配置されている第１ホールと、前記第１ホールよりもサイズが小さく且つ前記タッチ配線と重なるように配置されている第２ホールとを含む、表示装置。
  2. 前記タッチ配線は、複数個のタッチ信号ラインを含み、前記第１ホールは、前記複数個のタッチ信号ラインの間に配置されている、請求項１に記載の表示装置。
  3. 前記非表示領域内において前記平坦化膜の下に配置されたゲート信号発生回路をさらに含み、
    前記カソード電極及び前記アノード電極は、前記ゲート信号発生回路と重なるように配置されている、請求項１に記載の表示装置。
  4. 前記第１ホールは、前記ゲート信号発生回路と重なるように配置されている、請求項３に記載の表示装置。
  5. 前記封止膜は、
    第１無機膜；
    第２無機膜；及び
    前記第１無機膜と前記第２無機膜との間に配置される有機膜を含む、請求項１に記載の表示装置。
  6. 前記第１ホールは、前記平坦化膜と前記バンクとが互いに接触する領域に配置される、請求項１に記載の表示装置。
  7. 画素回路を含む画素が配置される表示領域と、信号配線が配置される非表示領域とを含む基板；
    前記基板上に配置される平坦化膜；
    前記平坦化膜上に配置されるアノード電極；
    前記アノード電極上に配置されるバンク；
    前記バンク上に配置されるカソード電極；
    前記カソード電極上に配置される封止膜；及び
    前記封止膜上に配置されるタッチセンサーであって、前記非表示領域内においてタッチ配線を含むタッチセンサー
    を含み、
    前記画素回路は、該画素回路に含まれる発光素子に駆動電流を供給する第１ノードを含み、
    前記アノード電極は、前記第１ノードに接続され、さらに前記アノード電極は、前記非表示領域内において、前記タッチ配線と重ならないように配置されている第１ホールと、前記第１ホールよりもサイズが小さく且つ前記タッチ配線と重なるように配置されている第２ホールとを含む、表示装置。
  8. 前記タッチ配線は、複数個のタッチ信号ラインを含み、前記第１ホールは、前記複数個のタッチ信号ラインの間に配置されている、請求項７に記載の表示装置。
  9. 前記非表示領域内において前記平坦化膜の下に配置されたゲート信号発生回路をさらに含み、
    前記カソード電極及び前記アノード電極は、前記ゲート信号発生回路と重なるように配置されている、請求項７に記載の表示装置。
  10. 前記第１ホールは、前記ゲート信号発生回路と重なるように配置されている、請求項９に記載の表示装置。
  11. 前記封止膜は、
    第１無機膜；
    第２無機膜；及び
    前記第１無機膜と前記第２無機膜との間に配置される有機膜を含む、請求項７に記載の表示装置。
  12. 前記第１ホールは、前記平坦化膜と前記バンクとが互いに接触する領域に配置される、請求項７に記載の表示装置。
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