JP7496222B2 - インクジェット塗布装置、及びインクジェット塗布方法 - Google Patents

Description

本発明はインクジェット塗布装置、及びインクジェット塗布方法に関し、より詳細には、互いに混ざり合わない２種以上の液滴を基材に吐出して塗布パターンを形成することのできるインクジェット塗布装置、及びインクジェット塗布方法に関する。

近年、相反する極性を有する２種類のインクをインクジェットヘッドから基材に吐出し、これらインクの極性反発を利用して前記基材に電極や薄膜を形成する技術が提案されている。

例えば、下記の非特許文献１には、研究開発用の小型インクジェット装置を用いて、親水性の銀ナノ粒子インクと、疎水性の銀ナノ粒子インクとを隣り合うように基板上に吐出し、これらインクの極性反発とピンニング現象を利用して、チャネル長が１μｍ以下のソース・ドメイン電極（ＳＤ電極）を有する有機トランジスタを形成する技術が開示されている。

また、下記の非特許文献２には、結晶化インク（貧溶媒）と有機半導体を含む半導体インクの２種類のインクを２基のインクジェットヘッドからそれぞれ吐出するダブルショットインクジェット印刷法により半導体結晶薄膜を形成する技術が開示されている。

非特許文献２記載の方法は、１基目のインクジェットヘッドから結晶化インクを基板上に吐出し、続いて２基目のインクジェットヘッドから半導体インクを結晶化インク上に重ねて塗布し、基材上にミクロな混合液滴を形成する。この混合液滴の内部では、有機半導体が直ちに過飽和状態になるとともに、インクどうしの極性反発によりインクが流動し、液滴表面において半導体結晶の成長が促進される。最終的に半導体結晶が液滴表面全体を覆い、溶媒蒸発後に有機半導体の単結晶薄膜が形成される。

［発明が解決しようとする課題］
非特許文献１、２には、互いに混ざり合わない、相反する極性を有する２種類のインクの極性反発を利用して、基材に塗布パターンを形成する技術が記載されている。しかしながら、これらは、いずれも実験室レベルでの小規模な検討結果であり、工業的に実施できるようにするためには、大面積化された基材に多くの塗布パターンを面内で均一に形成するための技術や生産性を高めるための技術が必要になるという課題があった。

ピーターマックグラブ（Peter Mack Grubb）,外４名,「化学作用で形成されたミクロンオーダーのギャップを有する高性能トランジスタのインクジェット印刷(Inkjet Printing of High Performance Transistors with Micron Order Chemically Set Gaps)」,２０１７年４月２６日，サイエンティフィック リポーツ(Scientific Reports),7,1202(2017)，インターネット<URL: https://doi.org/10.1038/s41598-017-01391-2> 峯廻 洋美（Hiromi Minemawari），外７名，「単結晶薄膜のインクジェット印刷（Inkjet printing of single-crystal films）」，２０１１年７月１３日，ネイチャー（Nature）475,p.364-367, 2011,インターネット＜URL:http://doi.org/10.1038/nature10313>

課題を解決するための手段及びその効果

本発明は上記課題に鑑みなされたものであって、互いに混ざり合わない２種以上の液滴の特性を利用した高精細な塗布パターンを大面積でも均一に形成することができるインクジェット塗布装置、及びインクジェット塗布方法を提供することを目的としている。

上記目的を達成するために本発明に係るインクジェット塗布装置（１）は、
基材に塗布パターンを形成するインクジェット塗布装置であって、
前記塗布パターンを形成するための第１液滴を吐出する複数のノズルを有する第１ヘッド部と、
前記第１液滴とは互いに混ざり合わない性質を有し、前記塗布パターンを形成するための第２液滴を吐出する複数のノズルを有する第２ヘッド部と、
前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とを前記基材に対して相対走査させる走査部と、
前記相対走査の中で、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出する制御と前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出する制御とを行う制御部とを備え、
該制御部が、
前記相対走査の速度と前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の配置間隔とに応じた吐出タイムラグで、前記第１液滴と前記第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出制御可能に構成されていることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（１）によれば、前記相対走査の中で、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とから、互いに混ざり合わない前記第１液滴と前記第２液滴とが、前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に前記吐出タイムラグで吐出される。
したがって、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とが通過する前記基材の面内において、前記吐出タイムラグを一定に保ちつつ、前記第１液滴と前記第２液滴とを液体の状態で確実に接触させることが可能となり、前記第１液滴と前記第２液滴との特性、すなわち、非相溶性を利用した高精細なパターンを形成することが可能となる。これにより、前記基材を大面積化した場合であっても、前記非相溶性を利用して形成される前記塗布パターンを面内で均一に形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（２）は、上記インクジェット塗布装置（１）において、
前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する選定部を備えていることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（２）によれば、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の何れのノズルから前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出する場合であっても、その吐出時間間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないように、前記第１ヘッド部のノズルと前記第２ヘッド部のノズルとの組み合わせを選定することができる。したがって、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のノズル構成の違いに柔軟に対応させることができ、前記第１液滴と前記第２液滴とが互いに混ざり合わない性質を利用した高精細なパターンを面内で均一に、かつ安定的に形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（３）は、上記インクジェット塗布装置（２）において、
前記第１ヘッド部から吐出される前記第１液滴と前記第２ヘッド部から吐出される前記第２液滴との着弾状態を検査する検査部を備え、
前記選定部が、
前記検査部での検査によって得られる前記着弾状態の検査データを考慮して、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定するものであることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（３）によれば、前記第１ヘッド部から吐出される前記第１液滴と前記第２ヘッド部から吐出される前記第２液滴との着弾状態が検査され、該着弾状態の検査データを考慮して、隣接又は少なくとも一部が重なり合う一対の液滴を吐出する前記第１ヘッド部のノズルと前記第２ヘッド部のノズルとの組み合わせが選定される。なお、前記着弾状態には、例えば、着弾位置、着弾面積、又は不吐出の有無などの状態が含まれる。
これにより、前記第１ヘッド部のノズル又は前記第２ヘッド部のノズルの中から、液滴の吐出に不適なノズルが検出された場合であっても、液滴の吐出に適した（前記吐出タイムラグからのずれが小さい）ノズルの組み合わせが選定され、前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出させることが可能となる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（４）は、上記インクジェット塗布装置（２）又は（３）において、
前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかを鉛直軸方向に回転させる回転機構、及び／又は前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかを前記相対走査の方向に対して直交する方向に移動させるシフト移動機構と、
前記回転機構及び前記シフト移動機構のうちの少なくともいずれかを動作させて、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかのノズル位置調整を行う位置調整部とをさらに備え、
該位置調整部が、
前記選定部によりノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合、前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出可能なノズルの組み合わせが選定できるように、前記ノズル位置調整を行うことを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（４）によれば、前記選定部によりノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合であっても、前記位置調整部が、前記回転機構及び前記シフト移動機構のうちの少なくともいずれかを動作させて、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかのノズル位置調整を行うことが可能となる。これにより、前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に前記第１液滴と前記第２液滴とを吐出可能なノズルの組み合わせを選定することが可能となり、前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に正確に吐出することが可能となる。このように、前記回転機構、及び／又は前記シフト移動機構と、前記位置調整部とにより、前記選定部によりノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合の適応性を高めることができる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（５）は、上記インクジェット塗布装置（３）～（５）のいずれかにおいて、
前記第１ヘッド部が、複数行のノズル列を含んで構成され、
前記第２ヘッド部が、複数行のノズル列を含んで構成され、
前記選定部が、
前記第１ヘッド部の前記複数行のノズル列の中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の前記複数行のノズル列の中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する場合に、互いに対応する行のノズルを選定するものであることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（５）によれば、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とがそれぞれ前記複数行のノズル列を含んで構成されて、大型化された場合であっても、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とのそれぞれの前記複数行のノズル列の中から互いに対応する行のノズルを選定して、前記第１液滴と前記第２液滴との吐出を適切に制御することができる。
したがって、前記第１液滴と前記第２液滴との吐出間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないようにすることができ、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とがそれぞれ前記複数行のノズル列を含んで構成されて、大型化された場合であっても、前記第１液滴と前記第２液滴との非相溶性を利用した高精細なパターンを面内で均一に、かつ安定的に形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（６）は、上記インクジェット塗布装置（１）～（５）のいずれかにおいて、
前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部が、
前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体に前記塗布パターンを形成できる数のノズルを備えていることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（６）によれば、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体に前記塗布パターンを形成することができ、塗布工程の生産性を高めることができる。また、前記相対走査の方向へ複数回の走査を行って、前記基材の塗布領域全体に前記塗布パターンを形成する場合と比較して、複数回の走査に起因する帯状の塗布ムラや、液滴の乾燥状態が面内でばらつくことに起因する乾燥ムラが少ない、より均一性が高い塗布パターンを形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布装置（７）は、上記インクジェット塗布装置（１）～（６）のいずれかにおいて、
前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方が先に吐出され、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方が後に吐出されるように、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とが配置されていることを特徴としている。

上記インクジェット塗布装置（７）によれば、前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出される前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方が先に吐出され、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方が後に吐出される。これにより、前記第１液滴と前記第２液滴とを吐出すべき位置、及び前記基材上に吐出された前記第１液滴と前記第２液滴との境界をより正確に画定することができ、高精細な塗布パターンを形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布方法（１）は、基材に塗布パターンを形成するインクジェット塗布方法であって、
前記塗布パターンを形成するための第１液滴を吐出する第１ヘッド部と、前記第１液滴とは互いに混ざり合わない性質を有し、前記塗布パターンを形成するための第２液滴を吐出する第２ヘッド部とを前記基材に対して相対走査させつつ、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出し、該第１液滴が吐出される前記基材上の着弾位置に対して、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を、前記相対走査の速度と前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の配置間隔とに応じた吐出タイムラグで吐出することを特徴としている。

上記インクジェット塗布方法（１）によれば、前記相対走査の中で、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とから、互いに混ざり合わない前記第１液滴と前記第２液滴とを、前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に前記吐出タイムラグで吐出することができる。したがって、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とが通過する前記基材の面内において、前記吐出タイムラグを一定に保ちつつ、前記第１液滴と前記第２液滴とを液体の状態で確実に接触させることが可能となり、前記第１液滴と前記第２液滴との特性、すなわち、非相溶性を利用した高精細なパターンを形成することが可能となる。これにより、前記基材を大面積化した場合であっても、前記非相溶性を利用して形成される前記塗布パターンを面内で均一に形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布方法（２）は、上記インクジェット塗布方法（１）において、
前記第１液滴と前記第２液滴とが前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出されるように、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定することを特徴としている。

上記インクジェット塗布方法（２）によれば、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の何れのノズルから前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出する場合であっても、その吐出間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないように、前記第１ヘッド部のノズルと前記第２ヘッド部のノズルとの組み合わせを選定することができる。したがって、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のノズル構成の違いに柔軟に対応させることができ、前記第１液滴と前記第２液滴とが互いに混ざり合わない性質を利用した高精細なパターンを面内で均一に、かつ安定的に形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布方法（３）は、上記インクジェット塗布方法（１）又は（２）において、
前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部が、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体を塗布できる数のノズルを備えているものであり、
前記基材の塗布領域周囲にダミー塗装を行った後、
前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部により、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体を塗布することを特徴としている。

上記インクジェット塗布方法（３）によれば、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体に前記塗布パターンを形成することができ、塗布工程の生産性を高めることができる。また、前記基材の塗布領域周囲にダミー塗装を行うので、前記基材が大面積のものであっても、前記基材の中央部分と周縁部分とで、液滴の溶剤蒸気濃度の違いに起因する乾燥ムラを抑制することができ、より均一性が高い塗布パターンを形成することができる。

また本発明に係るインクジェット塗布方法（４）は、上記インクジェット塗布方法（１）～（３）のいずれかにおいて、
前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方を先に吐出し、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方が後に吐出することを特徴としている。

上記インクジェット塗布方法（４）によれば、前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出される前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方を先に吐出し、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方を後に吐出するので、前記第１液滴と前記第２液滴とを吐出すべき位置、及び前記基材上に吐出される前記第１液滴と前記第２液滴との境界をより正確に画定することができ、高精細な塗布パターンを形成することができる。

本発明の実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。 実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す平面図である。 基材上に第１液滴を走査方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。 基材上の第１液滴に隣接する位置に第２液滴を走査方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。 基材上に第１液滴と第２液滴とを走査方向に対して直交する方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。 実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置が行う塗布動作の一例を示すフローチャートである。 実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。 実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置を構成する第１ヘッド部と第２ヘッド部との動作機構を説明するための部分拡大図である。 実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置が行う塗布動作の一例を示すフローチャートである。

以下、本発明に係るインクジェット塗布装置、及びインクジェット塗布方法の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は、実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。図２は、実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す平面図である。

図１、２に示すように、インクジェット塗布装置１は、第１塗布ユニット１０、第２塗布ユニット２０、走査部３０、塗布ステージ４０、及び制御装置５０を備えている。
インクジェット塗布装置１では、走査部３０が駆動されて、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とが塗布ステージ４０に載置された基材Ｗの上方を移動しつつ、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とから相反する極性を有する液滴が基材Ｗ上の隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出されるように構成されている。そして、基材Ｗ上の複数箇所に、前記液滴の極性反発を利用した塗布パターンが形成される。前記相反する極性を有する液滴が、互いに混ざり合わない性質を有する液滴の一例である。

なお、以下の説明では、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とが移動（走査）する方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向と水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明する。

基材Ｗに形成される塗布パターンは、例えば、有機トランジスタ回路を構成する電極薄膜（ＳＤ電極など）、半導体薄膜、又は絶縁膜などの各種の回路パターンである。また、塗布パターンは、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどのカラーフィルターの画素パターン、高分子ＬＥＤなどの発光デバイス用途の他、微小幅（例えば、ミクロン（μｍ）オーダー、サブミクロンオーダー）のギャップを有する各種パターンなどでもよい。但し、本発明の対象となる塗布パターンは、これらに限定されない。

塗布ステージ４０は、基材Ｗを載置するステージ装置であり、基材Ｗが水平な姿勢を維持した状態で載置される構成になっている。なお、塗布ステージ４０は、基材Ｗが水平な姿勢でステージ表面に吸着保持できるように吸着機構を含んで構成されてもよい。基材Ｗは、例えば、ガラス基板、樹脂基板、樹脂フィルムなどのフレキシブル基板、又はシリコンウェハなどである。但し、本発明の対象となる基材Ｗは、これらに限定されない。

第１塗布ユニット１０は、第１ヘッド部１１と、第１ヘッド部１１を支持する第１ガントリ部１４とを備えている。
第１ヘッド部１１は、Ｙ軸方向を長手方向とする略直方体の形状を有し、ピエゾ素子を駆動させて第１液滴を吐出する第１ヘッドモジュール１２、１３が組み込まれている。本実施の形態では、第１ヘッドモジュール１２、１３が、Ｙ軸方向に複数列組み込まれているとともに、Ｘ軸方向に隣接して組み込まれている。すなわち、第１ヘッド部１１が、複数行のノズル列を含んで構成されている。

第１ヘッドモジュール１２、１３は、第１液滴を吐出する複数のノズル１２ａ、１３ａを備え、第１ヘッド部１１の下面に複数のノズル１２ａ、１３ａがＹ軸方向に所定のノズルピッチＰで配列されている。

第１ヘッド部１１では、第１ヘッドモジュール１２の複数のノズル１２ａと、第１ヘッドモジュール１３の複数のノズル１３ａとが、Ｐ／２のピッチだけ平行にずらして配置されている。この配置により、第１ヘッド部１１の移動方向（Ｘ軸方向）と直交する方向（Ｙ軸方向）のノズル１２ａ、１３ａの並びがＰ／２のピッチのノズルに相当するノズル密度を有するインクジェットヘッドが形成されている。

また、第１ヘッド部１１は、第１塗布ユニット１０及び第２塗布ユニット２０と、塗布ステージ４０との相対走査の方向（Ｘ軸方向）への１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成できる数のノズル１２ａ、１３ａを備えている。換言すれば、第１ヘッド部１１のＹ軸方向のノズル列幅が、基材Ｗ上の塗布領域幅よりも大きくなるように、第１ヘッド部１１が構成されている。

なお、図１、２に示す第１ヘッド部１１には、第１ヘッドモジュール１２、１３がＸ軸方向に隣接して２行組み込まれているが、別の構成例では、第１ヘッドモジュール１２のみ、すなわち、Ｘ軸方向に１行だけ組み込まれている構成でもよいし、Ｘ軸方向に等間隔に３行以上組み込まれている構成でもよい。３行以上のｎ行のノズル列が、Ｐ／ｎのピッチだけ平行にずらして配置されることにより、Ｐ／ｎのピッチのノズルに相当するノズル密度を有するインクジェットヘッドが形成できる。

第１ガントリ部１４は、略門型形状に形成され、塗布ステージ４０のＹ軸方向両外側に配置される脚部１４ａと、これら脚部１４ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材１４ｂとを備え、ビーム部材１４ｂに第１ヘッド部１１が取付けられている。

第１ガントリ部１４は、塗布ステージ４０をＹ軸方向に跨いだ状態で走査部３０に取り付けられ、走査部３０によりＸ軸方向に走査できるように構成されている。したがって、第１ガントリ部１４がＸ軸方向に移動又は停止すると、第１ヘッド部１１もそれに付随してＸ軸方向に移動又は停止する。また、第１ガントリ部１４の走査量を調節することにより、第１ヘッド部１１のＸ軸方向の位置が調節される。これらの構成により、第１ヘッド部１１が基材Ｗ上を移動しつつ、基材Ｗ上の所定の着弾位置に第１ヘッド部１１から第１液滴が吐出できるようになっている。

第２塗布ユニット２０は、第２ヘッド部２１と、第２ヘッド部２１を支持する第２ガントリ部２４とを備えている。
第２ヘッド部２１は、Ｙ軸方向を長手方向とする略直方体の形状を有し、ピエゾ素子を駆動させて、第１液滴とは相反する極性を有する第２液滴を吐出する第２ヘッドモジュール２２、２３が組み込まれている。本実施形態では、第２ヘッドモジュール２２、２３が、Ｙ軸方向に複数列組み込まれているとともに、Ｘ軸方向に隣接して組み込まれている。すなわち、第２ヘッド部２１が、複数行のノズル列を含んで構成されている。

第２ヘッドモジュール２２、２３は、第２液滴を吐出する複数のノズル２２ａ、２３ａを備え、第２ヘッド部２１の下面に複数のノズル２２ａ、２３ａがＹ軸方向に所定のノズルピッチＰで配列されている。

第２ヘッド部２１では、第２ヘッドモジュール２２の複数のノズル２２ａと、第２ヘッドモジュール２３の複数のノズル２３ａとが、Ｐ／２のピッチだけ平行にずらして配置されている。この配置により、第２ヘッド部２１の移動方向（Ｘ軸方向）と直交する方向（Ｙ軸方向）のノズル２２ａ、２３ａの並びがＰ／２のピッチのノズルに相当するノズル密度を有するインクジェットヘッドが形成されている。

また、第２ヘッド部２１は、前記相対走査の方向への１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成できる数のノズル２２ａ、２３ａを備えている。換言すれば、第２ヘッド部２１のＹ軸方向のノズル列幅が、基材Ｗ上の塗布領域幅よりも大きくなるように、第２ヘッド部２１が構成されている。

なお、図１、２に示す第２ヘッド部２１には、第２ヘッドモジュール２２、２３がＸ軸方向に隣接して２行組み込まれているが、別の構成例では、第２ヘッドモジュール２２のみ、すなわち、Ｘ軸方向に１行だけ組み込まれている構成でもよいし、Ｘ軸方向に等間隔で３行以上組み込まれている構成でもよい。

第２ガントリ部２４は、略門型形状に形成され、塗布ステージ４０のＹ軸方向両外側に配置される脚部２４ａと、これら脚部２４ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材２４ｂとを備え、ビーム部材２４ｂに第２ヘッド部２１が取付けられている。

第２ガントリ部２４は、塗布ステージ４０をＹ軸方向に跨いだ状態で走査部３０に取り付けられ、走査部３０によりＸ軸方向に走査できるように構成されている。したがって、第２ガントリ部２４がＸ軸方向に移動又は停止すると、第２ヘッド部２１もそれに付随してＸ軸方向に移動又は停止する。また、第２ガントリ部２４の走査量を調節することにより、第２ヘッド部２１のＸ軸方向の位置が調節される。これらの構成により、第２ヘッド部２１が基材Ｗ上を移動しつつ、基材Ｗ上に先に吐出されている第１液滴の着弾位置（吐出位置ともいう）に隣接又は一部が重なり合うように第２ヘッド部２１から第２液滴が吐出できるようになっている。

走査部３０は、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とを塗布ステージ４０に対してＸ軸方向（走査方向）に走査させるための装置である。走査部３０は、例えば、リニアステージなどの直動機構を含んで構成されて、制御装置５０により駆動制御される。走査部３０は、走査方向に所定間隔を設けて配置された第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とを一体的に同じ方向、同じ速度で走査させるように構成されている。また、走査部３０は、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とを個別に同じ方向、同じ速度で走査させるように構成されてもよい。なお、別の構成例では、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とが走査方向に所定間隔を設けて基台に固定され、該基台に配設された塗布ステージ４０をＸ軸方向（走査方向）に移動させる走査部を備えた構成としてもよい。

図１、２に示す構成例では、第１ヘッド部１１が、第２ヘッド部２１に対して走査方向の前側に配置されている。したがって、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とを走査方向（Ｘ軸方向）に同じ速度で移動させて、基材Ｗ上に液滴を吐出する際、第１ヘッド部１１が先に基材Ｗ上の所定の吐出位置に到達し、第２ヘッド部２１は、所定の吐出タイムラグの経過後、基材Ｗ上の所定の吐出位置に到達するようになっている。

前記吐出タイムラグは、走査部３０による第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１の走査速度（Ｖｍｍ／ｓｅｃ）と、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１の配置間隔（Ｘｍｍ）とに応じた遅延時間（Ｘ／Ｖ（ｓｅｃ））である。前記走査速度は、例えば、３０～５０ｍｍ／ｓｅｃに設定され得るが、この範囲に限定されない。また、前記配置間隔は、例えば、３００ｍｍ～１０００ｍｍに設定され得るが、この範囲に限定されない。なお、前記吐出タイムラグを短くするために、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とは、走査方向に対して可能な限り近接して配置されることが好ましい。

また、前記吐出タイムラグは、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１に含まれるノズル列の配置間隔を考慮して設定してもよい。本構成例では、第１ヘッド部１１の第１ヘッドモジュール１２のノズル列（１行目のノズル列）と第２ヘッド部２１の第２ヘッドモジュール２２のノズル列（１行目のノズル列）との間隔、及び第１ヘッド部１１の第１ヘッドモジュール１３のノズル列（２行目のノズル列）と第２ヘッド部２１の第２ヘッドモジュール２３のノズル列（２行目のノズル列）との間隔が均等になっている。
このように、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１がともに複数行のノズル列を有し、これら行間隔が同じである場合、互いに対応するノズル列（同じ行どうしのノズル列）の間隔を前記配置間隔（Ｘｍｍ）として前記吐出タイムラグを求めてもよい。

第１ヘッド部１１から吐出される第１液滴と第２ヘッド部２１から吐出される第２液滴とは、それぞれ相反する極性を有する溶媒、又は該溶媒を含むインクで構成されている。例えば、第１液滴が、極性溶媒のインクからなる場合、第２液滴には、無極性溶媒のインクが適用される。また、第１液滴が、無極性溶媒のインクからなる場合、第２液滴には、極性溶媒のインクが適用される。

極性溶媒は、例えば、ジメチルスルホキシド（Dimetylsulfoxid、略称DMSO）、又はＮ－メチルピロリドン（N-metylpyrrolidone、略称NMP）などの非プロトン性極性溶媒でもよいし、水、アルコール類などのプロトン性極性溶媒でもよい。

また、無極性溶媒（非極性溶媒）は、例えば、シクロヘキサン(cyclohexane)、キシレン(xylene)、シクロヘキシルベンゼン（Cyclohexylbenzene）、ヘキサン(hexane)、又はトルエン（toluene）などが採用され得るが、これらに限定されない。

極性溶媒と無極性溶媒との組み合わせ例としては、（１）ジメチルスルホキシド（DMSO）とシクロヘキサン(cyclohexane)、（２）ジメチルスルホキシド（DMSO）とキシレン(xylene)、（３）Ｎ－メチルピロリドン（NMP）とシクロヘキシルベンゼン（Cyclohexylbenzene）、（４）Ｎ－メチルピロリドン（NMP）とメトシキトルエン（Methoxytoluene）、（５）水とトルエン（toluene）などが挙げられる。

また、第１液滴や第２液滴を構成するインクには、上記溶媒の他に塗布用途に応じた各種の材料が含まれてもよい。例えば、導電性、半導体性、抵抗性、又は誘電性などの電子的又は電気的な機能を果たす機能性材料の他、界面活性剤、分散剤、保湿剤、着色剤、又は付着強化剤などの添加物などが含まれてもよい。

また、第１液滴は、第２液滴よりも基材Ｗに対する撥液性が相対的に高い溶媒を含んで構成されることが好ましい。本実施の形態では、第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１が、第２ヘッド部２１に対して進行方向前側に配置されている。そのため、基材Ｗ上の所定の着弾位置に対して、基材Ｗに対する撥液性が相対的に高い第１液滴が第１ヘッド部１１から先に吐出され、前記吐出タイムラグの後に、基材Ｗに対する撥液性が相対的に低い第２液滴が第２ヘッド部２１から吐出される。係る構成により、先に吐出される第１液滴の基材Ｗ上での濡れ広がりが抑制され、第１液滴と第２液滴との極性反発作用により形成される塗布パターンの境界がより正確に画定されることとなる。

制御装置５０は、コンピュータ装置、及び記憶装置（いずれも図示せず）などを含んで構成されている。制御装置５０は、例えば、走査部３０を駆動させる制御とともに、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１から液滴を吐出する制御を行うともに、塗布動作に必要な各種演算を行うように構成されている。制御装置５０が、本発明に係るインクジェット塗布装置を構成する制御部、選定部として動作する機能を備えている。

前記記憶装置には、基材Ｗに塗布パターンを形成するための設計データの他、塗布動作を実行させるためのプログラムなどが記憶されている。前記設計データには、例えば、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データ、各座標に対して第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと、第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせデータなどが含まれている。

制御装置５０は、第１塗布ユニット１０及び第２塗布ユニット２０と、塗布ステージ４０との相対走査の中で、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出する制御と、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出する制御とを行う。
上記吐出制御を行う際に、制御装置５０は、前記相対走査の速度と第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１の配置間隔とに応じた吐出タイムラグ（すなわち、一定の時間間隔）で、第１液滴と第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出する制御を行う。換言すれば、制御装置５０は、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から吐出される第１液滴と、該第１液滴が吐出される基材Ｗ上の着弾位置に対して隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から吐出される第２液滴との吐出タイムラグが揃うように、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とのノズルを組み合わせて吐出制御を行う。

制御装置５０は、この吐出制御を行う際に、前記吐出タイムラグが揃うように、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出するノズルと、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する処理を行う。
また、制御装置５０は、第１ヘッドモジュール１２、１３で構成されている複数行のノズル列の中から第１液滴を吐出するノズルと、第２ヘッドモジュール２２、２３で構成されている複数行のノズル列の中から第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する場合に、互いに対応する行のノズルを選定する処理を行う。

図３、４は、実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置１を用いて、基材Ｗ上に第１液滴と第２液滴とを走査方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。
図３は、基材Ｗ上に第１液滴を走査方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。図４は、基材Ｗ上の第１液滴に隣接する位置に第２液滴を走査方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。
図３、４では、便宜上、第１ヘッドモジュール１２、１３の一部と、第２ヘッドモジュール２２、２３の一部とを簡略化して記載しており、第１ヘッドモジュール１２、１３と、第２ヘッドモジュール２２、２３とが走査方向（Ｘ軸方向）に移動しながら、基材Ｗ上に第１液滴１５と第２液滴２５とを走査方向に塗布している経過状況を示している。

図３、４では、第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａ１と、第１ヘッドモジュール１３のノズル１３ａ１とから第１液滴１５が連続的に吐出され、第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ１と、第２ヘッドモジュール２３のノズル２３ａ１とから第２液滴２５が連続的に吐出されている状況を示している。

図３（ａ）は、塗布開始前の状況を示しており、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とのノズルの組み合わせと、基材Ｗへ第１液滴１５と第２液滴２５とを吐出する設定位置とを示している。

図３、４に示す例では、図３（ａ）に示すように、第１液滴１５を吐出する第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａ１と、第２液滴２５を吐出する第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ１との組み合わせが選定されている。また、第１液滴１５を吐出する第１ヘッドモジュール１３のノズル１３ａ１と、第２液滴２５を吐出する第２ヘッドモジュール２３のノズル２３ａ１との組み合わせが選定されている。また、前記吐出タイムラグが揃うようにするために、第１ヘッド部１１の１行目のノズル１２ａと第２ヘッド部２１の１行目のノズル２２ａとの間隔、及び第１ヘッド部１１の２行目のノズル１３ａと第２ヘッド部２１の２行目のノズル２３ａとの間隔が均等になっている。

このように、隣接する第１液滴１５と第２液滴２５との吐出時間間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないようにするために、第１ヘッドモジュール１２、１３で構成されている複数行のノズル列の中から第１液滴１５を吐出するノズルと、第２ヘッドモジュール２２、２３で構成されている複数行のノズル列の中から第２液滴２５を吐出するノズルとの組み合わせを選定する場合に、互いに対応する行のノズルが選定されるようになっている。

換言すれば、隣接又は少なくとも一部が重なり合う一対の液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズルと第２ヘッド部２１のノズルとの間隔が均等となるように、ノズルの組み合わせが選定されている。また、本実施の形態のように、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１がともに複数行ずつのノズル列を有し、これらノズル列の行間隔が同じである場合、ともに同じ行（ｎ行目）のノズルが選択されることとなる。

図３（ｂ）に示すように、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とがＸ軸方向に同じ速度で走査されて、第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａ１から第１液滴１５が吐出される。
次に、図３（ｃ）に示すように、第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａ１から次の第１液滴１５が吐出されるとともに、第１ヘッドモジュール１３のノズル１３ａ１から第１液滴１５が吐出される。

その後、図３（ｄ）～（ｆ）に示すように、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とがＸ軸方向に同じ速度で走査されつつ、第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａ１から第１液滴１５が連続的に吐出されるとともに、第１ヘッドモジュール１３のノズル１３ａ１から第１液滴１５が連続的に吐出される。そして、図３（ｇ）に示すように、第１液滴１５による吐出パターンが基材Ｗ上に形成される。

引き続き、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とがＸ軸方向に同じ速度で走査され、図４（ａ）に示すように、第２ヘッドモジュール２２が、第１液滴１５による吐出パターン上に到達したタイミング（換言すれば、図３（ｂ）の吐出タイミングから吐出タイムラグが経過したタイミング）で、第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ１から第２液滴２５が、第１液滴１５に隣接又は少なくとも一部が重なる位置に吐出される。

次に、図４（ｂ）に示すように、第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ１から次の第２液滴２５が吐出されるとともに、第２ヘッドモジュール２３のノズル２３ａ１から第２液滴２５が、第１液滴１５に隣接又は少なくとも一部が重なる位置に吐出される。

その後、図４（ｃ）～（ｅ）に示すように、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とがＸ軸方向に同じ速度で走査されつつ、第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ１から第２液滴２５が連続的に吐出されるとともに、第２ヘッドモジュール２３のノズル２３ａ１から第２液滴２５が連続的に吐出される。
上記した吐出制御によって、基材Ｗ上の隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出される１対の液滴（第１液滴と第２液滴）の吐出タイムラグが揃えられることとなる。これにより、２滴目（第２液滴）を吐出する際の１滴目（先に吐出された第１液滴）の乾燥具合を均一にできる。その結果、互いに極性が相違する第１液滴と第２液滴との２滴を隣接又は少なくとも一部が重なり合うように吐出することによる効果を精度良く得ることが可能となり、極性反発を利用した高精細なパターンを形成することが可能となる。

そして、図４（ｆ）に示すように、第１液滴１５と第２液滴２５とが隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出されたパターンが基材Ｗ上に形成される。この状態では、第１液滴１５と第２液滴２５ともに液体の状態（完全に乾燥する前の状態）であり、互いの極性の相違による極性反発力が作用し、境界部分に微小幅のギャップ（隙間）が形成され始める。

その後、第１液滴１５と第２液滴２５とが乾燥すると、図４（ｇ）に示すように、第１液滴１５と第２液滴２５と境界部分に微小幅のギャップ（隙間）が形成された塗布パターンＰＴが形成される。

図５は、実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置１を用いて、基材Ｗ上に第１液滴と第２液滴とを走査方向に対して直交する方向に塗布している経過状況を説明するための部分拡大図である。
図５では、便宜上、第１ヘッドモジュール１２、１３の一部と、第２ヘッドモジュール２２、２３の一部とを簡略化して記載している。図５では、第１ヘッドモジュール１２、１３と、第２ヘッドモジュール２２、２３とが走査方向（Ｘ軸方向）に同じ速度で移動しながら、基材Ｗ上に第１液滴１５と第２液滴２５とを走査方向に対して直交する方向（Ｙ軸方向）に塗布している経過状況を示している。

図５に示す例では、第１ヘッドモジュール１２の複数のノズル１２ａ２と、第１ヘッドモジュール１３の複数のノズル１３ａ２とから第１液滴１５が１回ずつ吐出され、第２ヘッドモジュール２２の複数のノズル２２ａ２と、第２ヘッドモジュール２３の複数のノズル２３ａ２とから第２液滴２５が１回ずつ吐出される状況を示している。

図５（ａ）は、塗布開始前の状況を示しており、第１液滴１５が吐出される第１ヘッド部１１のノズル１２ａ２、１３ａ２と、基材Ｗへ吐出される第１液滴１５の設定位置とを示している。

図５に示す例では、図５（ａ）、（ｅ）に示すように、第１液滴１５を吐出する第１ヘッドモジュール１２、１３のノズル１２ａ２、１３ａ２と、第２液滴２５を吐出する第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａ２、２３ａ２との組み合わせが選定されている。なお、第１ヘッド部１１の１行目のノズル１２ａ２と第２ヘッド部２１の１行目のノズル２２ａ２との間隔、及び第１ヘッド部１１の２行目のノズル１３ａ２と第２ヘッド部２１の２行目のノズル２３ａ２の間隔が均等になっている。

このように、第１液滴１５と第２液滴２５との吐出時間間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないようにするために、第１ヘッドモジュール１２、１３で構成されている複数行のノズル列の中から第１液滴１５を吐出するノズルと、第２ヘッドモジュール２２、２３で構成されている複数行のノズル列の中から第２液滴２５を吐出するノズルとの組み合わせを選定する場合に、互いに対応する行のノズルが選定されるようになっている。
換言すれば、隣接又は少なくとも一部が重なり合う一対の液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズルと第２ヘッド部２１のノズルとの間隔が均等となるように、ノズルの組み合わせが選定されている。また、本実施の形態のように、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１がともに複数行ずつのノズル列を有し、これらノズル列の行間隔が同じである場合、ともに同じ行（ｎ行目）のノズルが選択されることとなる。

図５（ｂ）に示すように、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で走査させて、第１ヘッドモジュール１２の複数のノズル１２ａ２から第１液滴１５が吐出される。次に、図５（ｃ）に示すように、第１ヘッドモジュール１３の複数のノズル１３ａ２から第１液滴１５が吐出されて、図５（ｄ）に示すように、第１液滴１５によるＹ軸方向の吐出パターンが基材Ｗ上に形成される。

引き続き、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で走査させつつ、図５（ｆ）に示すように、第２ヘッドモジュール２２が、第１液滴１５による吐出パターンの手前に到達したタイミングで、第２ヘッドモジュール２２の複数のノズル２２ａ２から第２液滴２５が、第１液滴１５に隣接又は少なくとも一部が重なる位置に吐出される。なお、本実施の形態では、第１ヘッドモジュール１２の１行目のノズル１２ａと、第２ヘッドモジュール２２の１行目のノズル２２ａとは、走査方向から見て、Ｐ／２のピッチだけずれて配置されている。したがって、第１ヘッドモジュール１２のノズル１２ａから吐出される第１液滴と、第２ヘッドモジュール２２のノズル２２ａから吐出される第２液滴とは、走査方向から見てＰ／２のピッチだけずれた位置に着弾することとなる。

次に、図５（ｇ）に示すように、第２ヘッドモジュール２３の複数のノズル２３ａ２から第２液滴２５が、第１液滴１５に隣接又は少なくとも一部が重なる位置に吐出される。なお、本実施の形態では、第１ヘッドモジュール１３の２行目のノズル１３ａと、第２ヘッドモジュール２３の２行目のノズル２３ａとは、走査方向から見て、Ｐ／２のピッチだけずれて配置されている。したがって、第１ヘッドモジュール１３のノズル１３ａから吐出される第１液滴と、第２ヘッドモジュール２３のノズル２３ａから吐出される第２液滴とは、走査方向から見てＰ／２のピッチだけずれた位置に着弾することとなる。
そして、図５（ｈ）に示すように、第１液滴１５と第２液滴２５とが隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出されたパターンが基材Ｗ上に形成される。この状態では、第１液滴１５と第２液滴ともに液体の状態（完全に乾燥する前の状態）であり、互いの極性の相違による極性反発力が作用し、境界部分に微小幅のギャップ（隙間）が形成され始める。

その後、第１液滴１５と第２液滴２５とが乾燥すると、図５（ｉ）に示すように、第１液滴１５と第２液滴２５と境界部分に微小幅のギャップ（隙間）が形成された塗布パターンＰＴが形成される。

図６は、実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置１が行う塗布動作を示すフローチャートである。
ステップＳ１では、インクジェット塗布装置１の塗布ステージ４０に基材Ｗが搬入される。例えば、図示しないロボットハンド等により基材Ｗが塗布ステージ４０上に載置される。この際に、例えば、基材Ｗに設けられた位置決め用のアライメントマークが読み込まれて、該アライメントマークを基準にして、塗布パターンを形成する位置、すなわち、第１液滴と第２液滴とを着弾させる位置が設定される構成としてもよい。

ステップＳ２では、制御装置５０が、基材Ｗに所定の塗布パターンを形成するための設計データを読み込む。前記設計データには、例えば、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データ、各座標に対して第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａと、第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１の各ノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせデータなどが含まれている。

ステップＳ３では、制御装置５０が、基材Ｗに形成される塗布パターン毎に、第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと、第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせを選定し、これらを吐出ノズルの組み合わせデータとして記憶する。

本実施の形態のように、第１ヘッド部１１が２行以上の第１ヘッドモジュール１２、１３を備え、第２ヘッド部２１が２行以上の第２ヘッドモジュール２２、２３を備えている場合、第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせデータは、各ノズルの行番号と列番号との組み合わせで示される。例えば、塗布パターンの座標ごとに、第１ヘッド部１１のｎ行目、ｍ列目のノズルと、第２ヘッド部２１のｎ行目、ｍ列目のノズルとの組み合わせデータが選定される。

なお、別の構成例として、第１ヘッド部１１が１行の第１ヘッドモジュール１２で構成され、第２ヘッド部２１が１行の第２ヘッドモジュール２２で構成されている場合は、第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズル１２ａと第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１のノズル２２ａとの組み合わせデータは、各ノズルの列番号の組み合わせで示される。例えば、塗布パターンの座標ごとに、第１ヘッド部１１のｍ列目のノズルと、第２ヘッド部２１のｍ列目のノズルとの組み合わせデータが選定される。

ステップＳ４では、制御装置５０が、走査部３０を駆動させて、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とを所定の速度でＸ軸方向に走査させる制御を開始する。第１塗布ユニット１０及び第２塗布ユニット２０と、塗布ステージ４０との相対走査の速度を示す前記所定の速度は、例えば、３０～５０ｍｍ／ｓｅｃに設定され得るが、この速度範囲に限定されない。前記相対走査の速度は、塗布装置１の仕様、基材Ｗの種類、塗布パターンの種類などに応じて、適宜設定され得る。

ステップＳ５では、制御装置５０が、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データと、各座標に対して各液滴を吐出するノズルの組み合わせデータとに基づいて、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出する制御を開始する。すなわち、制御装置５０は、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で移動させつつ、基材Ｗ上の塗布パターンを形成する座標位置に、該座標位置に対するノズルの組み合わせデータとして選定された第１ヘッド部１１のノズルから第１液滴を吐出する制御を行う。第１ヘッド部１１が通過した基材Ｗの上面には、塗布パターンの設計データに基づいて所定の座標位置に吐出された第１液滴による液滴パターンが形成される。

ステップＳ６では、制御装置５０が、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データと、各座標に対して各液滴を吐出するノズルの組み合わせデータとに基づいて、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出する制御を開始する。すなわち、制御装置５０は、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で移動させつつ、先に第１ヘッド部１１が通過した領域に第２ヘッド部２１が到達するタイミングで（すなわち、吐出タイムラグの経過後）、基材Ｗ上に吐出された第１液滴に隣接する位置、又は少なくとも一部が重なり合う位置に、第２液滴を吐出する制御を行う。第２ヘッド部２１が通過した基材Ｗの上面には、塗布パターンの設計データに基づいて所定の座標位置に吐出された第１液滴と第２液滴とが隣接又は少なくとも一部が重なり合った状態の液滴パターンが形成される。

ステップＳ７では、制御装置５０は、基材Ｗに対する走査を完了したか否かを判断し、走査を完了していないと判断すれば、ステップＳ５に戻り塗布処理を継続する一方、走査を完了したと判断すれば、ステップＳ８に処理を進める。

ステップＳ８では、塗布パターンが形成された基材Ｗを塗布ステージ４０から搬出し、基材Ｗの塗布処理を終え、制御装置５０は、走査部３０を駆動制御して、第１塗布ユニット１０と第２塗布ユニット２０とを初期位置に移動する制御を行う。前記搬出は、例えば、ロボットハンドなどにより行われる。基材Ｗは、その後、乾燥工程など後工程に搬送される。

上記実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置１によれば、第１塗布ユニット１０及び第２塗布ユニット２０の基材Ｗに対する相対走査の中で、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とから、相反する極性を有する第１液滴と第２液滴とが、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に前記吐出タイムラグで吐出される。したがって、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とが通過する基材Ｗの面内において、前記吐出タイムラグを一定に保ちつつ、第２液滴を吐出する際の第１液滴の乾燥具合を均一にでき、かつ第１液滴と第２液滴とを液体の状態で確実に接触させることが可能となる。これにより、第１液滴と第２液滴との特性、すなわち、極性反発を利用した高精細なパターン、例えば、微小幅のギャップを有するパターンを形成することが可能となり、基材Ｗを大面積化した場合であっても、極性反発を利用して形成される微細な塗布パターンを面内で均一に形成することができる。

また、インクジェット塗布装置１によれば、制御装置５０が、前記吐出タイムラグが揃うように、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出するノズルと、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する選定部として機能している。そのため、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１の何れのノズルから第１液滴と第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出する場合であっても、その吐出間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないように、第１ヘッド部１１のノズルと第２ヘッド部２１のノズルとの組み合わせを選定することができる。

また、インクジェット塗布装置１によれば、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とがそれぞれ複数行のノズル列を含んで構成されている場合であっても、第１ヘッド部１１のノズルと第２ヘッド部２１のノズルとの組み合わせを複数行のノズル列の中から互いに対応する行のノズルを選定して、第１液滴と第２液滴との吐出を適切に制御することができる。したがって、第１液滴と第２液滴との吐出間隔が、前記吐出タイムラグから極力ばらつかないようにすることができ、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１のノズル構成の違いに柔軟に対応させることができ、また、第１液滴と第２液滴との極性反発を利用した高精細なパターンを面内で均一に、かつ安定的に形成することができる。

また、インクジェット塗布装置１によれば、基材Ｗに対する撥液性が相対的に高い第１液滴が先に吐出され、基材Ｗに対する撥液性が相対的に低い第２液滴が後に吐出される。そのため、第１液滴と第２液滴とを吐出すべき位置、及び基材Ｗ上に吐出された第１液滴と第２液滴との極性反発作用により形成される境界（微細幅のギャップ）をより正確に画定することができ、高精細な塗布パターンを形成することができる。

また、インクジェット塗布装置１によれば、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１が、前記相対走査の方向（Ｘ軸方向）への１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成できる数のノズルを備えているので、１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成することができ、塗布工程の生産性を高めることができる。

なお、別の構成例では、前記相対走査の方向へ複数回の走査を行って、基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成する構成としてもよいが、本実施の形態（１）では、複数回走査を行う場合と比較して、複数回の走査に起因する帯状の塗布ムラや、液滴の乾燥状態が面内でばらつくことに起因する乾燥ムラが少ない、より均一性が高い塗布パターンを形成することができる。

また、別の実施の形態では、基材Ｗの塗布領域周囲に額縁状のダミー塗装を行った後、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１により、前記相対走査の方向への１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体を塗布する方法が採用されてもよい。

かかる塗布方法によれば、前記相対走査の方向への１回の走査で基材Ｗの塗布領域全体に塗布パターンを形成することができ、塗布工程の生産性を高めることができる。また、基材Ｗの塗布領域周囲にダミー塗装を行うので、基材Ｗが大面積のものであっても、基材Ｗの中央部分と周縁部分とで、液滴の溶剤蒸気濃度の違いに起因する乾燥ムラを抑制することができ、より均一性が高い塗布パターンを形成することができる。

なお、前記ダミー塗装は、第１ヘッド部１１又は第２ヘッド部２１で行ってもよいし、インクジェット塗布装置１とは別装置を用いた前工程で前記ダミー塗装を行い、前記ダミー塗装がなされた基材Ｗを塗布ステージ４０に搬入するようにしてもよい。

図７は実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。但し、図１に示す実施の形態（１）に係るインクジェット塗布装置１と同一機能を有する構成要素については、同一符号を付し、ここではその説明を省略することとする。

インクジェット塗布装置１Ａは、第１塗布ユニット１０Ａ、第２塗布ユニット２０Ａ、走査部３０、塗布ステージ４０、制御装置５０Ａ、及び検査部６０を備えている。
第１塗布ユニット１０Ａは、第１ヘッド部１１と、第１ガントリ部１４と、回転機構１６と、シフト移動機構１７とを備えている。

回転機構１６は、第１ヘッド部１１を鉛直軸方向（Ｚ軸方向）に回転させるための装置である。回転機構１６は、例えば、第１ヘッド部１１と第１ガントリ部１４のビーム部材１４ｂとの間に設けられ、第１ヘッド部１１がＺ軸回りに回転できるように、Ｚ軸方向に回転する回転部と、該回転部を回転駆動させる駆動モータなどを含んで構成されている。回転機構１６により、第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａの配列方向がＹ軸方向に一致する初期状態から、Ｘ軸方向に対して任意の角度に傾斜した状態で固定できるように構成されている。

シフト移動機構１７は、第１ヘッド部１１を前記相対走査の方向（Ｘ軸方向）に対して直交する方向（Ｙ軸方向）に移動させる直動機構である。シフト移動機構１７は、例えば、第１ガントリ部１４のビーム部材１４ｂに設けられたＹ軸方向に延びるレール部材を含んで構成されている。回転機構１６が装備された第１ヘッド部１１が前記レール部材にスライド自在に取り付けられ、第１ヘッド部１１に取り付けられたリニアモータが駆動制御されることにより、第１ヘッド部１１がＹ軸方向の任意の位置に移動、及び停止できるようになっている。シフト移動機構１７によって第１ヘッド部１１がＹ軸方向に微小移動できるようになっている。

これら回転機構１６とシフト移動機構１７とは、制御装置５０Ａにより駆動制御されるようになっている。なお、第１塗布ユニット１０Ａには、回転機構１６とシフト移動機構１７とが装備されているが、別の構成例では、回転機構１６とシフト移動機構１７のいずれか一方のみが装備されている構成でもよい。

第２塗布ユニット２０Ａは、第２ヘッド部２１と、第２ガントリ部２４と、回転機構２６と、シフト移動機構２７とを備えている。
回転機構２６は、第２ヘッド部２１を鉛直軸方向（Ｚ軸方向）に回転させる回転機構であり、上記した回転機構１６と略同様に構成されている。
シフト移動機構２７は、第２ヘッド部２１を前記相対走査の方向（Ｘ軸方向）に対して直交する方向（Ｙ軸方向）に移動させる直動機構であり、上記したシフト移動機構１７と同様に構成されている。

これら回転機構２６とシフト移動機構２７とは、制御装置５０Ａにより駆動制御されるようになっている。なお、第２塗布ユニット２０Ａには、回転機構２６とシフト移動機構２７とが装備されているが、別の構成例では、回転機構２６とシフト移動機構２７のいずれか一方のみが装備されている構成でもよい。

検査部６０は、第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａから吐出される第１液滴、及び第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａから吐出される第２液滴の基材への着弾状態を検査するための装置で構成されている。検査部６０は、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１のそれぞれに配設されている。検査部６０は、例えば、１以上の撮像用カメラと、画像処理部と、検査処理部とを含んで構成されている。
前記撮像用カメラは、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１の各ノズルからテスト用基材に吐出された第１液滴と第２液滴との着弾状態を撮像する。
前記画像処理部は、前記撮像用カメラで撮像された画像データを取り込んで、後の検査処理を行うための画像処理を行う。
前記検査処理部は、前記画像処理部で処理された画像データに基づいて、各ノズルから吐出された第１液滴と第２液滴との着弾位置や着弾面積を検査する他、不吐出の有無などの検査を行い、これら検査データを制御装置５０Ａへ送出する。

制御装置５０Ａが、本発明に係るインクジェット塗布装置を構成する制御部、選定部、及び位置調整部として動作する機能を備えている。
制御装置５０Ａは、選定部として機能する。すなわち、制御装置５０Ａは、検査部６０による検査結果を考慮して、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出するノズルと、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する制御を行う。

制御装置５０Ａは、位置調整部として機能する。すなわち、制御装置５０Ａは、適切なノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合に、第１塗布ユニット１０Ａの回転機構１６及びシフト移動機構１７のうちの少なくともいずれかを動作させて、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に第１液滴と第２液滴とを吐出可能なノズルの組み合わせが選定できるように、第１ヘッド部１１を位置調整するための制御を行う。

また、制御装置５０Ａは、適切なノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合に、第２塗布ユニット２０Ａの回転機構２６及びシフト移動機構２７のうちの少なくともいずれかを動作させて、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に第１液滴と第２液滴とを吐出可能なノズルの組み合わせが選定できるように、第２ヘッド部２１を位置調整するための制御を行う。

図８は、実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置１Ａを構成する第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１との動作機構を説明するための部分拡大図である。
図８では、便宜上、第１塗布ユニット１０Ａと、第２塗布ユニット２０Ａの周辺部の構成を簡略化して記載しており、第１塗布ユニット１０Ａの回転機構１６及びシフト移動機構１７、第２塗布ユニット２０Ａの回転機構２６及びシフト移動機構２７などは、その記載を省略している。

図８に示す動作例では、第１塗布ユニット１０Ａのシフト移動機構１７が駆動されて、第１ヘッド部１１がＹ軸方向にわずかに移動し、ノズル１２ａ、１３ａの位置がＹ軸方向に微調整されている。
また、第２塗布ユニット２０Ａの回転機構２６が駆動させて、第２ヘッド部２１がＺ軸中心にわずかに回転し、ノズル２２ａ、２３ａの位置がＺ軸中心に微調整されている。

上記構成により、ノズル１２ａ、１３ａ及びノズル２２ａ、２３ａの位置調整が可能となっている。したがって、初期のノズル配置状態でノズルの組み合わせが適切に選定できない箇所がある場合でも、回転機構１６、２６、及びシフト移動機構１７、２７のうちの少なくともいずれかを駆動させて、第１液滴と第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出可能なノズルの組み合わせが選定可能となる。

図９は、実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置１Ａの動作を示すフローチャートである。
ステップＳ１１では、塗布ステージ４０にテスト用基材（図示せず）が搬入される。
ステップＳ１２では、制御装置５０Ａが、テスト用基材に塗布する検査用パターンと、該検査用パターン用の吐出ノズルの組み合わせデータとを読み込む。

ステップＳ１３では、制御装置５０Ａが、走査部３０を駆動させて、第１塗布ユニット１０Ａと第２塗布ユニット２０ＡとをＸ軸方向に走査させる制御を開始し、第１塗布ユニット１０Ａと第２塗布ユニット２０Ａとをテスト用基材上に移動させる。

ステップＳ１４では、制御装置５０Ａが、前記検査用パターンと、該検査用パターン用の吐出ノズルの組み合わせデータとに基づいて、第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａから第１液滴を吐出する制御を開始する。すなわち、制御装置５０Ａは、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に移動させつつ、前記検査用パターンを形成する座標位置に、第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａから第１液滴を吐出する制御を行う。

ステップＳ１５では、制御装置５０Ａが、前記検査用パターンと、該検査用パターン用の吐出ノズルの組み合わせデータとに基づいて、第２ヘッド部２１の各ノズル２２ａ、２３ａから第２液滴を吐出する制御を開始する。すなわち、制御装置５０Ａは、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に移動させつつ、先に第１ヘッド部１１が通過した領域に、第２ヘッド部２１が所定の吐出タイムラグで到達するタイミングで、第２液滴を吐出する制御を行う。

ステップＳ１６では、検査部６０が、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とによる検査用パターンの印刷を終えた後、第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａからテスト基材に吐出された第１液滴と、これら第１液滴の隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に、第２ヘッド部２１から吐出された第２液滴との着弾状態を検査する処理を行う。
例えば、着弾状態の撮像画像に基づいて、第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと、第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせ毎に、第１液滴と第２液滴との着弾位置の状態、着弾面積の状態、及び不吐出の有無などが検査される。
そして、検査部６０は、第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａ（ｎ行目、ｍ列目のノズル）と、これらに対応する第２ヘッド部２１の各ノズル２２ａ、２３ａ（ｎ行目、ｍ列目のノズル）との組み合わせ可否を判定する。

ステップＳ１７では、検査部６０は、ステップＳ１６で判定された、吐出ノズルの組み合わせ可否の判定データを含む着弾検査データを記憶する。

ステップＳ１８では、塗布ステージ４０上からテスト用基材を搬出し、検査部６０による検査処理を終え、ステップＳ１９に処理を進める。
ステップＳ１９では、制御装置５０Ａは、走査部３０を駆動させて、第１塗布ユニット１０Ａと第２塗布ユニット２０Ａとを初期位置に移動させる制御を行う。

ステップＳ２０では、塗布ステージ４０に基材Ｗが搬入される。この際に、例えば、基材Ｗに設けられた位置決め用のアライメントマークが読み込まれて、該アライメントマークを基準にして、塗布パターンを形成する位置、すなわち、第１液滴と第２液滴とを着弾させる位置が設定される構成としてもよい。

ステップＳ２１では、制御装置５０Ａが、基材Ｗに所定の塗布パターンを形成するための設計データを読み込む。前記設計データには、例えば、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データ、各座標に対して第１液滴を吐出する第１ヘッド部１１の各ノズル１２ａ、１３ａと、第２液滴を吐出する第２ヘッド部２１の各ノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせデータなどが含まれている。

ステップＳ２２では、制御装置５０Ａが、基材Ｗに形成される塗布パターン毎に、着弾状態の検査データも考慮して、第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと、第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせを選定し、これらを吐出ノズルの組み合わせデータとして記憶する。例えば、各ノズルの行番号と列番号との組み合わせデータが記憶される。

ステップＳ２３では、制御装置５０Ａは、着弾状態の検査データに基づいて、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の各座標に対して、吐出ノズルの組み合わせが選定できない箇所があったか否かを判断する。
ステップＳ２３において、吐出ノズルの組み合わせが選定できない箇所があったと判断すれば、ステップＳ２４に処理を進める一方、吐出ノズルの組み合わせが選定できない箇所がなかったと判断すれば、ステップＳ２５に処理を進める。

ステップＳ２４では、制御装置５０Ａが、吐出ノズルの組み合わせが選定できない箇所について、吐出タイムラグからのずれが極力少なくなる吐出ノズルの組み合わせが選定できるように、第１ヘッド部１１、及び第２ヘッド部２１のうちの少なくともいずれかの位置調整量を演算する。

制御装置５０Ａは、例えば、第１ヘッド部１１、及び第２ヘッド部２１のうちの少なくともいずれかのＹ軸方向のシフト調整量、及びＺ軸中心の回転量のうちの少なくともいずれかを演算する。そして、制御装置５０Ａは、吐出ノズルの組み合わせが選定できない箇所に対する、吐出ノズルの組み合わせデータと、シフト調整量、及び回転量のうちの少なくともいずれかを含む位置調整量とを対応付けて記憶する。

ステップＳ２５では、制御装置５０Ａが、走査部３０を駆動させて、第１塗布ユニット１０Ａと第２塗布ユニット２０Ａとを所定の速度でＸ軸方向に移動させる制御を開始する。

ステップＳ２６では、制御装置５０Ａが、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データと、各座標に対して各液滴を吐出するノズルの組み合わせデータと、前記位置調整量とに基づいて、第１ヘッド部１１の複数のノズル１２ａ、１３ａの中から第１液滴を吐出する制御を開始する。
すなわち、制御装置５０Ａは、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で移動させつつ、基材Ｗ上の塗布パターンを形成する座標位置に、該座標位置に対するノズルの組み合わせデータとして選定された第１ヘッド部１１のノズルから第１液滴を吐出する制御を行う。また、前記位置調整量が設定されている場合は、そのシフト調整量、又は回転量に基づいて、第１ヘッド部１１及び第２ヘッド部２１の少なくともいずれかを、Ｙ軸方向にシフト調整したり、又はＺ軸方向に回転したりして、吐出タイムラグからのずれが極力小さくなるノズルの組み合わせが選定される。第１ヘッド部１１が通過した基材Ｗの上面には、塗布パターンの設計データに基づいて所定の座標位置に吐出された第１液滴による液滴パターンが形成される。

ステップＳ２７では、制御装置５０Ａが、第１液滴と第２液滴とを吐出する基材Ｗ上の座標データと、各座標に対して各液滴を吐出するノズルの組み合わせデータと、前記位置調整量とに基づいて、第２ヘッド部２１の複数のノズル２２ａ、２３ａの中から第２液滴を吐出する制御を開始する。
すなわち、制御装置５０Ａは、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とをＸ軸方向に同じ速度で移動させつつ、先に第１ヘッド部１１が通過した領域に、第２ヘッド部２１が所定の吐出タイムラグで到達するタイミングで、基材Ｗ上に吐出された第１液滴に隣接する位置、又は第１液滴に少なくとも一部が重なり合う位置に、第２液滴を吐出する制御を行う。
第２ヘッド部２１が通過した基材Ｗの上面には、塗布パターンの設計データに基づいて所定の座標位置に吐出された第１液滴と第２液滴とが隣接又は少なくとも一部が重なり合った状態の液滴パターンが形成される。

ステップＳ２８では、制御装置５０Ａは、基材Ｗに対する走査を完了したか否かを判断し、走査を終了していないと判断すれば、ステップＳ２５に戻り塗布処理を行う一方、走査を完了したと判断すれば、ステップＳ２９に処理を進める。

ステップＳ２９では、塗布パターンが形成された基材Ｗを塗布ステージ４０から搬出し、基材Ｗの塗布処理を終え、制御装置５０Ａは、走査部３０を駆動させて、第１塗布ユニット１０Ａと第２塗布ユニット２０Ａとを初期位置に移動させる制御を行う。

上記実施の形態（２）に係るインクジェット塗布装置１Ａでは、検査部６０により第１ヘッド部１１から吐出される第１液滴と第２ヘッド部２１から吐出される第２液滴との着弾状態が検査され、該着弾状態の検査データを考慮して、隣接又は少なくとも一部が重なり合う一対の液滴を吐出する第１ヘッド部１１のノズル１２ａ、１３ａと第２ヘッド部２１のノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせが選定される。

また、インクジェット塗布装置１Ａでは、ノズルの組み合わせが選定できない箇所がある場合、第１液滴と第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出可能なノズルの組み合わせが選定できるように、制御装置５０Ａが、回転機構１６、２６及びシフト移動機構１７、２７のうちの少なくともいずれかを動作させて、ノズル位置調整が行われる。

したがって、インクジェット塗布装置１Ａによれば、ノズル１２ａ、１３ａとノズル２２ａ、２３ａとの組み合わせが適切に選定できない箇所がある場合であっても、該液滴の吐出に適したノズル、すなわち、吐出タイムラグからのずれが小さく、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出可能となるノズルの組み合わせを選定することができ、適応性をさらに高めることができる。

以上、本発明の実施の形態を詳細に説明したが、上記説明はあらゆる点において本発明の例示に過ぎない。本発明の範囲を逸脱することなく、種々の改良、変更、又は構成の組み合わせが可能であることは言うまでもない。

上記実施の形態（１）、（２）では、第１ヘッド部１１が第１ガントリ部１４に、第２ヘッド部２１が第２ガントリ部２４に、それぞれ取り付けられているが、別の構成例では、１つのカントリ部に、第１ヘッド部１１と第２ヘッド部２１とが走査方向に並べて取り付けられた構成としてもよい。また、１つのヘッド部内に、複数の第１ヘッドモジュール１２、１３と、複数の第２ヘッドモジュール２２、２３とが走査方向に並べて配設された構成としてもよい。かかる構成により、第１ヘッドモジュール１２、１３と、複数の第２ヘッドモジュール２２、２３との物理的な距離（間隔）が短くなり、よって、前記吐出タイムラグをさらに短くすることができ、第１液滴と第２液滴とを液体の状態で確実に接触させることができ、より均一な微細パターンを形成することが可能となる。

本発明は、インクジェット印刷技術を利用して、フレキシブル配線基板、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー、コイルアンテナ等の各種の電子デバイスを製造する分野などにおいて、２種以上の溶媒の極性反発特性などの非相溶性を利用して形成するパターンを大面積で均一に形成し、量産性を高めることが求められる場合に広く利用することができる。

１、１Ａ インクジェット塗布装置
１０、１０Ａ 第１塗布ユニット
１１ 第１ヘッド部
１２、１３ 第１ヘッドモジュール
１２ａ、１２ａ１、１２ａ２、１３ａ、１３ａ１、１３ａ２ ノズル
１４ 第１ガントリ部
１４ａ 脚部
１４ｂ ビーム部材
１５ 第１液滴
１６ 回転機構
１７ シフト移動機構
２０、２０Ａ 第２塗布ユニット
２１ 第２ヘッド部
２２、２３ 第２ヘッドモジュール
２２ａ、２２ａ１、２２ａ２、２３ａ、２３ａ１、２３ａ２ ノズル
２４ 第２ガントリ部
２４ａ 脚部
２４ｂ ビーム部材
２５ 第２液滴
２６ 回転機構
２７ シフト移動機構
３０ 走査部
４０ 塗布ステージ
５０、５０Ａ 制御装置
６０ 検査部
Ｗ 基材
Ｐ ノズルピッチ
ＰＴ 塗布パターン

Claims (9)

1. 基材に塗布パターンを形成するインクジェット塗布装置であって、
   前記塗布パターンを形成するための、第１溶媒を含むインクで構成される第１液滴を吐出する複数のノズルを有する第１ヘッド部と、
   前記第１液滴とは互いに混ざり合わない性質を有し、前記塗布パターンを形成するための、第２溶媒を含むインクで構成される第２液滴を吐出する複数のノズルを有する第２ヘッド部と、
   前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とを前記基材に対して相対走査させる走査部と、
   前記相対走査の中で、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出する制御と前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出する制御とを行う制御部とを備え、
   前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方が先に吐出され、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方が後に吐出されるように、前記第１ヘッド部と前記第２ヘッド部とが配置され、
   前記制御部が、
   前記相対走査の速度と前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の配置間隔とに応じた吐出タイムラグで、前記第１液滴と前記第２液滴とを隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出制御可能に構成されていることを特徴とするインクジェット塗布装置。
2. 前記塗布パターンが形成される前記基材上の各座標に対して、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する選定部を備えていることを特徴とする請求項１記載のインクジェット塗布装置。
3. 前記第１ヘッド部から吐出される前記第１液滴と前記第２ヘッド部から吐出される前記第２液滴との着弾状態を検査する検査部を備え、
   前記選定部が、
   前記検査部での検査によって得られる前記着弾状態の検査データを考慮して、前記塗布パターンが形成される前記基材上の各座標に対して、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定するものであることを特徴とする請求項２記載のインクジェット塗布装置。
4. 前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかを鉛直軸方向に回転させる回転機構、及び／又は前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかを前記相対走査の方向に対して直交する方向に移動させるシフト移動機構と、
   前記回転機構及び前記シフト移動機構のうちの少なくともいずれかを動作させて、前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部のうちの少なくともいずれかのノズル位置調整を行う位置調整部とをさらに備え、
   該位置調整部が、
   前記選定部により前記着弾状態の検査データに基づいてノズルの組み合わせが選定できない前記基材上の座標箇所があると判定された場合、当該基材上の座標箇所に対して、前記第１液滴と前記第２液滴とを前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出可能なノズルの組み合わせが選定できるように、前記ノズル位置調整を行うことを特徴とする請求項３記載のインクジェット塗布装置。
5. 前記第１ヘッド部が、複数行のノズル列を含んで構成され、
   前記第２ヘッド部が、複数行のノズル列を含んで構成され、
   前記選定部が、
   前記第１ヘッド部の前記複数行のノズル列の中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の前記複数行のノズル列の中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定する場合に、互いに対応する行のノズルを選定するものであることを特徴とする請求項２～４のいずれかの項に記載のインクジェット塗布装置。
6. 前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部が、
   前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体に前記塗布パターンを形成できる数のノズルを備えていることを特徴とする請求項１～５のいずれかの項に記載のインクジェット塗布装置。
7. 基材に塗布パターンを形成するインクジェット塗布方法であって、
   前記塗布パターンを形成するための、第１溶媒を含むインクで構成される第１液滴を吐出する第１ヘッド部と、前記第１液滴とは互いに混ざり合わない性質を有し、前記塗布パターンを形成するための、第２溶媒を含むインクで構成される第２液滴を吐出する第２ヘッド部とを前記基材に対して相対走査させつつ、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴と、該第１液滴が吐出される前記基材上の着弾位置に対して、隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴とを、前記相対走査の速度と前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部の配置間隔とに応じた吐出タイムラグで吐出し、
   前記第１液滴及び前記第２液滴のうち、前記基材に対する撥液性が相対的に高い方を先に吐出し、前記基材に対する撥液性が相対的に低い方を後に吐出することを特徴とするインクジェット塗布方法。
8. 前記塗布パターンが形成される前記基材上の各座標に対して、前記第１液滴と前記第２液滴とが前記隣接又は少なくとも一部が重なり合う位置に吐出されるように、前記第１ヘッド部の複数のノズルの中から前記第１液滴を吐出するノズルと、前記第２ヘッド部の複数のノズルの中から前記第２液滴を吐出するノズルとの組み合わせを選定することを特徴とする請求項７記載のインクジェット塗布方法。
9. 前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部が、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体を塗布できる数のノズルを備えているものであり、
   前記基材の塗布領域周囲にダミー塗装を行った後、
   前記第１ヘッド部及び前記第２ヘッド部により、前記相対走査の方向への１回の走査で前記基材の塗布領域全体を塗布することを特徴とする請求項７又は請求項８のいずれかの項に記載のインクジェット塗布方法。

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